JPH11170188A - 真空吸着パッド - Google Patents

真空吸着パッド

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Publication number
JPH11170188A
JPH11170188A JP34515197A JP34515197A JPH11170188A JP H11170188 A JPH11170188 A JP H11170188A JP 34515197 A JP34515197 A JP 34515197A JP 34515197 A JP34515197 A JP 34515197A JP H11170188 A JPH11170188 A JP H11170188A
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JP
Japan
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bellows
suction
vacuum
opening
suction pad
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Application number
JP34515197A
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English (en)
Inventor
Yoshiaki Katsu
善明 勝
Akira Ishibashi
明 石橋
Shoichi Noda
彰一 野田
Kiyohide Koizumi
清秀 小泉
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Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】従来のゴム製ベローズ式の真空吸着パッドをそ
のまま使用でき、ガラス基板あるいはウエハ等の薄板を
所定位置に吸着支持する位置吸収能力を向上させた真空
吸着パッドを提供する。 【解決手段】移載アーム21の内部に真空路21aを有
し、この真空路21aに連通して当該移載アームの表面
に開放した開口21bに少なくとも吸着面を露呈して嵌
合してなる真空吸着パッドにおいて、前記真空吸着パッ
ドは、基部1aと上部の径小開口部1bを有するベロー
ズ1と、この基部1aを前記開口21bに嵌合すると共
に前記真空路21aと前記ベローズの内部を連通する導
口2aをもつ吸引基部部材2と、前記ベローズ1の上部
に有する径小開口部1bに係合する凹部3cと前記ベロ
ーズ1の内部と当該ベローズ1の上方空間を連通する導
口3bを有すると共に開口部に吸着面3aをもつ吸着部
3とから構成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空吸着パッドに
係り、特に液晶表示素子や半導体素子の製造ライン、あ
るいはその他の製造ラインにガラス基板あるいは半導体
ウエハ、その他の板体を投入し、複数の処理装置間で搬
送し、また製造ラインから取り出すための各種移載装置
に装備する真空吸着パッドに関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示素子や半導体素子の製造におけ
る液晶パネル用のガラス基板あるいは半導体ウエハ(以
下、単にウエハと言う)に各種の処理を施す際に、製造
ラインへの素材搬入ステージと当該ガラス基板あるいは
ウエハを各種処理装置に受渡し、あるいは処理後のガラ
ス基板あるいはウエハを搬出ステージで搬出するため
に、一般に真空を利用した吸着パッド(ゴム製ベローズ
式の真空吸着パッド)を備えた移載装置(移載ロボッ
ト)が使用されている。
【0003】図7は吸着パッドを備えた移載装置を使用
する製造装置の一例としての液晶パネル製造ラインに設
置されるレジスト塗布装置の配置と動作を説明する概念
図であって、20はカセットに収納したガラス基板、2
1は吸着パッドを備えた移載アーム、30は移載装置、
30a,30bは移載装置を移動させるためのガイドレ
ール、40はガラス基板を供給するためのカセット、5
0はレジスト塗布装置、50aは塗布ステージ、60は
乾燥装置、60aは乾燥ステージである。
【0004】同図において、移載装置30はガイドレー
ル30a,30bで矢印D方向に移動可能とされると共
に水平方向Aに伸縮する移載アーム21を有し、かつこ
の移載アーム21を水平面内で矢印B方向への旋回と垂
直方向Cへの昇降させる機能を有している。
【0005】移載アーム21の載置位置には、複数の真
空吸着パッドが取付けられており、この真空吸着パッド
でガラス基板を吸着して搬送するように構成されてい
る。
【0006】まず、多数のガラス基板20は図示しない
素材搬入装置でカセット40に収納された状態で洗浄/
乾燥工程等の前処理工程から搬入される。
【0007】移載装置30は所定のカセットに対向した
位置においてその積載アーム21を伸ばしてカセット4
0からガラス基板20を一枚ずつ上記積載アーム21に
載置して取り出す。
【0008】ガラス基板20は積載アーム21に載置吸
着されたまま矢印Bに沿ってレジスト塗布装置50方向
に旋回し、同時に移載装置30がガイドレール30a,
30bで矢印Dに沿ってレジスト塗布装置50方向に移
動する。
【0009】所定の移動後、移載アーム21はレジスト
塗布装置50の塗布ステージ50aの位置と同一高さに
昇降し、塗布ステージ50aの所定位置にガラス基板2
0を載置する。
【0010】塗布装置50でレジストを塗布したガラス
基板20は上記と同様の移載装置の旋回、昇降動作によ
り塗布ステージ50aから取り出され、乾燥装置60の
乾燥ステージ60aに投入されてレジストの乾燥が行わ
れる。
【0011】乾燥後のガラス基板20はカセット40に
戻され、図示しないカセット搬送機によって次段の処理
装置に搬送される。
【0012】図8は図7の移載アームの構成の一例を説
明する要部構造図であって、21aは真空路で移載アー
ム21の内部を通ってゴム製ベローズ式の真空吸着パッ
ド22に真空力(吸引力)を与える。
【0013】この例では移載アーム21の先端領域に4
個の真空吸着パッド22を備えているが、設置個数はこ
れに限るものではない。この真空吸着パッド22によっ
てガラス基板20を吸着すると共に、所定の装置あるい
はステージ間で搬送を行う。しかし、液晶パネルに用い
られるガラス基板は、その厚さは極めて薄いものである
ため(例えば、0.7mm、または1.1mm、等)、
またガラス基板のサイズが大きくなると、移載アームに
載置した場合に撓みが生じて吸着が損なわれて吸着不良
による脱落が発生する場合がある。
【0014】図9はガラス基板を移載アームに載置した
ときの当該ガラス基板の撓み状態を説明する模式図であ
る。
【0015】特に、薄厚で大サイズのガラス基板20を
移載アーム21に載置し、その上面に設けた真空吸着パ
ッド22で吸着保持したとき、ガラス基板20は図示し
たように撓む。
【0016】この撓みで真空吸着パッド22の吸着面と
ガラス面との間に隙間が生じると、吸着不良でガラス基
板20が固定できなくなる。その結果、移載アーム21
の移載動作中にガラス基板20が脱落してしまうという
問題が生じる。
【0017】このような問題を無くすため、従来の真空
吸着パッドは、基本的にはゴム製のベローズ形状を持た
せ、ガラス基板の吸着面(ガラス面)の傾きに対して柔
軟に対応できるような構造を採用しているのである。
【0018】しかし、吸着面がゴム製であるために、ガ
ラス面に吸着跡が付き易く、この吸着跡の除去のために
洗浄工程を追加したり、あるいは成膜工程での不純物発
生源となり、製品の品質を低下させる一因となってい
た。
【0019】この吸着跡を無くすために、真空吸着パッ
ドの吸着部を樹脂材料等の非ゴム材で形成した別部品と
して組合せたものが使用されるようになった。
【0020】図10は吸着跡を残さない構造とした従来
の真空吸着パッドの1構成例の説明図であって、(a)
は上面図、(b)は断面図を示す。
【0021】この構成では、移載アーム21に備える真
空吸着パッドは、吸引基部2の下部に樹脂製の吸着部3
の下部に固定したゴム製のフランジ部4を嵌合し、その
吸着面3aをガラス面に接触させる。吸着部3の傾きは
上記のフランジ部4の屈曲で対応させる。なお、2aは
移載アーム21の真空路21aに開放した導口である。
これにより、ガラス面の傾斜に追従して真空漏れの発生
が防止されると共に吸着面3aの吸着跡がガラス面に残
ることがない。
【0022】図11は従来の真空吸着パッドの他の構成
例の説明図であって、(a)は上面図、(b)は断面図
を示す。
【0023】この例は、図10と同様に、樹脂製の吸着
部3をゴム製のフランジ部4と戻しバネ5とで吸着基部
2に支え、ゴム製の吸引基部2がガラス面に接触しない
ようにしたものである。これにより、ガラス面の傾斜に
追従して真空漏れの発生が防止されると共に吸着面3a
の吸着跡がガラス面に残ることがない。
【0024】図12は従来の真空吸着パッドのさらに他
の構成例の説明図であって、(a)は上面図、(b)は
断面図を示す。
【0025】この例では、樹脂製の吸着部3の下部にゴ
ム製の支持部材6の上端を固定し、下端を吸引基部2の
底部に弾性的に着座させると共に、吸着部3の周縁を吸
引基部2の上端で抑えて、当該吸着部3の上方への動き
を制限した構成を有し、支持部材6の屈曲でガラス面の
傾きに吸着面3aを追従させるようにしたものである。
【0026】この構成とした真空吸着パッドによって
も、上記した各構成例と同様にガラス面の傾斜に追従し
て真空漏れの発生が防止されると共に吸着面3aの吸着
跡がガラス面に残ることがない。
【0027】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、従来
の真空吸着パッドでは、その吸着部で構成する吸着面を
樹脂等の非ゴム材料で形成することによってガラス基板
に吸着跡が付着するのを回避している。しかし、前記図
10〜図12で説明したような真空吸着パッドは、その
構造が複雑であり、従来使用されていた所謂ベローズ式
の真空吸着パッドをそのまま利用することができないと
いう問題があった。
【0028】本発明の目的は、従来のゴム製ベローズ式
の真空吸着パッドをそのまま使用でき、ガラス基板(あ
るいは、ウエハ等の薄板)を所定位置に吸着支持する位
置吸収能力を向上させた真空吸着パッドを提供すること
にある。
【0029】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、従来のゴム製ベローズ式の真空吸着パッ
ドをそのまま利用し、吸着跡を付着のない真空吸着パッ
ドを提供することにある。
【0030】すなわち、本発明は、従来のゴム製ベロー
ズ式の真空吸着パッドの吸着部に樹脂材料等のゴム材料
以外の材料からなる別部品の吸着部を取り付けることに
より、位置吸収能力を維持して吸着跡の付着を無くした
ものであり、下記(1)〜(3)の構成とした点を特徴
とした。
【0031】(1)移載アーム21の内部に真空路21
aを有し、この真空路21aに連通して当該移載アーム
の表面に開放した開口21bに少なくとも吸着面を露呈
して嵌合してなる真空吸着パッドにおいて、前記真空吸
着パッドは、基部1aと上部径小部1bを有するベロー
ズ1と、前記ベローズ1の前記基部1aを前記開口21
bに設置すると共に前記真空路21aと前記ベローズの
内部を連通する導口2aをもつ吸引基部部材2と、前記
ベローズ1の上部に有する径小開口部1bに係合する凹
部3cと前記ベローズ1の内部と当該ベローズ1の上方
空間を連通する導口3bを有すると共に開口部に吸着面
3aをもつ吸着部3とから構成したことを特徴とする。
【0032】(2)前記ベローズ1の上部に有する径小
開口部1bの内周と前記吸着部3の凹部3c外周とを前
記ベローズ1の弾性で保持したことを特徴とする。
【0033】(3)前記吸着部3の凹部3cに溝を有
し、前記ベローズ1の上部に有する径小開口部1bの内
周と端縁を前記凹部3cの溝に係合したことを特徴とす
る。
【0034】(4)移載アーム21の内部に真空路21
aを有し、この真空路21aに連通して当該移載アーム
の表面に開放した開口21bに少なくとも吸着面を露呈
して嵌合してなる真空吸着パッドにおいて、前記真空吸
着パッドは、基部1aと上部径小開口部1bを有するベ
ローズ1と、前記ベローズ1の前記基部1aを前記開口
21bに設置すると共に前記真空路21aと前記ベロー
ズの内部を連通する導口2aをもつ吸引基部部材2と、
前記ベローズ1の上部に有する径小開口部1bの内面3
dに接着した段差3eと前記ベローズ1の内部と当該ベ
ローズ1の上方空間を連通する導口3bを有すると共に
開口部に吸着面3aをもつ吸着部3とから構成したこと
を特徴とする。
【0035】上記した各発明の構成により、従来のゴム
製の真空吸着パッドをそのまま使用でき、ガラス基板
(あるいは、ウエハ等の薄板)を所定位置に吸着支持す
る位置吸収能力を向上させた真空吸着パッドを提供する
ことができる。
【0036】なお、上記吸着部は各種の樹脂材料で形成
するのを好適とするが、これに限るものではなく、例え
ばアルミニウム、ステンレススチール等の金属材料、そ
の他のゴム以外の無機材料を用いることができ、また上
記したベローズと吸着部の固定は、上記した手段(嵌
合、弾性保持、接着)に限るものではなく、既知の他の
手段を用いることができる。
【0037】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、実施例の図面を参照して詳細に説明する。図1は本
発明の真空吸着パッドの第1実施例を説明する断面図で
あって、1はゴム製のベローズ、1aは基部、1bは径
小開口部、2は吸引基部部材、2aは真空路、2bは吸
引基部部材の導口、3は吸着部、3aは吸着面、3bは
吸着部の導口、21は移載アーム、21aは真空路、2
1bは開口を示す。
【0038】真空吸着パッドは、移載アーム21の表面
から若干浮かせて設けられ、移載アーム21の内部に形
成した真空路21aに連通して図示しない真空源から真
空が供給される。
【0039】この実施例の真空吸着パッドは、移載アー
ム21の表面に開放した開口21bに着座する基部1a
と上部径小部1bを有するベローズ1と、ベローズ1の
基部1aを移載アーム21の開口21bに嵌合させると
共にその真空路21aとベローズの内部を連通する導口
2aをもつ吸引基部部材2と、ベローズ1の上部に有す
る径小開口部1bに係合する凹部3cとベローズ1の内
部と当該ベローズ1の上方空間を連通する導口3bを有
すると共に開口部に吸着面3aをもつ吸着部3とから構
成される。
【0040】図2は図1に示した真空吸着パッドの詳細
構造の説明図であって、(a)は吸着部、(b)はベロ
ーズを示し、(a−1)は吸着部3の断面図、(a−
2)は吸着部3の上面図、(b−1)はベローズ1の断
面図、(b−2)はベローズ1の上面図で、図1と同一
符号は同一部分を示す。
【0041】(b)に示したベローズ1は従来から使用
されているものでゴム製のベローズ1の基部1aの内部
に導口2aを有する吸引基部部材2を挿入し、これを移
載アーム21の開口21bに着座させて上部開口部1b
を露呈させてある。
【0042】そして、上部径小部1bの上面を吸着面と
してガラス基板等を吸着固定できるように構成されてい
る。この上部径小部1bの内周には内方に突出した部分
を有している。
【0043】一方、吸着部3は導口3bを有し、上部に
吸着面3aをもつと共に径小開口部1bに係合する凹部
3cを形成した樹脂材料からなる。この吸着部3の凹部
3cに上記したベローズ1の上部径小部1bを嵌合させ
て本実施例の真空吸着パッドを構成する。
【0044】なお、ベローズ1の上部径小部1bと吸着
部3の凹部3cは当該ベローズ1の弾性で保持される
が、両者の間に接着材を介在させて固定してもよい。
【0045】この実施例の構成により、従来のゴム製ベ
ローズ式の真空吸着パッド(ベローズ1と吸引基部部材
2とから構成される)をそのまま使用でき、ガラス基板
(あるいは、ウエハ等の薄板)を所定位置に吸着支持す
る位置吸収能力を向上させた真空吸着パッドを提供する
ことができる。
【0046】図3は本発明の真空吸着パッドの第2実施
例を説明する断面図であって、図1と同一符号は同一機
能部分に対応する。なお、移載アームは図示を省略し
た。
【0047】この実施例の真空吸着パッドは、移載アー
ム21の表面に開放した開口21bに着座する基部1a
と上部径小部1bを有するベローズ1と、ベローズ1の
基部1aを移載アーム21の開口21bに嵌合させると
共にその真空路21aとベローズの内部を連通する導口
2aをもつ吸引基部部材2と、ベローズ1の上部に有す
る径小開口部1bに係合する凹部3cとベローズ1の内
部と当該ベローズ1の上方空間を連通する導口3bを有
すると共に開口部に吸着面3aをもつ吸着部3とから構
成される。
【0048】図4は図3に示した真空吸着パッドの詳細
構造の説明図であって、(a)は吸着部、(b)はベロ
ーズを示し、(a−1)は吸着部3の断面図、(a−
2)は吸着部3の上面図、(b−1)はベローズ1の断
面図、(b−2)はベローズ1の上面図で、図1と同一
符号は同一部分を示す。
【0049】(b)に示したベローズ1は従来から使用
されているものでゴム製のベローズ1の基部1aの内部
に導口2aを有する吸引基部部材2を挿入し、これを移
載アーム21の開口21bに着座させて上部開口部1b
を露呈させてある。
【0050】そして、上部径小部1bの上面を吸着面と
してガラス基板等を吸着固定できるように構成されてい
る。この上部径小部1bの端部内周には内方に突出した
部分を有している。
【0051】一方、吸着部3は導口3bを有し、上部に
吸着面3aをもつと共に径小開口部1bに係合する凹部
3cを形成した樹脂材料からなる。この吸着部3の凹部
3cは円周にわたって形成された溝からなり、上記した
ベローズ1の上部径小開口部1bを嵌合させて本実施例
の真空吸着パッドを構成する。
【0052】なお、ベローズ1の上部径小開口部1bと
吸着部3の凹部3cは当該ベローズ1の弾性で保持され
るが、両者の間に接着材を介在させて固定してもよい。
【0053】この実施例の構成により、従来のゴム製ベ
ローズ式の真空吸着パッド(ベローズ1と吸引基部部材
2とから構成される)をそのまま使用でき、ガラス基板
(あるいは、ウエハ等の薄板)を所定位置に吸着支持す
る位置吸収能力を向上させた真空吸着パッドを提供する
ことができる。
【0054】図5は本発明の真空吸着パッドの第3実施
例を説明する断面図であって、図1、図3と同一符号は
同一機能部分に対応する。なお、移載アームは図示を省
略した。
【0055】この実施例の真空吸着パッドは、移載アー
ム21の表面に開放した開口21bに着座する基部1a
と上部径小部1bを有するベローズ1と、ベローズ1の
基部1aを移載アーム21の開口21bに嵌合させると
共にその真空路21aとベローズの内部を連通する導口
2aをもつ吸引基部部材2と、ベローズ1の上部に有す
る径小開口部1bに係合する段差3eとベローズ1の内
部と当該ベローズ1の上方空間を連通する導口3bを有
すると共に開口部に吸着面3aをもつ吸着部3とから構
成される。
【0056】図6は図5に示した真空吸着パッドの詳細
構造の説明図であって、(a)は吸着部、(b)はベロ
ーズを示し、(a−1)は吸着部3の断面図、(a−
2)は吸着部3の上面図、(b−1)はベローズ1の断
面図、(b−2)はベローズ1の上面図で、図1と同一
符号は同一部分を示す。
【0057】(b)に示したベローズ1は従来から使用
されているものでゴム製のベローズ1の基部1aの内部
に導口2aを有する吸引基部部材2を挿入し、これを移
載アーム21の開口21bに着座させて上部開口部1b
を露呈させてある。
【0058】そして、上部径小開口部1bの上面を吸着
面としてガラス基板等を吸着固定できるように構成され
ている。この上部径小部1bの端部内周には接着面を有
している。
【0059】一方、吸着部3は導口3bを有し、上部に
吸着面3aをもつと共に径小開口部1bに係合する段差
3eを形成した樹脂材料からなる。この吸着部3の段差
に上記したベローズ1の上部径小開口部1bを接着して
本実施例の真空吸着パッドを構成する。
【0060】なお、ベローズ1の上部径小開口部1bと
吸着部3の段差3eは当該ベローズ1の弾性で保持する
ようにしてもよい。
【0061】この実施例の構成によっても、従来のゴム
製ベローズ式の真空吸着パッド(ベローズ1と吸引基部
部材2とから構成される)をそのまま使用でき、ガラス
基板(あるいは、ウエハ等の薄板)を所定位置に吸着支
持する位置吸収能力を向上させた真空吸着パッドを提供
することができる。
【0062】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
薄いガラス基板や半導体ウエハのように自重で撓むよう
な板体を確実に吸着して処理ステージ等の間で搬送でき
るようにした移載装置の移載アームを備える真空吸着パ
ッドを、従来から用いられているゴム製ベローズ式の真
空吸着パッドを利用できるため、ガラス基板やウエハ等
の板体を確実に保持して位置ずれや脱落を防止できると
共に、吸着跡を付けることがなく、位置吸収能力を向上
させた安価な真空吸着パッドを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の真空吸着パッドの第1実施例を説明す
る断面図である。
【図2】図1に示した真空吸着パッドの詳細構造の説明
図である。
【図3】本発明の真空吸着パッドの第2実施例を説明す
る断面図である。
【図4】図3に示した真空吸着パッドの詳細構造の説明
図である。
【図5】本発明の真空吸着パッドの第3実施例を説明す
る断面図である。
【図6】図5に示した真空吸着パッドの詳細構造の説明
図である。
【図7】吸着パッドを備えた移載装置を使用する製造装
置の一例としての液晶パネル製造ラインに設置されるレ
ジスト塗布装置の配置と動作を説明する概念図である。
【図8】図7の移載アームの構成の一例を説明する要部
構造図である。
【図9】大サイズのガラス基板を移載アームに載置した
ときの当該ガラス基板の撓み状態を説明する模式図であ
る。
【図10】吸着跡を残さない構造とした従来の真空吸着
パッドの1構成例の説明図である。
【図11】吸着跡を残さない構造とした従来の真空吸着
パッドの他の構成例の説明図である。
【図12】吸着跡を残さない構造とした従来の真空吸着
パッドのさらに他の構成例の説明図である。
【符号の説明】 1 ゴム製のベローズ 1a 基部 1b 径小開口部 2 吸引基部部材 2a 真空路 2b 吸引基部部材の導口 3 吸着部 3a 吸着面 3b 吸着部の導口 21 移載アーム 21a 真空路 21b 移載アームの開口。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野田 彰一 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 小泉 清秀 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】移載アームの内部に真空路を有し、この真
    空路に連通して前記移載アームの表面に開放した開口に
    少なくとも吸着面を露呈して設置してなる真空吸着パッ
    ドにおいて、 前記真空吸着パッドは、基部と上部径小開口部を有する
    ベローズとこのベローズの基部を前記移載アームの表面
    に開放した開口に嵌合すると共に前記真空路と前記ベロ
    ーズの内部を連通する導口をもつ吸引基部部材と、前記
    ベローズの上部に有する径小開口部に係合する凹部と前
    記ベローズの内部と当該ベローズの上方空間を連通する
    導口を有すると共に上部に吸着面をもつ樹脂材料からな
    る吸着部とから構成したことを特徴とする真空吸着パッ
    ド。
  2. 【請求項2】前記ベローズの上部に有する径小開口部の
    内周と前記吸着部の凹部外周とを前記ベローズの弾性で
    保持したことを特徴とする請求項1に記載の真空吸着パ
    ッド。
  3. 【請求項3】前記吸着部の凹部に溝を有し、前記ベロー
    ズの上部に有する径小開口部の内周と端縁を前記凹部の
    溝に係合したことを特徴とする請求項1に記載の真空吸
    着パッド。
  4. 【請求項4】移載アームの内部に真空路を有し、この真
    空路に連通して前記移載アームの表面に開放した開口に
    少なくとも吸着面を露呈して設置してなる真空吸着パッ
    ドにおいて、 前記真空吸着パッドは、基部と上部径小開口部を有する
    ベローズと前記ベローズの基部を前記移載アームの表面
    に開放した開口に嵌合すると共に前記真空路と前記ベロ
    ーズの内部を連通する導口をもつ吸引基部部材と、前記
    ベローズの上部に有する径小開口部の内面に接着する段
    差と前記ベローズの内部と当該ベローズの上方空間を連
    通する導口を有すると共に開口部に吸着面をもつ樹脂材
    料からなる吸着部とから構成したことを特徴とする真空
    吸着パッド。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007083322A (ja) * 2005-09-20 2007-04-05 Yaskawa Electric Corp 基板吸着装置、基板支持体、基板搬送装置、およびガラス基板搬送用ロボット。
JP2007313607A (ja) * 2006-05-26 2007-12-06 Ulvac Japan Ltd 真空吸着パッド
JP2008073788A (ja) * 2006-09-20 2008-04-03 Yaskawa Electric Corp 基板吸着装置およびそれを用いた基板搬送ロボット
JP2008282870A (ja) * 2007-05-08 2008-11-20 Mitsubishi Cable Ind Ltd 搬送アーム用パッド
JP2015013358A (ja) * 2013-07-08 2015-01-22 株式会社安川電機 吸着構造、ロボットハンドおよびロボット
AT16158U1 (de) * 2017-08-01 2019-02-15 Dkfm Fritz Kuchler Saugkopf
JP2022080587A (ja) * 2020-11-18 2022-05-30 有限会社サワ 吸着パッド

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007083322A (ja) * 2005-09-20 2007-04-05 Yaskawa Electric Corp 基板吸着装置、基板支持体、基板搬送装置、およびガラス基板搬送用ロボット。
JP4519743B2 (ja) * 2005-09-20 2010-08-04 株式会社安川電機 基板吸着装置、基板支持体、基板搬送装置、およびガラス基板搬送用ロボット。
JP2007313607A (ja) * 2006-05-26 2007-12-06 Ulvac Japan Ltd 真空吸着パッド
JP2008073788A (ja) * 2006-09-20 2008-04-03 Yaskawa Electric Corp 基板吸着装置およびそれを用いた基板搬送ロボット
JP2008282870A (ja) * 2007-05-08 2008-11-20 Mitsubishi Cable Ind Ltd 搬送アーム用パッド
JP2015013358A (ja) * 2013-07-08 2015-01-22 株式会社安川電機 吸着構造、ロボットハンドおよびロボット
AT16158U1 (de) * 2017-08-01 2019-02-15 Dkfm Fritz Kuchler Saugkopf
JP2022080587A (ja) * 2020-11-18 2022-05-30 有限会社サワ 吸着パッド

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