JPH11174064A - 測定装置 - Google Patents

測定装置

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JPH11174064A
JPH11174064A JP9339996A JP33999697A JPH11174064A JP H11174064 A JPH11174064 A JP H11174064A JP 9339996 A JP9339996 A JP 9339996A JP 33999697 A JP33999697 A JP 33999697A JP H11174064 A JPH11174064 A JP H11174064A
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light
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snom
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JP9339996A
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Inventor
Yasuo Sasaki
靖夫 佐々木
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Olympus Corp
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Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH11174064A publication Critical patent/JPH11174064A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】探針先端以外の部分からの散乱光の発生を最小
限に抑制することによって、S/N比の高い光学情報を
得ることが可能な測定装置を提供する。 【解決手段】SNOM測定用照明装置100は、支柱1
06及び支柱に対して可動な可動体108内に設けられ
た光入射光学系と、この光入射光学系から射出されたS
NOM測定用照明光Mを探針先端近傍の試料2裏面で全
反射させる全反射プリズム102とを備える。そして、
可動体を支柱に対して移動させることによって、相隣る
比較的粗い2つの面で規定された稜を軸として90°以
上回転させた面(或いは、空間領域)内の任意の位置か
ら探針先端に向けてSNOM測定用照明光を入射させる
ことができるようになっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料の表面情報や
光学情報等を測定する測定装置に関する。なお、本発明
の技術分野において、光学情報とは、試料の物性、組
成、形状などに関する情報である。
【0002】
【従来の技術】現在、試料の表面情報や光学情報等を測
定する測定装置として、走査型プローブ顕微鏡(SP
M)が知られており、このSPMは、プローブ(探針)
を試料表面に対して1μm以下まで近接させた際に両者
の間に働く相互作用を検出しながらプローブをXY方向
あるいはXYZ方向に走査することによって、試料の表
面情報を測定する装置であり、例えば、走査型トンネル
顕微鏡(STM)、原子間力顕微鏡(AFM)、磁気力
顕微鏡(MFM)、走査型近接場光顕微鏡(SNOM)
の総称である。
【0003】このようなSPMの中で、特に、SNOM
は、1980年代以降、“波長より小さい寸法(厚さ)
の領域に局在し、自由空間を伝搬しない”という特性を
有するエバネッセント場(波)を検出することによっ
て、光の回折限界を越える分解能を実現した光学顕微鏡
であり、生体試料の蛍光測定や、フォトニクス用材料及
び素子の評価(誘電体光導波路の各種特性評価、半導体
量子ドットの発光スペクトルの測定、半導体面発光素子
の諸特性の評価など)等への応用をめざして盛んに開発
が進められている。
【0004】このようなSNOMには、先端を先鋭化さ
せた光ファイバやガラス棒又は水晶探針のような棒状プ
ローブが用いられており、基本的には測定用照明光が照
射された試料表面に探針を接近させながらプローブを走
査することによって、試料の表面近傍の光の場の状態
(例えば、試料の光学情報)を検出することができるよ
うになっている。例えば、1993年12月21日付け
でベテッヒ(Betzig)等に付与されたUSP5,27
2,330号公報には、先鋭化したプローブ先端の微小
開口の近傍にエバネッセント場を発生させた状態におい
て、エバネッセント場を試料に接触させた際、試料を透
過した光の光強度を2次元マッピングすることによっ
て、試料の光学情報(SNOM像)を測定することがで
きるSNOMが開示されている。
【0005】一方、AFMは、カンチレバーの先端に形
成された探針を試料表面に接近又は接触した際に、探針
先端と試料表面との間に働く相互作用力に応じて変位す
るカンチレバーの変位を例えば光学式変位センサを用い
て光学的に検出することによって、試料の表面情報を測
定することができるようになっている。例えば、特開昭
62−130302号公報には、試料表面と探針先端と
の間の相互作用力を2次元マッピングすることによっ
て、試料の表面情報(例えば、試料表面の凹凸情報)を
測定することができるAFMが開示されている。なお、
このようなAFM技術は、他のSPM装置にも応用され
ており、試料と探針との間の距離を一定に保つための手
段即ちレギュレーションを行なう手段として用いられて
いる。
【0006】また、例えばファンフルスト(N.F.Van Hu
lst )等は、SNOM技術を応用することによって、試
料の光学情報をSNOM測定しながら同時に試料の表面
情報をAFM測定することが可能なSNOM装置を提案
している(Appl.Phys.Lett.62(50)p.461(1993) 参
照)。即ち、ファンフルスト等のSNOM装置では、試
料表面近傍に局在しているエバネッセント場に窒化シリ
コン製のAFM用プローブ即ちカンチレバーを差し入れ
て、エバネッセント場を散乱させて伝搬光に変換した
際、カンチレバーを透過した光を検出することによって
試料の光学情報がSNOM測定されると同時に、カンチ
レバーの変位を検出することによって試料の表面情報が
AFM測定される。
【0007】ところで、ベテッヒやファンフルスト等の
SNOMは、いずれもプローブを介して光を伝搬させる
必要上、少なくともプローブ先端は、光学的に透明でな
ければならない。この場合、プローブ先端には、光が通
過可能な開口を形成する必要があるが、先端に開口が形
成されたプローブを大量に、しかも均一な精度で作製す
ることは容易なことではない。
【0008】特に、超解像度が要求されるSNOMに
は、通常の光学顕微鏡で実現可能な分解能を越える分解
能が求められており、この要求を満足するためには、プ
ローブ先端の開口径は、少なくとも0.1μm以下(好
ましくは、0.05μm以下)であることが必要であ
る。
【0009】このような限定条件の下、プローブの開口
を再現性良く形成することがは極めて困難である。更
に、開口を通してプローブ内に入射する光の量は、開口
半径の2乗に比例して少なくなるため、SNOM像の分
解能を向上させるように、開口径を小さくすると、逆
に、検出光量が減少してS/N比が悪くなってしまう。
【0010】そこで、河田等は、特開平6−13784
7号公報において、先端に開口を必要としないプローブ
を備えたSNOMを提案している。このSNOMは、試
料の表面近傍に局在しているエバネッセント場をプロー
ブによって散乱させて伝搬光に変換した際、プローブの
外側を伝搬する伝搬光即ち散乱光を例えばプローブの側
方に配置された光検出器で検出することによって、試料
の光学情報を得ることができるようになっている。な
お、このようなSNOMは、散乱光をSNOM情報とし
て検出しているため、散乱モードSNOMと呼ばれてい
る。
【0011】また、エバネッセント光に限らず、試料へ
光を入射した際、試料の表面形状などの影響により外側
に向けて進行できない伝搬光が、試料表面近傍において
光の場を形成する場合があり、上述したエバネッセント
場の場合と同様に、この光の場の中に鋭い探針先端を挿
入した際に発生する散乱光を検出することによって、散
乱モードSNOM測定を行う技術も報告されている。
【0012】なお、河田等は、第42回日本応用物理学
関係連合講演会(予稿集No.3、916頁、1995
年3月)において、STM用金属探針をプローブに使用
した散乱モードSNOM装置を提案している。この散乱
モードSNOM装置では、試料表面と探針先端との間の
距離をフィードバック制御している間、試料表面近傍に
局在しているエバネッセント場から散乱した散乱光を探
針及び試料の横方向から観察することによって、STM
測定と同時に散乱モードSNOM測定を行っている。更
に、第43回日本応用物理学関係連合講演会(予稿集N
o.3、867頁、1996年3月)において、河田等
は、斜め上方から試料に光を照射した際に、探針先端と
試料表面との間に生じる多重散乱状態を検出することに
よって散乱モードSNOM測定が可能であることを報告
している。また、Opt.Lett.20(1995)p.1924 において、
バケロット(Bachelot)等は、先端に開口を必要としな
いプローブを用いた散乱モードSNOM装置を報告して
いる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかし、散乱モードS
NOM装置において、測定用照明光を入射させた試料表
面に探針を接近させながらプローブを走査する際、測定
用照明光の入射方向によっては、探針の外観構造に起因
して、その探針先端以外の部分からSNOM測定に寄与
しない散乱光が発生し、SNOM像のS/N比を低下さ
せてしまう場合がある。
【0014】特に、探針先端が複数の稜の頂点として構
成されている場合、各稜から無秩序に発生した散乱光に
よってSNOM像のS/N比が低下してしまう場合があ
る。また、稜を構成する2つの探針面が共に粗い即ち例
えば化学エッチング(イオンエッチング)されてフラッ
トでない場合、これら探針面から無秩序に発生した散乱
光によってSNOM像のS/N比が低下してしまう場合
がある。
【0015】本発明は、このような問題を解決するため
に成されており、その目的は、探針先端以外の部分から
の散乱光の発生を最小限に抑制することによって、S/
N比の高い光学情報を得ることが可能な測定装置を提供
することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、試料近傍に光を照射した際に試料
近傍に形成される光の場に対して、先鋭化した探針先端
を刺し入れた際に発生する散乱光を検出することによっ
て、試料の光学情報を測定可能な測定装置であって、前
記探針先端が複数の面で囲まれた頂点を成している場合
において、相隣る粗い2つの面で規定され且つ前記頂点
を含む稜を軸として稜の外向き2等分面を90°以上回
転させた面内の任意の位置から前記探針先端に向けて光
を入射させることが可能な光入射光学系が設けられてい
る。
【0017】また、本発明は、試料近傍に光を照射した
際に試料近傍に形成される光の場に対して、先鋭化した
探針先端を刺し入れた際に発生する散乱光を検出するこ
とによって、試料の光学情報を測定可能な測定装置であ
って、前記探針先端が複数の面で囲まれた頂点を成して
いる場合において、相隣る粗い2つの面によって4分割
された空間領域のうち、前記探針先端が存在する空間領
域内の任意の位置から前記探針先端に向けて光を入射さ
せることが可能な光入射光学系が設けられている。
【0018】なお、外向き2等分面とは、稜を構成する
面の角を2等分する面のうち稜の外側半分の面を意味す
る。また、粗いとは、例えば化学エッチング(イオンエ
ッチング)等の物理過程で探針を形成した際に、原子オ
ーダにおいて探針の面がフラットになっていないことを
意味する。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態に係
る測定装置について、添付図面を参照して説明する。図
1に示すように、本実施の形態の測定装置は、AFM/
SNOMの同時測定を行うことができると共に光学顕微
鏡観察を行うことができるように、後述する光学顕微
鏡、AFM測定系、SNOM測定系を組み込んで構成さ
れている。
【0020】このため、測定装置には、SNOM測定時
にSNOM測定用照明光をカンチレバー8の探針10
(図2参照)先端近傍の試料2裏面側に、探針10先端
以外の部分からの散乱光の発生を最小限に抑制するよう
に集光させることが可能なSNOM測定用照明装置10
0が設けられている。
【0021】図1及び図2に示すように、測定装置は、
試料2が載置可能な試料台4を支持し且つこの試料台4
を所定方向に移動させることができる圧電体スキャナ6
と、試料2の表面情報(AFM測定情報)及び光学情報
(SNOM測定情報)を検出するためのカンチレバー8
とを備えている。
【0022】カンチレバー8は、自由端に探針10が設
けられた短冊形レバー部12と、このレバー部12の基
端を支持する支持部14とから構成されており、探針1
0が対物レンズ16の視野内に位置付けられるように、
保持手段18によって保持されている。また、カンチレ
バー8は、単結晶シリコン材料を用いた半導体加工プロ
セスによって作製されており、テトラヘドラル形を成し
ている。即ち、本実施の形態に適用するカンチレバー8
は、その短冊形レバー部12と探針10の接合部におい
て、その先端側と両横側に拡がる突出部が無い構造を有
している。
【0023】探針10は、四面体形状を成しており、頂
点10aは、レバー部12の先端12aの垂直上方に位
置決めされている。そして、レバー部12の背面(探針
10が形成されていない側面)には、所定の厚さでアル
ミニウム膜20がコーティングされている。
【0024】また、圧電体スキャナ6には、コンピュー
タ22から出力された走査信号に基づいて、圧電体スキ
ャナ6を駆動するスキャナ駆動回路24が接続されてい
る。この構成によれば、スキャナ駆動回路24を介して
走査信号を圧電体スキャナ6に印加することによって、
試料台4と共にこの試料台4上の試料2をXYZ方向に
三次元変位させることが可能となる。
【0025】また、圧電体スキャナ6は、Z方向に移動
自在の粗動ステージ26に固定されており、この粗動ス
テージ26には、コンピータ22から出力された駆動信
号に基づいて、粗動ステージ26を駆動する粗動ステー
ジ駆動回路28が接続されている。
【0026】この構成によれば、コンピュータ22から
の駆動信号を粗動ステージ駆動回路28に入力すること
によって、圧電体スキャナ6をZ方向に変位させること
が可能となる。このように圧電体スキャナ6を変位させ
ることによって、試料台4上の試料2の大まかな位置合
わせ(例えば、試料2とカンチレバー8との間の大まか
な位置合わせ)を行うことが可能である。
【0027】次に、測定装置に組み込まれている光学顕
微鏡について説明する。光学顕微鏡には、試料台4上の
試料2に顕微鏡観察用照明光を照射する顕微鏡照明系
と、この顕微鏡照明系からの照明光を試料2に集光する
集光手段と、試料2の観察面を調整するための接眼光学
系とが設けられている。
【0028】顕微鏡照明系は、顕微鏡観察用照明光を出
射する光源30と、この光源30に光ファイバ32を介
して光学的に接続された照明用鏡筒34と、この照明用
鏡筒34内に設けられた照明用ビームスプリッタ36と
を備えている。
【0029】照明用ビームスプリッタ36は、明視野照
明用ハーフプリズム150と、円形遮光部152aを有
する暗視野照明用ハーフプリズム152とから構成され
ており、これらハーフプリズム150,152は、夫
々、案内ガイド154に沿って移動可能なスライダ15
6上に搭載されている。そして、スライダ156を案内
ガイド154に沿って移動させることによって、光路上
に明視野照明用ハーフプリズム150又は暗視野照明用
ハーフプリズム152のいずれか一方を選択的に位置付
けることができるようになっている(図5参照)。
【0030】この構成によれば、光ファイバ32を介し
て照明用鏡筒34内に導光された照明光は、照明用ビー
ムスプリッタ36から反射した後、レンズ38からメイ
ンビームスプリッタ40に導光される。
【0031】また、集光手段としては、上記対物レンズ
16が併用されている。従って、レンズ38からメイン
ビームスプリッタ40に導光された照明光は、メインビ
ームスプリッタ40から反射した後、集光手段即ち対物
レンズ16によって、試料台4上の試料2に照射され
る。このとき、試料2の表面(観察面)から反射した反
射光(試料表面の像光)は、対物レンズ16によってメ
インビームスプリッタ40に照射された後、レンズ38
及び照明用ビームスプリッタ36を透過して接眼光学系
に導光される。
【0032】接眼光学系は、試料2の観察面から反射し
た反射光をCCDカメラ42に導光するための接眼用ビ
ームスプリッタ44及び接眼用鏡筒46と、CCDカメ
ラ42に受光された反射光に画像処理を施して、モニタ
ーテレビ48に表示する画像処理器50とを備えてい
る。
【0033】この構成によれば、レンズ38及び照明用
ビームスプリッタ36を介して導光された反射光は、接
眼用ビームスプリッタ44から反射した後、接眼用鏡筒
46を介してCCDカメラ42に導光される。この結
果、画像処理器50によってモニターテレビ48に試料
2の観察面の画像が表示される。なお、接眼用鏡筒46
は、Z方向に移動制御された移動ステージ52に固定さ
れており、この移動ステージ52を移動させることによ
って、試料2の観察面の高さを調整することができる。
【0034】次に、測定装置に組み込まれているAFM
測定系について説明する。AFM測定系は、カンチレバ
ー8を所定の共振周波数で励振させながら試料2の表面
情報を測定(ダイナミックモード測定)するように、保
持手段18に取り付けられた圧電体54を備えている。
【0035】圧電体54には、コンピュータ22から出
力される励振信号に基づいて、圧電体54に所定の振幅
且つ周波数の正弦波信号を印加する励振回路56が接続
されている。
【0036】この構成によれば、励振回路56から正弦
波信号を圧電体54に印加して圧電体54を励振させる
と、このとき生じる励振運動が、カンチレバー8の支持
部14を介してレバー部12に伝達されることによっ
て、レバー部12を所定の振動振幅で励振させる。この
結果、カンチレバー8の自由端が、所定の振幅及び共振
周波数で振動する。
【0037】AFM測定系には、光てこ方式のカンチレ
バー変位センサが設けられており、このカンチレバー変
位センサは、レバー部12の背面にAFM測定光L1を
照射可能な半導体レーザ58と、レバー部12の背面か
ら反射した反射光L2を受光可能な二分割フォトディテ
クタ60と、二分割フォトディテクタ60から出力され
た変位信号に信号処理を施す信号処理回路62とを備え
ている。また、半導体レーザ58は、制御回路64によ
ってレーザー出力が制御されている。
【0038】この構成によれば、半導体レーザ58から
レバー部12にAFM測定光L1が照射されたとき、レ
バー部12から反射した反射光L2は、二分割フォトデ
ィテクタ60によって所定の変位信号に変換された後、
信号処理回路62に入力される。
【0039】このとき、信号処理回路62は、入力した
変位信号に基づいて、カンチレバー8の振動振幅が一定
に維持されるように、スキャナ駆動回路24を介して圧
電体スキャナ6をフィードバック制御する。フィードバ
ック制御中、信号処理回路62から出力されたフィード
バック信号(即ち、AFM信号)は、コンピュータ22
に取り込まれた後、画像処理が施される。この結果、A
FM測定情報(試料2の表面情報)がモニタ66に表示
される。なお、信号処理回路62は、励振回路56から
の正弦波信号に基づいて、この正弦波信号の周波数に同
期した信号を取り出すことができるように制御されてい
る。また、光てこの代わりに、例えば臨界角方式の変位
センサを用いても良い。
【0040】このようなAFM測定系の測定プロセスに
ついて簡単に説明すると、まず、粗動ステージ26によ
って試料2とカンチレバー8の探針10との間の距離を
大まかに調整した後、探針10が試料2のAFM測定ポ
イントに位置付けられるように、上述した光学顕微鏡に
よってAFM測定ポイントを観察しながら、圧電体スキ
ャナ6によって探針10先端と試料2表面との間の距離
や位置関係を微調整する。次に、圧電体54によってカ
ンチレバー8の自由端を試料2表面に対して略垂直方向
に一定の振幅で振動させる。この状態で、圧電体スキャ
ナ6によって試料2をXY方向に移動させて、探針10
先端を試料2表面に沿って相対的にXY走査させる。こ
のとき、光てこ方式のカンチレバー変位センサ(具体的
には、信号処理回路62)から出力された変位信号に基
づいて、カンチレバー8の振動振幅が一定に維持(探針
10先端と試料2表面との間の距離が一定に維持)され
るように、スキャナ駆動回路24を介して圧電体スキャ
ナ6をZ方向にフィードバック制御する。このようなフ
ィードバック制御中、信号処理回路62から出力された
フィードバック信号(即ち、AFM信号)は、コンピュ
ータ22に取り込まれた後、画像処理が施される。この
結果、AFM測定情報(試料2の表面情報)がモニタ6
6に表示される。
【0041】次に、測定装置に組み込まれているSNO
M測定系について説明する。SNOM測定系には、探針
10先端以外の部分からの散乱光の発生を最小限に抑制
するように、SNOM測定用照明光M(図3及び図4参
照)をカンチレバー8の探針10先端近傍の試料2裏面
側に集光させることが可能なSNOM測定用照明装置1
00と、試料2のSNOM測定情報(光学情報)を検出
可能なSNOM検出ユニット70とが設けられている。
【0042】上述したAFM測定用のカンチレバー8の
探針10は、一般的に、例えば図2(b)に示すよう
に、イオンエッチングが施された2つの探針面(以下、
イオンエッチング面という)8aと、化学エッチングが
施された1つの探針面(以下、化学エッチング面とい
う)8bとから構成されている。そして、2つのイオン
エッチング面8aが隣接して形成された稜200は、ミ
クロ的に見ると滑らかでは無く、若干の凹凸状になって
いる。
【0043】このような探針10近傍にSNOM測定用
照明光Mを入射させたとき、凹凸状の稜200から無秩
序に散乱した光によって、SNOM像即ちSNOM測定
情報(光学情報)のS/N比が低下してしまう場合があ
る。
【0044】従って、このような稜200に直接照射さ
せない方向(稜200を回避する方向)からSNOM測
定用照明光Mを入射させることが好ましい。具体的に
は、イオンエッチングプロセス等の物理過程において、
上述した稜200は、2つのイオンエッチング面8aの
交線202よりも内側(図3(b)参照)に形成される
ことが多い。
【0045】従って、図3(b)に示すように、探針1
0の稜200が互いに直交するXY軸の交点に位置付け
られており、且つ、カンチレバー8の長手軸がX軸に沿
って配置されているものと仮定すると、SNOM測定用
照明光Mの入射角θは、以下のように設定することが好
ましい。
【0046】例えば、カンチレバー8の長手軸(X軸)
に直交する軸線を直交軸(Y軸)とすると、カンチレバ
ー8の最先端側の稜200を中心にして、長手軸(X
軸)からθ=90°(直交軸(Y軸))を越えて回転さ
せた空間領域内の任意の位置から探針10先端に向けて
SNOM測定用照明光Mを入射させる。換言すると、探
針10先端が複数の探針面で囲まれた頂点を成している
場合において、相隣る比較的粗い2つの探針面によって
4分割された空間領域のうち、探針10先端が存在する
空間領域内の任意の位置から探針10先端に向けてSN
OM測定用照明光Mを入射させる。
【0047】即ち、90°<θ<180°、更に好まし
くは、95°<θ<180°の範囲に入射角θを設定す
れば良い。従って、本実施の形態に適用したSNOM測
定用照明装置100は、上述したような入射角θでSN
OM測定用照明光Mを入射させることができるように、
以下のように構成されている。
【0048】図1及び図4に示すように、SNOM測定
用照明装置100は、探針10先端に対する光入射位置
及び光入射角θの調整機能を有する光入射光学系と、こ
の光入射光学系から射出されたSNOM測定用照明光M
を探針10先端近傍の試料2裏面で全反射させる全反射
プリズム(直角プリズム)102とを備えており、これ
ら光入射光学系及び全反射プリズム102は、共に、粗
動ステージ26上に配置された照明ユニット104内に
設けられている。
【0049】照明ユニット104は、粗動ステージ26
上に固定された支柱106と、この支柱106に対して
図中矢印R方向に回動可能であって且つ図中矢印D方向
(図面上では、X軸方向)に往復動可能な可動体108
とから構成されている。
【0050】全反射プリズム102は、支柱106から
延出したアーム106aの先端に支持されており、試料
台4に形成された開口4aから露出されている。そし
て、試料2を試料台4上に載置する場合、全反射プリズ
ム102の上面に適量のマッチングオイル110を垂ら
した後、試料2をセットした例えばスライドガラス11
2を試料台4上に載置する。この結果、スライドガラス
112と全反射プリズム102とは、光学的に結合され
る。
【0051】この場合、全反射プリズム102は、アー
ム106aによって試料台4とは独立して支持されてい
るため、圧電体スキャナ6を駆動させている間、試料台
4の移動に影響されること無く不動に保たれる。
【0052】一方、光入射光学系は、可動体108に内
蔵されており、レーザー光源114からファイバ116
を介して導光されたSNOM測定用照明光Mを平行光束
に規制するコリメーターレンズ118と、このコリメー
ターレンズ118によって平行光束に規制されたSNO
M測定用照明光Mを反射する固定ミラー120と、この
固定ミラー120から反射されたSNOM測定用照明光
Mを全反射プリズム102方向(探針10先端近傍の試
料2裏面方向)に反射する可動ミラー122とを備えて
いる。
【0053】可動ミラー122は、探針10先端に対す
る入射光の俯角(又は、仰角)を調整(入射位置調整)
することができるように、図中矢印T方向に回動可能で
あって且つ図中矢印H方向(図面上では、Z軸方向)に
往復動可能になっている。
【0054】このようなSNOM測定用照明装置100
によれば、可動ミラー122を矢印T方向及びH方向に
移動調整することによって、探針10先端に対する入射
光の俯角(又は、仰角)を調整(入射位置調整)するこ
とができると共に、支柱106に対して可動体108を
矢印R方向及びD方向に移動調整することによって、探
針10先端に対するSNOM測定用照明光Mの入射角θ
を調整することができる。
【0055】即ち、図3(b)に示すような入射角θ
で、SNOM測定用照明光Mを探針10先端近傍の試料
2裏面に入射させることができる。また、SNOM検出
ユニット70は、SNOM測定用照明光Mを試料2に照
射している状態において、粗動ステージ26を駆動して
試料2に対して探針10を相対的に接近走査させた際、
探針10によって散乱した散乱光S(図3(a)参照)
を集光させる集光手段と、この集光手段によって集光し
た散乱光Sを検出する光検出手段とを備えている。
【0056】集光手段としては、上記対物レンズ16が
併用されている。従って、探針10によって散乱した散
乱光S(探針10先端近傍からの散乱光)のうち、対物
レンズ16の視野内の散乱光Sが、対物レンズ16によ
って光検出手段方向へ集光されることになる。
【0057】光検出手段は、入射光を電気信号に変換し
て増幅する光電子増倍管76と、対物レンズ16によっ
て集光された散乱光Sを光電子増倍管76に導光するレ
ンズ群78とを備えている。なお、光電子増倍管76
は、制御器80によって制御されている。
【0058】このような構成によれば、SNOM測定用
照明光Mを探針10先端近傍の試料2裏面に所定の入射
角θ(図3(b)参照)で照射して、試料2の表面近傍
にエバネッセント場(波)を局在させた状態において、
一定の振動振幅でカンチレバー8を励振させながら探針
10を試料2の表面に沿って走査している間(AFM測
定中)、エバネッセント場(波)に刺し入れられた探針
10によって散乱した散乱光Sは、対物レンズ16を介
して集光する。
【0059】このとき、探針10先端近傍から発生する
散乱光Sは、探針10先端以外の部分からの散乱光の発
生が最小限に抑制されたものとなっている。そして、こ
のような散乱光Sは、可回転式偏光子160によって特
定偏光成分が抽出された後、メインビームスプリッタ4
0及びレンズ群78からピンホール162を介して光電
子増倍管76に導光される。このとき、光電子増倍管7
6から出力された電気信号は、アンプ82によって増幅
された後、ロックインアンプ84に入力される。なお、
ピンホール162は、対物レンズ16とレンズ群78に
対して、探針10先端と光学的に共役な位置に配置され
ており、探針10先端近傍で発生した散乱光以外の成分
をできるだけカットするようになっている。
【0060】ロックインアンプ84は、上記励振回路5
6からの正弦波信号に基づいて、この正弦波信号の周波
数に同期した電気信号即ち光学情報信号を抽出すること
ができるように制御されている。
【0061】この後、ロックインアンプ84から出力さ
れた光学情報信号(即ち、SNOM信号)が、コンピュ
ータ22によって信号処理が施されることによって、試
料2の光学情報(SNOM測定情報)がモニタ66に表
示される。
【0062】このようなSNOM測定中、全反射プリズ
ム102から反射した反射光は、フォトディテクタ16
4によって、その光強度が検出され、例えばSNOM測
定用照明光Mが正しく全反射されているか否かの確認が
行われる。
【0063】なお、図3(a)には、図面の簡略化のた
め、試料2及びスライドガラス112は省略されてい
る。このように本実施の形態に適用したSNOM測定系
によれば、稜200に直接照射させない方向(稜200
を回避する方向)、即ち、稜200を中心にして長手軸
(X軸)からθ=90°(直交軸(Y軸))を越えて回
転させた空間領域内の任意の位置(図3(b)参照)か
らSNOM測定用照明光Mを入射させることによって、
探針10先端以外の部分からの散乱光の発生を最小限に
抑制することができる。このため、S/N比の高い光学
情報(SNOM像)を得ることが可能となる。
【0064】また、SNOM測定用照明光Mの入射角θ
の調整は、SNOM測定用照明装置100の可動体10
8を移動調整する調整するだけで簡単に行うことができ
る。このため、S/N比の高い光学情報(SNOM像)
が得られるように、探針10先端からの散乱光の強度を
測定環境や測定目的に対応して容易に上げることが可能
となる。
【0065】更に、本実施の形態において、探針10先
端とピンホール162とが共役な位置に配置されている
ため、光学顕微鏡観察照明の下でも、探針10先端から
散乱する微小な散乱光を検知することが可能であり、こ
の結果、試料2の顕微鏡像と光学情報(SNOM像)と
の同時観察が可能となる。
【0066】なお、上述した実施の形態において、光学
顕微鏡は、AFM測定ポイントに対する探針10の位置
合わせに用いるだけでなく、種々の光学的観察に利用す
ることができる。例えば、試料2の観察位置の特定、カ
ンチレバー変位センサのAFM測定光L1の照射位置の
確認などに用いることができる。なお、このような観察
目的に対応すれば、光学顕微鏡に代えて、例えば、実体
顕微鏡、ルーペ、電子顕微鏡などの他の観察手段を用い
ることも可能である。
【0067】また、上述した実施の形態では、ダイナミ
ックモードAFMについて説明したが、スタティックモ
ードAFMにも本実施の形態の測定装置を適用すること
が可能である。この場合には、カンチレバー8は、励振
させず、試料2表面に探針10先端が接近した際に生じ
るカンチレバー8の変位(Z方向変位)を検出し、この
検出値(試料2表面と探針10先端との間の距離)を一
定に維持するようにフィードバック制御しながら、探針
10を試料2に沿ってXY走査することによって、AF
M測定が行われる。そして、このようなスタティックモ
ードAFM測定中、上述した実施の形態と同様に、エバ
ネッセント場(波)に刺し入れられた探針10によって
散乱した散乱光Sを取り込むことによって、光学情報
(SNOM像)を得ることができる。
【0068】また、上述した実施の形態では、試料2裏
面にSNOM測定用照明光Mを入射させた際、試料2表
面に局在しているエバネッセント場(波)からSNOM
情報を得ているが、これに限定されることは無く、例え
ば、図6に示すように、試料2表面にSNOM測定用照
明光Mを入射させ、このとき試料2表面に局在するエバ
ネッセント場(波)からSNOM情報を得るように構成
しても良い。この場合には、全反射プリズム102は必
ずしも必要では無く、可動ミラー122によってSNO
M測定用照明光Mを試料2表面に直接入射させれば良
い。但し、この場合にも、上述した実施の形態と同様
に、探針10先端以外の部分からの散乱光の発生を最小
限に抑制するように、探針10先端に対するSNOM測
定用照明光Mの入射位置及び入射角θを夫々調整する。
【0069】また、上述した実施の形態では、イオンエ
ッチングされた2つの探針面8aを有する探針10が設
けられたカンチレバー8を用いて説明したが、他の方法
(原子オーダではフラットに形成できない加工方向)で
形成された粗い2つの探針面8aを有する探針10が設
けられたカンチレバー8にも本実施の形態の測定装置を
適用することができる。
【0070】なお、本明細書中には、以下の発明が含ま
れる。 (1) 試料近傍に光を照射した際に試料近傍に形成さ
れる光の場に対して、先鋭化した探針先端を刺し入れた
際に発生する散乱光を検出することによって、試料の光
学情報を測定可能な測定装置であって、前記探針先端が
複数の面で囲まれた頂点を成している場合において、相
隣る粗い2つの面で規定され且つ前記頂点を含む稜を軸
として稜の外向き2等分面を90°以上回転させた面内
の任意の位置から前記探針先端に向けて光を入射させる
ことが可能な光入射光学系が設けられている。 (構成)この発明は、一実施の形態(図1〜図5)並び
に変形例(図6)を含めた本発明の上位概念に対応す
る。
【0071】光入射光学系は、例えば図1,図4及び図
6に示すように、支柱106に対して図中矢印R方向に
回動可能であって且つ図中矢印D方向(図面上では、X
軸方向)に往復動可能な可動体108に内蔵されてお
り、コリメーターレンズ118と、固定ミラー120
と、探針10先端に対するSNOM測定用照明光Mの俯
角(又は、仰角)を調整(入射位置調整)することがで
きるように、図中矢印T方向に回動可能であって且つ図
中矢印H方向(図面上では、Z軸方向)に往復動可能な
可動ミラー122とを備えている。 (作用効果)この発明によれば、可動体108を矢印R
方向及びD方向に移動調整するだけで、探針先端以外の
部分からの散乱光の発生を最小限に抑制することができ
る。このため、S/N比の高い光学情報(SNOM像)
を得ることが可能となる。 (2) 試料近傍に光を照射した際に試料近傍に形成さ
れる光の場に対して、先鋭化した探針先端を刺し入れた
際に発生する散乱光を検出することによって、試料の光
学情報を測定可能な測定装置であって、前記探針先端が
複数の面で囲まれた頂点を成している場合において、相
隣る粗い2つの面によって4分割された空間領域のう
ち、前記探針先端が存在する空間領域内の任意の位置か
ら前記探針先端に向けて光を入射させることが可能な光
入射光学系が設けられている。 (構成)この発明は、一実施の形態(図1〜図5)並び
に変形例(図6)を含めた本発明の上位概念に対応す
る。 (作用効果)この発明によれば、例えば図3に示すよう
に、稜200に直接照射させない方向(稜200を回避
する方向)からSNOM測定用照明光Mを入射させるこ
とができるため、探針先端以外の部分からの散乱光の発
生を最小限に抑制することができる。このため、S/N
比の高い光学情報(SNOM像)を得ることが可能とな
る。 (3) 前記探針先端を構成する複数の面のうち、相隣
る粗い2つの面が、夫々、物理過程で生成されているこ
とを特徴とする上記(1)又は(2)に記載の測定装
置。 (構成)この発明は、一実施の形態(図1〜図5)並び
に変形例(図6)を含めた本発明の上位概念に対応す
る。 (作用効果)この発明によれば、ミクロ的に見ると滑ら
かでは無く、若干の凹凸状の稜に直接照射させない方向
(稜200を回避する方向)からSNOM測定用照明光
Mを入射させることができるため、S/N比の高い光学
情報(SNOM像)を得ることが可能となる。 (4) 前記光入射光学系には、前記探針先端に対する
入射光の入射位置を調整可能な可動ミラーが設けられて
いることを特徴とする上記(1)又は(2)に記載の測
定装置。 (構成)この発明は、一実施の形態(図1〜図5)並び
に変形例(図6)を含めた本発明の上位概念に対応す
る。
【0072】可動ミラー122は、探針10先端に対す
る入射光の俯角(又は、仰角)を調整(入射位置調整)
することができるように、図中矢印T方向に回動可能で
あって且つ図中矢印H方向(図面上では、Z軸方向)に
往復動可能になっている。 (作用効果)この発明によれば、可動ミラー122を矢
印T方向及びH方向に移動調整することによって、探針
10先端に対する入射光の俯角(又は、仰角)を調整
(入射位置調整)することができる。
【0073】
【発明の効果】本発明によれば、探針先端以外の部分か
らの散乱光の発生を最小限に抑制することによって、S
/N比の高い光学情報を得ることが可能な測定装置を提
供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係る測定装置の全体の
構成を示す図。
【図2】(a)は、測定装置に設けられたカンチレバー
の斜視図、(b)は、カンチレバーの探針の部分を拡大
して示す図。
【図3】(a)は、SNOM測定用照明光が、探針の稜
に直接照射させない方向(稜を回避する方向)から入射
している状態を示す斜視図、(b)は、同図(a)を探
針先端側から見た図。
【図4】測定装置に設けられたSNOM測定用照明装置
の構成を示す斜視図。
【図5】測定装置に設けられた照明用ビームスプリッタ
の構成を示す斜視図。
【図6】本発明の変形例に係る測定装置に設けられたS
NOM測定用照明装置の主要な構成を示す図。
【符号の説明】
2 試料 10 探針 100 SNOM測定用照明装置 102 全反射プリズム 106 支柱 108 可動体 M SNOM測定用照明光

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 試料近傍に光を照射した際に試料近傍に
    形成される光の場に対して、先鋭化した探針先端を刺し
    入れた際に発生する散乱光を検出することによって、試
    料の光学情報を測定可能な測定装置であって、 前記探針先端が複数の面で囲まれた頂点を成している場
    合において、相隣る粗い2つの面で規定され且つ前記頂
    点を含む稜を軸として稜の外向き2等分面を90°以上
    回転させた面内の任意の位置から前記探針先端に向けて
    光を入射させることが可能な光入射光学系が設けられて
    いることを特徴とする測定装置。
  2. 【請求項2】 試料近傍に光を照射した際に試料近傍に
    形成される光の場に対して、先鋭化した探針先端を刺し
    入れた際に発生する散乱光を検出することによって、試
    料の光学情報を測定可能な測定装置であって、 前記探針先端が複数の面で囲まれた頂点を成している場
    合において、相隣る粗い2つの面によって4分割された
    空間領域のうち、前記探針先端が存在する空間領域内の
    任意の位置から前記探針先端に向けて光を入射させるこ
    とが可能な光入射光学系が設けられていることを特徴と
    する測定装置。
JP9339996A 1997-12-10 1997-12-10 測定装置 Withdrawn JPH11174064A (ja)

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