JPH11162899A - 半導体ウエハ用スクラバ装置 - Google Patents

半導体ウエハ用スクラバ装置

Info

Publication number
JPH11162899A
JPH11162899A JP9331496A JP33149697A JPH11162899A JP H11162899 A JPH11162899 A JP H11162899A JP 9331496 A JP9331496 A JP 9331496A JP 33149697 A JP33149697 A JP 33149697A JP H11162899 A JPH11162899 A JP H11162899A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
brush head
brush
pure water
wafer
semiconductor wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9331496A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Ueki
幸次 植木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP9331496A priority Critical patent/JPH11162899A/ja
Publication of JPH11162899A publication Critical patent/JPH11162899A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハ上へのメカニカル部分の存在を減らす
ことにより、パーティクルの発生を減少させ、また、故
障を低減させるとともに、アーム本体をシンプルで小さ
くすることができる半導体ウエハ用スクラバ装置を提供
する。 【解決手段】 半導体ウエハ用スクラバ装置において、
アーム本体3の先端に設けられるブラシヘッド6に純水
を供給する純水系と、前記ブラシヘッド6中に配置され
る水車7と、この水車7の回転シャフト8に連結される
ブラシ9と、前記水車7でブラシ9を回転させ、半導体
ウエハ1の表面をスクラブするようにしたものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造プロセ
スにおける、半導体ウエハの表面をスクラブするスクラ
バ装置の構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、このような分野の技術としては、
以下に示すようなものがあった。図6はかかる従来のス
クラバ装置の構成図である。この図に示すように、ま
ず、チャック101に半導体ウエハ(以下、単にウエハ
という)102を載せ、このウエハ102をある一定の
回転数で回転させ、第1のノズル103から純水を吐出
させながら、アーム本体104を第1のモーター105
の駆動によりウエハ102のエッヂまで移動させ、シリ
ンダー106の駆動によりアーム本体104が下がりブ
ラシヘッド107がウエハ102の表面まで下がる。
【0003】そこで、第1のモーター105が回転し、
アーム本体104がスイング動作を繰り返しスクラブ処
理される。同時に、第2のモーター108が回転し、第
1のシャフト109、第1のギア110を回転させ、ベ
ルト111を介して第2のギャア112、第2のシャフ
ト113を回転させてブラシヘッド107を回転させ
る。
【0004】また、同時に純水114が純水パイプ11
5を通りブラシヘッド107上部に供給される。設定時
間の経過後、ウエハ102を高速回転により乾燥させ、
スクラブ処理は終了する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来のスクラバ装置では、ウエハ102上にギア11
2やベルト111などのメカニカル部分が集中いるた
め、パーティクルが発生し、ウエハ102上に落ちると
いう問題があった。また、メカニカル部分の部品点数が
多いため、故障などの不具合やアーム本体104が小さ
くできない等の問題があった。
【0006】本発明は、上記問題点を除去し、ウエハ上
へのメカニカル部分の存在を減らすことにより、パーテ
ィクルの発生を減少させ、また、故障を低減させるとと
もに、アーム本体をシンプルで小さくすることができる
半導体ウエハ用スクラバ装置を提供することを目的とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、 (1)半導体ウエハ用スクラバ装置において、アーム本
体の先端に設けられるブラシヘッドに純水を供給する純
水系と、前記ブラシヘッド中に配置される水車と、この
水車の回転シャフトに連結されるブラシと、前記水車で
ブラシを回転させ、半導体ウエハの表面をスクラブする
ようにしたものである。
【0008】(2)半導体ウエハ用スクラバ装置におい
て、アーム本体の先端の回転シャフトに設けられるブラ
シヘッドに純水を供給する純水系と、前記ブラシヘッド
の下面にこのブラシヘッドの回転方向とは逆に斜めに開
いているノズルと、前記ブラシヘッドの下面に配置され
るブラシと、前記ノズルからの純水の力でブラシを回転
させ、半導体ウエハの表面をスクラブするようにしたも
のである。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。まず、本発明の第1実施例について
図面を参照しながら説明する。図1は本発明の第1実施
例を示すスクラバ装置の構成図、図2はそのスクラバ装
置の水車の上面図、図3はそのスクラバ装置のブラシヘ
ッドの拡大図である。
【0010】図1に示すように、ウエハ1を吸着するチ
ャック2があり、アーム本体3の中に、先端のブラシヘ
ッド6を上下駆動させるシリンダー4と、スイング動作
させるモーター5が設けられており、先端のブラシヘッ
ド6の中に水車7が設けられている。更に、図2に示す
ように、この水車7に回転シャフト8が接続され、その
回転シャフト8にブラシ9が固定されている。ブラシヘ
ッド6は壁10でシールされており、純水パイプ11が
接続され、純水15が流れるように純水系が構成されて
いる。
【0011】また、図3に示すように、ブラシヘッド6
の外周には第2のノズル13、その下部には第3のノズ
ル14が設けられている。次に、第1実施例の動作につ
いて説明する。まず、ウエハ1をチャック2に吸着させ
た後、ウエハ1をある一定の回転数で回転させ、第1の
ノズル12から純水を吐出させながらアーム本体3がモ
ーター5の駆動によりウエハ1のエッヂまで移動し、シ
リンダー4の駆動により、アーム本体3が下がり、ブラ
シヘッド6がウエハ1の表面まで下がる。そして、モー
ター5が回転し、アーム本体3がスイング動作を繰り返
しスクラブ処理される。
【0012】同時に、純水パイプ11に純水15が流
れ、ブラシヘッド6に入り、水車7を回転させ、接続さ
れている回転シャフト8を介してブラシ9が回転する。
ブラシヘッド6に入った純水は、ブラシヘッド6に設け
た第2のノズル13と第3のノズル14から、ウエハ1
上にまんべんなく流れる。設定時間経過後、ウエハ2を
高速回転させて乾燥させ、スクラブ処理は終了する。
【0013】このように、この実施例によれば、ウエハ
上にメカニカル部分が殆ど存在しなくなるため、パーテ
ィクルの発生を減少させることができる。また、ブラシ
ヘッドに駆動部が殆どないため、故障なども少なくな
り、アーム本体をシンプルで小さくすることができる。
次に、本発明の第2実施例について説明する。
【0014】図4は本発明の第2実施例を示すスクラバ
装置の構成図、図5はそのスクラバ装置のブラシヘッド
の拡大図である。図4に示すように、ウエハ21を吸着
するチャック22があり、アーム本体23の中に、ブラ
シヘッド30を上下駆動させるシリンダー24とスイン
グ動作させるモーター25が設けられている。
【0015】アーム本体23の先端は壁26でシールさ
れており、純水パイプ27が接続され、回転シャフト2
8が設けられていて、ブラシヘッド30が接続されてい
る。図5に示すように、ブラシヘッド30の下面には第
2のノズル31がブラシヘッド30の回転方向とは逆に
斜めに開いており、かつブラシ32が設けられている。
【0016】この第2実施例の動作について説明する。
まず、ウエハ21をチャック22に吸着させた後、ウエ
ハ21をある一定の回転数で回転させ、第1のノズル3
3から純水を吐出させながらアーム本体23をモーター
25の駆動によりウエハ21のエッヂまで移動させ、シ
リンダー24の駆動によりアーム本体23を下げ、ブラ
シヘッド30をウエハ21の表面まで下げる。
【0017】そこで、モーター25が回転し、アーム本
体23がスイング動作を繰り返し、スクラブ処理され
る。同時に純水パイプ27に純水が流れ、ブラシヘッド
30に入り、第2のノズル31から斜めに純水が噴射さ
れ、ブラシ32が回転する。その時、ブラシ32がウエ
ハ21の表面をスクラブする。このように、第2実施例
によれば、純水をウエハ21上に斜めに当てることによ
り、パーティクルを除去することができる。また、ウエ
ハ21上にメカニカル部分が殆どないため、パーティク
ルの発生を減少させることができる。また、駆動部が殆
どないため、故障なども少なくなり、アーム本体をシン
プルで小さくすることができる。
【0018】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
【0019】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、以下のような効果を奏することができる。 (1)請求項1記載の半導体ウエハ用スクラバ装置によ
れば、ブラシヘッドに設けられるブラシの回転を、供給
される純水による水車の回転により行うようにしたの
で、ウエハ上にメカニカル部分が殆ど存在しなくなるた
め、パーティクルの発生を減少させることができる。ま
た、ブラシヘッドに電気的機構部が殆どないため、故障
なども少なくなり、アーム本体をシンプルで小さくする
ことができる。
【0020】(2)請求項2記載の半導体ウエハ用スク
ラバ装置によれば、ブラシヘッドに設けられるブラシの
回転をブラシヘッドの下面に、このブラシヘッドの回転
方向とは逆に斜めに開いているノズルによって行うよう
にしたので、ウエハ上にメカニカル部分が殆ど存在しな
くなるため、パーティクルの発生を減少させることがで
きる。また、ブラシヘッドに電気的機構部が殆どないた
め、故障なども少なくなり、アーム本体をシンプルで小
さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例を示すスクラバ装置の構成
図である。
【図2】本発明の第1実施例を示すスクラバ装置の水車
の上面図である。
【図3】本発明の第1実施例を示すスクラバ装置のブラ
シヘッドの拡大図である。
【図4】本発明の第2実施例を示すスクラバ装置の構成
図である。
【図5】本発明の第2実施例を示すスクラバ装置のブラ
シヘッドの拡大図である。
【図6】従来のスクラバ装置の構成図である。
【符号の説明】
1,21 半導体ウエハ 2,22 チャック 3,23 アーム本体 4,24 シリンダー 5,25 モーター 6,30 ブラシヘッド 7 水車 8,28 回転シャフト 9,32 ブラシ 10,26 壁 11,27 純水パイプ 12,33 第1のノズル 13,31 第2のノズル 14 第3のノズル 15 純水

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a)アーム本体の先端に設けられるブラ
    シヘッドに純水を供給する純水系と、(b)前記ブラシ
    ヘッド中に配置される水車と、(c)該水車の回転シャ
    フトに連結されるブラシと、(d)前記水車でブラシを
    回転させ、半導体ウエハの表面をスクラブすることを特
    徴とする半導体ウエハ用スクラバ装置。
  2. 【請求項2】(a)アーム本体の先端の回転シャフトに
    設けられるブラシヘッドに純水を供給する純水系と、
    (b)前記ブラシヘッドの下面に該ブラシヘッドの回転
    方向とは逆に斜めに開いているノズルと、(c)前記ブ
    ラシヘッドの下面に配置されるブラシと、(d)前記ノ
    ズルからの純水の力でブラシを回転させ、半導体ウエハ
    の表面をスクラブすることを特徴とする半導体ウエハ用
    スクラバ装置。
JP9331496A 1997-12-02 1997-12-02 半導体ウエハ用スクラバ装置 Withdrawn JPH11162899A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9331496A JPH11162899A (ja) 1997-12-02 1997-12-02 半導体ウエハ用スクラバ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9331496A JPH11162899A (ja) 1997-12-02 1997-12-02 半導体ウエハ用スクラバ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11162899A true JPH11162899A (ja) 1999-06-18

Family

ID=18244300

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9331496A Withdrawn JPH11162899A (ja) 1997-12-02 1997-12-02 半導体ウエハ用スクラバ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11162899A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108729878A (zh) * 2018-05-23 2018-11-02 西南石油大学 一种石油钻杆内壁清洗装置
CN112718653A (zh) * 2020-12-15 2021-04-30 铜陵市开发区柏川汽车修理服务部 一种汽车零部件清洗装置
CN112947004A (zh) * 2019-11-26 2021-06-11 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种清洁装置及曝光方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108729878A (zh) * 2018-05-23 2018-11-02 西南石油大学 一种石油钻杆内壁清洗装置
CN112947004A (zh) * 2019-11-26 2021-06-11 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种清洁装置及曝光方法
CN112947004B (zh) * 2019-11-26 2023-07-25 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种清洁装置及曝光方法
CN112718653A (zh) * 2020-12-15 2021-04-30 铜陵市开发区柏川汽车修理服务部 一种汽车零部件清洗装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3322853B2 (ja) 基板の乾燥装置および洗浄装置並びに乾燥方法および洗浄方法
JP2000331975A (ja) ウエハ洗浄装置
US20060102198A1 (en) Rotational thermophoretic drying
KR100886593B1 (ko) 경사진 회전과 헹굼 및 건조모듈과 이의 이용방법
US6766813B1 (en) Apparatus and method for cleaning a wafer
JP4271267B2 (ja) 基板処理方法
JPH11162899A (ja) 半導体ウエハ用スクラバ装置
JPH1187288A (ja) 基板洗浄方法および該洗浄方法に用いられる洗浄装置
JP4047406B2 (ja) 洗浄処理装置
JP2002143749A (ja) 回転塗布装置
JP3140556B2 (ja) 半導体ウエハの洗浄方法
JP3118142B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
JPH1022242A (ja) 基板洗浄装置および基板洗浄方法
JPS6230030Y2 (ja)
JP2003007666A (ja) 基板洗浄装置
JPH07283180A (ja) 基板洗浄装置
JPH10125641A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP3776214B2 (ja) ワークのチャックホイル機構及びポリッシング装置及び洗浄装置
JPH03274722A (ja) 半導体装置の製造方法及び製造装置
JP2922754B2 (ja) 回転式基板乾燥装置及び回転式基板乾燥方法
CN219457539U (zh) 一种晶圆清洗设备
JPH0936076A (ja) 洗浄装置
JP3753591B2 (ja) 基板洗浄装置
JP3100108B2 (ja) 回転処理装置
JP2000296368A (ja) 洗浄装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20050301