JPH11186148A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH11186148A JPH11186148A JP9363715A JP36371597A JPH11186148A JP H11186148 A JPH11186148 A JP H11186148A JP 9363715 A JP9363715 A JP 9363715A JP 36371597 A JP36371597 A JP 36371597A JP H11186148 A JPH11186148 A JP H11186148A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
検出し、その検出値に基づいて、光電センサの出力に対
するゲインを制御するか、または光電センサの受光面の
温度を制御する。照明光がパルス状の照明光である場
合、前記暗電流または順方向電圧は、パルス状の照明の
合間に検出する。
Description
表示素子等を、フォトリソグラフィ工程で製造する際に
使用される露光装置に関するものである。
フォトリソグラフィ技術を用いて製造する際に、レチク
ルのパターンをウエハに塗布された感光材に露光する露
光装置が使用されている。一般にウエハに塗布された感
光材には適正露光量が定められているので、従来の露光
装置では、照明光の照明光学系中にビームスプリッタを
配置して、このビームスプリッタにより分岐した照明光
の一部の光量を光電センサに照射することにより、その
ウエハ上での露光量をモニタしている。そして、ウエハ
上での露光量がその適正露光量に達した時にそのウエハ
の現在のショッ卜領域への露光量を停止することによ
り、露光量制御が行なわれる。
照射されるモニタ光量が増えて光電センサの温度が上昇
し、これにより光電センサの感度が変化し、正確な露光
量制御を行なうための正確な露光量が得られない場合が
生じてきた。
公報においては、照明光の一部の光束の光量を計測する
光電センサと、光電センサの受光面の温度を検出する温
度検出手段とを備え、温度検出手段により検出された温
度に基づいて光電センサの温度変化に伴う感度変化を補
正するように構成している。
る光電センサと、光電センサの受光面の温度を検出する
温度検出手段と、光電センサの受光面の温度を制御する
温度制御手段とを備え、温度検出手段の検出値に基づい
て温度制御手段を制御し、光電センサの受光面の温度を
安定化し、光電センサの感度を一定に保つように構成し
ている。
例の構成では、光電センサの受光面の近傍に温度検出手
段とを備えても、光電センサと温度検出手段が別物であ
るがゆえに若干の温度差が生じ、正確な光電センサの受
光面の温度を検出することができず、光電センサの感度
を正確に補正することや、光電センサの受光面の温度を
正確に安定化することができなかった。この結果、正確
な露光量等を得ることが不可能であった。
ーザを照明光として用いる場合、パルス発光による電気
ノイズが発生し、これが温度検出回路に影響を与え、正
確な光電センサの受光面の温度を検出することができ
ず、光電センサの感度を正確に補正することや、光電セ
ンサの受光面の温度を正確に安定化することができなか
った。この結果、正確な露光量等を得ることが不可能で
あった。
なされたもので、露光装置において、露光量を常に正確
に計測することを目的とする。
は、光電センサの温度を検出する代わりに、光電センサ
自身の暗電流または順方向電圧を検出し、その検出値ま
たはその変化分に基づいて、光電センサの出力に対する
ゲインを制御するか、または光電センサの受光面の温度
を制御するようにしている。また、照明光がパルス状の
照明光である場合は、パルス状の照明の合間に、前記暗
電流または順方向電圧を検出する。
利用し、光電センサ自身を温度検出手段として用いるこ
とにより、温度センサが不要になり、かつ光電センサの
温度変動に起因する感度または露光量計測値の変動を正
確に補正または補償することができる。また、パルス状
の照明の合間に、光電センサの暗電流または順方向電圧
を検出することにより、光電センサによる露光量計測値
の変動要因をノイズに左右されずに正確に測定すること
ができる。さらに、光電センサの暗電流および順方向電
圧は経時的にも変化し、光電センサによる検出値はこの
経時変化によっても変化する。本発明によれば、暗電流
または順方向電圧の基準値を記憶しておくことにより、
または適宜、較正することにより、暗電流または順方向
電圧の経時変化に対する露光量計測誤差の補正または補
償を行なうことも可能である。
露光装置は、照明光の一部の光束の光量を計測する光電
センサと、本光電センサの暗電流または順方向電圧を検
出する手段とを備え、本検出手段により検出された暗電
流の変化分または順方向電圧に基づいて光電センサの温
度変化に伴う感度変化を補正するように動作するもので
ある。
装置は、照明光の一部の光束の光量を計測する光電セン
サと、本光電センサの暗電流または順方向電圧を検出す
る手段と、本光電センサの受光面の温度を制御する温度
制御手段とを備え、本検出手段の検出値に基づいて温度
制御手段を制御して光電センサの受光面の温度を安定化
し、光電センサの温度変化に伴う感度変化を除去するよ
うに動作するものである。
装置は、パルス状の照明光の一部の光束の光量を計測す
る光電センサと、パルス状の照明の合間に光電センサの
暗電流または順方向電圧を検出する手段とを備え、本検
出手段により検出された暗電流の変化分または順方向電
圧に基づいて、光電センサの温度変化に伴う感度変化を
補正するように動作するものである。
装置は、パルス状の照明光の一部の光束の光量を計測す
る光電センサと、パルス状の照明の合間に光電センサの
暗電流または順方向電圧を検出する手段と、光電センサ
の受光面の温度を制御する温度制御手段とを備え、本検
出手段の検出値に基づいて温度制御手段を制御し、光電
センサの受光面の温度を安定化して光電センサの温度変
化に伴う感度変化を除去するように動作するものであ
る。
る露光装置要部の概略構成を示す図面である。同図にお
いて、1は光源であるところのエキシマレーザであり、
後述する主制御系25の発振指令により、パルス状の照
明光を発生する。2はビーム整形光学系であり、エキシ
マレーザ1から出射された照明光が、所望の断面形状の
平行光束に整形される。3は1/4波長板であり、ビー
ム整形光学系2を通った直線偏光の照明光を、円偏光に
変換する。4は反射鏡、5はフライアイレンズであり、
フライアイレンズ5の射出面には多数の光源像が形成さ
れ、これにより照明光の照度分布の平坦化が行なわれ
る。6はビームスプリッタであり、フライアイレンズ5
を通った照明光がここで分割される。7は後述のレチク
ルを均一な照度分布で照明するためのレンズ群、8は反
射鏡である。 9はレチクル、10は投影光学系、11は
ウエハであり、レチクル9上のパターンが、投影光学系
10を介してウエハ11に投影露光される。12はビー
ムスプリッタ6で反射された光を集める集光レンズ、1
3は集光された光束、14は光束13を入射し、電圧に
変換することを主目的とする積算露光部である。
細を示す。15はフォトダイオードであり、その受光面
はウエハ11(図1)の露光面と共役の位置にある。1
6はフォトダイオード15の出力電流を電圧に変換する
電流電圧変換器、17はフォトダイオードの暗電流を測
定する暗電流測定器、18は切換器であり、フォトダイ
オード15を電流電圧変換器16に接続するか、暗電流
測定器17に接続するか選択する。19は電流電圧変換
器16の電圧出力を積算する露光量積算器、20は切換
器18への切換え指令信号、21は露光量積算器19か
らの積算露光量データ、22は暗電流測定器17からの
暗電流データである。23は電流電圧変換器16に対す
る補正指令信号である。
器18を駆動し、フォトダイオード15を電流電圧変換
器16(図2)に接続し、エキシマレーザ1に発振指令
24を与え、露光量積算器19を経た積算露光データ2
1を得ることができる。また主制御系25は、積算露光
部14の切換器18を駆動し、フォトダイオード15を
暗電流測定器17に接続することができる。 ここでフォ
トダイオードの暗電流は、一般的に図3に示すような温
度依存性をもつ。したがって、暗電流測定器17の暗電
流出力は、フォトダイオード15の温度を忠実に表わ
す。また主制御装置25は電流電圧変換器16に対し、
暗電流データ22、すなわちフォトダイオード15の温
度に従った補正指令信号23を与えることができる。
おいて順を追って動作を説明する。主制御装置25はエ
キシマレーザ1を発振させる前に、光束13がフォトダ
イオード15に照射されていない状態で切換器18を駆
動し、フォトダイオード15を暗電流測定器17側に接
続し、フォトダイオード15の暗電流データ22を受け
取り、この暗電流に対応する温度でフォトダイオード1
5に光束13を照射した場合の感度の補正値を計算し、
電流電圧変換器16に対し、補正指令信号23を与えて
おく。
し、フォトダイオード15を電流電圧変換器16側に接
続した状態で、エキシマレーザ1に発振指令24を出
す。エキシマレーザから出射された照明光は、ビーム整
形光学系2により所望の断面形状の平行光束に整形さ
れ、1/4波長板3により直線偏光から円偏光に変換さ
れて反射鏡4で反射された後にフライアイレンズ5に入
射する。フライアイレンズ5の射出面には面状の2次光
源が形成され、この面状の2次光源からのレーザ光が重
畳的にビームスプリッタ6に入射し、ビームスプリッタ
6を透過した光はレンズ群7、反射鏡8を経て均一な照
度分布でレチクル9を照明する。 これにより、レチクル
9のパターンが投影光学系10によってウエハ11上に
結像される。
スプリッタ6で反射された照明光は、集光レンズ12を
介して光束13となる。ここで光束13はウエハに結像
される光量に比例することになる。フォトダイオード1
5は、入射光量に比例した電流を発生し、これが電流電
圧変換器16に入り、補正指令信号23により感度が補
正され、電圧に変換される。その後、電流電圧変換器1
6の出力は、露光量積算器19に入り積算される。
発振指令24を与える前に、再度切換器18を駆動し、
フォトダイオード15を暗電流測定器17側に接続し、
先のエキシマレーザ1の発振により上昇したフォトダイ
オード15の暗電流を測定し、感度の補正値を計算し直
し、電流電圧変換器16に新しい補正指令信号23を送
る。
ード15を電流電圧変換器16側に接続し、エキシマレ
ーザ1に発振指令24を与えることにより、前回と同様
に電流電圧変換器16の出力が、露光量積算器19に入
り積算される。
光データ21が所望の値になるまで、前述のフォトダイ
オード15の暗電流測定、補正値の計算、エキシマレー
ザ発振と露光量の積算を繰り返すことにより、フォトダ
イオード15の暗電流(すなわち温度)にかかわらない
正確な露光量でウエハ11を露光することが可能とな
る。
ド15の暗電流に基づいて、電流電圧変換器16のゲイ
ンを制御するようにしたため、温度変化によるフォトダ
イオード15の感度の変化のみならず、フォトダイオー
ド15の暗電流の経時変化による露光量の積算誤差をも
補正可能である。
例を表す図面である。同図において、積算露光部14
と、加温指令信号27以外は第1の実施例と構成が同じ
である。
す。26はヒータであり、加温指令信号27の指令によ
り、フォトダイオード15を加熱することができる。
る。主制御装置25はエキシマレーザ1を発振させる前
に、光束13がフォトダイオード15に照射されていな
い状態で、切換器18を駆動し、フォトダイオード15
を暗電流測定器17側に接続し、フォトダイオード15
の暗電流データ22を受け取る。
5が所望の温度になるように加温指令信号27を出し、
ヒータ26により温度制御をかける。暗電流測定器17
で計測される暗電流が所望の値(すなわちフォトダイオ
ード15の受光面が所望の温度)になったら、第1の実
施例と同様に、主制御装置25は切換器18を駆動し、
フォトダイオード15を電流電圧変換器16側に接続し
た状態で、エキシマレーザ1に発振指令24を出す。エ
キシマレーザから出射された照明光は、ビーム整形光学
系2により所望の断面形状の平行光束に整形され、1/
4波長板3により直線偏光から円偏光に変換されて反射
鏡4で反射された後にフライアイレンズ5に入射する。
フライアイレンズ5の射出面には面状の2次光源が形成
され、この面状の2次光源からのレーザ光が重畳的にビ
ームスプリッタ6に入射し、ビームスプリッタ6を透過
した光はレンズ群7、反射鏡8を経て均一な照度分布で
レチクル9を照明する。これにより、レチクル9のパタ
ーンが投影光学系10によってウエハ11上に結像され
る。
スプリッタ6で反射された照明光は、集光レンズ12を
介して光束13となる。ここで光束13はウエハに結像
される光量に比例することになる。フォトダイオード1
5は、入射光量に比例した電流を発生し、これが電流電
圧変換器16に入り、電圧に変換される。その後、電流
電圧変換器16の出力は、露光量積算器19に入り積算
される。
発振指令24を与える前に、再度切換器18を駆動し、
フォトダイオード15を暗電流測定器17側に接続し、
フォトダイオード15の暗電流データ22を受け取り、
ヒータ26に加温指令信号27を与えることにより温度
制御をかけ、フォトダイオード15を所望の温度に保
つ。
ード15を電流電圧変換器16側に接続し、エキシマレ
ーザ1に発振指令24を与えることにより、前回と同様
に電流電圧変換器16の出力が、露光量積算器19に入
り積算される。
光データ21が所望の値になるまで、前述のフォトダイ
オード15の暗電流測定、ヒータ26によるフォトダイ
オード15の温度制御、エキシマレーザ発振と露光量の
積算を繰り返すことにより、正確な露光量でウエハ11
を露光することが可能となる。
他の実施例を表す図面である。同図において、図2の構
成との相違を述べると、28はフォトダイオード15の
順方向電圧を測定する順方向電圧測定器で、順方向電圧
データ30を出力する。29は切換器であり、フォトダ
イオード15を電流電圧変換器16に接続するか、順方
向電圧測定器28に接続するか選択する。ここでフォト
ダイオードの順方向電圧は、一般的に図7に示すような
温度依存性をもつ。すなわち、T0度の状態で電流I1
を流したときは順電圧V0が発生するが、T1度の状態
で電流I1を流したときの順電圧はV1になるので、順
方向電圧測定器28の順方向電圧出力30は、フォトダ
イオード15の温度を忠実に表わす。
る。主制御装置25はエキシマレーザ1を発振させる前
に、光束13がフォトダイオード15に照射されていな
い状態で切換器29を駆動し、フォトダイオード15を
順方向電圧測定器28側に接続し、フォトダイオード1
5の順方向電圧データ30を受け取り、この順方向電圧
に対応する温度でフォトダイオード15に光束13を照
射した場合の感度の補正値を計算し、電流電圧変換器1
6に対し、補正指令信号23を与えておく。
切換器18を駆動し、フォトダイオード15を電流電圧
変換器16側に接続した状態で、エキシマレーザ1に発
振指令24を出す。エキシマレーザから出射された照明
光は、ビーム整形光学系2により所望の断面形状の平行
光束に整形され、1/4波長板3により直線偏光から円
偏光に変換されて反射鏡4で反射された後にフライアイ
レンズ5に入射する。フライアイレンズ5の射出面には
面状の2次光源が形成され、この面状の2次光源からの
レーザ光が重畳的にビームスプリッタ6に入射し、ビー
ムスプリッタ6を透過した光はレンズ群7、反射鏡8を
経て均一な照度分布でレチクル9を照明する。 これによ
り、レチクル9のパターンが投影光学系10によってウ
エハ11上に結像される。
スプリッタ6で反射された照明光は、集光レンズ12を
介して光束13となる。ここで光束13はウエハに結像
される光量に比例することになる。フォトダイオード1
5は、入射光量に比例した電流を発生し、これが電流電
圧変換器16に入り、補正指令信号23により感度が補
正され、電圧に変換される。その後、電流電圧変換器1
6の出力は、露光量積算器19に入り積算される。
発振指令24を与える前に、再度切換器29を駆動し、
フォトダイオード15を順方向電圧測定器28側に接続
し、先のエキシマレーザ1の発振により上昇したフォト
ダイオード15の順方向電圧を測定し、感度の補正値を
計算し直し、電流電圧変換器16に新しい補正指令信号
23を送る。
ード15を電流電圧変換器16側に接続し、エキシマレ
ーザ1に発振指令24を与えることにより、前回と同様
に電流電圧変換器16の出力が、露光量積算器19に入
り積算される。
光データ21が所望の値になるまで、前述のフォトダイ
オード15の順方向電圧測定、補正値の計算、エキシマ
レーザ発振と露光量の積算を繰り返すことにより、フォ
トダイオード15の順方向電圧、したがって温度にかか
わらない正確な露光量でウエハ11を露光することが可
能となる。
ド15の順方向電圧に基づいて、電流電圧変換器16の
ゲインを制御するようにしたため、温度変化によるフォ
トダイオード15の感度の変化のみならず、フォトダイ
オード15の順方向電圧の経時変化による露光量積算の
誤差をも補正可能である。
置または露光方法を利用したデバイスの生産方法の実施
例を説明する。図8は微小デバイス(ICやLSI等の
半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、
マイクロマシン等)の製造のフローを示す。ステップ1
(回路設計)ではデバイスのパターン設計を行なう。ス
テップ2(マスク製作)では設計したパターンを形成し
たマスクを製作する。一方、ステップ3(ウエハ製造)
ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを製造す
る。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、
上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技
術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステ
ップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によ
って作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程
であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディン
グ)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含
む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半
導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査
を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成
し、これが出荷(ステップ7)される。
を示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオン
打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ15
(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ16(露光)では上記説明した積算露光量計測装置
を有する露光装置によってマスクの回路パターンをウエ
ハに焼付露光する。ステップ17(現像)では露光した
ウエハを現像する。ステップ18(エッチング)では現
像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19
(レジスト剥離)ではエッチングが済んで不要となった
レジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行な
うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成
される。
造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造す
ることができる。
照明光の一部の光束の光量を計測する光電センサと、光
電センサの温度特性を利用し光電センサの温度の代わり
として暗電流または順方向電圧を検出する手段とを備
え、本検出手段により検出された暗電流または順方向電
圧の変化に基づいて光電センサの感度を補正するように
動作することにより、温度センサを必要とせず、かつ温
度変化に影響されない正確な光量を測定することが可能
となる。
る光電センサと、光電センサの温度特性を利用し光電セ
ンサの温度の代わりとして暗電流または順方向電圧を検
出する手段とを備え、本検出手段の検出値に基づいて温
度制御手段を制御し、光電センサの受光面の温度を安定
化し、光電センサの感度が一定に保たれるように動作す
ることにより、温度センサを必要とせず、かつ正確な光
量を測定することが可能となる。
量を計測する光電センサと、パルス状の照明の合間に、
光電センサの温度の代わりとして暗電流または順方向電
圧を検出する手段とを備え、本検出手段により検出され
た暗電流または順方向電圧に基づいて光電センサの感度
を補正するように動作することにより、パルス状の照明
によるノイズに左右されずに正確な光量を測定すること
が可能となる。
量を計測する光電センサと、パルス状の照明の合間に、
光電センサの温度の代わりとして暗電流または順方向電
圧を検出する手段とを備え、本検出手段の検出値に基づ
いて温度制御手段を制御し、光電センサの受光面の温度
を安定化し、光電センサの感度が一定に保たれるように
動作することにより、パルス状の照明によるノイズに左
右されずに正確な光量を測定することが可能となる。
図である。
である。
概略図である。
略図である。。
である。
図である。
概略図である。
示す図である。
4波長板、4:反射鏡、5:フライアイレンズ、6:ビ
ームスプリッタ、7:レンズ群、8:反射鏡、9:レチ
クル、10:投影光学系、11:ウエハ、12:集光レ
ンズ、13:集光された光束、14:積算露光部、1
5:フォトダイオード、16:電流電圧変換器、17:
暗電流測定器、18:切換器、19:露光量積算器、2
0:切換え指令信号、21:積算露光量データ、22:
暗電流データ、23:補正指令信号、24:発振指令、
25:主制御系、26:ヒータ、27:加温指令信号、
28:順方向電圧測定器、29:切換器、30:順方向
電圧データ。
Claims (8)
- 【請求項1】 転写用のパターンが形成されたマスクを
露光用の照明光で照明する照明光学系を有し、前記照明
光のもとで感光基板上に前記マスクのパターンを転写す
る露光装置において、 前記照明光の少なくとも一部の光束の光量を計測する光
電センサと、 前記光電センサの暗電流を検出する手段と、 前記検出手段により検出された暗電流の変化分に基づい
て前記光電センサの出力に対するゲインを制御する利得
制御手段とを備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項2】 転写用のパターンが形成されたマスクを
露光用の照明光で照明する照明光学系を有し、前記照明
光のもとで感光基板上に前記マスクのパターンを転写す
る露光装置において、 前記照明光の少なくとも一部の光束の光量を計測する光
電センサと、 前記光電センサの暗電流を検出する手段と、 前記検出手段の検出値に基づいて前記光電センサの受光
面の温度を制御する温度制御手段とを備えたことを特徴
とする露光装置。 - 【請求項3】 前記露光用の照明光がパルス状の照明光
であり、前記検出手段は前記光電センサの暗電流を前記
パルス状の照明の合間に検出することを特徴とする請求
項1または2に記載の露光装置。 - 【請求項4】 転写用のパターンが形成されたマスクを
露光用の照明光で照明する照明光学系を有し、前記照明
光のもとで感光基板上に前記マスクのパターンを転写す
る露光装置において、 前記照明光の少なくとも一部の光束の光量を計測する光
電センサと、 前記光電センサの順方向電圧を検出する手段と、 前記検出手段により検出された順方向電圧に基づいて前
記光電センサの出力に対するゲインを制御する利得制御
手段とを備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項5】 転写用のパターンが形成されたマスクを
露光用の照明光で照明する照明光学系を有し、前記照明
光のもとで感光基板上に前記マスクのパターンを転写す
る露光装置において、 前記照明光の少なくとも一部の光束の光量を計測する光
電センサと、 前記光電センサの順方向電圧を検出する手段と、 前記検出手段により検出値に基づいて前記光電センサの
受光面の温度を制御する温度制御手段とを備えたことを
特徴とする露光装置。 - 【請求項6】 前記露光用の照明光がパルス状の照明光
であり、前記検出手段は前記光電センサの順方向電圧を
前記パルス状の照明の合間に検出することを特徴とする
請求項4または5に記載の露光装置。 - 【請求項7】 前記光電センサがフォトダイオードであ
る請求項1〜6のいずれか1つに記載の露光装置。 - 【請求項8】 請求項1〜6のいずれか1つに記載の露
光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデ
バイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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