JPH11186356A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 受渡部に処理液が滴下するのを確実に防止す
ることができるようにする。 【解決手段】 搬送キャリアＣ1に収納された複数の基
板を搬送キャリアＣ1の外方に取り出す受渡部５２、受
渡部５２と処理部本体６０との間に配設され、搬送キャ
リアＣ1から取り出された複数の基板が移載される中間
部５６、搬送キャリアＣ1から取り出された基板を受渡
部５２から中間部５６に移載する第１の搬送機構部５
８、搬送キャリアＣ1から取り出された基板を処理液で
処理する処理部本体６０、中間部５６に移載された複数
の基板を処理部本体６０へ搬送する第２の搬送機構部６
２、処理部本体６０で処理された基板を搬送用キャリア
Ｃ1に受け渡す受渡部６４、及び処理済み基板の収納さ
れた搬送キャリアＣ1を外部に搬出する取出部６８を備
える。中間部５６には、複数の基板が載置される基板載
置台５６２が着脱自在に取り付けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示器用基板等のＦＰＤ（Flat Panel Display）用基
板、フォトマスク用ガラス基板等の基板を処理液により
処理する基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の基板処理装置として、例
えば、実開平１−１２１９３１号公報に開示された構造
のものが知られている。この基板処理装置は、搬送キャ
リアに収納された複数の基板を処理キャリアに移し替え
る移替部と、処理キャリアを浸漬し、その処理キャリア
内の基板に対して所定の処理を施す処理液が貯留された
処理槽と、基板が収納された処理キャリアをアームで保
持して移替部から処理槽へ搬送する一方、この処理キャ
リアを処理槽内のキャリア支持部に受け渡す搬送ロボッ
トとを備えている。以下、処理キャリアに収納した状態
の基板に対して処理を行う基板処理装置をキャリア付処
理装置という。

【０００３】また、別の基板処理装置として、例えば、
特許第２６３４３５９号公報に開示された構造のものが
知られている。この基板処理装置は、搬送キャリアに収
納された複数の基板を該搬送キャリアから取り出して搬
送ロボットのチャックに受け渡す受渡部と、基板に対し
て所定の処理を施す処理液が貯留された処理槽と、複数
の基板をチャックで把持して受渡部から処理槽へ搬送す
る一方、この基板を処理槽内の基板支持部に受け渡す搬
送ロボットとを備えている。以下、処理キャリアを用い
ないで直接、基板に対して処理を行う基板処理装置をキ
ャリアレス処理装置という。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記キャリア付処理装
置において、処理キャリアを処理槽内のキャリア支持部
に受け渡すときやキャリア支持部から受け取るとき、搬
送ロボットのアームに処理液が付着されることになる。
この処理液の付着したアームは、次の処理キャリアを移
替部から処理槽へ搬送するために移替部まで移動する。
このとき、アームに付着している処理液が移替部に滴下
することになる。ところが、移替部には搬送キャリア内
の基板を処理キャリアに移し替えるための移替え機構が
あるため、この移替え機構に滴下した処理液が付着する
と、移替え機構が誤動作したり、腐蝕したりするという
虞が生じる。

【０００５】また、上記キャリアレス処理装置におい
て、基板を搬送ロボットのチャックで把持して処理槽内
の基板支持部に受け渡すときや基板支持部から受け取る
とき、搬送ロボットのチャックに処理液が付着されるこ
とになる。この処理液の付着したチャックは、次の基板
を受渡部から処理槽へ搬送するために受渡部まで移動す
る。このとき、チャックに付着している処理液が受渡部
に滴下することになる。ところが、受渡部には搬送キャ
リアから搬送ロボットのチャックに基板を受け渡すため
の受渡し機構があるため、この受渡し機構に滴下した処
理液が付着すると、受渡し機構が誤動作したり、腐蝕し
たりするという虞が生じる。

【０００６】また、上記キャリアレス処理装置におい
て、処理液の付着したチャックが受渡部まで移動する
と、受渡部の搬送キャリアに処理液が滴下することがあ
る。ところが、この搬送キャリアには処理済み基板が再
び収納されるので、処理済みの基板に処理液が転写さ
れ、処理済み基板が汚染されるという虞が生じる。

【０００７】このため、通常、アームやチャックを移替
部や受渡部に移動させる前に、アームやチャックに付着
した処理液を洗浄したり、処理液を除去する液切り機構
を設けたりしてアームやチャックに付着した処理液が移
替部や受渡部で滴下することがないようにされるが、不
測のトラブルが生じてアームやチャックに付着した処理
液が十分に除去できないという事態が生じることもあ
る。

【０００８】従って、本発明の第１の目的は、キャリア
付処理装置において、移替部に処理液が滴下することを
確実に防止することができる基板処理装置を提供するこ
とにある。

【０００９】また、本発明の第２の目的は、キャリアレ
ス処理装置において、受渡部に処理液が滴下することを
確実に防止することができる基板処理装置を提供するこ
とにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に係る発明は、搬送キャリアに収納された
複数の基板を処理キャリアに移し替える移替部と、前記
処理キャリアに収納された基板を処理液により処理する
処理部と、前記移替部と前記処理部との間に配設され、
前記基板が収納された処理キャリアを載置可能な中間部
と、前記基板が収納された処理キャリアを前記移替部か
ら前記中間部に移載する第１の搬送手段と、前記中間部
に移載された処理キャリアを前記処理部へ搬送する第２
の搬送手段とを備えたことを特徴としている。

【００１１】上記構成によれば、移替部において搬送キ
ャリアに収納された複数の基板が処理キャリアに移し替
えられる。この複数の基板が収納された処理キャリア
は、第１の基板搬送手段により移替部と処理部との間の
中間部に移載され、この中間部に移載された処理キャリ
アは、第２の搬送手段により中間部から処理部にまで搬
送される。この結果、処理液が付着される第２の搬送手
段が移替部に移動してくることがないので、処理液が移
替部に滴下することが確実に防止される。

【００１２】また、請求項２に係る発明は、搬送キャリ
アに収納された複数の基板を該搬送キャリアから取り出
す受渡部と、前記搬送キャリアから取り出された基板を
処理液により処理する処理部と、前記受渡部と前記処理
部との間に配設され、前記搬送キャリアから取り出され
た基板を載置可能な基板載置台を有する中間部と、前記
搬送キャリアから取り出された基板を前記受渡部から前
記中間部の基板載置台に移載する第１の搬送手段と、前
記基板載置台に移載された基板を前記処理部へ搬送する
第２の搬送手段とを備えたことを特徴としている。

【００１３】上記構成によれば、受渡部において搬送キ
ャリアに収納された複数の基板が該搬送キャリアから取
り出される。この取り出された基板は第１の搬送手段に
より受渡部から搬送されて中間部に移載される。中間部
に移載された基板は、第２の搬送手段により中間部から
処理部へ搬送される。この結果、処理液の付着された第
２の搬送手段が受渡部に移動してくることがないので、
処理液が受渡部に滴下することが確実に防止される。

【００１４】また、請求項３に係る発明は、請求項２に
係るものにおいて、前記基板載置台が、載置台取付部に
対して着脱自在に取り付けられたことを特徴としてい
る。

【００１５】上記構成によれば、基板載置台が着脱自在
に取り付けられているので、処理液により汚染されるよ
うなことがあっても、基板載置台を取外して載置台自身
を洗浄することが可能となる。

【００１６】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の第１の実施形態
に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。こ
の図において、基板処理装置１０は、キャリア付処理装
置を構成するもので、半導体ウエハ等の処理前基板の移
替部１２と、移替部１２の左側に配設された受入部１４
と、移替部１２の右側に配設された中間部１６と、移替
部１２と中間部１６との間を往復動する第１の搬送機構
部１８と、中間部１６の右側に配設された処理部本体２
０と、中間部１６と処理部本体２０との間を往復動する
第２の搬送機構部２２と、処理部本体２０の右側に配設
された処理済み基板の移替部２４と、処理部本体２０と
処理済み基板の移替部２４との間を往復動する第３の搬
送機構部２６と、移替部２４の右側に配設された取出部
２８とを備えている。

【００１７】処理前基板の移替部１２は、搬送キャリア
Ｃ1に収納された半導体ウエハ等の複数の処理前基板を
処理キャリアＣ2に移し替えるもので、搬送キャリアＣ1
が載置される第１のテーブル１２１と、第１のテーブル
１２１の右側に位置し、処理キャリアＣ2が載置される
第２のテーブル１２２と、第１，第２のテーブルの中間
に配設された昇降板１２３と、昇降板１２３に移載され
た基板を把持する一対のアームで構成されたチャックを
有する基板挟持機構部１２４とを備えている。

【００１８】第１，第２のテーブル１２１，１２２は、
図略の移動機構により左右方向に移動可能に構成されて
いる。昇降板１２３は、上面に基板の下端部分が挿入さ
れて該基板の保持を可能とする複数の保持溝が刻設され
ており、図略の昇降機構により昇降可能に構成されてい
る。基板挟持機構部１２４は、その一対のアームが図略
の移動機構により拡狭自在に構成され、一対のアームの
対向面には複数の基板挟持溝が形成されている。なお、
搬送キャリアＣ1、処理キャリアＣ2及び第１，第２のテ
ーブル１２１，１２２には、それぞれ昇降板１２３が貫
通し得る形状の貫通孔が形成されている。

【００１９】このように構成された移替部１２では、複
数の処理前基板が収納された搬送キャリアＣ1が載置さ
れた状態で第１のテーブル１２１が昇降板１２３の位置
に移動する。昇降板１２３は、第１のテーブル１２１と
搬送キャリアＣ1の貫通孔を貫通して上昇し、搬送キャ
リアＣ1内の複数の基板を保持溝に保持して搬送キャリ
アＣ1の上方に持ち上げる。昇降板１２３で持ち上げら
れた基板は、基板挟持機構部１２４のチャックで挟持さ
れる。この状態で、昇降板１２３は降下し、空になった
搬送キャリアＣ1が載置された第１のテーブル１２１は
元の位置に移動する。

【００２０】そして、空の処理キャリアＣ2が載置され
た第２のテーブル１２２が昇降板１２３の位置に移動
し、昇降板１２３は第２のテーブル１２２と処理キャリ
アＣ2の貫通孔を貫通して再び上昇する。このとき、基
板挟持機構部１２４のチャックで挟持されていた基板
は、昇降板１２３上に移載され、この状態で昇降板１２
３が降下することによって処理キャリアＣ2内に移し替
えられる。基板の移し替えが終了すると、処理キャリア
Ｃ2が載置された第２のテーブル１２２は元の位置に移
動する。

【００２１】受入部１４は、図外の搬送装置等から処理
前基板の収納された搬送キャリアＣ1を受け入れるもの
で、搬入された搬送キャリアＣ1を受け入れる搬入台１
４１と、移替部１２で基板が処理キャリアＣ2に移し替
えられて空になった搬送キャリアＣ1を取出部２８の後
述する搬入台２８２に向けて搬出する搬出台１４２と、
搬入台１４１及び搬出台１４２に沿って往復動自在に配
設されるとともに、拡狭自在で上下動可能に構成された
一対のアームを有し、かつ水平面内において１８０°回
動可能に構成されたカセット移載機構部１４３とを備え
ている。

【００２２】中間部１６は、搬送キャリアＣ1から移し
替えられた基板の収納された処理キャリアＣ2が処理部
本体２０に搬送される前の中継箇所となるもので、処理
キャリアＣ2が載置可能な水平面を有するように構成さ
れている。

【００２３】第１の搬送機構部１８は、移替部１２の第
２のテーブル１２２上に載置されている処理キャリアＣ
2を中間部１６に移載するもので、拡狭自在で昇降可能
に構成された一対のアームからなるチャックを有し、移
替部１２と中間部１６との間を往復動可能に構成されて
いる。この第１の搬送機構部１８は、複数の基板が搬送
キャリアＣ1から処理キャリアＣ2に移し替えられると、
チャックが降下して処理キャリアＣ2を把持し、処理キ
ャリアＣ2を持ち上げた状態で中間部１６に移動する。
そして、チャックを降下させて処理キャリアＣ2の把持
を解除し、処理キャリアＣ2を中間部１６上に移載す
る。その後、チャックが上昇して第２のテーブル１２２
側に移動する。

【００２４】処理部本体２０は、左右方向に一列に並べ
られた複数の処理部２０ｂ，２０ｃ，・・・，２０ｍを
有しており、各処理部２０ｂ，２０ｃ，・・・，２０ｍ
において処理キャリアＣ2に収納された複数の基板に対
して処理液により洗浄等の所定の処理が順に行われる。
なお、各処理部２０ｂ，２０ｃ，・・・，２０ｍには、
処理キャリアＣ2を載置するキャリアガイドが配設され
ている。また、最初の処理部２０ｂの左側にはチャック
水洗部２０ａが配設されており、第２の搬送機構部２２
のチャックやアームを洗浄することにより付着した処理
液を除去するようになっている。また、最後の処理部２
０ｍの右側には乾燥部２０ｎが配設されており、処理済
み基板を乾燥するようになっている。

【００２５】第２の搬送機構部２２は、中間部１６に移
載された処理キャリアＣ2を把持して処理部本体２０側
に搬送するもので、拡狭自在で昇降可能に構成された一
対のアームからなるチャックを有し、中間部１６と処理
部本体２０との間を往復動可能に構成されている。この
第２の搬送機構部２２は、第１の搬送機構部１８が処理
キャリアＣ2を中間部１６上に移載した後に中間部１６
から退避すると、中間部１６に移動する。そして、チャ
ックが降下して処理キャリアＣ2を把持するとともに、
処理キャリアＣ2を持ち上げた状態で処理部本体２０側
に移動し、処理部２０ｂの位置で停止する。その後、チ
ャックが降下して処理キャリアＣ2を処理部２０ｂのキ
ャリアガイドに移載する。

【００２６】その後、処理キャリアＣ2内の基板に対し
て処理液による処理が行われる。そして、所定の処理が
終了すると、処理キャリアＣ2を再び第２の搬送機構部
２２のチャックで把持して順次隣接する処理部に搬送す
る。各処理部２０ｃ，・・・，２０ｍでは、処理部２０
ｂと同様にして処理キャリアＣ2内の基板に対して順に
処理が行われる。そして、最後の処理部２０ｍで処理さ
れた基板の収納されている処理キャリアＣ2を乾燥部２
０ｎに搬送する。なお、処理部本体２０に、各処理部間
を移動する第２の搬送機構部２２と同様の構成になる他
の搬送機構部を設けるようにしてもよい。

【００２７】処理済み基板の移替部２４は、処理部本体
２０側から搬送されてくる処理キャリアＣ2に収納され
ている処理済み基板を搬送キャリアＣ1に移し替えるも
ので、処理キャリアＣ2が載置される第３のテーブル２
４１と、第３のテーブル２４１の右側に位置し、搬送キ
ャリアＣ1が載置される第４のテーブル２４２と、第
１，第２のテーブル２４１，２４２の中間に配設された
昇降板２４３と、昇降板２４３に移載された基板を把持
する一対のアームで構成されたチャックを有する基板挟
持機構部２４４とを備えている。

【００２８】第３，第４のテーブル２４１，２４２は、
昇降板２４３が貫通し得る形状の貫通孔が形成され、図
略の移動機構により左右方向に移動可能に構成されてい
る。昇降板２４３は、上面に基板の下端部分が挿入され
て該基板の保持を可能とする複数の保持溝が刻設されて
おり、図略の昇降機構により昇降可能に構成されてい
る。基板挟持機構部２４４は、その一対のアームが図略
の移動機構により拡狭自在に構成され、一対のアームの
対向面には複数の基板挟持溝が形成されている。

【００２９】このように構成された移替部２４では、上
述の処理前基板の移替部１２と同様の動作で、処理キャ
リアＣ2内の処理済み基板が空の搬送キャリアＣ1に移し
替えられる。

【００３０】第３の搬送機構部２６は、乾燥部２０ｎで
乾燥された基板の収納されている処理キャリアＣ2を乾
燥部２０ｎから処理済み基板の移替部２４側に搬送して
第３のテーブル２４１上に移載するもので、拡狭自在で
昇降可能に構成された一対のアームからなるチャックを
有し、乾燥部２０ｎと移替部２４との間を往復動可能に
構成されている。

【００３１】取出部２８は、処理済み基板の収納された
搬送キャリアＣ1を図外の搬送装置等に搬出するもの
で、移替部２４で処理キャリアＣ2から複数の基板が移
し替えられた搬送キャリアＣ1を外方に搬出する搬出台
２８１と、搬入された空の搬送キャリアＣ1を受け入れ
る搬入台２８２と、搬出台２８１及び搬入台２８２に沿
って往復動自在に配設されるとともに、拡狭自在で上下
動可能に構成された一対のアームを有し、かつ水平面内
において１８０°回動可能に構成されたカセット移載機
構部２８３とを備えている。

【００３２】なお、処理済み基板の移替部２４で空にな
った処理キャリアＣ2は、図略の移送機構により処理前
基板の移替部１２の第２のテーブル１２２上に移送され
るように構成され、受入部１４の搬出台１４２に載置さ
れている空の搬送キャリアＣ1は図略の移送機構により
取出部２８の搬入台２８２上に移送されるように構成さ
れている。

【００３３】次に、上記のように構成された基板搬送装
置１０の概略動作について説明する。複数の処理前基板
が収納された搬送キャリアＣ1が受入部１４の搬入台１
４１に搬入されると、その搬送キャリアＣ1はカセット
移載機構部１４３により把持されて搬送され、処理前基
板の移替部１２の第１のテーブル１２１に移載される。
このとき、第２のテーブル１２２には空の処理キャリア
Ｃ2が載置されており、第１のテーブル１２１に移載さ
れた搬送キャリアＣ1内の複数の基板は、移替部１２に
おいて空の処理キャリアＣ2に移し替えられる。第１の
テーブル１２１上の空になった搬送キャリアＣ1は、カ
セット移載機構部１４３により把持されて搬出台１４２
に搬出され、図略の移送機構により取出部２８の搬入台
２８２上に移送される。

【００３４】処理キャリアＣ2への基板の移し替えが終
了すると、処理キャリアＣ2は第２のテーブル１２２の
位置に移動してきている第１の搬送機構部１８により中
間部１６上に移載される。そして、第１の搬送機構部１
８が中間部１６から退避すると、第２の搬送機構部２２
が中間部１６へ移動し、中間部１６上の処理キャリアＣ
2を把持して処理部本体２０側に搬送する。なお、第２
の搬送機構部２２は、中間部１６へ移動する前にチャッ
クやアームがチャック水洗部２０ａで洗浄され、処理液
が除去された状態となっている。処理部本体２０での処
理キャリアＣ2内の基板に対する処理と乾燥とが終了す
ると、処理キャリアＣ2は第３の搬送機構部２６により
処理済み基板の移替部２４の第３のテーブル２４１に移
載される。

【００３５】このとき、第４のテーブル２４２には受取
部１４から搬送されてきた空の搬送用キャリアＣ1が載
置されており、第３のテーブル２４１に移載された処理
キャリアＣ2内の基板は、移替部２４において第４のテ
ーブル２４２の空の搬送キャリアＣ1に移し替えられ
る。第３のテーブル２４１上の空になった処理キャリア
Ｃ2は、図略の移送機構により処理前基板の移替部１２
の第２のテーブル１２２側に移送される。また、処理済
み基板が移し替えられた搬送キャリアＣ1は、カセット
移載機構２８３により第４のテーブル２８２上から搬出
台２８１に取り出され、その後の第４のテーブル２４２
には搬入台２８２の空の搬送キャリアＣ1がカセット移
載機構部２８３によって移載される。

【００３６】上記の動作が繰り返し実行されることによ
り、受取部１４の搬入台１４１に順次搬入された搬送キ
ャリアＣ1内の処理前基板は、処理済み基板として搬送
キャリアＣ1に収納された状態で取出部２８の搬出台２
８１に順次搬出されることになる。

【００３７】上記のように構成された基板処理装置１０
において、第２の搬送機構部２２のチャックには、チャ
ック水洗部２０ａにおける洗浄や液切りが十分に行われ
ない場合に、各処理部での処理キャリアＣ2の受け渡し
時等に付着した処理液が残存していることがある。とこ
ろが、この第２の搬送機構部２２は中間部１６で処理キ
ャリアＣ2を把持するようになっており、従来のように
処理前基板の移替部１２で処理キャリアＣ2を把持する
ことがないので、第２の搬送機構部２２に処理液が付着
していてもその処理液が移替部１２に滴下しないように
なる。なお、中間部１６では、第２の搬送機構部２２か
ら処理液が滴下する虞はあるが、中間部１６には露出し
た機構部が存在しないので、機構部が誤動作したり、腐
食したりするという虞は生じない。また、中間部１６に
処理液が滴下したとしても拭き取る等して容易に除去す
ることができる。

【００３８】図２は、本発明の第２の実施形態に係る基
板処理装置の概略構成を示す平面図である。この基板処
理装置５０は、キャリアレス処理装置を構成するもの
で、半導体ウエハ等の処理前基板の受渡部５２と、受渡
部５２の左側に配設された受入部５４と、受渡部５２の
右側に配設された中間部５６と、受渡部５２と中間部５
６との間を往復動する第１の搬送機構部５８と、中間部
５６の右側に配設された処理部本体６０と、中間部５６
と処理部本体６０との間を往復動する第２の搬送機構部
６２と、処理部本体６０の右側に配設された処理済み基
板の受渡部６４と、処理部本体６０と処理済み基板の受
渡部６４との間を往復動する第３の搬送機構部６６と、
受渡部６４の右側に配設された取出部６８とを備えてい
る。

【００３９】処理前基板の受渡部５２は、搬送キャリア
Ｃ1に収納された半導体ウエハ等の複数の処理前基板を
搬送キャリアＣ1の外方に取り出すとともに、第１の搬
送機構部５８のチャックに受け渡すもので、搬送キャリ
アＣ1が載置される第１のテーブル５２１と、第１のテ
ーブル５２１の右側に配設された昇降板５２２とを備え
ている。第１のテーブル５２１は、図略の移動機構によ
り左右方向に移動可能に構成され、昇降板５２２は、上
面に基板の下端部分が挿入されて該基板を保持する複数
の保持溝が刻設されており、図略の昇降機構により上下
方向に昇降可能に構成されている。なお、第１のテーブ
ル５２１には昇降板５２２が貫通し得る貫通孔が形成さ
れている。

【００４０】このように構成された受渡部５２では、複
数の処理前基板が収納された搬送キャリアＣ1が載置さ
れた状態で第１のテーブル５２１が昇降板５２２の位置
に移動する。昇降板５２２は、第１のテーブル５２１と
搬送キャリアＣ1の貫通孔を貫通して上昇し、搬送キャ
リアＣ1内の複数の基板を保持溝に保持して搬送キャリ
アＣ1の上方に持ち上げ、搬送キャリアＣ1の外方に取り
出す。昇降板５２２で持ち上げられた複数の基板は、後
述するように第１の搬送機構部５８のチャックで一括し
て把持される。この状態で、昇降板５２２は降下し、空
になった搬送キャリアＣ1が載置された第１のテーブル
５２１は元の位置に移動する。

【００４１】受入部５４は、図外の搬送装置等から処理
前基板の収納された搬送キャリアＣ1を受け入れるもの
で、第１の実施形態における受入部１４と同様に構成さ
れ、搬入された搬送キャリアＣ1を受け入れる搬入台５
４１と、受渡部５２で空になった搬送キャリアＣ1を取
出部６８の後述する搬入台６８２に向けて搬出する搬出
台５４２と、カセット移載機構部５４３とを備えてい
る。

【００４２】中間部５６は、基台５６１上に着脱自在に
取り付けられ、複数の基板を直立姿勢で保持する基板載
置台（ウエハガイド）５６２を備えている。この基板載
置台５６２は、図３に示すような構成で基台５６１上に
取り付けられている。すなわち、基台５６１上に、複数
のアジャストボルト５６３により平板状のベース部材５
６４が水平姿勢に位置調節されて取り付けられるととも
に、このベース部材５６４上に、前後方向（図中の紙面
を貫く方向）に直立して対向配置された保持板５６５
ａ，５６５ｂを有する保持部材（リテーナ）５６５が固
定されている。

【００４３】一方、基板載置台５６２は、下部に位置す
る取付部５６２ａと上部に位置する基板保持部５６２ｂ
とを有しており、その取付部５６２ａが保持部材５６５
の保持板５６５ａ，５６５ｂ間に嵌合され、保持板５６
５ａ，５６５ｂと取付部５６２ａとを貫通するねじ等の
締着部材５６６により保持部材５６５に対して移動不能
に取り付けられている。なお、基板載置台５６２の基板
保持部５６２ｂ上面には、複数の基板Ｗを前後方向（図
中の紙面を貫く方向）に沿って所定間隔で保持するため
の複数の保持溝５６２ｃが形成されている。

【００４４】この基板載置台５６２は、上述のようにし
て保持部材５６５に取り付けられることにより、締着部
材５６６による締着状態を解除することで保持部材５６
５から取外し可能となる。なお、基板載置台５６２は、
締着部材５６６を使用せずに保持部材５６５に取り付け
ることも可能である。例えば、取付部５６２ａと保持部
材５６５との嵌合面に凹凸部を形成しておき、この凹凸
部を互いに密着状に嵌合させることで位置固定されるよ
うにすればよい。また、基板載置台５６２とベース部材
５６４との間に平板状のカバー５６７が水平姿勢で配設
され、ベース部材５６４上に処理液等が滴下しないよう
に構成されている。

【００４５】図２に戻り、第１の搬送機構部５８は、上
述のように昇降板５２２で持ち上げられた複数の基板を
一括して把持する一方、その複数の基板を中間部５６の
基板載置台５６２に移載するもので、拡狭自在で昇降可
能に構成された一対のアームからなるチャックを有し、
受渡部５２の昇降板５２２の位置と中間部５６の基板載
置台５６２との間を往復動可能に構成されている。な
お、一対のアームの対向面には複数の基板挟持溝が形成
されている。

【００４６】この第１の搬送機構部５８は、受渡部５２
の昇降板５２２が上昇するときには昇降板５２２側に移
動しており、昇降板５２２が複数の基板を持ち上げた
後、その複数の基板を一括してチャックで把持し、その
状態で中間部５６へ移動する。そして、基板載置台５６
２の位置でチャックを降下させ、チャックによる把持を
解除して複数の基板を基板載置台５６２の保持溝５６２
ｃに保持させる。その後、この第１の搬送機構部５８
は、受渡部５２の昇降板５２２の位置に退避する。

【００４７】処理部本体６０は、基本的には第１の実施
形態に係る処理部本体２０と同様に構成されたもので、
左右方向に一列に並べられた複数の処理部６０ｂ，６０
ｃ，・・・，６０ｍを有している。なお、最初の処理部
６０ｂの左側にはチャック水洗部６０ａが設置され、最
後の処理部６０ｍの右側には乾燥部６０ｎが設置されて
いる。また、処理部本体６０の各処理部には基板を直接
保持する基板支持機構が配設されている。

【００４８】第２の搬送機構部６２は、中間部５６の基
板載置台５６２に移載された複数の基板を一括して把持
し、処理部本体６０側に搬送するもので、拡狭自在で昇
降可能に構成された一対のアームからなるチャックを有
し、中間部５６と処理部本体６０との間を往復動可能に
構成されている。なお、一対のアームの対向面には複数
の基板挟持溝が形成されている。この第２の搬送機構部
６２は、第１の搬送機構部１８が複数の基板を基板載置
台５６２に移載して退避位置に退避すると、中間部５６
の基板載置台５６２の位置へ移動する。そして、チャッ
クが降下して複数の基板を一括して把持するとともに、
この状態で上昇して処理部本体６０側に移動し、処理部
６０ｂの位置で停止する。その後、チャックが降下して
基板の把持を解除し、複数の基板を基板支持機構に移載
する。

【００４９】その後、基板支持機構に支持された基板に
対して処理液による処理が行われる。そして、所定の処
理が終了すると、複数の基板を再びチャックで把持して
順次隣接する処理部に搬送する。各処理部６０ｃ，・・
・，６０ｍでは、処理部６０ｂと同様にして基板に対し
て順に処理が行われる。そして、最後の処理部６０ｍで
処理された後に基板を乾燥部６０ｎに搬送する。なお、
処理部本体６０に、各処理部間を移動する第２の搬送機
構部６２と同様の構成になる他の搬送機構部を設けるよ
うにしてもよい。

【００５０】処理済み基板の受渡部６４は、処理部本体
６０側から搬送されてくる処理済みの複数の基板を搬送
キャリアＣ1に受け渡すもので、処理部本体６０側に配
置された昇降板６４１と、昇降板６４１の右側に位置
し、搬送キャリアＣ1が載置される第２のテーブル６４
２とを備えている。第２のテーブル６４２は、図略の移
動機構により左右方向に移動可能に構成され、昇降板６
４１は、上面に基板の下端部分が挿入されて該基板を保
持する複数の保持溝が刻設されており、図略の昇降機構
により上下方向に昇降可能に構成されている。なお、第
２のテーブル６４２には昇降板６４１が貫通し得る貫通
孔が形成されている。

【００５１】このように構成された受渡部６４では、空
の搬送キャリアＣ1が載置された状態で第２のテーブル
６４２が昇降板６４１の位置に移動する。昇降板６４１
は、第２のテーブル６４２と搬送キャリアＣ1の貫通孔
を貫通して上昇し、搬送キャリアＣ1の上方に移動す
る。このとき、第３の搬送機構部６６が、複数の基板を
チャックで把持した状態で昇降板６４１の位置に移動
し、チャックの把持を解除することで複数の基板が昇降
板６４１に移載される。そして、この複数の基板は、昇
降板６４１が降下することにより搬送キャリアＣ1内に
受け渡され、処理済み基板の収納された搬送キャリアＣ
1が載置された第２のテーブル６４２は元の位置に移動
する。

【００５２】第３の搬送機構部６６は、乾燥部６０ｎで
乾燥された複数の基板を乾燥部６０ｎから処理済み基板
の受渡部６４側に搬送して昇降板６４１上に移載するも
ので、拡狭自在で昇降可能に構成された一対のアームか
らなるチャックを有し、乾燥部６０ｎと受渡部６４との
間を往復動可能に構成されている。なお、一対のアーム
の対向面には複数の基板挟持溝が形成されている。

【００５３】取出部６８は、処理済み基板の収納された
搬送キャリアＣ1を図外の搬送装置等に搬出するもの
で、受渡部６４で複数の基板が受け渡された搬送キャリ
アＣ1を外方に搬出する搬出台６８１と、搬入された空
の搬送キャリアＣ1を受け入れる搬入台６８２と、搬出
台６８１及び搬入台６８２に沿って往復動自在に配設さ
れたカセット移載機構部６８３とを備えている。

【００５４】なお、受入部５４の搬出台５４２に載置さ
れている空の搬送キャリアＣ1は図略の移送機構により
取出部６８の搬入台６８２上に移送されるように構成さ
れている。

【００５５】次に、上記のように構成された基板搬送装
置５０の概略動作について説明する。受入部５４の搬入
台５４１に搬入された搬送キャリアＣ1は、第１のテー
ブル５２１に移載される。第１のテーブル５２１に移載
された搬送キャリアＣ1内の複数の基板は、受渡部５２
において第１の搬送機構部５８のチャックに受け渡され
る。第１のテーブル５２１上の空になった搬送キャリア
Ｃ1は、搬出台５４２に搬出され、図略の移送機構によ
り取出部６８の搬入台６８２上に移送される。

【００５６】第１の搬送機構部５８のチャックへの基板
の受け渡しが終了すると、第１の搬送機構部５８は中間
部５６へ移動し、複数の基板は基板載置台５６２に移載
される。そして、第１の搬送機構部５８が中間部５６か
ら退避すると、第２の搬送機構部６２が中間部５６へ移
動し、基板載置台５６２上の基板を把持して処理部本体
６０側に搬送する。なお、第２の搬送機構部６２は、中
間部５６へ移動する前にチャックやアームがチャック水
洗部６０ａで洗浄され、処理液が除去された状態となっ
ている。処理部本体６０での基板に対する処理と乾燥と
が終了すると、基板は第３の搬送機構部６６により処理
済み基板の受渡部６４の昇降板６４１に移載された後、
第２のテーブル６４２上の搬送キャリアＣ1に受け渡さ
れる。

【００５７】処理済み基板が受け渡された搬送キャリア
Ｃ1は、第２のテーブル６４２上から搬出台６８１に取
り出され、その後の第２のテーブル６４２には搬入台６
８２の空の搬送キャリアＣ1がカセット移載機構部６８
３により移載される。

【００５８】上記の動作が繰り返し実行されることによ
り、受入部５４の搬入台５４１に順次搬入された搬送キ
ャリアＣ1内の処理前基板は、処理済み基板として搬送
キャリアＣ1に収納された状態で取出部６８の搬出台６
８１に順次搬出されることになる。

【００５９】上記のように構成された基板処理装置５０
において、第２の搬送機構部６２のチャックには、チャ
ック水洗部６０ａにおける洗浄や液切りが十分に行われ
ない場合に、処理部本体６０の各処理部での基板の受け
渡し時等に付着した処理液が残存していることがある。
ところが、この第２の搬送機構部６２は中間部５６で基
板を把持するようになっており、従来のように処理前基
板の受渡部５２で基板を把持することがないので、第２
の搬送機構部６２に処理液が付着していても受渡部５２
に滴下しないようになる。

【００６０】ただし、中間部５６では、第２の搬送機構
部６２に処理液が付着していた場合にその処理液が滴下
する虞はあるが、中間部５６には基板載置台５６２とそ
の取付部材しか存在せず、露出した機構部が存在しない
ので、機構部が誤動作したり、腐食したりするという虞
は生じない。また、中間部５６の基板載置台５６２に処
理液が滴下したとしても拭き取る等して容易に除去する
ことができる。また、基板載置台５６２は、基台５６１
に対して着脱自在に取り付けられているので、処理液で
汚染されたときには取り外して洗浄することができ、中
間部５６のメンテナンスがきわめて容易となる。

【００６１】なお、第１の実施形態に係る基板処理装置
１０における処理前基板の移替部１２及び第２の実施形
態に係る基板処理装置５０における処理前基板の受渡部
５２を「Ａ」、基板処理装置１０における中間部１６及
び基板処理装置５０における中間部５６を「Ｂ」、基板
処理装置１０における処理部本体２０及び基板処理装置
５０における処理部本体６０を「Ｃ」、基板処理装置１
０における第１の搬送機構部１８及び基板処理装置５０
における第１の搬送機構部５８を「Ｄ」、基板処理装置
１０における第２の搬送機構部２２及び基板処理装置５
０における第２の搬送機構部６２を「Ｅ」でそれぞれ示
すと、基板処理装置１０及び基板処理装置５０は図４
（ａ）に示すように配置構成されたものとなるが、例え
ば、図４（ｂ）乃至（ｆ）に示すような配置構成とする
ことも可能である。

【００６２】すなわち、図４（ｂ）に示すように、第１
の搬送機構部Ｄを移替部・受渡部Ａと中間部Ｂとに対し
て第２の搬送機構部Ｅの反対側に配設するようにしても
よい。また、図４（ｃ）に示すように、第１の搬送機構
部Ｄを移替部・受渡部Ａと中間部Ｂとの間に配設するよ
うにしてもよい。この場合、第１の搬送機構部Ｄは１８
０°回転可能に構成しておけばよい。この場合でも、中
間部Ｂは移替部・受渡部Ａと処理部本体Ｃとの間に配設
されていることになる。また、図４（ｄ）に示すよう
に、移替部・受渡部Ａを中間部Ｂの図中上方に配設する
とともに、第１の搬送機構部Ｄを図中左方に配設するよ
うにしてもよい。この場合でも、中間部Ｂは移替部・受
渡部Ａと処理部本体Ｃとの間に配設されていることにな
る。

【００６３】また、図４（ｅ）に示すように、移替部・
受渡部Ａを中間部Ｂの図中上方に配設するとともに、第
１の搬送機構部Ｄを移替部・受渡部Ａと中間部Ｂとの間
に配設するようにしてもよい。この場合、第１の搬送機
構部Ｄは１８０°回動可能に構成しておけばよい。この
場合でも、中間部Ｂは移替部・受渡部Ａと処理部本体Ｃ
との間に配設されていることになる。また、図４（ｆ）
に示すように、移替部・受渡部Ａを図中下方に配設し、
この移替部・受渡部Ａの上方に第１の搬送機構部Ｄを配
設するようにしてもよい。この場合、第１の搬送機構部
Ｄは９０°回動可能に構成しておけばよい。この場合で
も、中間部Ｂは移替部・受渡部Ａと処理部本体Ｃとの間
に配設されていることになる。なお、図４（ｄ），
（ｅ）のように移替部・受渡部Ａを中間部Ｂの図中上方
に配設するようにすると、装置の左右方向における全長
を短くすることができる。

【００６４】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明に
よれば、複数の基板が収納された処理キャリアが載置可
能な中間部を移替部と処理部との間に配設する一方、第
１の搬送手段により処理キャリアを移替部から中間部に
移載し、この中間部に移載した処理キャリアを第２の搬
送手段により処理部に搬送するように構成しているの
で、キャリア付処理装置において移替部に処理液が滴下
することを確実に防止することができ、その結果、移替
部の移替え機構が誤動作したり、腐食したりするという
虞がなくなる。

【００６５】また、請求項２の発明によれば、複数の基
板が載置可能な基板載置部を有する中間部を受渡部と処
理部との間に配設する一方、搬送キャリアに収納された
複数の基板を受渡部において搬送キャリアから取り出
し、この取り出した基板を第１の搬送手段により中間部
に移載し、この中間部に移載した基板を第２の搬送手段
により処理部へ搬送するように構成しているので、キャ
リアレス処理装置において受渡部に処理液が滴下するこ
とを確実に防止することができ、その結果、受渡部の受
渡し機構が誤動作したり、腐食したりするという虞がな
くなる。また、受渡部の搬送キャリアに処理液が滴下す
ることを確実に防止することができ、その結果、処理済
み基板が汚染されるという虞がなくなる。

【００６６】また、請求項３の発明によれば、基板載置
台を載置台取付部に対して着脱自在に取り付けるように
しているので、基板載置台が処理液で汚染されるような
ことがあっても基板載置台を取外して洗浄することがで
き、メンテナンスが容易となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置の
概略構成を示す平面図である。

【図２】本発明の第２の実施形態に係る基板処理装置の
概略構成を示す平面図である。

【図３】図２に示す基板処理装置の中間部の側面図であ
る。

【図４】本発明に係る基板処理装置の変形例を説明する
ための図である。

【符号の説明】

１０，５０ 基板処理装置 １２ 処理前基板の移替部 １４，５４ 受入部 １６，５６ 中間部 １８，５８ 第１の搬送機構部（第１の搬送手段） ２０，６０ 処理部本体（処理部） ２２，６２ 第２の搬送機構部（第２の搬送手段） ２４ 処理済み基板の移替部 ２６，６６ 第３の搬送機構部 ２８，６８ 取出部 ５２ 処理前基板の受渡部 ６４ 処理済み基板の受渡部 ５６１ 基台（載置台取付部） ５６２ 基板載置台 Ｃ1 搬送キャリア Ｃ2 処理キャリア

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小原 茂 滋賀県野洲郡野洲町大字三上字口ノ川原 2426番１ 大日本スクリーン製造株式会社 野洲事業所内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 搬送キャリアに収納された複数の基板を
   処理キャリアに移し替える移替部と、 前記処理キャリアに収納された基板を処理液により処理
   する処理部と、 前記移替部と前記処理部との間に配設され、前記基板が
   収納された処理キャリアを載置可能な中間部と、 前記基板が収納された処理キャリアを前記移替部から前
   記中間部に移載する第１の搬送手段と、 前記中間部に移載された処理キャリアを前記処理部へ搬
   送する第２の搬送手段と、を備えたことを特徴とする基
   板処理装置。
2. 【請求項２】 搬送キャリアに収納された複数の基板を
   該搬送キャリアから取り出す受渡部と、 前記搬送キャリアから取り出された基板を処理液により
   処理する処理部と、 前記受渡部と前記処理部との間に配設され、前記搬送キ
   ャリアから取り出された基板を載置可能な基板載置台を
   有する中間部と、 前記搬送キャリアから取り出された基板を前記受渡部か
   ら前記中間部の基板載置台に移載する第１の搬送手段
   と、 前記基板載置台に移載された基板を前記処理部へ搬送す
   る第２の搬送手段と、を備えたことを特徴とする基板処
   理装置。
3. 【請求項３】 前記基板載置台は、載置台取付部に対し
   て着脱自在に取り付けられたことを特徴とする請求項２
   記載の基板処理装置。