JPH1117542A - 逐次比較型a/d変換回路 - Google Patents

逐次比較型a/d変換回路

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JPH1117542A
JPH1117542A JP16862697A JP16862697A JPH1117542A JP H1117542 A JPH1117542 A JP H1117542A JP 16862697 A JP16862697 A JP 16862697A JP 16862697 A JP16862697 A JP 16862697A JP H1117542 A JPH1117542 A JP H1117542A
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voltage
reference voltage
capacitor
analog input
conversion
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JP16862697A
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Hisao Kato
久雄 加藤
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Toyota Motor Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 MOS型コンデンサが蓄電するサンプリング
電圧と参照電圧とを比較する際に、MOS型コンデンサ
の空乏層形成によるA/D変換誤差を補償して変換精度
を向上させることにある。 【解決手段】 アナログ入力電圧Ainを標本化する際
に、MOS型コンデンサ34、38の蓄電容量誤差を補
償する補償電圧Vxを重畳して該アナログ入力電圧Ai
nを蓄電するMOS型コンデンサ34、38と、逐次比
較レジスタの上位ビット情報に対応した第1の参照電圧
Vnを出力する第1のタップ端子28、該逐次比較レジ
スタの下位ビット情報に対応した第2の参照電圧Vmを
出力する第2のタップ端子32を有するD/Aブロック
部12と、MOS型コンデンサに蓄電した標本電圧とD
/Aブロック部12から出力される合成参照電圧Vdと
を逐次比較してデジタル値に変換するコンパレータ14
と、コンパレータ14の比較結果に基づいて、第1また
は第2の参照電圧Vn、Vmを変更させる逐次比較レジ
スタ18とを設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、MOS素子をコン
デンサとして使用し、空乏層形成により変化するコンデ
ンサの電圧特性を補正して、非直線性誤差を減少させ変
換精度を向上させる電荷比較方式のアナログ−デジタル
(A/D)変換回路に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、A/D変換器は、アナログ入力電
圧と比較するための参照電圧の変化にともなうコンデン
サの空乏層形成に対応した複数のMOS型コンデンサか
らなる容量補正コンデンサアレイによって、コンデンサ
の容量の変化を補正していた。
【0003】図9は特開平6−53834号公報に記載
された従来のA/D変換器7の回路図である。図におい
て、A/D変換器7は、標本化されたアナログ入力電圧
Aを参照電圧と比較するアナログ−デジタル変換器7
に、アナログ入力電圧VAと比較するために参照電圧V
refを切り換える複数のスイッチからなるスイッチ群1
と、一方の電極を拡散層とし、参照電圧電圧変化にとも
なう空乏層形成に対応してそれぞれの面積比を一定の割
合で変化させて単位容量の変化を補正する複数のMOS
型コンデンサC1、C2、C3からなる容量補正コンデン
サアレイ2と、保持された入力電圧VAと印加された参
照電圧Vrefとを逐次比較しデジタル変換を行う電圧比
較手段3と、複数のスイッチSを所定の順序に従って逐
次切り換える逐次比較レジスタ5を備え、参照電圧の変
化にともなうMOS型コンデンサの空乏層形成による電
圧特性を補正してA/D変換誤差を低減しつつ、A/D
変換器7の製造工程を簡略化していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記A
/D変換器7は、回路面積の大きな複数のMOS型コン
デンサC1、C2、C3からなる容量補正コンデンサアレ
イ2と、このMOS型コンデンサC1などに対応したス
イッチS1などを使用するために、回路が複雑となり、
半導体チップの面積が増大するという欠点があった。
【0005】また、アナログ入力の電圧範囲の最小値の
0点と最大値のフルスケール点に対応する0Vと5Vの
間で直線性の変換精度が要求されるが、上記A/D変換
器7の入力アナログ電圧VAの最小電圧値または最大電
圧値の変換誤差については考慮されず、アナログ入力電
圧VAの絶対定格値における変換誤差が大きくなるとい
う欠点もあった。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に1番目の発明によれば、アナログ入力電圧をサンプリ
ングする際に、MOS型コンデンサの蓄電容量誤差を補
償する補償電圧を重畳して該アナログ入力電圧を蓄電す
るMOS型コンデンサと、逐次比較レジスタの上位ビッ
ト情報に対応した第1の参照電圧を出力する第1のタッ
プ端子、該逐次比較レジスタの下位ビット情報に対応し
た第2の参照電圧を出力する第2のタップ端子を有する
参照電圧発生回路と、MOS型コンデンサに蓄電した標
本電圧と参照電圧発生回路から出力される合成参照電圧
とを逐次比較してデジタル値に変換する電圧比較手段
と、電圧比較手段の比較結果に基づいて、第1または第
2の参照電圧を変更させる逐次比較レジスタとを備えた
ことにある。
【0007】また、2番目の発明では上記課題を解決す
るために、補償電圧を最大参照電圧の略中間値に設定
し、第2の参照電圧が印加されるMOS型コンデンサに
該補償電圧を蓄電させることにある。
【0008】さらに、3番目の発明では上記課題を解決
するために、第1の参照電圧に補償電圧に対応するオフ
セット電圧を重畳させることにある。
【0009】
【作用】上記構成を有する1番目の発明では、アナログ
入力電圧を標本化する際に、MOS型コンデンサの蓄電
容量誤差を補償する補償電圧を重畳して該アナログ入力
電圧をMOS型コンデンサに蓄電させるので、A/D変
換の非直線性誤差を低減させることができる。
【0010】また、2番目の発明では、補償電圧を最大
参照電圧の略中間値に設定したので、A/D変換の平均
誤差を低減させることができる。
【0011】さらに、3番目の発明では、第1の参照電
圧に補償電圧に対応するオフセット電圧を重畳させるの
で、フルスケール点でのA/D変換誤差を最小にでき
る。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の好
適な実施の形態について説明する。特に制限されない
が、この回路は、10ビット精度の2分割逐次変換型A
/D変換回路用に構成され、公知の半導体集積回路製造
技術により、単結晶シリコン基板などの単一半導体基板
上に形成されている。
【0013】図1のブロック図は、本発明の実施の形態
に係る逐次変換型A/D変換回路10が示される。図に
おいて、A/D変換回路10は、D/Aブロック部1
2、コンパレータ14、制御回路16、逐次比較レジス
タ18を備え、制御回路16の出力信号によって逐次比
較レジスタ18の最上位ビット(第10ビット)に1が
セットされる。このビット情報に応じてD/Aブロック
部12から参照電圧Vd20が出力される。この参照電
圧Vdとアナログ入力電圧Ainがコンパレータ14で
比較される。この比較結果において、Vd<Ainの場
合、制御回路16では、逐次比較レジスタ18の最上位
ビットを1に保持したまま、次のビット(第9ビット)
が1にセットされる。それに応じてD/Aブロック部1
2の参照電圧が上昇され、再びコンパレータ14で、参
照電圧Vdと入力電圧Ainとの比較が行われる。この
比較において、Vd>Ainとなった場合には、逐次比
較レジスタ18の第9ビットが0に戻され、今度は第8
ビットが1にセットされ、その場合のD/Aブロック部
12の参照電圧Vdとアナログ入力電圧Ainとの比較
が行われる。そして、Vd=Ainとなった場合に、逐
次比較レジスタ18から、アナログ電圧Ainに対応す
るデジタル出力が得られる。
【0014】図2のブロック図は、上記図1に示したD
/Aブロック部12とコンパレータ14の主要構成が示
される。図左側のD/Aブロック部12は、10ビット
精度の抵抗ラダーを2分割した上位5ビットに対応する
第nビット群用の抵抗素子22と下位5ビットに対応す
る複数の抵抗素子が互いに直列接続された第mビット群
用の抵抗素子24と、第nビット群用の抵抗素子22の
端子電圧を選択するnビットデコーダ26と、このnビ
ットデコーダ26から上位ビットの参照電圧Vnを取り
出すタップ端子28と、第mビット群用の抵抗素子24
の端子電圧を選択するmビットデコーダ30と、このm
ビットデコーダ30から下位ビットの参照電圧Vmを取
り出すタップ端子32を備え、逐次比較レジスタ18の
ビット情報に対応する参照電圧Vdをタップ端子28、
32から出力することができる。
【0015】また図2右側に示すコンパレータ14は、
タップ端子28とコンデンサ34との間に接続されたク
ロック信号T1で駆動されるアナログスイッチ36と、
タップ端子32とコンデンサ38との間に接続されたク
ロック信号T1で駆動されるアナログスイッチ40と、
アナログ入力電圧Ainをコンデンサ34に蓄電させる
ためクロック信号S1によって駆動されるアナログスイ
ッチ42と、グランドレベル0Vの補償電圧Vxをコン
デンサ38へ印加させるためクロック信号S1によって
駆動されるアナログスイッチ44と、クロック信号S1
で駆動されるアナログスイッチ46によって帰還接続さ
れたCMOS構造のインバータ48を備え、クロック信
号T1、S1は相補的な信号であり、一方がハイレベル
(論理1に等しい)のとき、他方はローレベル(論理0
に等しい)となっている。動作的には、分解能は10ビ
ット精度で、参照電圧Vdは上位5ビットのVnと下位
5ビットのVmとに分割され、クロック信号S1をハイ
レベルにしてアナログスイッチ42、44、46を導通
させて、アナログ入力電圧Ainをコンデンサ34に蓄
電するとともに、補償電圧Vxをコンデンサ38へ印加
させてサンプリングを行う。このサンプリングの際に、
CMOSインバータ48の入出力をアナログスイッチ4
6で短絡させることができ、このCMOSインバータ4
8の入力端子の電圧はスレッショルド電圧の2.5V±
1LSBに固定することができる。次に、クロック信号
T1をハイレベルにしてアナログスイッチ36、40を
導通させ、上位ビットの参照電圧Vnをコンデンサ34
へ下位ビットの参照電圧Vmをコンデンサ38へそれぞ
れ蓄電して電圧の比較を行う。比較時のCMOSインバ
ータ48の出力条件は、アナログ入力電圧Ainが参照
電圧Vdの和(Vn+Vm/2n)より大きいときは、
インバータ48の出力がハイレベルとなる。一方、アナ
ログ入力電圧Ainが参照電圧Vdの和(Vn+Vm/
n)より小さいときは、CMOSインバータ48の出
力がロウレベルとなる。なお、上記関係式で下位ビット
の参照電圧Vmを2nで割っているのは、コンデンサで
1/32に重みづけが行われるように構成しているから
である。つまり、下位ビットのコンデンサ38は、上位
ビットのコンデンサ34に対して、1/32に重みづけ
されていることによって、上位側と下位側を区別するこ
とができる。
【0016】このように構成された本発明の逐次比較型
A/D変換回路10は、下位ビットの参照電圧Vmに補
償電圧Vxが重畳されているので、10ビット精度のA
/D変換の最終比較段階の上位ビットの参照電圧Vnが
アナログ入力電圧Ainに近似させた状態で、下位ビッ
トの参照電圧Vmの値を変化させて最終的なデジタル値
を決定することができる。本実施の形態において、下位
ビットの参照電圧Vmに接続されたMOS型コンデンサ
38側に補償電圧Vxを重畳させるのは、コンデンサ3
4の入力電圧が上位ビットの参照電圧Vnとアナログ入
力電圧Ainであり、この電圧差が最大2mLSBであ
るのに対し、コンデンサ38の入力電圧が下位ビットの
参照電圧Vmと補償電圧Vxの0Vであり、この電圧の
差は下位ビット情報によって0Vから5Vの範囲で変化
するので、サンプリング時と最終比較時の電圧差が0V
から5Vになる。したがって、コンデンサ38の容量変
化はコンデンサ34より大きく、変換誤差も下位ビット
の参照電圧Vmの変化に追従して2mの周期で変化する
こととなる。
【0017】図3は上記A/D変換回路10の変換誤差
の特性図である。図において、横軸はアナログ入力電圧
Ainを示し、0Vから5Vの範囲で入力した0点50
とフルスケール点52を含み、縦軸は各アナログ入力電
圧Ainの変換誤差(LSB)を示す。A/D変換回路
10のコンデンサ34と38の参照電圧Vd側の電極を
半導体基板の拡散層で形成し、この拡散層上の酸化膜を
誘電体としてサンドイッチしたポリシリコン層をCMO
Sインバータ48側の電極とした場合、コンデンサ3
4、38の容量は両電極間の電圧差によって生ずる空乏
層の変化に伴って変動する。この変動がA/D変換回路
のいわゆる電圧依存性と呼ばれ、A/D変換誤差とな
る。図示した変換誤差は、電圧依存性によるコンデンサ
34、38の容量変化が両電極間の電圧差に対して直線
性を有し、また、CMOSインバータ48の入力端子電
圧から見た参照電圧Vmの値が−2.5Vから+2.5
Vの範囲で変化し、且つ、コンデンサ38の容量変化が
3%以内としたときの変換誤差をシュミレーションした
結果である。アナログ入力電圧Ainを0Vから開始し
た場合、参照電圧Vmの最終比較値は0から5Vまでの
範囲を32ビットの周期で変化する。最初のアナログ入
力電圧Ainが0Vの時は、サンプリングするアナログ
入力電圧Ainと参照電圧Vmの値が共に0Vで変換誤
差は0LSBとなる。したがって、A/D変換回路10
の0点50の誤差が最小値とすることができる。一方、
アナログ入力電圧Ainが最大値の5Vの時は、参照電
圧Vxとの電圧差が大きくなるため変換誤差もこれに伴
い大きくなり、フルスケール点52の変換誤差は0.9
LSBである。したがって、上記A/D変換回路10の
MOS型コンデンサ38の電圧極性を考慮すると、フル
スケール点52の変換誤差をLSB/2以下の応用回路
には不向きであるが、0点50の変換誤差を最小とする
応用回路に適用する場合に有利となる。図4は上記A/
D変換回路10のサンプリング時の接続を示す回路図で
ある。CMOSインバータ48の入出力がアナログスイ
ッチ46により短絡され、CMOSインバータ48の入
力端子電圧ViはCMOSインバータ48のスレッショ
ルド電圧となる。図5は上記A/D変換回路10の比較
時の接続を示す回路図である。図において、コンデンサ
34の容量2nC1’とコンデンサ38の容量C2’が
サンプリング時の容量2nC1、C2と比較して空乏層
の影響により変化しているが、最下位の最終ビットの比
較時の電圧差△Vが1LSB以下となるため、CMOS
インバータ48の入力端子電圧Vi+△Vは約2.5V
とみなすことができる。このCMOSインバータ48の
入力端子側のコンデンサ電極と参照電圧Vm側のコンデ
ンサ電極との間の電圧範囲を0Vから5Vとすると、電
圧依存性は−2.5Vから+2.5Vの範囲で考慮すれ
ば足りることとなる。
【0018】上記実施の形態では補償電圧Vxを0Vの
グランドレベルに固定したが、図6に示すように補償電
圧Vxを任意に設定できるように構成することができ
る。つまり、サンプリング時と比較時に入力される電圧
差を小さくすれば、コンデンサ38の容量変化も減少
し、その結果変換誤差も最小限にすることができる。例
えば、補償電圧Vxを下位ビットの参照電圧Vmの最大
値の略1/2の値に設定して、A/D変換誤差の平均値
を下げることができる。本実施の形態においては、補償
電圧Vxを2.5Vに設定して、下位ビットの参照電圧
Vmを下位ビット情報によって0Vから5Vの範囲で変
化させた場合、下位ビットの参照電圧Vmと補償電圧V
xの電圧差は−2.5Vから+2.5Vの範囲で変化す
るので、上記実施の形態のA/D変換回路10の最大電
圧差の5Vより小さくすることができる。よって、コン
デンサの空乏層の変化に伴う変換誤差の平均値も低減さ
せることができる。図7は、10ビット精度のA/D変
換で、上位5ビットと下位5ビットの参照電圧VnとV
mに分割して、補償電圧Vxを2.5Vに設定したとき
のシュミレーション結果である。0点50とフルスケー
ル点52の変換誤差は共に0.2LSBにすることがで
きる。また、アナログ入力電圧Ainを0Vから5Vの
範囲で変化させた場合、変換誤差の最大値が−0.6か
ら−0.7LSBとなりLSB/2より大きくなるが、
それでも変換誤差の平均値を小さくすることができる。
【0019】また、上記実施の形態で補償電圧Vxを
2.5Vに設定すると補償電圧Vxの値に相当する電圧
がアナログ入力電圧Ainに加重される。この加重され
た電圧は、上位ビットのコンデンサ34の重み付けによ
りVx/2nの値となる。図6のD/Aブロック部12
のタップ端子28の出力をVnに代えて、Vn+Vx/
nのオフセット電圧を重畳した電圧をコンデンサ34
へ入力することができる。このオフセット電圧により補
償電圧Vxが重畳したアナログ入力電圧Ainと最終比
較結果を相殺することができ、より変換誤差を減少させ
ることができる。
【0020】上記実施の形態では、補償電圧Vxをアナ
ログ入力電圧Ain=5Vの略半分の2.5Vとした
が、補償電圧Vxをアナログ入力電圧Ainの最大定格
値に設定することができる。図8は補償電圧Vxを5V
にしたときのシュミレーション結果である。図において
変換誤差は、図3の±誤差と正反対の特性を有し、0点
50の変換誤差は0.9LSBと大きいが、フルスケー
ル点52の変換誤差が0LSBで最小にすることができ
る。したがって、フルスケール点52の変換誤差を最小
とする応用回路に有利となる。
【0021】以上の説明では、本発明の実施の形態を1
0ビット精度の2分割逐次比較型A/D変換回路につい
て説明したが、本発明は、上記のような10ビット精度
の2分割逐次比較型A/D変換回路以外の8ビット精
度、12ビット精度、3分割若しくは4分割逐次比較型
A/D変換回路にも適用可能であることはもちろんであ
る。また、アナログ入力のサンプリングは、1回でも複
数回でも上記と同様の効果を得ることができる。さら
に、CMOSインバータ48側のMOS型コンデンサの
電極を半導体基板の拡散領域としてもよく、この場合は
参照電圧Vd側のコンデンサ電極はドープドポリシリコ
ン若しくはアルミ電極を使用できることは勿論である。
以下に本発明の関連事項を開示する。
【0022】次の式1は、従来のサンプリング時のA/
D変換方式を示すもので、コンデンサ34に蓄電する電
荷Qsを求める式である。
【0023】
【数1】 次の式2は、従来の比較時のA/D変換方式を示すもの
で、コンデンサ34、38に蓄電する電荷Qcを求める
式である。但し、CMOSインバータ48側の電位をV
th+△Vとする。
【0024】
【数2】 次の式3は、電荷保存の法則によりQs=Qcの関係を
示す式である。
【0025】
【数3】 次の式4は、本発明のサンプリング時のA/D変換方式
を示すもので、コンデンサ34に蓄電する電荷Qsを求
める式である。
【0026】
【数4】 次の式5は、本発明の比較時のA/D変換方式を示すも
ので、コンデンサ34、38に蓄電する電荷Qcを求め
る式である。但し、CMOSインバータ48側の電位を
Vth+△Vとする。
【0027】
【数5】 次の式6は、電荷保存の法則によりQs=Qcの関係を
示す式である。
【0028】
【数6】 以降の関係式は上記従来例と同様である。
【0029】
【発明の効果】以上説明したとおり、第1の発明によれ
ば、アナログ入力電圧に補償電圧を重畳させることによ
り、小規模な回路の変更で、0点若しくはフルスケール
点並びに任意の変換点のA/D変換誤差を最小にするこ
とができる。
【0030】また、第2の発明によれば、補償電圧を最
大参照電圧の略中間値に設定して、全範囲におけるA/
D変換誤差を減少させることができる。
【0031】さらに、第3の発明によれば、参照電圧に
補償電圧に対応するオフセット電圧を重畳させること
で、フルスケール点のA/D変換誤差を減少させること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態に係る逐次比較型A/D
変換回路のブロック図である。
【図2】 本発明の実施の形態に適用するD/Aブロッ
ク部及び比較部の回路図である。
【図3】 本発明の実施の形態の変換誤差の特性図であ
る。
【図4】 本発明の実施の形態に適用するコンパレータ
の回路図である。
【図5】 本発明の実施の形態に適用するコンパレータ
の回路図である。
【図6】 本発明の他の実施の形態に係るA/D変換回
路のブロック図である。
【図7】 本発明の他の実施の形態の変換誤差の特性図
である。
【図8】 本発明の他の実施の形態の変換誤差の特性図
である。
【図9】 従来のA/D変換器のブロック図である。
【符号の説明】
10 A/D変換回路、12 D/Aブロック部、14
コンパレータ、16制御回路、18 逐次比較レジス
タ、20 参照電圧Vd、28,32 タップ端子、3
4,38 MOS型コンデンサ、48 CMOSインバ
ータ。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外部からのアナログ入力電圧と内部の参
    照電圧とを逐次比較し、該参照電圧を前記アナログ入力
    電圧に近づけてデジタル値に変換する逐次比較型A/D
    変換回路であって、 前記アナログ入力電圧を標本化する際に、MOS型コン
    デンサの蓄電容量誤差を補償する補償電圧を重畳して該
    アナログ入力電圧を蓄電するMOS型コンデンサと、 逐次比較レジスタの上位ビット情報に対応した第1の参
    照電圧を出力する第1のタップ端子、該逐次比較レジス
    タの下位ビット情報に対応した第2の参照電圧を出力す
    る第2のタップ端子を有する参照電圧発生回路と、 前記MOS型コンデンサに蓄電した標本電圧と前記参照
    電圧発生回路から出力される合成参照電圧とを逐次比較
    してデジタル値に変換する電圧比較手段と、 前記電圧比較手段の比較結果に基づいて、前記第1また
    は第2の参照電圧を変更させる逐次比較レジスタと、を
    備えることを特徴とする逐次比較型A/D変換回路。
  2. 【請求項2】 前記補償電圧を最大参照電圧の略中間値
    に設定し、前記第2の参照電圧が印加されるMOS型コ
    ンデンサに該補償電圧を蓄電させることを特徴とする請
    求項1に記載の逐次比較型A/D変換回路。
  3. 【請求項3】 前記第1の参照電圧に前記補償電圧に対
    応するオフセット電圧を重畳させることを特徴とする請
    求項1または2に記載の逐次比較型A/D変換回路。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008187257A (ja) * 2007-01-26 2008-08-14 Renesas Technology Corp 半導体装置

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JP2008187257A (ja) * 2007-01-26 2008-08-14 Renesas Technology Corp 半導体装置

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