JPH11185292A - 光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

光記録媒体及びその製造方法

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JPH11185292A JP9367196A JP36719697A JPH11185292A JP H11185292 A JPH11185292 A JP H11185292A JP 9367196 A JP9367196 A JP 9367196A JP 36719697 A JP36719697 A JP 36719697A JP H11185292 A JPH11185292 A JP H11185292A
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recording medium
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壮 小巻
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機色素の劣化が防止され、耐久性が向上し
且つ信頼性の高い光記録媒体及びその製造方法を提供す
る。 【解決手段】 基板２上に、有機色素を主成分とする記
録層３と、Ｃｕ、Ａｇ及びＡｕから選ばれる金属、又は
これらの金属の少なくとも１種を含む合金からなる反射
層４とをこの順で形成する。反射層４上に、紫外線硬化
性材料を積層した後、これに紫外線を２００〜１０００
ｍＪ／ｃｍ2 照射することにより、硬化収縮率が１０体
積％以下であるように硬化させて、得られる紫外線硬化
樹脂中の有機酸含量が１０重量ｐｐｍ以下であるよう
に、保護層５を形成して光ディスク１を得る。色素とし
てシアニン系色素が好適であり、反射層としてＣｕ、Ａ
ｇ、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金が好
適である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体及びそ
の製造方法に関し、より詳しくは、有機色素を主成分と
する記録層を有する光記録媒体及びその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、大容量情報担持媒体として、追記
型や書き換え可能型などの各種光記録ディスクが注目さ
れている。色素を主成分とする記録層を有する光記録デ
ィスクは、記録層が塗布により形成できるため低コスト
で製造することが可能である。
【０００３】色素を主成分とする記録層を有する光記録
ディスクとしては、従来、記録層上に空気層が設けられ
たいわゆるエアーサンドイッチ構造のものが用いられて
いたが、最近では、記録層表面に反射層を密着して設け
ることにより、コンパクトディスク（ＣＤ）規格に対応
した再生が可能な光記録ディスクが開発されている。す
なわち、この光記録ディスクは、ポリカーボネート等の
透明基板上に、色素を主成分とする記録層、反射層及び
保護膜がこの順に積層され、反射層が記録層に密着して
設けられ、ＣＤ規格のディスク全厚１．２ｍｍの構成が
可能となっているものである。さらに、高密度に対応し
たＤＶＤ規格に準拠した同様の光記録ディスクも提案さ
れている。
【０００４】ところが、このような層構成の光記録ディ
スクにおいては、基板として使用されるポリカーボネー
トの透湿性が高いため、高湿度雰囲気では色素膜に水分
が進入し、水分の存在下で色素の劣化が進むという問題
がある。
【０００５】従来、記録層としての色素膜（あるいは非
晶質合金薄膜）への水分の進入を防ぐ技術が提案されて
いる。例えば、特開昭５８−６２８４１号公報には、基
板面にハードコート層を設ける技術が記載され、特開昭
５９−１９８５４５号公報には、基板と合金記録層との
間に有機チタニウムの中間層を設ける技術が記載されて
いる。また、特開平４−１０２２４１号公報には、基板
と色素層との間に複素環式化合物からなる中間層を設け
る技術が記載され、特開平４−１３１２８０号公報に
は、色素層に複素環式化合物を存在させ、反射層を２層
構成とする技術が記載されている。しかしながら、これ
ら公報に記載の技術はいずれも、色素層（あるいは非晶
質合金薄膜）を保護するための層を追加するものであ
り、光記録ディスクの製造工程数の増加を伴い、製品の
コストアップにつながるものである。
【０００６】また、特開平６−２３１４８８号公報に
は、反射層の保護層側の面をトリアジンチオール系化合
物で処理して、反射層の腐食進行を抑えることが記載さ
れている。しかしながら、この公報に記載の技術も、光
記録ディスクの製造工程数の増加を伴い、製品のコスト
アップにつながるものである。
【０００７】さらに、金属膜自体の腐食を抑えるため
に、保護層の紫外線硬化樹脂について検討が行われてい
る。例えば、特開平１−１９９３３９号公報では、紫外
線硬化性樹脂中の酸価が規定され、特開平５−３６１３
３号公報では、硬化後の樹脂中の有機酸成分量が規定さ
れ、特開平７−１９２３１４５号公報では、紫外線硬化
樹脂層のアクリル酸イオン濃度が規定されている。しか
しながら、これら公報記載の技術はいずれも、金属膜自
体の腐食を抑えることが目的であり、色素膜の腐食に関
して触れられたものはない。
【０００８】特に特開平７−１９２３１４５号公報で
は、基板上に形成された金属薄膜上に、アクリル酸イオ
ン濃度が８００ｐｐｍ以下である紫外線硬化性樹脂層を
積層した後に、該紫外線硬化性樹脂を硬化させることが
開示され、上記金属薄膜として反射率の低いＡｌまたは
Ａｌ合金を使用し、アクリル酸イオン濃度を８００ｐｐ
ｍ以下とすることにより、反射膜の部分的な酸化劣化が
なくなることについて言及されている。しかし、反射層
にＡｌまたはＡｌ合金を使用したのでは、反射率が低い
ために、所望の性能を有する光記録ディスクが得られな
い。
【０００９】このように、反射層に反射率の高い金属あ
るいは合金が用いられ、記録層に有機色素が用いられた
場合に、この有機色素の劣化を簡便に防止し得る技術は
未だ知られていない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の目的
は、上記従来技術の問題点を解決し、有機色素を主成分
とする記録層と、反射率の高い金属あるいは合金からな
る反射層とを有する光記録媒体であって、有機色素の劣
化が防止され、耐久性が向上し且つ信頼性の高い光記録
媒体及びその製造方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、有機色素を主成分とする記録層と、反射率の高
い金属あるいは合金からなる反射層とを有する光記録媒
体において、反射層上に積層された紫外線硬化樹脂膜中
に含まれる有機酸が、色素膜劣化の初期段階を誘発する
ことを突き止めた。
【００１２】紫外線硬化樹脂膜は色素膜と直接は接して
いないが、反射膜を挟んで、紫外線硬化樹脂膜中の有機
酸を起因として、色素膜と反射膜の界面で局部電池を形
成するため、色素膜劣化が誘発されるものと考えられ
る。
【００１３】本発明者らは、反射層上に積層し硬化させ
るべき紫外線硬化性材料への紫外線照射量と硬化樹脂膜
中の有機酸量に着目し、本発明に到達した。すなわち、
本発明の光記録媒体は、基板上に、記録層と反射層とを
この順で有し、反射層上に保護層を有する光記録媒体に
おいて、記録層は有機色素を主成分とし、反射層はＣ
ｕ、Ａｇ及びＡｕから選ばれる金属、又はこれらの金属
の少なくとも１種を含む合金からなり、保護層は、紫外
線硬化性材料に紫外線を２００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2
照射することにより、硬化収縮率が１０体積％以下であ
るように硬化された紫外線硬化樹脂であって前記硬化樹
脂中の有機酸含量が１０重量ｐｐｍ以下である紫外線硬
化樹脂からなることを特徴とする。
【００１４】ここで、「硬化収縮率」とは、紫外線照射
により収縮した紫外線硬化性材料の体積割合であり、紫
外線照射前の紫外線硬化性材料の体積：ｖ1 、紫外線照
射後の紫外線硬化樹脂の体積：ｖ2 として、 硬化収縮率（％）＝〔（ｖ1 −ｖ2 ）／ｖ1 〕×１００ である。
【００１５】また、紫外線硬化樹脂中の有機酸含量は、
硬化樹脂から、純水中で有機酸成分を抽出し、この有機
酸成分をイオンクロマトグラフィー分析により定量した
値である。
【００１６】本発明の光記録媒体において、記録層の有
機色素が、シアニン系色素であることが好ましい。ま
た、反射層の金属又は合金が、Ｃｕ及びＡｇから選ばれ
る金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金
であることが好ましい。さらに、保護層の形成に用いら
れた紫外線硬化性材料は、有機酸含有量が２００重量ｐ
ｐｍ以下のものであることが好ましい。
【００１７】本発明の光記録媒体の製造方法は、上記光
記録媒体の製造方法であって、基板上に、記録層と反射
層とをこの順で形成し、反射層上に保護層を形成する光
記録媒体の製造方法において、記録層を有機色素を用い
て形成し、反射層をＣｕ、Ａｇ及びＡｕから選ばれる金
属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含む合金を用
いて形成し、保護層を、反射層上に紫外線硬化性材料を
積層した後、これに紫外線を２００〜１０００ｍＪ／ｃ
ｍ2 照射することにより、硬化収縮率が１０体積％以下
であるように硬化させて、得られる紫外線硬化樹脂中の
有機酸含量が１０重量ｐｐｍ以下であるように形成する
ことを特徴とする。
【００１８】本発明の製造方法において、記録層の有機
色素として、シアニン系色素を用いることが好ましい。
また、反射層の金属又は合金として、Ｃｕ及びＡｇから
選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種を含
む合金を用いることが好ましい。さらに、有機酸含有量
が２００重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化性材料を用い
て、保護層を形成することが好ましい。以下、本発明に
ついて図面を参照しながら詳しく説明する。
【００１９】光記録媒体として、図１に示すような層構
成の光記録ディスク及びこの光記録ディスクの製造方法
について説明する。すなわち、図１は、光記録ディスク
の一例の部分断面を示す図であり、光記録ディスク(1)
は、基板(2) 上に、色素を主成分とする塗布型の記録層
(3) を有し、記録層(3) に密着して反射層(4) を有し、
反射層(4) 上に保護膜(5) を有する。さらに、例えばＤ
ＶＤ規格に準拠するように、このディスクを２枚貼り合
わせた構造のものとしても良い。
【００２０】基板(2) は、記録光および再生光（波長６
００〜９００nm程度）に対し、実質的に透明（好ましく
は透過率８８％以上）な樹脂あるいはガラスから形成さ
れる。これにより、基板裏面側からの記録および再生が
可能となる。基板材質としては、樹脂を用いることが好
ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、アモル
ファスポリオレフィン等の各種熱可塑性樹脂が好適であ
る。
【００２１】基板(2) は、通常のサイズのディスク状で
あって、記録可能なＣＤとして用いる場合、厚さは１．
２mm程度、直径は８０〜１２０mm程度とする。このよう
な基板(2) は射出成形等の公知の方法に従い製造すれば
よい。また、その際、トラッキング用やアドレス用等の
ために、グルーブ(21)等の所定のパターンを基板表面に
形成することが好ましい。なお、基板(2) 製造後に、２
Ｐ法等によりグルーブ等の所定のパターンを有する樹脂
層を形成してもよい。ＤＶＤ規格では、厚さ０．６ｍｍ
程度である。
【００２２】グルーブは、渦巻状の連続型グルーブであ
ることが好ましく、深さは５０〜３００ｎｍ、幅は０．
２〜１．１μｍ、ランド（隣り合うグルーブ同士の間の
部分）幅は０．３〜１．４μｍであることが好ましい。
グルーブをこのような構成とすることにより、グルーブ
部の反射レベルを下げることなく、良好なトラッキング
信号を得ることができる。なお、グルーブには、アドレ
ス信号用の凹凸を設けることもできる。また、記録光
は、グルーブ内の記録層に照射されるよう構成されるこ
とが好ましい。
【００２３】この基板(2) 上に、有機色素を主成分とす
る記録層(3) を形成する。信号を記録する場合には、記
録層(3) の記録光および再生光波長における消衰係数
（複素屈折率の虚部）ｋは、０．０３〜０．２５である
ことが好ましい。ｋが０．０３未満となると記録層の吸
収率が低下し、通常の記録パワーで記録を行なうことが
困難となる。一方、ｋが０．２５を超えると、反射率が
規格を下回ってしまい再生を行なうことが困難となる。
なお、ｋが０．０３〜０．２０、特に０．０３〜０．１
５であると、きわめて好ましい結果が得られる。
【００２４】また、記録層(3) の屈折率（複素屈折率の
実部）ｎは、１．８〜４．０であることが好ましく、
２．０〜３．０であることがより好ましい。ｎ＜１．８
では反射率が低下し、また信号変調度が小さくなり再生
が困難となる傾向にある。一方、ｎ＞４．０とするため
には、原料色素の入手が難しい。
【００２５】記録層(3) に用いる光吸収性の有機色素と
しては、吸収極大が５００〜９００ｎｍ、好ましくは５
００〜８００ｎｍであれば、特に制限はなく、例えばシ
アニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ア
ントラキノン系、アゾ系、トリフェニルメタン系、ピリ
リウムないしチアピリリウム塩系、スクワリリウム系、
クロコニウム系、ホルマザン系、金属錯体色素系等から
１種ないし２種以上を目的に応じて適宜選択すればよ
い。すなわち、記録層(3) は、１種類の色素だけを含有
してもよく、あるいは２種以上の色素が相溶した構成で
あってもよい。
【００２６】このように本発明においては、種々の色素
を用いることができるが、シアニン系色素を用いた場合
に本発明の効果が大きい。というのは、シアニン系色素
は共役イオン型構造であり、元々フタロシアニン系色素
やアゾ系色素に比べ、水分による劣化を受けやすく、本
発明によって劣化を大きく抑制することが可能となるか
らである。
【００２７】シアニン系色素としては、特に制限はされ
ないが、芳香族縮合環を有してもよいインドレニン環、
特にベンゾインドレニン環を有するシアニン色素が好ま
しい。また、インドレニン環はメチン鎖を介して結合し
たものであることが好ましい。
【００２８】また、光吸収色素に一重項酸素クエンチャ
ーを混合して用いることが好ましい。さらに、色素カチ
オンと一重項酸素クエンチャーアニオンとのイオン結合
体を光吸収色素として用いることも好ましい。
【００２９】クエンチャーとしては、アセチルアセトナ
ート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニルジ
チオール系などのビスジチオール系、チオカテコール
系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレ
ート系等の金属錯体が好ましい。また、窒素のラジカル
カチオンを有するアミン系化合物やヒンダードアミン等
のアミン系のクエンチャーも好適である。
【００３０】結合体を構成する色素としては、インドレ
ニン環を有するシアニン色素が、またクエンチャーとし
てはビスフェニルジチオール金属錯体等の金属錯体色素
が好ましい。
【００３１】なお、クエンチャーは、光吸収色素と別個
に添加しても、結合体の形として用いてもよいが、光吸
収色素の総計の１モルに対し１モル以下、特に０．０５
〜０．８モル程度添加することが好ましい。これによ
り、耐光性が向上する。
【００３２】記録層に用いる色素としては、上記のよう
な光吸収性の色素、色素−クエンチャー混合物、色素−
クエンチャー結合体から上記範囲のｎおよびｋを有する
ものを選択すればよいが、新たに分子設計を行ない合成
してもよい。
【００３３】なお、色素の記録光および再生光に対する
ｋは、その骨格や置換基により０〜２程度まで種々変化
しているため、例えばｋが０．０３〜０．２５の色素を
選定するに際しては、その骨格や置換基に制限がある。
このため、塗布溶剤に制限を生じたり、基板材質によっ
ては塗工できないこともある。あるいは気相成膜できな
いこともある。また、新たに分子設計を行なう場合、設
計および合成に大きな労力を必要とする。
【００３４】一方、２種以上の色素を含有する混合色素
層のｋは、用いる各色素単独から構成される色素層のｋ
に応じ、その混合比にほぼ対応する値になることが分か
っている。従って、本発明では、記録層(3) は２種以上
の色素を相溶して形成されてもよい。
【００３５】この際、ほとんどの色素の混合系で混合比
にほぼ比例したｋが得られる。すなわち、ｉ種の色素の
混合分率およびｋをそれぞれＣｉおよびｋｉとしたと
き、ｋは、ほぼΣＣｉｋｉとなる。従って、ｋの異なる
色素同士を、混合比を制御して混合することにより、ｋ
＝０．０３〜０．２５の色素層を得ることができる。こ
のため、きわめて広い範囲の色素群の中から用いる色素
を選択することができる。
【００３６】このことは、波長依存性の改善にも適用で
きる。半導体レーザーの波長は通常±１０nmの範囲にあ
り、市販のＣＤプレーヤにおいては、７７０nmから７９
０nmの範囲で７０％以上の反射率を確保する必要があ
る。一般に色素のｋ値は大きな波長依存性をもつものが
多く、７８０nmでは適切な値であっても、７７０nmある
いは７９０nmでは大きくはずれてしまう場合が多い。こ
のような場合には、第二の色素を混合することによっ
て、７８０±１０nmの範囲で常に適切なｎおよびｋ値が
得られるように設定することができる。
【００３７】この結果、塗布溶剤等の制約などの制限が
緩和され、また、合成が容易で安価な色素の使用や、特
性の良好な色素の使用や、難溶性の色素の使用をも可能
とすることができる。
【００３８】記録層(3) を混合色素層とする場合、用い
る色素は、ｎ＝１．６〜６．５、ｋ＝０〜２の範囲内の
ものから選択すればよい。なお、ｎおよびｋの測定に際
しては、所定の透明基板上に記録層を例えば４０〜１０
０ｎｍ程度の厚さに実際の条件にて設層して、測定用サ
ンプルを作製する。次いで、この測定用サンプルの基板
を通しての反射率あるいは記録層側からの反射率を測定
する。反射率は、記録再生光波長を用いて鏡面反射（５
°程度）にて測定する。また、サンプルの透過率を測定
する。これらの測定値から、例えば、共立全書「光学」
石黒浩三Ｐ１６８〜１７８に準じ、ｎ、ｋを算出すれば
よい。
【００３９】記録層(3) の形成はスピンコート法により
行うことができる。すなわち、色素および有機溶剤を含
有する塗布液を、回転する基板(2) 上に展開塗布して形
成することができる。記録層形成のための上記塗布液に
用いる有機溶剤としては、アルコール系、ケトン系、エ
ステル系、エーテル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル
系等から、用いる色素に応じて適宜選択すればよいが、
一分子中に２つ以上の官能基を有する有機溶剤が好適で
ある。スピンコート後、必要に応じて塗膜を乾燥させ
る。このようにして形成される記録層の厚さは、目的と
する反射率などに応じて適宜設定されるものであるが、
通常、１００〜３００ｎｍ程度である。
【００４０】記録層(3) 上に直接密着して、Ｃｕ、Ａｇ
及びＡｕから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なく
とも１種を含む合金を用いて反射層(4) を形成する。反
射層にＡｕを用いると、前述した色素膜と反射膜との界
面に局部電池が形成されにくいので、色素膜劣化の度合
いは元々抑えられやすいが、高価である。従って、本発
明においては、Ｃｕ及びＡｇから選ばれる金属を用いて
反射層を形成し、且つ色素膜劣化を抑えることが好まし
い。Ｃｕ及びＡｇのうち、反射率が高いこと、耐食性が
良好であることから、Ａｇがより好ましい。
【００４１】また、本発明においては、Ｃｕ、Ａｇ及び
Ａｕから選ばれる金属の少なくとも１種を含む合金を用
いて反射層を形成することもできる。Ａｇ系合金として
は、Ａｇに加え、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、
Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａ
ｕ、Ａｌ等から選ばれる１種以上の元素を含むものが好
ましいが、高反射率を得るためにはＡｇの含有率を４０
原子％以上とすることが好ましい。
【００４２】反射層(4) の形成は、スパッタ、蒸着等の
各種気相成膜法により行うことができる。また、反射層
(4) の厚さは、２０ｎｍ以上であることが好ましい。厚
さが小さくなると反射率が不十分となる傾向にある。反
射層をこのような構成とすることにより、光記録ディス
クとしたときの基板を通しての反射率（未記録部）は、
６０％以上、特に７０％以上が得られる。
【００４３】次に、反射層(4) 上に紫外線硬化性材料を
積層した後、これに紫外線を２００〜１０００ｍＪ／ｃ
ｍ2 照射することにより、硬化収縮率が１０体積％以下
であるように硬化させて、保護層(5) を形成する。この
時、得られる紫外線硬化樹脂中の有機酸含量が１０重量
ｐｐｍ以下であるように形成する。ここで、有機酸と
は、酸性の官能基を有する有機化合物であり、例えば、
カルボン酸ＲＣＯＯＨ、スルホン酸ＲＳＯ3 Ｈ、スルフ
ィン酸ＲＳＯ2 Ｈ、フェノールＡｒＯＨ、エノールＲＣ
Ｈ＝ＣＲ’（ＯＨ）、チオールＲＳＨ等である。
【００４４】紫外線硬化性材料への紫外線照射量が２０
０ｍＪ／ｃｍ2 未満では、得られる硬化樹脂中の有機酸
含量が大きくなり、また硬化が不十分であめるために保
護膜としての機能を満足できないものとなる。一方、紫
外線照射量が１０００ｍＪ／ｃｍ2 を超えると、硬化収
縮率が高くなるため、ディスクの反りが大きくなるとい
う不都合が生じる。また、樹脂皮膜が脆くなり、ディス
ク使用時に皮膜の割れや剥離が発生する。好ましい紫外
線照射量は、２００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2 程度であ
る。さらに、硬化収縮率が１０体積％以下になるように
硬化させると、ディスクの反りも非常に小さく抑えるこ
とができ、信頼性のある光ディスクが得られる。硬化収
縮率を９体積％以下にするとより好ましい。
【００４５】硬化により得られる紫外線硬化樹脂中の有
機酸含量が１０重量ｐｐｍ以下の少ない量であれば、色
素膜と反射膜の界面で局部電池が形成されにくいため、
光ディスクの高温高湿での保存や酸性雰囲気下での保存
中においても、色素膜の劣化を非常に遅くすることがで
きる。より好ましい紫外線硬化樹脂中の有機酸含量は５
重量ｐｐｍ以下である。
【００４６】紫外線硬化性材料の種類には、特に制限は
ないが、前記材料中の有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ
以下であることが好ましく、１８０重量ｐｐｍ以下であ
ることがより好ましい。この量が２００重量ｐｐｍ以下
であれば、より少ない紫外線照射量で、有機酸量の少な
い紫外線硬化樹脂層が得られやすい。
【００４７】紫外線硬化性材料としては、紫外線硬化性
化合物やその重合用組成物から構成されることが好まし
い。このようなものとしては、アクリル酸やメタクリル
酸のエステル化合物のようなアクリル系二重結合、ジア
リルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸
誘導体等の不飽和二重結合等の紫外線照射によって架橋
あるいは重合する基を分子中に含有または導入したモノ
マー、オリゴマーおよびポリマー等を挙げることができ
る。これらは多官能、特に３官能以上であることが好ま
しく、１種のみ用いても２種以上併用してもよい。
【００４８】紫外線硬化性モノマーとしては、分子量２
０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０
００〜１００００のものが好適である。これらはスチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
メタクリレート、1,6-ヘキサングリコールジアクリレー
ト、1,6-ヘキサングリコールジメタクリレート等も挙げ
られるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリ
トールテトラ（メタ) アクリレート、ペンタエリスリト
ール（メタ) アクリレート、トリメチロールプロパント
リ（メタ) アクリレート、トリメチロールプロパンジ
（メタ) アクリレート、フェノールエチレンオキシド付
加物の（メタ) アクリレート等が挙げられる。この他、
紫外線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアク
リレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体等が
挙げられる。
【００４９】また、上記の化合物に加えて、あるいはこ
れにかえて熱可塑性樹脂を紫外線感応変性することによ
って得られる紫外線硬化性化合物を用いてもよい。この
ような紫外線硬化性樹脂の具体例としては、アクリル酸
やメタクリル酸のエステル化合物のようなアクリル系二
重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結
合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合等の紫外線照
射によって架橋あるいは重合する基を熱可塑性樹脂の分
子中に含有または導入した樹脂である。紫外線硬化性樹
脂に変性できる熱可塑性樹脂の例としては、塩化ビニル
系共重合体、飽和ポリエスルテル樹脂、ポリビニルアル
コール系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、繊
維素誘導体等を挙げることができる。
【００５０】重合用組成物は紫外線照射により硬化され
るので、重合用組成物中には光重合開始剤ないし増感剤
が含有されることが好ましい。用いる光重合開始剤ない
し増感剤に特に制限はなく、例えば、アセトフェノン
系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン
系等の通常のものから適宜選択すればよい。なお、光重
合開始剤ないし増感剤として、複数の化合物を併用して
もよい。重合用組成物中における光重合開始剤の含有量
は、通常０．５〜５重量％程度とすればよい。このよう
な重合用組成物は、常法に従い合成してもよく、市販の
化合物を用いて調製してもよい。
【００５１】また、紫外線硬化性材料としては、エポキ
シ樹脂および光カチオン重合触媒を含有する組成物も好
適に使用される。エポキシ樹脂としては、脂環式エポキ
シ樹脂が好ましく、特に、分子内に２個以上のエポキシ
基を有するものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂として
は、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−
（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペー
ト、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペ
ート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５
−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−
ジオキサン、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）
エーテル、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の１種以
上が好ましい。脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特
に制限はないが、良好な硬化性が得られることから、６
０〜３００、特に１００〜２００であることが好まし
い。
【００５２】光カチオン重合触媒は、公知のいずれのも
のを用いてもよく、特に制限はない。例えば、１種以上
の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、
ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属
塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族
オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族〜
５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム
塩、ＭＦ6 アニオン（ただしＭは、Ｐ、ＡｓまたはＳ
ｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯
塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩
等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウ
ム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩
またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および
６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いること
が好ましい。
【００５３】また、有機金属化合物と光分解性を有する
有機けい素化合物とを含有する光カチオン重合触媒も用
いることができる。このような光カチオン重合触媒は非
強酸系であるため、光磁気記録ディスクの腐食性の高い
記録層に対する悪影響を避けることができる。有機金属
化合物としては、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａl 、Ｚｒ等の金属原子に、アルコ
キシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等が結合した
錯体化合物が好ましい。これらのうち特に有機アルミニ
ウム化合物が好ましく、具体的には、トリスメトキシア
ルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリス
トリフルオロアセチルアルミニウム、トリスエチルアセ
トアセトナトアルミニウムが好ましい。
【００５４】光分解性を有する有機けい素化合物は、紫
外線等の光照射によりシラノールを生じるものであり、
ペルオキシシラノ基、ｏ−ニトロベンジル基、α−ケト
シリル基等を有するけい素化合物が好ましい。
【００５５】組成物中の光カチオン重合触媒の含有量
は、エポキシ樹脂１００重量部に対し、０．０５〜０．
７重量部、特に０．１〜０．５重量部であることが好ま
しい。
【００５６】保護層(5) の形成は、このような紫外線硬
化性材料を反射層(4) 上に積層した後、これを前述の条
件で硬化させることにより行うことができる。反射層
(4) 上への紫外線硬化性材料の積層は、反射層の損傷を
避けるためにスピンコート法により行うことが好ましい
が、スクリーン印刷法、ディッピング法またはスプレー
コート法等により行っても良い。紫外線硬化性材料の積
層条件は特に限定されず、塗布液の粘度や目的とする厚
さなどに応じて適宜決定すればよい。
【００５７】次に、紫外線硬化性材料の塗膜に、紫外線
を２００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2 照射して硬化させる。
あるいは、場合によっては、紫外線硬化性材料を加熱後
に、紫外線を照射しても良い。また、紫外線の代わりに
電子線等を照射しても良い。また、紫外線源としては、
水銀灯などの通常のものを用いればよい。紫外線の照射
により、上記各化合物はラジカル重合し、硬化する。
【００５８】保護層(5) の厚さは、１〜２０μｍ程度と
することが好ましい。厚さが小さくなると反射層や記録
層の防食効果が不十分となる傾向にある。一方、厚さが
大きくなると、硬化の際の収縮によりクラックが生じた
り、ディスクに反りが発生しやすくなってくる。さら
に、この保護膜(5) 上に、レーベル印刷層を設けてもよ
い。
【００５９】本発明の光記録媒体によれば、記録層は有
機色素を主成分とし、反射層は高反射率のＣｕ、Ａｇ及
びＡｕから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくと
も１種を含む合金からなり、保護層は、紫外線硬化性材
料に紫外線を２００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2 照射するこ
とにより、硬化収縮率が１０体積％以下であるように硬
化された紫外線硬化樹脂であって前記硬化樹脂中の有機
酸含量が１０重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化樹脂から
なるので、保護層中の有機酸量が十分小さく、色素膜と
反射膜との界面における局部電池の形成を抑制できる。
そのため、本発明の光記録媒体は、高温高湿での保存や
酸性雰囲気下での保存中にも、色素膜を安定に維持で
き、信頼性が高い。
【００６０】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものでは
ない。実施例及び比較例では、紫外線硬化性材料として
以下のものを使用した。 ・大日本インキ化学工業製 ＳＤ−３１８ ・大日本インキ化学工業製 ＳＤ−２１１ ・大日本インキ化学工業製 ＳＤ−１７ ・日本化薬製 ＭＤ−３４１ ・大日本インキ化学工業製 ＳＤ−２２００
【００６１】（紫外線硬化性材料の有機酸含有量）それ
ぞれの紫外線硬化性材料の有機酸含有量を、以下の方法
で定量した。紫外線硬化性材料２ｇ／純水２０ｍｌを１
時間、シェーカー（４００回／分）にかけ、その後２時
間静置し、材料層と水層とを遠心分離し、イオンクロマ
トグラフィー分析を行った。
【００６２】＜イオンクロマトグラフィー分析条件＞ 分析装置：Ｄｉｏｎｅｘ社製 ４５２０ｉ カラム：ＡＧ４Ａ−ＳＣ（ガードカラム） ＡＧ４Ａ−ＳＣ（分離カラム） 溶離液：５．０ｍＭ Ｎａ２Ｂ４０７ 流速：２．０ｍｌ／ｍｉｎ 検出器：電気伝導度検出器 再生システム：ＡＲＳＳ−Ｉ（電気分解方式）
【００６３】＜イオンクロマトグラフィー分析結果＞ ＳＤ−３１８ ：有機酸含有量 １７１重量ｐｐｍ ＳＤ−２１１ ：有機酸含有量 ２６１重量ｐｐｍ ＳＤ−１７ ：有機酸含有量 ２９０重量ｐｐｍ ＭＤ−３４１ ：有機酸含有量 １８９重量ｐｐｍ ＳＤ−２２００：有機酸含有量 ２２０重量ｐｐｍ
【００６４】（紫外線硬化樹脂中の有機酸含有量）ま
た、以下に述べる実施例及び比較例で得られた各ディス
クサンプルについて、紫外線硬化後の紫外線硬化樹脂中
の有機酸含有量を、以下の方法で定量した。紫外線硬化
樹脂膜を裁断し、紫外線硬化樹脂２ｇ／純水２０ｍｌを
純水中で４０℃に加温しながら超音波を１時間印可し、
その後抽出分のイオンクロマトグラフィー分析を行っ
た。イオンクロマトグラフィー分析条件は、上記のとお
りである。
【００６５】（硬化収縮率）硬化収縮率は、以下のよう
にして測定した。紫外線照射前の紫外線硬化性材料１０
ｃｃを精密に秤量して、体積：ｖ1 を測定した。この材
料を、予め体積を測定した基体上に塗布し、紫外線を所
定量照射して、硬化させた。硬化後の全体の体積（硬化
樹脂＋基体）を測定し、紫外線硬化樹脂の体積：ｖ2 を
算出した。 硬化収縮率（％）＝〔（ｖ1 −ｖ2 ）／ｖ1 〕×１００
【００６６】［実施例１−１］図１に示した構成の追記
型コンパクトディスク（ＣＤ−Ｒ）を作成した。まず、
渦巻状の連続グルーブ(21)を有する直径１２０mm、厚さ
１．２mmのポリカーボネート樹脂基板(2) 上に、色素を
含有する厚さ２００ｎｍの記録層(3) を形成した。記録
層(3) 形成には、下記のシアニン系色素Ｃ１（８０重量
％）及び一重項酸素クエンチャーＱ（２０重量％）の混
合物５重量部を、ジアセトンアルコール９５重量部に溶
解した塗布液をスピンコートで塗布した。
【００６７】
【化１】
【００６８】次に、記録層(3) 上に、銀反射層(4) をス
パッタ法により形成した。反射層の厚さは８０ｎｍとし
た。次に、反射層(4) 上に、紫外線硬化性材料：ＳＤ−
３１８を平均１０μｍの厚さになるようにスピンコート
で塗布し、紫外線を１０００ｍＪ／ｃｍ2 照射して硬化
させて、保護層(5) を形成した。このようにして、追記
型コンパクトディスクサンプルを得た。
【００６９】［実施例１−２］実施例１−１において、
紫外線照射量を５００ｍＪ／ｃｍ2 に変更した以外は同
様にして、ディスクサンプルを得た。 ［実施例１−３］実施例１−１において、紫外線照射量
を２００ｍＪ／ｃｍ2 に変更した以外は同様にして、デ
ィスクサンプルを得た。 ［実施例１−４］実施例１−１において、紫外線照射量
を５００ｍＪ／ｃｍ2 に変更し、反射層を金−銀合金
（金：銀＝３０：７０（重量比））に変更した以外は同
様にして、ディスクサンプルを得た。 ［実施例１−５］実施例１−４において、反射層を銅に
変更した以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。 ［実施例１−６］実施例１−２において、色素として、
下記のシアニン系色素Ｃ２（４０重量％）、シアニン系
色素Ｃ３（４０重量％）及び前記一重項酸素クエンチャ
ーＱ（２０重量％）の混合物を用いた以外は同様にし
て、ディスクサンプルを得た。
【００７０】
【化２】
【００７１】［実施例１−７］実施例１−２において、
色素塗布液として、下記のアゾ系色素Ａの３重量部を、
メチルセルソルブ９７重量部に溶解したものを用いた以
外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００７２】
【化３】
【００７３】［実施例１−８］実施例１−２において、
色素塗布液として、下記のフタロシアニン系色素Ｐの３
重量部を、メチルセルソルブ９７重量部に溶解したもの
を用いた以外は同様にして、ディスクサンプルを得た。
【００７４】
【化４】
【００７５】［実施例１−９］実施例１−４において、
反射層を金に変更した以外は同様にして、ディスクサン
プルを得た。
【００７６】［比較例１−１］実施例１−１において、
紫外線照射量を２０００ｍＪ／ｃｍ2 に変更した以外は
同様にして、ディスクサンプルを得た。 ［比較例１−２］実施例１−１において、紫外線照射量
を１００ｍＪ／ｃｍ2 に変更した以外は同様にして、デ
ィスクサンプルを得た。
【００７７】［比較例２−１］実施例１−１において、
紫外線硬化性材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様
にして、ディスクサンプルを得た。 ［比較例２−２］実施例１−２において、紫外線硬化性
材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。 ［比較例２−３］実施例１−３において、紫外線硬化性
材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。 ［比較例２−４］実施例１−４において、紫外線硬化性
材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。 ［比較例２−５］実施例１−５において、紫外線硬化性
材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。 ［比較例２−６］実施例１−６において、紫外線硬化性
材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。 ［比較例２−７］実施例１−７において、紫外線硬化性
材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。 ［比較例２−８］実施例１−８において、紫外線硬化性
材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。 ［比較例２−９］比較例１−１において、紫外線硬化性
材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。 ［比較例２−１０］比較例１−２において、紫外線硬化
性材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、デ
ィスクサンプルを得た。 ［比較例２−１１］実施例１−９において、紫外線硬化
性材料をＭＤ−３４１に変更した以外は同様にして、デ
ィスクサンプルを得た。
【００７８】［比較例３−１］実施例１−１において、
紫外線硬化性材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同
様にして、ディスクサンプルを得た。 ［比較例３−２］実施例１−２において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、デ
ィスクサンプルを得た。 ［比較例３−３］実施例１−３において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、デ
ィスクサンプルを得た。 ［比較例３−４］実施例１−７において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、デ
ィスクサンプルを得た。 ［比較例３−５］実施例１−８において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、デ
ィスクサンプルを得た。 ［比較例３−６］実施例１−９において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、デ
ィスクサンプルを得た。 ［比較例３−７］比較例１−１において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、デ
ィスクサンプルを得た。 ［比較例３−８］比較例１−２において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−２２００に変更した以外は同様にして、デ
ィスクサンプルを得た。
【００７９】［比較例４−１］実施例１−１において、
紫外線硬化性材料をＳＤ−２１１に変更した以外は同様
にして、ディスクサンプルを得た。 ［比較例４−２］実施例１−２において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−２１１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。 ［比較例４−３］実施例１−３において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−２１１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。 ［比較例４−４］実施例１−７において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−２１１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。 ［比較例４−５］実施例１−８において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−２１１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。 ［比較例４−６］実施例１−９において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−２１１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。 ［比較例４−７］比較例１−１において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−２１１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。 ［比較例４−８］比較例１−２において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−２１１に変更した以外は同様にして、ディ
スクサンプルを得た。
【００８０】［比較例５−１］実施例１−１において、
紫外線硬化性材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様に
して、ディスクサンプルを得た。 ［比較例５−２］実施例１−２において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディス
クサンプルを得た。 ［比較例５−３］実施例１−３において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディス
クサンプルを得た。 ［比較例５−４］実施例１−７において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディス
クサンプルを得た。 ［比較例５−５］実施例１−８において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディス
クサンプルを得た。 ［比較例５−６］実施例１−９において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディス
クサンプルを得た。 ［比較例５−７］比較例１−１において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディス
クサンプルを得た。 ［比較例５−８］比較例１−１において、紫外線硬化性
材料をＳＤ−１７に変更した以外は同様にして、ディス
クサンプルを得た。
【００８１】（ＢＬＥＲの測定）以上のようにして得ら
れた各ディスクサンプルについて、 (1) ８０℃、８０％ＲＨ、５００ｈｒ（時間） (2) 亜硫酸ガス雰囲気（５ｐｐｍ）、４０℃、８０％Ｒ
Ｈ、１００ｈｒの２条件の加速試験を行い、試験前後で
ブロックエラーレート（ＢＬＥＲ）の測定を行った。
【００８２】ＢＬＥＲの測定は、ＣＤ−Ｒ記録機：９２
０Ｓ（ソニー製）で記録を行い、ＣＤ測定機：ＣＤ−Ｃ
ＡＴＳ（Audio Development 製）を用いて行い、内周部
分につき１０分間測定を行い、１秒あたりの平均個数
（Ｃｏｕｎｔ／Ｓｅｃ）を求めた。なお、ＣＤ−Ｒの規
格であるオレンジブックでは、ＢＬＥＲが２２０Ｃｏｕ
ｎｔ／Ｓｅｃ以下であることを要求している。
【００８３】（機械特性の測定）得られた各ディスクサ
ンプルについて、機械特性を以下のように測定した。新
電子工業製測定器ＯＤＡ−２型を使用して、ディスク全
面の反り量と、半径方向の反り角度を測定し、その絶対
値の最大値を測定値とした。なお、レッドブックの規格
では、反り量は±４００μｍ、反り角度は±０．６度以
内であることを要求している。以上の結果を表１及び表
２に示す。
【００８４】
【表１】
【００８５】
【表２】
【００８６】表１及び表２より、実施例のディスクサン
プルでは、加速試験後もＢＬＥＲ測定値、反り量ともに
問題はなく、実用上十分な性能を有していることが明ら
かである。
【００８７】一方、比較例１−１のディスクサンプルで
は、硬化収縮率が大きいため、反り量が大きくなってい
る。比較例１−２では、硬化樹脂中の有機酸含量が大き
く、加速試験後のＢＬＥＲが悪化している。
【００８８】その他、比較例２〜５に示すように、硬化
樹脂中の有機酸含量が大きい場合は、加速試験後のＢＬ
ＥＲの悪化が顕著であり、硬化収縮率が大きい場合は、
反り量が大きくなっており、実用上問題がある。
【００８９】また、反射層に金を用いたディスクサンプ
ル（実施例１−９）では、加速試験後のＢＬＥＲの悪化
度合いは、銀、銅などを用いた場合に比べ概して小さ
い。これは、反射層に金を用いた場合には、色素膜と反
射膜との界面において局部電池が形成されにくいためと
考えられる。この点から、本発明は、反射層に銀、銅な
どを用いた場合に特に有効である。
【００９０】また、アゾ系色素やフタロシアニン系色素
を用いたディスクサンプル（実施例１−７及び１−８）
では、加速試験後のＢＬＥＲの悪化度合いは、シアニン
系色素を用いたディスクサンプルに比べ概して小さい。
これは、アゾ系色素やフタロシアニン系色素は、共役イ
オン型でメチン鎖を有する構造のシアニン系色素に比
べ、高温高湿での劣化が小さいためである。この点か
ら、本発明は、記録層にシアニン系色素を用いた場合に
特に有効である。
【００９１】
【発明の効果】本発明の光記録媒体によれば、上述のよ
うに、保護層は、紫外線硬化性材料に紫外線を２００〜
１０００ｍＪ／ｃｍ2 照射することにより、硬化収縮率
が１０体積％以下であるように硬化された紫外線硬化樹
脂であって前記硬化樹脂中の有機酸含量が１０重量ｐｐ
ｍ以下である紫外線硬化樹脂からなるので、保護層中の
有機酸量が十分小さく、色素膜劣化を抑制することがで
きる。その結果、得られた本発明の光記録媒体は、高温
高湿での保存や酸性雰囲気下での保存中にも、色素膜を
安定に維持でき、信頼性が高い。本発明の光記録媒体の
製造方法によれば、上記光記録媒体を得ることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明による光記録ディスクの一例の部分断
面を示す図である。
【符号の説明】
(1) ：光記録ディスク (2) ：基板 (21)：グルーブ (3) ：記録層 (4) ：反射層 (5) ：保護層

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板上に、記録層と反射層とをこの順で
    有し、反射層上に保護層を有する光記録媒体において、
    記録層は有機色素を主成分とし、反射層はＣｕ、Ａｇ及
    びＡｕから選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくと
    も１種を含む合金からなり、保護層は、紫外線硬化性材
    料に紫外線を２００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2 照射するこ
    とにより、硬化収縮率が１０体積％以下であるように硬
    化された紫外線硬化樹脂であって前記硬化樹脂中の有機
    酸含量が１０重量ｐｐｍ以下である紫外線硬化樹脂から
    なることを特徴とする、光記録媒体。
  2. 【請求項２】 記録層の有機色素が、シアニン系色素で
    ある、請求項１に記載の光記録媒体。
  3. 【請求項３】 反射層の金属又は合金が、Ｃｕ及びＡｇ
    から選ばれる金属、又はこれらの金属の少なくとも１種
    を含む合金である、請求項１又は２項に記載の光記録媒
    体。
  4. 【請求項４】 保護層の形成に用いられた紫外線硬化性
    材料は、有機酸含有量が２００重量ｐｐｍ以下のもので
    ある、請求項１〜３項のうちのいずれか１項に記載の光
    記録媒体。
  5. 【請求項５】 基板上に、記録層と反射層とをこの順で
    形成し、反射層上に保護層を形成する光記録媒体の製造
    方法において、記録層を有機色素を用いて形成し、反射
    層をＣｕ、Ａｇ及びＡｕから選ばれる金属、又はこれら
    の金属の少なくとも１種を含む合金を用いて形成し、保
    護層を、反射層上に紫外線硬化性材料を積層した後、こ
    れに紫外線を２００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2 照射するこ
    とにより、硬化収縮率が１０体積％以下であるように硬
    化させて、得られる紫外線硬化樹脂中の有機酸含量が１
    ０重量ｐｐｍ以下であるように形成することを特徴とす
    る、光記録媒体の製造方法。
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