JPH11167246A - シリコーンゴムスポンジローラとその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 生産時に特別な低分子成分の除去等を行って
いない、低重合シロキサンおよび無官能シリコーンオイ
ルの濃度が１００００ｐｐｍ以上含まれている、加工性
の優れた、通常の市販品のシリコーンゴムコンパウンド
を使用して、特開平６−２５４３１号では不可能とされ
ていた、感光体を汚染することのない、シリコーンゴム
ローラとその製造方法を提供することを目的とする。 【構成】芯金と、この芯金の外周に配設され、低分子環
状シロキサンの４〜２０量体の総量が１００００ｐｐｍ
以上のシリコーンゴムを発泡させた後、低分子環状シロ
キサンの４〜２０量体の総量が５００ｐｐｍ以下になる
ように加熱処理されたシリコーンゴムスポンジとを具備
することを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複写機、ファクシ
ミリ、レーザービームプリンタ等の静電写真方式を利用
した装置に使用されるシリコーンゴムスポンジローラに
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、静電写真方式を利用した複写
機等の画像形成装置のプロセス機器は、感光体を帯電さ
せる帯電装置、感光体上に形成された静電潜像に応じて
トナーを付着させる現像装置、トナー像を記録媒体であ
る紙等に転写させる転写装置から形成されている。

【０００３】そして、これら画像形成装置である帯電装
置、現像装置、転写装置には、それぞれに感光体と直接
接触する帯電ローラ、現像ローラ、転写ローラといった
ゴムローラが使用されている。

【０００４】これらの画像形成装置に用いられるゴムロ
ーラは、直接感光体と接触するため、感光体に対する非
汚染性、耐環境変化安定性、耐歪み性等の厳しい条件が
要求されている。そして、このような厳しい条件を満足
するものとして、ウレタンゴム、シリコーンゴム、ＥＰ
ＤＭゴム等が知られている。

【０００５】これらゴムの中で特に耐環境変化安定性、
耐歪み性に優れているシリコーンゴムが、画像形成装置
用のローラ材料として注目され、検討が行われている
が、シリコーンゴム中には感光体を汚染する低重合のシ
ロキサンが含有されているため、画像形成装置のゴムロ
ーラとして使用するためには、特開平６−２５４３１号
に記載されているように、シリコーンゴムコンパウンド
中の低重合シロキサン及び無官能シリコーンオイルの濃
度が５０００ｐｐｍ以下である材料を成形し、更に真空
加熱処理や溶剤抽出を行い、シリコーンゴム中の感光体
汚染物質を除去しなければならず、このような処理を行
わないと感光体の汚染等が発生するため、特別なシリコ
ーンゴムコンパウンドを使用して、更に特殊な低分子成
分の除去処理を行わなければならず、シリコーンゴムは
画像形成装置用のローラとして使用するのは難しかっ
た。

【０００６】また、これらの画像形成装置用のローラ
は、シリコーンゴムの単層ローラではなく、２層、３層
の多層構造を持つ複合ローラとして、内層にシリコーン
ゴムを使用することも有るが、このような複合ローラの
場合でも、シリコーンゴム中の低分子成分が複合ローラ
の表面にブリードしてくるため、単層で使用する場合と
同様に、特別な材料を使用し、特殊な処理を行い、低分
子成分を除去しなければ、複合ローラの内層の材料とし
て使用できなかった。

【０００７】また、このような低分子成分を除去した、
感光体汚染のないシリコーンゴムローラを製造しようと
すると、シリコーンゴムコンパウンド中の低重合シロキ
サン及び無官能シリコーンオイルの濃度が５０００ｐｐ
ｍ以下である、特別に配合したシリコーンゴムコンパウ
ンドを使用しなければならないが、このようなシリコー
ンゴムコンパウンドは、減圧蒸留で低分子を除去しやす
いように、ゴムの流動性を良くする等、通常の市販のシ
リコーンゴムと違った、低分子の除去が効率よくでき
る、特殊な組成となっている。

【０００８】そのため、このようなシリコーンゴムは低
分子除去を最優先として組成が決められるために、通常
のローラ用のシリコーンゴムと比較すると、可塑度が低
いため加工性が悪く、ゴムだれがしやすい等の問題が有
り、ローラとしての成形加工が考慮された材料とは言え
なかった。

【０００９】また、このような低分子除去を行ったシリ
コーンゴムコンパウンドをローラに成形後、更に真空加
熱処理や、トルエン、アセトン、ヘキサン等の有機溶剤
による低分子の抽出除去といった特殊な処理が必要なた
め、特別な製造設備が必要となり、作業工程も複雑とな
ってしまう。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】そこで、上記問題を解
決し、生産時に特別な低分子成分の除去等を行っていな
い、低重合シロキサンおよび無官能シリコーンオイルの
濃度が１００００ｐｐｍ以上含まれている、加工性の優
れた、通常の市販品のシリコーンゴムコンパウンドを使
用して、特開平６−２５４３１号では不可能とされてい
た、感光体を汚染することのない、シリコーンゴムロー
ラとその製造方法を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決し、目
的を達成するために、本発明のシリコーンゴムスポンジ
ローラは、請求項１の記載によれば、芯金と、この芯金
の外周に配設され、低分子環状シロキサンの４〜２０量
体の総量が１００００ｐｐｍ以上のシリコーンゴムを発
泡させた後、低分子環状シロキサンの４〜２０量体の総
量が５００ｐｐｍ以下になるように加熱処理されたシリ
コーンゴムスポンジとを具備することを特徴としてい
る。

【００１２】また、本発明のシリコーンゴムスポンジロ
ーラは、請求項２の記載によれば、前記加熱処理温度が
１８０℃〜２３０℃であることを特徴としている。

【００１３】また、本発明のシリコーンゴムスポンジロ
ーラは、請求項３の記載によれば、前記加熱処理された
シリコーンゴムスポンジは、チューブ状に形成されて、
前記加熱処理後に前記芯金の外周に被覆されていること
を特徴としている。

【００１４】また、本発明のシリコーンゴムスポンジロ
ーラは、請求項４の記載によれば、発泡倍率が１．５〜
２．５倍で平均セル径が１５０〜３００μｍでアスカー
Ｃ硬度が２０゜〜６０゜であることを特徴としている。

【００１５】また、本発明のシリコーンゴムスポンジロ
ーラは、請求項５の記載によれば、最外層に配設された
離型層を更に具備することを特徴としている。

【００１６】また、本発明のシリコーンゴムスポンジロ
ーラの製造方法は、請求項６の記載によれば、低分子環
状シロキサンの４〜２０量体の総量が１００００ｐｐｍ
以上のシリコーンゴムを発泡させてシリコーンゴムスポ
ンジを形成する発泡工程と、低分子環状シロキサンの４
〜２０量体の総量が５００ｐｐｍ以下になるように、前
記シリコーンゴムスポンジを加熱処理する加熱工程とを
具備することを特徴としている。

【００１７】また、本発明のシリコーンゴムスポンジロ
ーラの製造方法は、請求項７の記載によれば、前記加熱
処理工程における加熱処理温度が１８０℃〜２３０℃で
あることを特徴としている。

【００１８】また、本発明のシリコーンゴムスポンジロ
ーラの製造方法は、請求項８の記載によれば、前記シリ
コーンゴムスポンジの発泡倍率が１．５〜２．５倍で平
均セル径が１５０〜３００μｍでアスカーＣ硬度が２０
゜〜６０゜であることを特徴としている。

【００１９】また、本発明のシリコーンゴムスポンジロ
ーラの製造方法は、請求項９の記載によれば、前記シリ
コーンゴムスポンジをチューブ状に成形する成形工程を
更に具備することを特徴としている。

【００２０】また、本発明のシリコーンゴムスポンジロ
ーラの製造方法は、請求項１０の記載によれば、前記加
熱処理工程終了後、前記シリコーンゴムスポンジチュー
ブを芯金の外周に被覆する被覆工程を更に具備すること
を特徴としている。

【００２１】また、本発明のシリコーンゴムスポンジロ
ーラの製造方法は、請求項１１の記載によれば、最外層
に離型層を被覆する離型層被覆工程を更に具備すること
を特徴としている。 〔発明の詳細な説明〕

【００２２】

【発明の概要】本願発明者は、シリコーンゴム中の低分
子環状シロキサンの除去について、各種の検討を行った
結果、シリコーンゴム中の低分子環状シロキサンを加熱
処理によって除去する場合、ゴムの厚みが低分子の除去
に大きく関わっている事を発見した。そして、シリコー
ンゴムを発泡させて、シリコーンゴム全体を薄い隔壁と
気泡の連続体とすれば、低分子シロキサンは薄い隔壁を
簡単に通り抜けてしまうので、従来のゴムローラでは、
ゴムの中から除去することができなかった低分子シロキ
サンを簡単に除去することができると考えた、そして、
市販の低分子シロキサンを多量に含有したシリコーンゴ
ムを、特定の条件のスポンジに成形し、熱処理を行うこ
とで、感光体を汚染することがない、シリコーンゴムス
ポンジローラとその製造技術を発明した。

【００２３】本発明について具体的に述べると、本発明
に使用するシリコーンゴムは、スポンジ成形する事を考
慮すると、可塑度が２４０〜３００のシリコーンゴムコ
ンパウンドが望ましい。可塑度が低いとゴムコンパウン
ドが柔らかいため、押し出し成形後にゴムだれが発生
し、加硫発泡前の成形品が変形してしまうのであまり望
ましくない。特に可塑度が２００以下と低くなると、ゴ
ムだれの問題のほかに、スポンジのセルが大きくなりや
すい傾向があり、均一で細かいセルを持ったスポンジへ
の加工が難しくなる。また、可塑度があまり高いと、ゴ
ムコンパウンドが硬いために、押出成形時に成形品の表
面が粗くなったり、押出加工を行った時に、設定どうり
の押出寸法にならなかったりするので、あまり可塑度が
高いゴムも望ましくない。

【００２４】また、画像形成装置用のゴムローラは、通
常は導電性なので、導電性のゴムコンパウンドで、抵抗
値として１０２〜１０１０Ωの範囲のものが必要となる
が、装置によって必要とする抵抗値が違ってくるので、
導電性のコンパウンドと絶縁性のコンパウンドを配合し
たり、導電性の充填剤を添加して適切な抵抗値となるよ
うに調整をする必要がある。

【００２５】そして、上記のように、可塑度と抵抗値を
調整したシリコーンゴムコンパウンドで、以下に述べる
特定の条件で発泡させる事のできるものであれば、従来
では汚染の問題で使用することができなかった、低分子
環状シロキサンの４〜２０量体の総量が１００００ｐｐ
ｍ以上のシリコーンゴムコンパウンドでも、本発明にお
いては問題なく使用することができる。

【００２６】このようなゴムコンパウンドを一次加硫で
発泡させて、スポンジを成形するが、ここで、低分子を
除去しやすいスポンジにするためには、スポンジの発泡
倍率（発泡前と発泡後の径の比率）、平均セル径、アス
カーＣ硬度が規定の数値を満足する必要がある。発泡倍
率は１．５〜２．５倍が好ましい。発泡倍率は１．５倍
より小さくなるとスポンジ内部の隔壁が厚くなり、低分
子シロキサンがうまく抜けなくなってしまうし、発泡倍
率が２．５倍をこえるとスポンジとしての強度が不足
し、セル破壊が発生し、ロールとしての性能を満足でき
なくなるので好ましくない。

【００２７】スポンジの平均セル径は１５０〜３００μ
ｍが好ましく、１５０μｍ以下ではスポンジ内部の隔壁
が厚くなり、低分子シロキサンがうまく抜けなくなって
しまうし、３００μｍをこえるとスポンジとしての強度
が不足して、セル破壊が発生し、ロールとしての性能を
満足できなくなるので好ましくない。

【００２８】スポンジの硬度は、アスカーＣ硬度で２０
゜〜６０゜が好ましい。硬度が２０゜より低いとスポン
ジとしての強度が不足するので、セル破壊が発生してし
まうし、硬度が６０゜をこえるとローラとして感光体接
触する部分のニップ幅が充分にとれなくなるので、ロー
ラとしての使用上好ましくない。

【００２９】上記のような条件を満たすように、一次加
硫を終了したスポンジは、一般に二次加硫として行われ
ている加熱処理の２〜３倍の時間にあたる、２４時間程
度の加熱処理を行うことで、低分子シロキサンによる感
光体汚染のないスポンジとなる。

【００３０】例えば、基になるゴムコンパウンド中の低
分子環状シロキサンの４〜２０量体の総量が約３０００
０ｐｐｍの場合、一次加硫後の低分子シロキサンの量は
約２００００ｐｐｍ程度となり、二次加硫をかねた２１
０℃の２４時間の加熱処理で、低分子環状シロキサンの
量を５００ｐｐｍ以下とすることができる。

【００３１】二次加硫をかねた加熱処理の温度として
は、１８０℃〜２３０℃が好ましい。１８０℃より低い
と、一次加硫の際にシリコーンゴム中で発生した、発泡
剤や加硫剤の副生成物の除去が充分にできず、ゴム中に
残留してしまったり、二次加硫が不十分となり、耐歪み
性が悪くなる等の不具合が発生するので好ましくない。
また、２３０℃より高いと、シリコーンゴムの熱劣化が
おきるので、２３０℃より高温での加熱処理は好ましく
ない。

【００３２】シリコンゴムスポンジローラの成形方法と
しては、芯金に押出成形で、ゴムコンパウンドを被覆し
て、金型に組込んで一次加硫した後、二次加硫としての
熱処理を行う方法や、金型に組込まずに一次加硫した後
に、二次加硫としての熱処理を行っても良く、一般のス
ポンジローラの加工法を用いることができる。

【００３３】そして、これら各種の成形法の中で、低分
子シロキサンを最も効率よく除去できる成形法は、押出
成形でスポンジチューブを製造し、スポンジチューブの
状態で二次加硫としての熱処理まで行ってから、スポン
ジチューブに芯金を挿入する方法である。

【００３４】なぜならば、低分子シロキサンは、一次加
硫や二次加硫の時に、芯金付きのスポンジローラの場合
は、ローラの外周面からしか揮発しないが、スポンジチ
ューブの場合は、チューブの外周面と内周面の両方から
揮発するので、芯金付きのスポンジローラより短時間
で、低分子シロキサンが除去できる。また、揮発面まで
の距離を考えると、外周面からしか揮発しない場合よ
り、外周面と内周面の両方から揮発する場合は、揮発面
から最も遠い低分子シロキサンまでの距離が半分となる
ので、より確実な低分子シロキサンの除去ができる。

【００３５】そして、このようにして、作成されたシリ
コーンゴムスポンジロールは、画像形成装置用のシリコ
ーンゴム単層ローラとして用いても良いし、表層にウレ
タン樹脂、ウレタンゴム、ナイロン樹脂等を被覆した、
複合ロールの内層として使用しても良い。

【００３６】なお、本発明中で行っている、環状低分子
シロキサンの４〜２０量体の測定は、シリコーンゴムを
細かく切断し、四塩化炭素で２４時間抽出し、ｎ−ウン
デカンを内部標準物質として加えたサンプルを、検出器
がＦＩＤのガスクロマトグラフィーで、昇温分析して測
定したものである。

【００３７】

【発明を実施する形態】以下に本発明の実施例と比較例
を具体的に説明する。

【００３８】実施例１ 環状低分子シロキサンの４〜２０量体の総量が１３５２
０ｐｐｍである、導電性のシリコーンゴムコンパウンド
（東レ・ダウコーニング・シリコーン社製ＤＹ３２−５
０４８Ｕ）１００部に、加硫剤のＲＤ−２４を３部、発
泡剤のＭＲ−３４を1部を混合した、次に外径が１０ｍ
ｍの芯金に押出成形で、外径が１７ｍｍとなるようにシ
リコーンゴムコンパウンドを被覆した。そして２００℃
で６０分間の一次加硫を行い、外径２１ｍｍのシリコー
ンゴムスポンジローラを得た。

【００３９】実施例２ 実施例１のゴム配合の発泡剤のＭＲ−３４の量を２部に
変更し、次に外径が１０ｍｍの芯金に押出成形で外径が
１５．５ｍｍとなるようにシリコーンゴムコンパウンド
を被覆した。そして２００℃で６０分間の一次加硫を行
い、外径２１ｍｍのシリコーンゴムスポンジローラを得
た。

【００４０】実施例３ 実施例１のゴム配合の発泡剤のＭＲ−３４の量を3部に
変更し、次に外径が１０ｍｍの芯金に押出成形で外径が
１５ｍｍとなるようにシリコーンゴムコンパウンドを被
覆した。そして２００℃で６０分間の一次加硫を行い、
外径２１．５ｍｍのシリコーンゴムスポンジローラを得
た。

【００４１】実施例４ 実施例１のゴム配合を利用して、押出成形で内径が１０
ｍｍで、外径が１７ｍｍのシリコーンチューブを押出
て、２００℃で６０分間の一次加硫を行い、内径が９ｍ
ｍで、外径２１ｍｍのシリコーンゴムスポンジチューブ
を得た。

【００４２】実施例５ 実施例２のゴム配合を利用して、押出成形で内径が１０
ｍｍで、外径が１５．５ｍｍのシリコーンチューブを押
出て、２００℃で６０分間の一次加硫を行い、内径が９
ｍｍで、外径２１ｍｍのシリコーンゴムスポンジチュー
ブを得た。

【００４３】実施例６ 実施例３のゴム配合を利用して、押出成形で内径が１０
ｍｍで、外径が１５ｍｍのシリコーンチューブを押出
て、２００℃で６０分間の一次加硫を行い、内径が９ｍ
ｍで、外径２１．５ｍｍのシリコーンゴムスポンジチュ
ーブを得た。

【００４４】上記の実施例１〜６のローラとスポンジチ
ューブの一次加硫後と、２１０℃で二次加硫としての加
熱処理を行った時の、１０時間後、２４時間後、４８時
間後の、低分子環状シロキサンの４〜２０量体の総量の
測定結果を表１に示す。

【００４５】

【表１】

【００４６】また、上記の実施例１〜６のローラとスポ
ンジチューブを、２１０℃で２４時間の２次加硫として
の加熱処理をした後、スポンジを輪切りにして、断面の
顕微鏡写真を撮影して、スポンジ内部の平均セル径を測
定した。また、アスカ−Ｃ硬度計の５００ｇ加重で測定
した硬度の測定結果を、発泡倍率とともに表２に示す。

【００４７】

【表２】

【００４８】表１の結果より、スポンジローラはスポン
ジチューブにくらべて、芯金が有るため、低分子環状シ
ロキサンの抜ける速度が遅いので、二次加硫まではスポ
ンジチューブで行い。二次加硫後にスポンジチューブに
芯金を挿入して、ローラを成形する方が、低分子環状シ
ロキサンを除去するのには有利なことがわかる。

【００４９】感光体の汚染との関係を調べるために、実
施例１〜６のローラとスポンジチューブを２１０℃で２
４時間、４８時間の２種類の二次加硫を行った後に、実
施例４〜６のスポンジチューブに芯金を挿入して、すべ
てのローラの外径を２０ｍｍに研削して、計１２本のス
ポンジローラを作製した。そして、キャノン社製のレー
ザーショットプリンタＡ３０９Ｇ〓の感光体にスポンジ
ローラを圧着して、３５℃で湿度８５％の恒温恒湿槽に
１６８時間入れて、感光体表面に汚染が生じるかをテス
トした。そして汚染がないものは○、少しでも表面に汚
染があるものは×として感光体表面の汚染性を評価し、
結果を表３に示す。

【００５０】

【表３】

【００５１】表３の結果より、低分子環状シロキサンの
４量体〜２０量体の総量が、５００ｐｐｍ以下になれ
ば、感光体の汚染を生じないことがわかる。なお、この
低分子環状シロキサンの４量体〜２０量体の総量が５０
０ｐｐｍ以下というのは、シリコーンゴム中の低分子シ
ロキサン成分全体の中で、低分子環状シロキサンの４量
体〜２０量体の総量を、シリコーンゴム中の低分子シロ
キサンの総量の代替え値としてとらえているものなの
で、４量体〜２０量体だけが除去できれば、感光体が汚
染されないという意味ではなく、４量体〜２０量体の総
量を５００ｐｐｍ以下にすれば、シリコーンゴム中に残
っている直鎖や環状の低分子シロキサンの総量が感光体
を汚染しない範囲まで除去できたるいう意味である。

【００５２】実施例７ 環状低分子シロキサンの４〜２０量体の総量が多い場合
を調べるため、４〜２０量体の総量が３３８６０ｐｐｍ
である、絶縁性のシリコーンゴムコンパウンド（信越化
学工業社製ＫＥ９０４ＦＵ）１００部に、加硫剤のＣ−
２を０．６部、Ｃ−３を３部、発泡剤のＫＥＰ−１３を
２．２部を混合した、次に外径が１０ｍｍの芯金に押出
成形で、外径が１５．５ｍｍとなるようにシリコーンゴ
ムコンパウンドを被覆した。そして２００℃で４０分間
の一次加硫を行い、外径２１ｍｍのシリコーンゴムスポ
ンジローラを得た。

【００５３】実施例８ 実施例７のゴム配合を利用して、押出成形で内径が１０
ｍｍで、外径が１５．５ｍｍのシリコーンチューブを押
出て、２００℃で４０分間の一次加硫を行い、内径が９
ｍｍで、外径２１ｍｍのシリコーンゴムスポンジチュー
ブを得た。

【００５４】比較例 実施例７のゴム配合から発泡剤のＫＥＰ−１３を抜い
て、次に外径が１０ｍｍの芯金に押出成形で、外径が２
１ｍｍとなるようにシリコーンゴムコンパウンドを被覆
した。そして２００℃で４０分間の一次加硫を行い、外
径２１ｍｍで、ＪＩＳ Ａ 硬度が４７゜のシリコーン
ゴムローラを得た。

【００５５】上記の実施例７のローラと、比較例のロー
ラと、実施例８のスポンジチューブの一次加硫後と、２
１０℃で二次加硫としての加熱処理を行った時の、１０
時間後、２４時間後、４８時間後の、低分子環状シロキ
サンの４〜２０量体の総量の測定結果を表４に示す。

【００５６】

【表４】

【００５７】また、上記の実施例７のローラと実施例８
のスポンジチューブを、２１０℃で２４時間の２次加硫
としての加熱処理をした後、スポンジを輪切りにして、
断面の顕微鏡写真を撮影して、スポンジ内部の平均セル
径を測定した。また、アスカ−Ｃ硬度計の５００ｇ加重
で測定した硬度の測定結果を、発泡倍率とともに表５に
示す。

【００５８】

【表５】

【００５９】表４の結果より、ゴムコンパウンド中に４
〜２０量体の低分子環状シロキサンが３００００ｐｐｍ
以上含まれていると、スポンジローラは芯金が有るため
に、４８時間の熱処理でも充分に低分子シロキサンが除
去できなかったが、スポンジチューブは２４時間で感光
体の汚染が発生しない量まで除去できた。また、比較例
として発泡させず、通常のゴムローラとして加硫させた
結果、４８時間の二次加硫を行っても９０００ｐｐｍの
環状シロキサンが残っており、特定の条件で発泡させる
ことが、低分子シロキサンの除去に絶大な効果があるこ
とがわかる。

【００６０】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、ゴムコン
パウンド中に４〜２０量体の低分子環状シロキサンが３
００００ｐｐｍ以上含まれていても、それを特定条件の
スポンジに加工して、熱処理することで、簡単に低分子
シロキサンを除去することができるため、従来から使用
されていた、低分子シロキサンを除去したゴムコンパウ
ンドを使用する必要がなく、低分子シロキサンの含有量
の問題で、従来では使えなかったシリコーンゴムコンパ
ウンドが自由に使用できるので、各種ゴムコンパウンド
を選択配合することで、スポンジローラにさまざまな特
性をもたすことができる。また、低分子の除去が熱処理
だけでできるので、真空加熱処理や溶剤抽出等の特殊な
設備も必要とせずに、単層ローラや複合ロールの内層に
使用しても、感光体を汚染することのないシリコーンゴ
ムスポンジローラを製造する技術が提供されることにな
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｂ３２Ｂ 25/20 Ｂ３２Ｂ 25/20 Ｆ１６Ｃ 13/00 Ｆ１６Ｃ 13/00 Ａ Ｇ０３Ｇ 15/08 ５０１ Ｇ０３Ｇ 15/08 ５０１Ｄ 15/16 １０３ 15/16 １０３ 15/20 １０３ 15/20 １０３ // Ｂ２９Ｋ 83:00

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】芯金と、この芯金の外周に配設され、低分
   子環状シロキサンの４〜２０量体の総量が１００００ｐ
   ｐｍ以上のシリコーンゴムを発泡させた後、低分子環状
   シロキサンの４〜２０量体の総量が５００ｐｐｍ以下に
   なるように加熱処理されたシリコーンゴムスポンジとを
   具備することを特徴とするシリコーンゴムスポンジロー
   ラ。
2. 【請求項２】前記加熱処理温度が１８０℃〜２３０℃で
   あることを特徴とする請求項１記載のシリコーンゴムス
   ポンジローラ。
3. 【請求項３】前記加熱処理されたシリコーンゴムスポン
   ジは、チューブ状に形成されて、前記加熱処理後に前記
   芯金の外周に被覆されていることを特徴とする請求項１
   又は２に記載のシリコーンゴムスポンジローラ。
4. 【請求項４】前記シリコーンゴムスポンジの発泡倍率が
   １．５〜２．５倍で平均セル径が１５０〜３００μｍで
   アスカーＣ硬度が２０゜〜６０゜であることを特徴とす
   る請求項１乃至３の何れか１項に記載のシリコーンゴム
   スポンジローラ。
5. 【請求項５】最外層に配設された離型層を更に具備する
   ことを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の
   シリコーンゴムスポンジローラ。
6. 【請求項６】低分子環状シロキサンの４〜２０量体の総
   量が１００００ｐｐｍ以上のシリコーンゴムを発泡させ
   てシリコーンゴムスポンジを形成する発泡工程と、低分
   子環状シロキサンの４〜２０量体の総量が５００ｐｐｍ
   以下になるように、前記シリコーンゴムスポンジを加熱
   処理する加熱工程とを具備することを特徴とするシリコ
   ーンゴムスポンジローラの製造方法。
7. 【請求項７】前記加熱工程における加熱処理温度が１８
   ０℃〜２３０℃であることを特徴とする請求項６載のシ
   リコーンゴムスポンジローラの製造方法。
8. 【請求項８】前記シリコーンゴムスポンジの発泡倍率が
   １．５〜２．５倍で平均セル径が１５０〜３００μｍで
   アスカーＣ硬度が２０゜〜６０゜であることを特徴とす
   る請求項６又は７に記載のシリコーンゴムスポンジロー
   ラの製造方法。
9. 【請求項９】前記シリコーンゴムスポンジをチューブ状
   に成形する成形工程を更に具備することを特徴とする請
   求項６乃至８の何れか１項に記載のシリコーンゴムスポ
   ンジローラの製造方法。
10. 【請求項１０】前記加熱処理工程終了後、前記シリコー
    ンゴムスポンジチューブを芯金の外周に被覆する被覆工
    程を更に具備することを特徴とする請求項９に記載のシ
    リコーンゴムスポンジローラの製造方法。
11. 【請求項１１】最外層に離型層を被覆する離型層被覆工
    程を更に具備することを特徴とする請求項６乃至１０の
    何れか１項に記載のシリコーンゴムスポンジローラの製
    造方法。