JPH11163092A - ワーク直線移動装置 - Google Patents
ワーク直線移動装置Info
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- JPH11163092A JPH11163092A JP9337934A JP33793497A JPH11163092A JP H11163092 A JPH11163092 A JP H11163092A JP 9337934 A JP9337934 A JP 9337934A JP 33793497 A JP33793497 A JP 33793497A JP H11163092 A JPH11163092 A JP H11163092A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 パーティクルが発生し難く、設置スペースを
小さくする。 【解決手段】 イオン注入チャンバ３４にて基板１０を
転回可能に保持する把持部１２を有し、この把持部１２
を前記チャンバ３４の側部に形成したサイドチャンバ３
６に配置した直線移動機構により昇降させることで、イ
オンビームラインを横断する方向に基板を直線移動させ
る装置である。この発明では、前記直線移動機構を固定
基部と前記把持部とを連結する一対の平行リンク機構１
８により形成するとともに、当該平行リンク機構同士を
連結する関節ブロック２０には各リンクの主回転節を巻
掛けベルト３２により連結して回転伝達を行わせ、前記
固定部における主回転節には回転駆動機構を設けた。
小さくする。 【解決手段】 イオン注入チャンバ３４にて基板１０を
転回可能に保持する把持部１２を有し、この把持部１２
を前記チャンバ３４の側部に形成したサイドチャンバ３
６に配置した直線移動機構により昇降させることで、イ
オンビームラインを横断する方向に基板を直線移動させ
る装置である。この発明では、前記直線移動機構を固定
基部と前記把持部とを連結する一対の平行リンク機構１
８により形成するとともに、当該平行リンク機構同士を
連結する関節ブロック２０には各リンクの主回転節を巻
掛けベルト３２により連結して回転伝達を行わせ、前記
固定部における主回転節には回転駆動機構を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ワークを直線的に
昇降させあるいは横行させるためのワーク直線移動装置
に係り、特に真空容器内などにおいて基板ガラスにイオ
ンビームを照射させるのに好適なワーク直線移動装置に
関する。
昇降させあるいは横行させるためのワーク直線移動装置
に係り、特に真空容器内などにおいて基板ガラスにイオ
ンビームを照射させるのに好適なワーク直線移動装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハやガラス基板などに薄膜を
形成したり、これをエッチングしたりする場合、半導体
ウエハやガラス基板が導体でないところから、静電気力
を利用した静電チャックがしばしば用いられる。この静
電チャックは、絶縁体に内蔵させた電極に高圧の直流電
圧を印加して絶縁体を分極させ、この分極により生じた
静電引力により半導体ウエハやガラス基板などのワーク
を吸着固定するようになっている。
形成したり、これをエッチングしたりする場合、半導体
ウエハやガラス基板が導体でないところから、静電気力
を利用した静電チャックがしばしば用いられる。この静
電チャックは、絶縁体に内蔵させた電極に高圧の直流電
圧を印加して絶縁体を分極させ、この分極により生じた
静電引力により半導体ウエハやガラス基板などのワーク
を吸着固定するようになっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、近年、半導
体ウエハやガラス基板を立てた状態で成膜やエッチング
などの処理をすることが多くなってきており、静電チャ
ックを使用した場合、ワークを立てた状態で固定保持す
るために、非常に高い電圧を電極に印加する必要があ
り、絶縁等の面で問題を生ずる。しかも、近年は、ワー
クの大型化に伴ってワーク重量の増大が著しく、実質的
に静電チャックを使用することができない。また、近年
は、ワークを立てた状態で上下方向等に移動させてエッ
チング処理等をするようになっており、従来の静電チャ
ックでは構造が複雑で、これらの要求に対応することが
できない。特に大型化の著しいガラス基板は、一般に水
平なベース上に配置し、ベースを一方向に往復移動させ
ることによってビームを照射してエッチングなどを行っ
ている。ところが、大きなガラス基板を水平方向に移動
させるため、広い設置スペースを必要とする。また、ガ
ラス基板は、大型化されてきているだけでなく、ガラス
基板の薄肉化が進展し、薄く割れやすいガラス基板を真
空容器中で立てて保持することが容易でない。
体ウエハやガラス基板を立てた状態で成膜やエッチング
などの処理をすることが多くなってきており、静電チャ
ックを使用した場合、ワークを立てた状態で固定保持す
るために、非常に高い電圧を電極に印加する必要があ
り、絶縁等の面で問題を生ずる。しかも、近年は、ワー
クの大型化に伴ってワーク重量の増大が著しく、実質的
に静電チャックを使用することができない。また、近年
は、ワークを立てた状態で上下方向等に移動させてエッ
チング処理等をするようになっており、従来の静電チャ
ックでは構造が複雑で、これらの要求に対応することが
できない。特に大型化の著しいガラス基板は、一般に水
平なベース上に配置し、ベースを一方向に往復移動させ
ることによってビームを照射してエッチングなどを行っ
ている。ところが、大きなガラス基板を水平方向に移動
させるため、広い設置スペースを必要とする。また、ガ
ラス基板は、大型化されてきているだけでなく、ガラス
基板の薄肉化が進展し、薄く割れやすいガラス基板を真
空容器中で立てて保持することが容易でない。
【０００４】また、基板などの表面処理に際して昇降操
作等の駆動機構からの発塵が処理室に影響することは好
ましくなく、そのための摺動機構などの発塵要素を有し
ない移動機構が望まれていた。
作等の駆動機構からの発塵が処理室に影響することは好
ましくなく、そのための摺動機構などの発塵要素を有し
ない移動機構が望まれていた。
【０００５】本発明は、前記従来技術の欠点を解消する
ためになされたもので、設置スペースを小さくしつつ、
ワークの直線移動ができるようにできるワーク直線移動
装置を提供することを目的としている。また、ワークの
直線移動に際して摺動部が極力少なく、もって基板ガラ
スなどクリーンな状態で表面処理する場合に発塵による
影響の極めて少ない構造とした基板表面処理装置に適用
するのに好適な装置を得ることを目的としている。
ためになされたもので、設置スペースを小さくしつつ、
ワークの直線移動ができるようにできるワーク直線移動
装置を提供することを目的としている。また、ワークの
直線移動に際して摺動部が極力少なく、もって基板ガラ
スなどクリーンな状態で表面処理する場合に発塵による
影響の極めて少ない構造とした基板表面処理装置に適用
するのに好適な装置を得ることを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明に係るワーク直線移動装置は、一対の平行
リンク機構を中間の関節ブロックに連結した屈曲アーム
機構を構成し、当該屈曲アーム機構の一端にワーク把持
部を形成するとともに他端を固定基部に枢着してなり、
前記関節ブロックにおける両リンク機構の回転節同士を
巻掛けベルトにより連結して回転伝達させることにより
先端ワーク把持部を直線移動可能としたものである。こ
の場合において、前記巻掛けベルトは各回転節にＳ字に
巻掛けつつ両端部を回転節に固定するようにし、前記ワ
ーク把持部は回転アクチュエータによりワークを水平、
垂直位置を取り得るようにすることが望ましい。
めに、本発明に係るワーク直線移動装置は、一対の平行
リンク機構を中間の関節ブロックに連結した屈曲アーム
機構を構成し、当該屈曲アーム機構の一端にワーク把持
部を形成するとともに他端を固定基部に枢着してなり、
前記関節ブロックにおける両リンク機構の回転節同士を
巻掛けベルトにより連結して回転伝達させることにより
先端ワーク把持部を直線移動可能としたものである。こ
の場合において、前記巻掛けベルトは各回転節にＳ字に
巻掛けつつ両端部を回転節に固定するようにし、前記ワ
ーク把持部は回転アクチュエータによりワークを水平、
垂直位置を取り得るようにすることが望ましい。
【０００７】また、イオン注入チャンバにて基板を転回
可能に保持する把持部を有し、この把持部を前記チャン
バの側部に形成したサイドチャンバに設けた直線移動機
構により昇降させることで、イオンビームラインを横断
する方向に基板を直線移動させる装置であって、前記直
線移動機構を固定基部と前記把持部とを連結する一対の
平行リンク機構により形成するとともに、当該平行リン
ク機構同士を連結する関節ブロックには各リンクの主回
転節を巻掛けベルトにより連結して回転伝達を行わせ、
前記固定部における主回転節には回転駆動機構を設けた
構成とすることができる。
可能に保持する把持部を有し、この把持部を前記チャン
バの側部に形成したサイドチャンバに設けた直線移動機
構により昇降させることで、イオンビームラインを横断
する方向に基板を直線移動させる装置であって、前記直
線移動機構を固定基部と前記把持部とを連結する一対の
平行リンク機構により形成するとともに、当該平行リン
ク機構同士を連結する関節ブロックには各リンクの主回
転節を巻掛けベルトにより連結して回転伝達を行わせ、
前記固定部における主回転節には回転駆動機構を設けた
構成とすることができる。
【０００８】
【作用】上記のごとく構成した本発明に係るワーク直線
移動装置は、ガラス基板などのワークが水平位置にある
ベースの上面に配置されると、これを把持手段によって
ベースに把持固定したのち、回動手段によって回動させ
ることにより、表面処理のためのビーム照射ラインと基
板面が直交するように配置する。そして、駆動手段によ
って固定基部側の第１の平行リンク機構を揺動駆動さ
せ、関節ブロックを介して連結されている第２の平行リ
ンク機構に巻掛けベルトを通じて作用を伝達することで
屈曲アーム機構の先端に設けている把持手段は直線移動
する。この移動方向はビーム方向と直交しているので、
ビーム照射は基板ワークの全面に行われ、表面処理が完
了する。ワークを固定した把持部が上下方向に移動する
ため、ワークが大型のガラス基板などであったとしても
処理のための駆動スペースを小さくすることができる。
しかも、処理チャンバの側部に設けたサイドチャンバに
主たる駆動機構を配置し、しかも関節ブロックでの上下
平行リンクを端部が固着されたベルトにより回転伝達す
るようにして摺動部がないようにしているので、摺動部
の発塵によるチャンバ内の汚染を防ぐことができる。
移動装置は、ガラス基板などのワークが水平位置にある
ベースの上面に配置されると、これを把持手段によって
ベースに把持固定したのち、回動手段によって回動させ
ることにより、表面処理のためのビーム照射ラインと基
板面が直交するように配置する。そして、駆動手段によ
って固定基部側の第１の平行リンク機構を揺動駆動さ
せ、関節ブロックを介して連結されている第２の平行リ
ンク機構に巻掛けベルトを通じて作用を伝達することで
屈曲アーム機構の先端に設けている把持手段は直線移動
する。この移動方向はビーム方向と直交しているので、
ビーム照射は基板ワークの全面に行われ、表面処理が完
了する。ワークを固定した把持部が上下方向に移動する
ため、ワークが大型のガラス基板などであったとしても
処理のための駆動スペースを小さくすることができる。
しかも、処理チャンバの側部に設けたサイドチャンバに
主たる駆動機構を配置し、しかも関節ブロックでの上下
平行リンクを端部が固着されたベルトにより回転伝達す
るようにして摺動部がないようにしているので、摺動部
の発塵によるチャンバ内の汚染を防ぐことができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明に係るワーク直線移動装置
の具体的実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。
図１は基板のイオンビーム照射処理装置に適用した実施
の形態に係るワーク直線移動装置の側面図であり、図２
は斜視図、図３は平面構成図である。図示のように、こ
のワーク直線移動装置は、基板１０の把持部１２を先端
に備えた屈曲アーム機構１４を固定基部ベース１６に立
設させている。屈曲アーム機構１４は上下一対の平行リ
ンク機構１８Ｕ、１８Ｄからなり、これらは中間の関節
ブロック２０に枢着されている。
の具体的実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。
図１は基板のイオンビーム照射処理装置に適用した実施
の形態に係るワーク直線移動装置の側面図であり、図２
は斜視図、図３は平面構成図である。図示のように、こ
のワーク直線移動装置は、基板１０の把持部１２を先端
に備えた屈曲アーム機構１４を固定基部ベース１６に立
設させている。屈曲アーム機構１４は上下一対の平行リ
ンク機構１８Ｕ、１８Ｄからなり、これらは中間の関節
ブロック２０に枢着されている。
【００１０】各平行リンク機構１８（１８Ｕ、１８Ｄ）
は同一サイズ構成となっており、各々メインリンク２２
とサブリンク２４を同一長さとしてこれを平行に配置
し、各リンク２２、２４（上下を付記号Ｕ、Ｄで区別す
る）の端部同士を同長のリンクにより結合することによ
り、平行リンクとして機能するように構成している。す
なわち、下部リンク機構１８Ｄの下端は固定基部ベース
１６にメインリンク２２とサブリンク２４の回転中心が
水平直線上に位置するように枢着し、それらの上端の回
転節間距離が関節ブロック２０に対しても同長となるよ
うに枢着している。これにより下部平行リンク機構１８
Ｄが揺動された場合、関節ブロック２０は水平を維持し
たまま揺動される。また、上部リンク機構１８Ｕの下端
は関節ブロック２０に枢着され、そのメインリンク２２
とサブリンク２４の回転節の距離は下部平行リンク機構
１８Ｄの上端リンク長に一致し、かつ平行となるように
設定されている。そして上部平行リンク機構１８Ｕの上
端部には補助リンク２６が設けられ、このリンク長さを
関節ブロック２０側の回転節間距離に一致させること
で、平行リンクを構成させている。
は同一サイズ構成となっており、各々メインリンク２２
とサブリンク２４を同一長さとしてこれを平行に配置
し、各リンク２２、２４（上下を付記号Ｕ、Ｄで区別す
る）の端部同士を同長のリンクにより結合することによ
り、平行リンクとして機能するように構成している。す
なわち、下部リンク機構１８Ｄの下端は固定基部ベース
１６にメインリンク２２とサブリンク２４の回転中心が
水平直線上に位置するように枢着し、それらの上端の回
転節間距離が関節ブロック２０に対しても同長となるよ
うに枢着している。これにより下部平行リンク機構１８
Ｄが揺動された場合、関節ブロック２０は水平を維持し
たまま揺動される。また、上部リンク機構１８Ｕの下端
は関節ブロック２０に枢着され、そのメインリンク２２
とサブリンク２４の回転節の距離は下部平行リンク機構
１８Ｄの上端リンク長に一致し、かつ平行となるように
設定されている。そして上部平行リンク機構１８Ｕの上
端部には補助リンク２６が設けられ、このリンク長さを
関節ブロック２０側の回転節間距離に一致させること
で、平行リンクを構成させている。
【００１１】ここで、上下平行リンク機構１８Ｕ、１８
Ｄは関節ブロック２０を共通にしているが、下部平行リ
ンク機構１８Ｄのメインリンク２２の下端回転節には、
図２に示しているように、駆動モータ２８が連結されて
回転可能とされている。また、関節ブロック２０におけ
る上下メインリンク２２Ｕ、２２Ｄの回転節にはプーリ
３０Ｕ、３０Ｄが取り付けられ、これにベルト３２がク
ロス巻き掛けとなるようにＳ字状に巻き付け、下部平行
リンク機構１８Ｄの駆動操作を上部平行リンク機構１８
Ｕに反対回転をなすように伝達している。巻掛けベルト
３２は滑りがなければ無端ベルト構造としてもよく、歯
付きベルトにより構成することもできるが、実施形態で
は、ベルト端部をプーリ３０Ｕ、３０Ｄに固着してい
る。これにより下部平行リンク機構１８Ｄが図１おいて
上端を左右に揺動駆動させると、この駆動操作に伴って
上部平行リンク機構１８Ｕが反対方向に同一寸法分だけ
揺動する。この結果、中間の関節ブロック２０を挟んで
上下に設けた一対の平行リンク機構１８Ｕ、１８Ｄから
なる屈曲アーム機構１４は屈曲動作をしつつ、上端の把
持部１２は垂直方向に直線運動をなすことができるので
ある。
Ｄは関節ブロック２０を共通にしているが、下部平行リ
ンク機構１８Ｄのメインリンク２２の下端回転節には、
図２に示しているように、駆動モータ２８が連結されて
回転可能とされている。また、関節ブロック２０におけ
る上下メインリンク２２Ｕ、２２Ｄの回転節にはプーリ
３０Ｕ、３０Ｄが取り付けられ、これにベルト３２がク
ロス巻き掛けとなるようにＳ字状に巻き付け、下部平行
リンク機構１８Ｄの駆動操作を上部平行リンク機構１８
Ｕに反対回転をなすように伝達している。巻掛けベルト
３２は滑りがなければ無端ベルト構造としてもよく、歯
付きベルトにより構成することもできるが、実施形態で
は、ベルト端部をプーリ３０Ｕ、３０Ｄに固着してい
る。これにより下部平行リンク機構１８Ｄが図１おいて
上端を左右に揺動駆動させると、この駆動操作に伴って
上部平行リンク機構１８Ｕが反対方向に同一寸法分だけ
揺動する。この結果、中間の関節ブロック２０を挟んで
上下に設けた一対の平行リンク機構１８Ｕ、１８Ｄから
なる屈曲アーム機構１４は屈曲動作をしつつ、上端の把
持部１２は垂直方向に直線運動をなすことができるので
ある。
【００１２】このような装置は、図３に示しているよう
に、処理室を構成するメインチャンバ３４と隔壁によっ
て仕切られているサブチャンバ３６内に配設され、サブ
チャンバ３６内のパーティクルなどが容易にメインチャ
ンバ３４に侵入しないようにしてある。そして、メイン
チャンバ３４にはプラテン３８が配設してあって（図２
参照）、直線移動装置の把持部１２によりプラテン３８
を介してワークであるガラス基板１０を掴ませるように
している。把持された基板１０は直線移動装置により、
イオンビーム３９を通過横断するように移動させること
で、ガラス基板１０に成膜やエッチング等の処理を行う
ことができるようにしてある。
に、処理室を構成するメインチャンバ３４と隔壁によっ
て仕切られているサブチャンバ３６内に配設され、サブ
チャンバ３６内のパーティクルなどが容易にメインチャ
ンバ３４に侵入しないようにしてある。そして、メイン
チャンバ３４にはプラテン３８が配設してあって（図２
参照）、直線移動装置の把持部１２によりプラテン３８
を介してワークであるガラス基板１０を掴ませるように
している。把持された基板１０は直線移動装置により、
イオンビーム３９を通過横断するように移動させること
で、ガラス基板１０に成膜やエッチング等の処理を行う
ことができるようにしてある。
【００１３】前記サブチャンバ３６には、上述した屈曲
アーム機構１４を含む移動装置の主要部が配置されてい
る。すなわち、サブチャンバ３６からメインチャンバ３
４への開口部は把持部１２から伸びてプラテン３８に連
繋される回転シャフト４０の昇降を許容しており、この
昇降されるシャフト４０以外はサブチャンバ３６に内在
するようにしている。回転シャフト４０は９０度の範囲
で回転して基板１０を水平状態と表面処理のための垂直
した状態の２形態を取り得るようになっている。このた
めシャフト４０の回転機構が屈曲アーム機構１４の上端
に設けた把持部１２を構成している昇降ブロックに内蔵
され、これをアクチュエータ４２により駆動してプラテ
ン３８を選択的に回転操作するようにしている。
アーム機構１４を含む移動装置の主要部が配置されてい
る。すなわち、サブチャンバ３６からメインチャンバ３
４への開口部は把持部１２から伸びてプラテン３８に連
繋される回転シャフト４０の昇降を許容しており、この
昇降されるシャフト４０以外はサブチャンバ３６に内在
するようにしている。回転シャフト４０は９０度の範囲
で回転して基板１０を水平状態と表面処理のための垂直
した状態の２形態を取り得るようになっている。このた
めシャフト４０の回転機構が屈曲アーム機構１４の上端
に設けた把持部１２を構成している昇降ブロックに内蔵
され、これをアクチュエータ４２により駆動してプラテ
ン３８を選択的に回転操作するようにしている。
【００１４】上記のごとく構成した実施の形態に係るワ
ーク直線移動装置の作用は、次のようになる。屈曲アー
ム１４を折り畳んだ状態でガラス基板１０が供給されて
くるのを待つ。これは図３の搬送装置４４によって図示
しない領域の格納部からガラス基板１０を取り出して、
プラテン３８に渡す。このとき、プラテン３８を水平状
態にして待機しておけばよい。ガラス基板１０を受け取
った装置は、駆動モータ２８を作動して下部平行リンク
機構１８Ｄを図１の左方に揺動駆動させる。これにより
関節ブロック２０が左方に移動するが、当該関節ブロッ
ク２０に軸支されている上下平行リンク機構１８のプー
リ３０には巻掛けベルト３２が巻き付けてあるので、同
じような動作が上部平行リンク機構１８Ｕに伝達され
る。ベルト３２は反対方向に回転させるように伝えるの
で、上部平行リンク機構１８Ｕは逆に上端の把持部１２
を右方に揺動させるように駆動が伝達される。同一サイ
ズの平行リンク機構１８が直列に接続されているため、
先端把持部１２は垂直線に沿って上昇し、固定領域でビ
ーム３９束が把持された基板１０の表面に照射させるよ
うに横断移動する。
ーク直線移動装置の作用は、次のようになる。屈曲アー
ム１４を折り畳んだ状態でガラス基板１０が供給されて
くるのを待つ。これは図３の搬送装置４４によって図示
しない領域の格納部からガラス基板１０を取り出して、
プラテン３８に渡す。このとき、プラテン３８を水平状
態にして待機しておけばよい。ガラス基板１０を受け取
った装置は、駆動モータ２８を作動して下部平行リンク
機構１８Ｄを図１の左方に揺動駆動させる。これにより
関節ブロック２０が左方に移動するが、当該関節ブロッ
ク２０に軸支されている上下平行リンク機構１８のプー
リ３０には巻掛けベルト３２が巻き付けてあるので、同
じような動作が上部平行リンク機構１８Ｕに伝達され
る。ベルト３２は反対方向に回転させるように伝えるの
で、上部平行リンク機構１８Ｕは逆に上端の把持部１２
を右方に揺動させるように駆動が伝達される。同一サイ
ズの平行リンク機構１８が直列に接続されているため、
先端把持部１２は垂直線に沿って上昇し、固定領域でビ
ーム３９束が把持された基板１０の表面に照射させるよ
うに横断移動する。
【００１５】このように、実施の形態においては、ビー
ム３９へ照射させるガラス基板１０を搬送装置４４から
水平状態で受け取り、これを垂直になるように転回し
て、しかる後に屈曲アーム機構１４によって１直線に沿
って昇降させることができる。このため、ビーム３９の
照射のために水平移動させる必要がなくなるため、水平
距離の確保がいらず、駆動スペースを小さくすることが
できる。また、昇降手段として上下一対の平行リンク機
構１８を採用し、上下リンクを巻掛けベルト３２により
連結するようにしているため、装置には直線摺動機構部
が無くなり、これにより特に基板へイオンビーム３９を
照射するようなパーティクルの付着を嫌う装置への適用
がよい。サブチャンバ３６を隔壁によってメインチャン
バ３４から区画したことにより、サブチャンバ３６内に
生じたパーティクルなどによるメインチャンバ３４の汚
染を最小限にすることができる。
ム３９へ照射させるガラス基板１０を搬送装置４４から
水平状態で受け取り、これを垂直になるように転回し
て、しかる後に屈曲アーム機構１４によって１直線に沿
って昇降させることができる。このため、ビーム３９の
照射のために水平移動させる必要がなくなるため、水平
距離の確保がいらず、駆動スペースを小さくすることが
できる。また、昇降手段として上下一対の平行リンク機
構１８を採用し、上下リンクを巻掛けベルト３２により
連結するようにしているため、装置には直線摺動機構部
が無くなり、これにより特に基板へイオンビーム３９を
照射するようなパーティクルの付着を嫌う装置への適用
がよい。サブチャンバ３６を隔壁によってメインチャン
バ３４から区画したことにより、サブチャンバ３６内に
生じたパーティクルなどによるメインチャンバ３４の汚
染を最小限にすることができる。
【００１６】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明のワーク
直線移動装置によれば、一対の平行リンク機構を中間の
関節ブロックに連結した屈曲アーム機構を構成し、当該
屈曲アーム機構の一端にワーク把持部を形成するととも
に他端を固定基部に枢着してなり、前記関節ブロックに
おける両リンク機構の回転節同士を巻掛けベルトにより
連結して回転伝達させることにより先端ワーク把持部を
直線移動可能としたので、直線摺動機構を持つことなく
ワークを直線移動でき、パーティクルの発生防止効果が
高く、これにより半導体基板などの表面処理する場合の
真空容器内での昇降に極めて有効な機構なる。モータな
どの回動手段をメインチャンバの外部に設置することが
できるため、回動手段による容器内の汚染を防ぐことが
できる。
直線移動装置によれば、一対の平行リンク機構を中間の
関節ブロックに連結した屈曲アーム機構を構成し、当該
屈曲アーム機構の一端にワーク把持部を形成するととも
に他端を固定基部に枢着してなり、前記関節ブロックに
おける両リンク機構の回転節同士を巻掛けベルトにより
連結して回転伝達させることにより先端ワーク把持部を
直線移動可能としたので、直線摺動機構を持つことなく
ワークを直線移動でき、パーティクルの発生防止効果が
高く、これにより半導体基板などの表面処理する場合の
真空容器内での昇降に極めて有効な機構なる。モータな
どの回動手段をメインチャンバの外部に設置することが
できるため、回動手段による容器内の汚染を防ぐことが
できる。
【図１】本発明の実施の形態に係るワーク直線移動装置
の側面図である。
の側面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係るワーク直線移動装置
の斜視図である。
の斜視図である。
【図３】実施の形態に係るワーク直線移動装置の平面図
である。
である。
１０ ガラス基板 １２ 把持部 １４ 屈曲アーム機構 １６ 固定基部ベース １８Ｕ，１８Ｄ 平行リンク機構 ２０ 関節ブロック ２２ メインリンク ２４ サブリンク ２６ 補助リンク ２８ 駆動モータ ３０Ｕ，３０Ｄ プーリ ３２ 巻掛けベルト ３４ メインチャンバ ３６ サブチャンバ ３８ プラテン ３９ イオンビーム ４０ 回転シャフト ４２ アクチュエータ ４４ 搬送装置
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/265 Ｈ０１Ｌ 21/265 ６０３Ｃ
Claims (4)
- 【請求項１】 一対の平行リンク機構を中間の関節ブロ
ックに連結した屈曲アーム機構を構成し、当該屈曲アー
ム機構の一端にワーク把持部を形成するとともに他端を
固定基部に枢着してなり、前記関節ブロックにおける両
リンク機構の回転節同士を巻掛けベルトにより連結して
回転伝達させることにより先端ワーク把持部を直線移動
可能としたことを特徴とするワーク直線移動装置。 - 【請求項２】 前記巻掛けベルトは各回転節にＳ字に巻
掛けつつ両端部を回転節に固定していることを特徴とす
る請求項１に記載のワーク直線移動装置。 - 【請求項３】 前記ワーク把持部は回転アクチュエータ
によりワークを水平、垂直位置を取り得るようにしてな
ることを特徴とする請求項１に記載のワーク直線移動装
置。 - 【請求項４】 イオン注入チャンバにて基板を転回可能
に保持する把持部を有し、この把持部を前記チャンバの
側部に形成したサイドチャンバに設けた直線移動機構に
より昇降させることで、イオンビームラインを横断する
方向に基板を直線移動させる装置であって、前記直線移
動機構を固定基部と前記把持部とを連結する一対の平行
リンク機構により形成するとともに、当該平行リンク機
構同士を連結する関節ブロックには各リンクの主回転節
を巻掛けベルトにより連結して回転伝達を行わせ、前記
固定部における主回転節には回転駆動機構を設けたこと
を特徴とするワーク直線移動装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9337934A JPH11163092A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | ワーク直線移動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9337934A JPH11163092A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | ワーク直線移動装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11163092A true JPH11163092A (ja) | 1999-06-18 |
Family
ID=18313383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9337934A Withdrawn JPH11163092A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | ワーク直線移動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11163092A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006313651A (ja) * | 2005-05-06 | 2006-11-16 | Shimadzu Corp | 粒子線顕微鏡、及び真空分析装置用部材移動機構 |
| CN103056871A (zh) * | 2012-12-27 | 2013-04-24 | 广西大学 | 一种运动副组合为rprrr-prrrp的两闭环子链并联机构 |
| CN103085060A (zh) * | 2012-12-31 | 2013-05-08 | 中国科学院自动化研究所 | 基于力视混合检测的对接/分离装置及其方法 |
| WO2017098981A1 (ja) * | 2015-12-12 | 2017-06-15 | ライフロボティクス株式会社 | ロボットアーム機構 |
| JP2021068798A (ja) * | 2019-10-23 | 2021-04-30 | 株式会社三井Ｅ＆Ｓマシナリー | 基材処理装置 |
-
1997
- 1997-11-21 JP JP9337934A patent/JPH11163092A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050201 |