JPH1022242A - 基板洗浄装置および基板洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ２つの洗浄手段による洗浄時間の短縮化を図
る。 【解決手段】 ブラシ洗浄手段７および超音波洗浄手段
８の垂直ロッド１３，１６をそれぞれ回動中心として、
基板２の回転中心と回転端部間をブラシ部１５とノズル
部１８がそれぞれ円弧状に移動し、これらの垂直ロッド
１３，１６はそれぞれ、基板２の回転中心を通る略直線
上で、その回転中心を点対称とする位置に配設されてお
り、ブラシ部１５が基板２の回転中心から回転端部に向
かって移動するときに、ノズル部１８が回転端部から回
転中心に向かって移動すると共に、ブラシ部１５が基板
２の回転端部から回転中心に向かって移動するときに、
ノズル部１８が回転中心から回転端部に向かって移動す
るようにしたため、ブラシ部１５およびノズル部１８が
それぞれ、互いに当たるようなことなく基板２上で所定
距離置いて移動するので、２つの洗浄部材を同時に使用
することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体製造
装置および液晶表示基板製造装置などに用いられ、液晶
表示器用角形ガラス基板、カラーフィルタ用ガラス基
板、フォトマスク用基板、サーマルヘッド用セラミック
基板、プリント基板および半導体ウエハなどの基板面を
洗浄処理する基板洗浄装置および基板洗浄方法に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この基板洗浄装置は、現像装置や
エッチング装置などを有する基板処理装置の適所に設け
られ、基板処理の前工程と後工程の間や、基板処理の最
終仕上げ工程などに、先の処理で使用された処理液が基
板面に残留しないようにすると共に、基板面を清浄化す
るために洗浄処理するものである。

【０００３】このような基板洗浄装置として、回転可能
な基板支持手段上に基板を載置し、基板支持手段と共に
基板を回転させながら、表面に洗浄液が供給された基板
をブラシ手段や超音波洗浄手段などを用いて洗浄処理し
た後、基板面に窒素ガスなどの不活性ガスを吹き付けな
がら基板を高速回転させて、基板表面の洗浄液を遠心力
で飛散させるようにしたものがある。このような従来の
基板洗浄装置の一例を図１０に示している。

【０００４】図１０は従来の基板洗浄装置の構成を模式
的に示す平面図である。図１０において、上面に基板９
０を載置して支持すると共に回転自在な円形の基板支持
部材９１の左右近傍位置にそれぞれ、アーム先端部に洗
浄用のブラシ部９２を有するブラシ洗浄手段９３と、ア
ーム先端部に超音波振動が乗った洗浄液を吐出するノズ
ル部９４を有する超音波洗浄手段９５とがそれぞれ対向
して配設されている。

【０００５】このブラシ洗浄手段９３は、基板支持部材
５２の右側の位置に立設された垂直ロッド９６と、この
垂直ロッド９６の上端部に水平に延びるように延設され
た駆動アーム９７と、この駆動アーム９７の先端下部に
設けられ、垂直軸回りに回転可能に軸支されて、図略の
駆動機構によって回転駆動するブラシ部９２とを有して
いる。この垂直ロッド９６は、図略の駆動機構によって
駆動アーム９７およびブラシ部９２と共に垂直方向に、
基板９０の上面にブラシ部９２を当接させる位置と基板
９０の所定上方位置との間を上下動自在に構成されてい
る。また、駆動アーム９７は、図略の駆動機構によって
基板９０の上方で、垂直ロッド９６の中心軸を回動中心
として、基板９０の中央部と端部の間をブラシ部９２が
揺動するように構成されている。

【０００６】また、超音波洗浄手段９５は、基板支持部
材９１の左側の位置に立設された垂直ロッド９８と、こ
の垂直ロッド９８の上端部に水平に延びるように延設さ
れた駆動アーム９９と、この駆動アーム９９の先端部に
設けられ、超音波振動が加えられた洗浄液を吐出するノ
ズル部９４とを有している。この駆動アーム９９は、図
略の駆動機構によって、基板９０の上面とノズル部９４
とを所定距離だけ離間させた状態で、垂直ロッド９８の
中心軸を回動中心として、基板９０の中央部と端部の間
をノズル部９４が揺動する構成となっている。

【０００７】上記構成により、まず、基板支持部材９１
上の所定位置に基板９０が載置され、基板支持部材９１
と共に基板９０を回転駆動させる。その後、ブラシ洗浄
手段９３の垂直ロッド９６を回動中心として、図７
（ａ）に示すように、時間０〜ｔ１で駆動アーム９７の
先端部のブラシ部９２を基板９０の上面中央部上方まで
空中で揺動させる。さらに、時間ｔ１〜時間ｔ２の期間
Ｔ１で垂直ロッド９６を駆動アーム９７およびブラシ部
９２と共に下降させて基板９０の上面中央部上にブラシ
部９２を当接させる。その後、垂直ロッド９６を回動中
心として駆動アーム９７と共にブラシ部９２を、時間ｔ
２〜時間ｔ３で基板９０の上面に当接させた状態で基板
９０の中央部から端部の方向（外側の方向）に揺動させ
る。このとき、ブラシ部９２が基板９０の端部を超えた
位置で、時間ｔ３〜時間ｔ４の期間Ｔ２で、垂直ロッド
９６を駆動アーム９７およびブラシ部９２と共に所定位
置まで上昇させて基板９０の上面とブラシ部９２を所定
距離だけ離間させる。以上の時間ｔ１〜時間ｔ４の各同
一行程を数回繰り返すことになるが、ここでは、時間ｔ
４〜時間ｔ１１において、基板９０の上面にブラシ部９
２を当接させた状態で基板９０の中央部から端部の外側
の方向に掃き出すようにブラシ部９２を揺動させる動作
を２回繰り返してブラシ洗浄している。

【０００８】次に、超音波洗浄手段９５の垂直ロッド９
８を回動中心として、時間ｔ１１で駆動アーム９９の先
端部のノズル部９４を基板９０の端縁部の上方位置まで
揺動させる。その後、時間ｔ１１〜時間ｔ１２で、超音
波発振器（図示せず）を駆動させて超音波振動を加えた
洗浄液を、超音波洗浄手段９５のノズル部９４から基板
９０の上面に向けて吐出させると共に、垂直ロッド９８
を回動中心として、駆動アーム９９と共にノズル部９４
を回動させてノズル部９４を基板９０の端縁部の上方位
置からその中央位置上まで揺動させる。さらに、時間ｔ
１２〜時間ｔ１３で、超音波振動を加えた洗浄液を、超
音波洗浄手段９５のノズル部９４から基板９０の上面に
向けて吐出させると共に、垂直ロッド９８を回動中心と
して、駆動アーム９９と共にノズル部９４を回動させて
ノズル部９４を基板９０の中央位置から端縁部の上方位
置まで外側の方向に揺動させて超音波洗浄を行う。以上
の時間ｔ１１〜時間ｔ１３の各同一行程を数回繰り返す
ことになるが、ここでは、時間ｔ１１〜時間ｔ１７にお
いて、駆動アーム９９と共にノズル部９４を基板９０の
端縁部から中心部の方向と、基板９０の中心部から端縁
部の外側の方向による動作を２回繰り返して超音波洗浄
している。

【０００９】これによって、ブラシ洗浄では１０μｍ程
度以上の大きさの塵を主に対象とした洗浄であり、それ
以下の大きさの塵は流水超音波洗浄で取り除くことがで
きる。このため、以上のようなブラシ洗浄手段９３およ
び超音波洗浄手段９５を用いれば、あらゆる範囲の大き
さの塵を対称とした基板面の洗浄処理を行うことができ
る。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の構成では、
ブラシ洗浄手段９３によるブラシ洗浄処理を行っている
ときには、超音波洗浄手段９５による超音波洗浄処理は
止まっていた。即ち、これらの洗浄手段は、通常、基板
の中心部まで洗浄するため、その何れもが基板の回転中
心を通るように設けられるが、そのそれぞれが十分な洗
浄力を保持するためにある程度の大きさを持つものとな
ってしまうため、ブラシ洗浄手段９３および超音波洗浄
手段９５を同時に用いようとすると、ブラシ洗浄手段９
３のブラシ部９２と、超音波洗浄手段９５のノズル部９
４とが当たってしまい、ブラシ洗浄手段９３および超音
波洗浄手段９５を同時に用いることができず、このよう
な２つの洗浄手段による洗浄時間（洗浄工程のタクト）
が直列化して長くかかってしまうという問題があった。

【００１１】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、ブラシ洗浄および超音波洗浄などの２つの洗浄手段
による洗浄時間の短縮化を図ることができる基板洗浄装
置および基板洗浄方法を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の基板洗浄装置
は、基板を保持可能な基板保持部材が配設され、基板保
持部材に保持されて回転する基板の少なくとも回転中心
と回転端部間の半径距離を洗浄部がそれぞれ移動して基
板の主面をそれぞれ洗浄する第１および第２の洗浄部材
が配設された基板洗浄装置において、第１および第２の
洗浄部材の洗浄部はそれぞれ、基板上で少なくとも所定
距離を置いて直線状および円弧状の少なくとも何れかで
移動するようにしたことを特徴とするものである。

【００１３】この構成により、第１および第２の洗浄部
材の洗浄部がそれぞれ、互いに当たるようなことなく所
定距離以上置いて移動するので、２つの洗浄部材が同時
に使用可能となって２つの洗浄部材による洗浄時間（洗
浄工程のタクト）の並列化が可能となり、洗浄時間の短
縮化が大幅に図られることになる。

【００１４】また、本発明の基板洗浄装置は、基板を保
持可能な基板保持部材が配設され、基板保持部材に保持
されて回転する基板の少なくとも回転中心と回転端部間
の半径距離を洗浄部がそれぞれ移動して基板の主面をそ
れぞれ洗浄する第１および第２の洗浄部材が配設された
基板洗浄装置において、第１の洗浄部材の洗浄部が回転
中心から回転端部に向かって移動するときに、第２の洗
浄部材の洗浄部が前記回転端部から回転中心に向かって
移動するように制御すると共に、第１の洗浄部材の洗浄
部が前記回転端部から回転中心に向かって移動するとき
に、第２の洗浄部材の洗浄部が前記回転中心から回転端
部に向かって移動するように制御する制御部材が備えら
れたことを特徴とするものである。例えば、第１および
第２の洗浄部材の一方の洗浄部が支点部を回動中心とし
て回転中心から回転端部に向かって基板の回転方向と逆
方向の円弧状に移動するときに、他方の洗浄部が支点部
を回動中心として回転端部から回転中心に向かって基板
の回転方向と同一方向の円弧状に移動するように制御す
る制御部材が備えられたことを特徴としている。また、
例えば、第１および第２の洗浄部材の一方の洗浄部が回
転中心から回転端部に向かって直線状に移動するとき
に、他方の洗浄部が回転端部から回転中心に向かって直
線方向に移動するように制御する制御部材が備えられた
ことを特徴としている。また、本発明の基板洗浄方法
は、基板保持部材に保持されて回転する基板の回転端部
から回転中心に向かって、前記基板保持部材の近傍位置
に配置された第１および第２の洗浄部材の一方の洗浄部
が支点部を回動中心として前記基板の回転方向と同一方
向の円弧状に移動し、さらに、前記一方の洗浄部が支点
部を回動中心として前記回転中心から前記回転端部に向
かって前記基板の回転方向と逆方向の円弧状に移動する
と共に、他方の洗浄部が支点部を回動中心として前記回
転端部から前記回転中心に向かって前記基板の回転方向
と同一方向の円弧状に移動するように、前記第１および
第２の洗浄部材の洗浄部が前記基板の回転中心側と回転
端部側に交互に所定回数移動し、さらに、他方の洗浄部
が支点部を回動中心として前記回転中心から前記回転端
部に向かって前記基板の回転方向と逆方向の円弧状に移
動することで、前記基板の主面を洗浄することを特徴と
するものである。

【００１５】この構成により、第１および第２の洗浄部
材を基板の回転中心側と回転端部側に互いに当たること
なく交互に位置させるようにしているので、２つの洗浄
部材が同時に使用可能となって２つの洗浄部材による洗
浄時間（洗浄工程のタクト）の並列化が可能となり、洗
浄時間の短縮化が大幅に図られることになる。

【００１６】さらに、好ましくは、本発明の基板洗浄装
置における第１および第２の洗浄部材がそれぞれ、支点
部を回動中心として洗浄部がそれぞれ円弧状に移動する
場合、前記第１および第２の洗浄部材の支点部はそれぞ
れ、前記回転中心に対して対向する位置に配設されたこ
とを特徴とする。例えば、第１および第２の洗浄部材の
支点部はそれぞれ、回転中心を通る略直線上に配設され
ていてもよく、また、より好ましくは、これらの第１お
よび第２の洗浄部材の支点部がそれぞれ、回転中心を点
対称とする位置に配設されている。

【００１７】この構成により、第１および第２の洗浄部
材の支点部を、基板の回転中心を挾んだ略反対側に配置
したので、第１および第２の洗浄部材の洗浄部がある程
度大きくても互いに当たることなく２つの洗浄部材が同
時に使用可能となる。

【００１８】さらに、好ましくは、本発明の基板洗浄装
置における第１および第２の洗浄部材がそれぞれ、支点
部をそれぞれ回動中心として洗浄部がそれぞれ円弧状に
移動する場合、基板の回転方向が円弧の湾曲している方
向であることを特徴とする。この場合、第１および第２
の洗浄部材はどちらか一方が少なくとも、基板面と当接
して洗浄するブラシ洗浄部材であり、より好ましくは、
第１および第２の洗浄部材が共にブラシ洗浄部材であ
る。

【００１９】この構成により、洗浄部材が基板面に当接
ないし近接して洗浄処理するような場合に、基板の回転
方向に対して洗浄部材の移動が円弧状に湾曲した逃げる
方向であるので、洗浄部材に無理な荷重がかかることが
ない。

【００２０】さらに、好ましくは、本発明の基板洗浄装
置における第１および第２の洗浄部材はそれぞれ、ブラ
シ洗浄部材、低側超音波洗浄部材、高側超音波洗浄部材
および高圧ジェット噴射洗浄部材のうち少なくとも何れ
かである。例えば、第１および第２の洗浄部材が共にブ
ラシ洗浄部材であってもよいし、第１の洗浄部材がブラ
シ洗浄部材で第２の洗浄部材が高周波帯域超音波洗浄部
材であってもよい。

【００２１】この構成により、第１および第２の洗浄部
材が共に同一の洗浄部材であれば、洗浄効果が倍にな
る。また、第１および第２の洗浄部材に異なる洗浄部材
を用いれば、例えば、第１の洗浄部材がブラシ洗浄部材
で第２の洗浄部材が高周波帯域超音波洗浄部材であれ
ば、ブラシ洗浄では１０μｍ程度以上の大きさの塵を洗
浄可能で、それ以下の大きさの塵は、超音波洗浄で取り
除くことが可能となるなど、それぞれの洗浄部材の特徴
が活かされて洗浄の相乗効果が得られる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板洗浄装置
の実施形態について図面を参照して説明する。

【００２３】図１は本発明の一実施形態における基板洗
浄装置の構成を示す斜視図であり、図２は図１の基板洗
浄装置の構成を模式的に示す平面図である。

【００２４】図１および図２において、基板洗浄装置１
は、上面に基板２を載置して支持すると共に回転自在な
円形の基板保持部材３と、この基板保持部材３を垂直回
転軸４を介して回転駆動させる回転駆動部としての駆動
モータ５と、基板保持部材３の周囲を囲み、洗浄時に飛
散した処理液を集液する集液排出手段６と、この集液排
出手段６の近傍位置に配設され、基板２の主面をブラシ
洗浄するブラシ洗浄手段７と、このブラシ洗浄手段７と
は基板保持部材３を介して反対側の位置に配設され、超
音波振動が加えられた洗浄液を基板２の主面に向けて吐
出して超音波洗浄する超音波洗浄手段８と、これらのブ
ラシ洗浄手段７および超音波洗浄手段８を駆動制御する
制御手段９とを有している。

【００２５】この基板保持部材３の基板保持機構として
はバキュームチャック（図示せず）が設けられており、
その回転中心軸に同心状に中央部に設けられて、載置さ
れた基板２を吸着して保持するように構成されている。
本実施形態では、バキュームチャックを使用したが、こ
の他に、基板２の４角部をそれぞれ２個のピンで位置決
めする構成であってもよい。また、駆動モータ５は、基
板保持部材３の中心部に連結された垂直回転軸４に回転
駆動力を駆動力伝達手段などを介して伝達する構成であ
る。

【００２６】また、集液排出手段６は、環状の底部の周
縁部から基板保持部材３を包囲するように立設された環
状の集液フード１０と、この集液フード１０の底部に上
端部が接続された複数の連絡管１１と、これらの各連絡
管１１の下端部が接続された環状の集液ダクト１２とを
備えており、洗浄時に基板２の回転によって遠心力で外
側に飛ばされた処理液は、集液フード１０の環状壁およ
び底部で捕捉され、吸引された気流に伴って連絡管１１
さらに集液ダクト１２を通り、その後、気液分離処理が
施されてそれぞれ系外に排出される。

【００２７】さらに、ブラシ洗浄手段７は、集液排出手
段６の一方の近傍位置に立設された垂直ロッド１３と、
この垂直ロッド１３の上端部に水平に延びるように延設
された駆動アーム１４と、この駆動アーム１４の先端に
設けられたブラシ部１５とを有している。この垂直ロッ
ド１３は、駆動アーム１４およびブラシ部１５と共に、
基板２の上面にブラシ部１５を当接させる位置と、基板
２の上面と所定距離だけ離間させた位置との間を上下動
する構成である。また、駆動アーム１４は、垂直ロッド
１３の中心軸ａを回動中心として、回転する基板２の回
転中央部と回転端部の間をブラシ部１５が円弧状に揺動
する構成となっている。

【００２８】また、超音波洗浄手段８は、集液排出手段
６の他方の近傍位置に立設された垂直ロッド１６と、こ
の垂直ロッド１６の上端部に水平に延びるように延設さ
れた駆動アーム１７と、この駆動アーム１７の先端部に
設けられ、超音波振動が加えられた洗浄液を吐出するノ
ズル部１８とを有している。この場合、この垂直ロッド
１６とブラシ洗浄手段７の垂直ロッド１３との配設位置
は、基板保持部材３の回転中心ｏに対して対称な位置に
配設されている。また、駆動アーム１７は、基板２の上
面とノズル部１８とを所定距離だけ離間させた状態で、
垂直ロッド１６の中心軸ｂを回動中心として、回転する
基板２の回転中央部と回転端部の間をノズル部１８が円
弧状に揺動する構成となっている。ここで、基板保持部
材３の回転中心ｏは中心軸ａと中心軸ｂを結ぶ直線の中
点にあり、中心軸ａからブラシ部１５までの距離および
中心軸ｂからノズル部１８までの距離はそれぞれの中心
軸ａ，ｂから回転中心ｏまでの距離に等しい。

【００２９】図３は図１のブラシ洗浄手段７の一例を示
す一部切欠き斜視図である。図３において、ブラシ洗浄
手段７は、垂直ロッド１３、駆動アーム１４およびブラ
シ部１５の他に、支持枠体３０と、この支持枠体３０に
配設され、駆動アーム１４およびブラシ部１５の駆動機
構３１と、ブラシ部１５の中心部を介して基板２の主面
に処理液を供給する処理液供給系３２とを備えている。

【００３０】この支持枠体３０は、底板３０ａに天井板
３０ｂが４本の支柱３０ｃを介して支持された直方体状
に形成されている。この支持枠体３０の底板３０ａおよ
び天井板３０ｂには、上下互いに対向した位置に一対の
ガイド孔３０ｄ，３０ｅが設けられている。一方、基台
３３上にはガイドロッド３４が立設され、このガイドロ
ッド３４に各ガイド孔３０ｄ，３０ｅが摺動自在に外嵌
され、これによって、支持枠体３０はガイドロッド３４
に案内されつつ上下動可能に構成されている。また、底
板３０ａおよび天井板３０ｂの略中央部には、上下一対
のねじ孔３０ｆ，３０ｇが螺設されているとともに、天
井板３０ｂの前方に円形の装着孔３０ｈが設けられてい
る。

【００３１】また、駆動機構３１は、昇降手段３５、ア
ーム旋回手段３６およびブラシ回転手段３７からなって
いる。この昇降手段３５は、支持枠体３０を昇降させる
ものであり、基台３３上に縦置きで据え付けられた第１
駆動モータ３８、およびこの第１駆動モータ３８の駆動
軸に同心状に接続されたスクリュー軸３９とを備えてい
る。このスクリュー軸３９は、支持枠体３０の底板３０
ａおよび天井板３０ｂに螺設されたねじ孔３０ｆ，３０
ｇにそれぞれ螺着されており、第１駆動モータ３８の駆
動によるスクリュー軸３９の正逆回転によって支持枠体
３０がガイドロッド３４に案内されて昇降するように構
成されている。

【００３２】また、アーム旋回手段３６は、支持枠体３
０の底板３０ａ上に縦置きで据え付けられた第２駆動モ
ータ４０、この第２駆動モータ４０の駆動軸に設けられ
た駆動プーリ４１、天井板３０ｂの装着孔３０ｈに嵌入
されたアーム支持筒４２、このアーム支持筒４２の下端
部に設けられた従動プーリ４３、および、この従動プー
リ４３と駆動プーリ４１との間に張設されたベルト４４
を備えている。このアーム支持筒４２は、上下方向への
移動が規制された状態で天井板３０ｂの装着孔３０ｈに
回転可能に嵌入されている。第２駆動モータ４０を駆動
することにより、その回転力は、駆動プーリ４１、ベル
ト４４および従動プーリ４３を介してアーム支持筒４２
に伝達されて、駆動アーム１４がブラシ部１５と共に揺
動することになる。

【００３３】さらに、ブラシ回転手段３７は、アーム支
持筒４２の直下の底板３０ａ上に縦置きで据え付けられ
た第３駆動モータ４５、この第３駆動モータ４５の駆動
軸に結合された垂直軸４６、この垂直軸４６の上端部に
設けられた駆動プーリ４７、ブラシ支持軸４８に装着さ
れた従動プーリ４９、およびこの従動プーリ４９と駆動
プーリ４７との間に張設されたワイヤ５０とを備えてい
る。この垂直軸４６は、アーム支持筒４２内を同心状に
上方に延設され、その上部がアーム支持筒４２の軸受部
５１に軸支されているとともに、垂直軸４６の軸受部５
１より上方に突出した部分に駆動プーリ４７が一体に取
り付けられている。この駆動プーリ４７は、第３駆動モ
ータ４５の回転駆動によって、その回転力が垂直軸４６
を介して伝達され、駆動プーリ４７から、ワイヤ５０さ
らに従動プーリ４９を介してブラシ支持軸４８に伝達さ
れる構成となっている。

【００３４】さらに、駆動アーム１４と垂直ロッド１３
との接続部５２には、アーム支持筒４２の雄ねじ部５３
に対応した雌ねじが螺設され、この雌ねじを雄ねじ部５
３に螺合することによってアーム本体１４がアーム支持
筒４２に連結されている。また、ブラシ部１５には、洗
浄用の円形ブラシ５４と、これを支持するブラシ支持軸
４８と、このブラシ支持軸４８を支持する軸受部５５と
が設けられ、この軸受部５５の内周面とブラシ支持軸４
８の外周面との間にはベアリング部５６が設けられてい
る。また、円形ブラシ５４の軸心部分には上下方向に貫
通した処理液通路５７が設けられているとともに、この
処理液通路５７の下端部に処理液吐出ノズル５８が設け
られ、この処理液吐出ノズル５８から処理液が吐出され
るように構成されている。

【００３５】さらに、この処理液吐出ノズル５８に処理
液を供給する処理液供給系３２は、処理液を密閉状態で
貯留する処理液槽５９と、この処理液槽５９から中空の
ブラシ支持軸４８までの間を接続した処理液管６０とを
有している。この処理液槽５９には、レギュレータ６１
を介して高圧窒素ガスが供給されるようになっており、
この高圧窒素ガスの圧力で槽内部の処理液が処理液管６
０を通して導出される構成となっている。この処理液管
６０は、その下流側が支持枠体３０内からアーム支持筒
４２内を経て駆動アーム１４内に導かれ、さらに、ロー
タリージョイント６２を介してブラシ支持軸４８の処理
液通路５７に接続されている。また、この処理液管６０
には適所に開閉バルブ６２が設けられ、この開閉バルブ
６２の開閉操作で処理液槽５９内の処理液の導出および
導出停止を行う構成となっている。

【００３６】図４は図１の超音波洗浄手段８のアーム先
端にあるノズル部１８の一例を示す断面図である。な
お、揺動機構は図３のブラシ洗浄手段７の場合と同様で
あるので、ここではその説明を省略する。

【００３７】図４において、超音波洗浄手段８における
ノズル部１８のノズル本体７１の内には振動板７２が設
けられ、この振動板７２によってノズル本体７１の内部
が２つの空間７３，７４に仕切られている。この空間７
３には、１．５〜２．０ＭＨＺの周波数を有する超音波
振動を発生させる２つの振動子７５，７５が振動板７２
に取り付けられており、これらの振動子７５，７５で振
動板７２を振動させることにより、空間７４に供給され
た処理液に超音波振動が与えられることになる。この超
音波振動が与えられた処理液を、スリット状のノズル７
６から基板２の主面に向けて吐出して超音波洗浄する構
成となっている。

【００３８】図５は図１の制御手段９によって制御され
るブラシ洗浄手段７のブラシ部１５と超音波洗浄手段８
のノズル部１８の動きを示した模式図である。

【００３９】図５に示すように、ブラシ洗浄手段７のブ
ラシ部１５の動く範囲Ａは、支点ａを中心として、基板
２の中心部から基板端の方向にブラシ部１５を基板面に
当接させた洗浄状態で円弧状に移動させると共に、基板
２の端部から中心部の方向にブラシ部１５と基板面とが
所定距離だけ隔離した空中状態で円弧状に移動させる範
囲である。また、超音波洗浄手段８のノズル部１８の動
く範囲Ｂは、支点ｂを中心として、基板２の端部から中
心部の方向と、基板２の中心部から端部の方向にノズル
部１８と基板面とが所定距離だけ隔離した状態で円弧状
に移動させる範囲である。

【００４０】この場合に、制御手段９による駆動制御、
即ち、ブラシ洗浄手段７のブラシ部１５と超音波洗浄手
段８のノズル部１８の動くタイミングは、ブラシ部１５
が基板２の中央部に位置しているときに、ノズル部１８
は基板２の端縁部上に位置しており、ブラシ部１５が基
板２の中心部から基板端の方向にブラシ部１５を基板面
に当接させた洗浄状態で移動させるときに、ノズル部１
８は基板２の端部から中心部の方向に移動するように構
成されている。このようにして、ブラシ部１５およびノ
ズル部１８が基板２の回転中心側と回転端部側に交互に
所定回数移動することで基板２の主面の洗浄を行ってい
る。

【００４１】上記構成により、以下、その動作を説明す
る。

【００４２】図７（ｂ）は図１および図２に示す本実施
形態のブラシ部１５およびノズル部１８の動作を示すタ
イミングチャートであり、これらのブラシ部１５の昇降
および旋回動作とノズル部１８の旋回動作は制御部９か
らの各モータに対する制御によって行われている。

【００４３】まず、基板保持部材３上の所定位置に基板
２が載置されて固定され、基板保持部材３と共に基板２
を回転駆動させる。その後、ブラシ洗浄手段７の垂直ロ
ッド１３を回動中心として、図７（ｂ）に示すように、
時間０〜ｔ１で駆動アーム１４の先端部のブラシ部１５
を基板２の上面中央部上方まで空中で揺動させて移動す
る。このとき、超音波洗浄手段８のノズル部１８は基板
２の端縁部の上方位置に待機している。

【００４４】次に、時間ｔ１〜時間ｔ２の期間Ｔ１で、
ブラシ洗浄手段７は、垂直ロッド１３を駆動アーム１４
およびブラシ部１５と共に下降させて基板２の上面中央
部上にブラシ部１５を当接させるように駆動する。この
とき、超音波洗浄手段８のノズル部１８は、基板２の端
縁部の上方位置に所定距離だけ離間させた状態で待機し
たままである。

【００４５】その後、ブラシ洗浄手段７は、時間ｔ２〜
時間ｔ３で、垂直ロッド１３を回動中心として駆動アー
ム１４と共にブラシ部１５を、基板２の上面に当接させ
た状態で基板２の中央部から端部の方向（外側の方向）
にブラシ部１５の中央部から処理液を供給させつつ移動
させて基板２の上面のブラシ洗浄を行う。このとき、超
音波洗浄手段８は、超音波発振器７５を駆動させて所定
周波数の超音波振動を加えた洗浄液を、そのノズル部１
８から基板２の上面に向けて吐出させると共に、垂直ロ
ッド１６を回動中心として、駆動アーム１７と共にノズ
ル部１８を回動させてノズル部１８を基板２の端縁部の
上方位置からその中央位置上までの内側の方向に移動さ
せて基板２の上面の超音波洗浄を行う。これらのブラシ
部１５とノズル部１８は略等距離を維持しつつ移動する
ことになって互いに当たるようなことはない。

【００４６】さらに、ブラシ洗浄手段７は、時間ｔ３〜
時間ｔ４の期間Ｔ２で、ブラシ部１５が基板２の端部を
超えた位置で、垂直ロッド１３を駆動アーム１４および
ブラシ部１５と共に所定位置まで上昇させて基板２の上
面とブラシ部１５を所定距離だけ離間させるように駆動
する。このとき、超音波洗浄手段８は、超音波振動を加
えた洗浄液を、ノズル部１８から基板２の上面に向けて
吐出させると共に、垂直ロッド１６を回動中心として、
駆動アーム１７と共にノズル部１８を回動させてノズル
部１８を基板２の中央位置から端縁部側の方向に円弧状
に移動させ始めるている。

【００４７】その後、ブラシ洗浄手段７は、時間ｔ４〜
時間ｔ５で、駆動アーム１４の先端部のブラシ部１５を
基板２の上面中央部上方まで空中で移動させる。このと
き、超音波洗浄手段８は、超音波振動を加えた洗浄液
を、ノズル部１８から基板２の上面に向けて吐出させる
と共に、垂直ロッド１６を回動中心として、駆動アーム
１７と共にノズル部１８を回動させてノズル部１８を基
板２の端縁部側の方向に移動させて超音波洗浄してお
り、その後、ノズル部１８は基板２の端縁部の上方位置
に待機している状態になる。

【００４８】さらに、時間ｔ５〜時間ｔ６の期間Ｔ１
で、ブラシ洗浄手段７は、垂直ロッド１３を駆動アーム
１４およびブラシ部１５と共に下降させて基板２の上面
中央部上にブラシ部１５を当接させるように駆動する。
このとき、超音波洗浄手段８のノズル部１８は、基板２
の端縁部の上方位置に所定距離だけ離間させた状態で待
機したままである。

【００４９】以上の時間ｔ１〜時間ｔ５の各同一行程を
数回繰り返すことになるが、ここでは、時間ｔ５〜時間
ｔ１１において、ブラシ洗浄手段７は、基板２の上面に
ブラシ部１５を当接させた状態で基板２の中央部から端
部の外側の方向に掃き出すようにブラシ部１５を移動さ
せる動作を２回繰り返してブラシ洗浄し、また、このと
き、超音波洗浄手段８は、駆動アーム１７と共にノズル
部１８を基板２の端縁部から中心部の方向と、基板２の
中心部から端縁部の外側の方向への往復動作を２回繰り
返して超音波洗浄している。

【００５０】このように、ブラシ洗浄手段７および超音
波洗浄手段８の垂直ロッド１３，１６をそれぞれ回動中
心として、ブラシ部１５とノズル部１８がそれぞれ円弧
状に移動し、これらの垂直ロッド１３，１６はそれぞ
れ、基板２の回転中心を通る略直線上で、その回転中心
を点対称とする位置に配設しており、ブラシ洗浄手段７
のブラシ部１５が基板２の回転中心から回転端部に向か
って移動するときに、超音波洗浄手段８のノズル部１８
が回転端部から回転中心に向かって移動すると共に、ブ
ラシ洗浄手段７のブラシ部１５が基板２の回転端部から
回転中心に向かって移動するときに、超音波洗浄手段８
のノズル部１８が回転中心から回転端部に向かって移動
するようにしたため、ブラシ洗浄手段７のブラシ部１５
および超音波洗浄手段８のノズル部１８がそれぞれ、基
板２上で略所定距離置いて移動するので、互いに当たる
ようなことなく２つの洗浄部材を同時に使用することが
できて、２つの洗浄部材による洗浄時間（洗浄工程のタ
クト）を並列化することでき、図７（ａ）の従来例にお
ける洗浄所要時間Ｔ１１に比べて図７（ｂ）の本発明の
洗浄所要時間Ｔ１２は略半減しており、洗浄時間の短縮
化を大幅に図ることができる。

【００５１】また、基板２の回転方向が、ブラシ洗浄手
段７のブラシ部１５の移動軌跡に対して円弧状に湾曲し
た逃げる方向であるため、ブラシ洗浄手段７の駆動アー
ム１４やブラシ部１５に無理な荷重がかかることがな
い。

【００５２】さらに、ブラシ部１５によるブラシ洗浄で
は１０μｍ〜２００μｍ程度以上の大きさの塵を洗浄で
きると共に、それ以下の大きさの塵は、ノズル部１８に
よる流水超音波洗浄で取り除くことができる。

【００５３】なお、以上の実施形態では、洗浄部材とし
てブラシ洗浄手段７と超音波洗浄手段８とを組み合せた
ものであったが、本発明の実施形態として、例えばモヘ
アとスポンジなど異なる素材によりなる２種のブラシ洗
浄手段を組み合せ、それらの特性を生かして高い洗浄効
果を得ることもできる。図１０に示すような従来の基板
洗浄装置では、洗浄部材のかかる組合せを採用すること
は困難であった。

【００５４】即ち、ブラシ洗浄手段は、モヘアなどの毛
の束やＰＶＣスポンジなどを、基板の表面と接触あるい
はごく近接させて洗浄を行うため、ブラシ洗浄手段の保
持形態と基板の回転方向に制約が生じ、ブラシ洗浄手段
を使用する場合は、図６に示すように、通常、ブラシ部
１５を、支点ａを中心として、基板２の中心部から基板
端の方向に円弧状に移動させてブラシ洗浄を行うが、こ
のとき、Ｃ１の方向に基板保持部材３を基板２と共に回
転させれば、基板２の回転に対してブラシ部１５の移動
が円弧状にふくれるため、駆動アーム１４の先端側に取
り付けられたブラシ部１５を介して駆動アーム１４を支
点ａ側に押し付けるように荷重がかかって駆動アーム１
４に無理な荷重がかかってしまう。それに対し、基板２
をＣ２の方向に回転させれば、基板２の回転に対してブ
ラシ部１５の移動が円弧状に逃げる方向であり、駆動ア
ーム１４には無理な荷重がかからない構成となる。

【００５５】従って、ブラシ洗浄手段を用いる場合は、
駆動アーム１４に対して基板をＣ２の方向に回転させる
必要があるが、図１０に示す従来例では、駆動アーム９
９の側にもブラシ洗浄手段を採用したとすると、当該ブ
ラシ洗浄手段については基板は図６のＣ１の方向に回転
することになってしまい、駆動アーム９９やブラシ洗浄
手段に無理な力がかかり、それらの寿命が短くなったり
洗浄効果が低下したりする。それに対して、駆動アーム
の支点を本発明のように配置すれば、２つのブラシ洗浄
手段を用いたとしても、何れの洗浄手段にとっても基板
の回転方向はＣ２の向きとなり（図５参照）、洗浄部材
の駆動アームから見て基板が駆動アームの支点部側から
洗浄部材側へ回転することになり、駆動アームやブラシ
洗浄手段に無理な力がかかることがない。

【００５６】また、以上で説明した実施形態では、ノズ
ル部１８では時刻ｔ３，ｔ７に基板中央部から基板端部
に向かって移動し始めるが、この移動は時刻ｔ４，ｔ８
から移動し始めるものとしても良い。また、上記実施形
態ではブラシ洗浄手段を用いているので、ブラシ部１５
が昇降する時間（Ｔ１，Ｔ２）をとっていたが、他の洗
浄手段ではかかる時間は必ずしも必要ではない。

【００５７】図８は本発明の他の実施形態における基板
洗浄装置の構成を模式的に示す平面図であり、図２と同
様の作用効果を奏する部材には同一の符号を付してその
説明を省略する。

【００５８】図８において、基板２を保持可能な基板保
持部材３が配設され、この基板保持部材３の前後位置に
平行にそれぞれ案内部材７１，７２が配設されている。
手前側の案内部材７１には、ブラシ洗浄手段７３の駆動
アーム１４が案内部材７１の長手方向に直角な水平方向
に基板保持部材３側に延設されていると共に、駆動アー
ム１４が案内部材７１の長手方向に沿って往復移動自在
に構成されており、その先端部にはブラシ部１５が配設
されている。また、後側の案内部材７２には超音波洗浄
手段７４の駆動アーム１７が案内部材７２の長手方向に
直角な水平方向に基板保持部材３側に延設されていると
共に、駆動アーム１７が案内部材７２の長手方向に沿っ
て往復移動自在に構成されており、その先端部にはノズ
ル部１８が配設されている。この案内部材７１に案内さ
れて駆動アーム１４が移動するときに、その先端部にあ
るブラシ部１５の中心部は、基板２の回転中心を通り、
また、案内部材７２に案内されて駆動アーム１７が移動
するときに、その先端部にあるノズル部１８の中心部
は、基板２の回転中心を通る構成となっている。これら
のブラシ部１５とノズル部１８とはそれぞれ、基板２上
で所定距離を置いて一直線上に移動するようになってい
る。また、ブラシ部１５とノズル部１８との各中心部の
距離は、ここでは、基板２の回転中心と回転端部間の半
径距離としたが、それ以外の所定距離としても良い。

【００５９】上記構成によって、まず、超音波洗浄手段
７４のノズル部１８が基板２の回転端部から回転中心に
向かって移動する。次に、超音波洗浄手段７４のノズル
部１８が基板２の回転中心から回転端部に向かって移動
するときに、ブラシ洗浄手段７３のブラシ部１５が基板
２の回転端部から回転中心に向かって移動する。このよ
うに、ブラシ部１５およびノズル部１８が基板２の回転
中心側と回転端部側に交互に所定回数移動する。さら
に、ブラシ洗浄手段７３のブラシ部１５が基板２の回転
中心から回転端部に向かって移動する。以上により、基
板２の主面に対するブラシ洗浄および超音波洗浄を行
う。

【００６０】このように、ブラシ部１５およびノズル部
１８がそれぞれ、互いに当たるようなことなく所定距離
以上置いて直線状に移動するようにしたため、２つの洗
浄部材を同時に使用することができて、２つの洗浄部材
による洗浄時間（洗浄工程のタクト）を並列化すること
でき、洗浄時間の短縮化を大幅に図ることができる。

【００６１】図９は本発明のさらに他の実施形態におけ
る基板洗浄装置の構成を模式的に示す平面図であり、図
２と同様の作用効果を奏する部材には同一の符号を付し
てその説明を省略する。

【００６２】図９において、基板２を保持可能な基板保
持部材３が配設され、この基板保持部材３の手前位置に
案内部材８１が配設されている。この案内部材８１に案
内されて往復移動自在な移動部材８２が配設されてい
る。この移動部材８２の一方端部には、ブラシ洗浄手段
８３の駆動アーム１４が案内部材８１の長手方向に直角
な水平方向に基板保持部材３側に延設されていると共
に、この駆動アーム１４の先端部にはブラシ部１５が配
設されている。また、移動部材８２の他方端部には、超
音波洗浄手段８４の駆動アーム１７が案内部材７１の長
手方向に直角な水平方向に基板保持部材３側に延設され
ていると共に、駆動アーム１７の先端部にはノズル部１
８が配設されている。これらのブラシ部１５およびノズ
ル部１８の中心部は、基板２の回転中心を通り、また、
ブラシ部１５とノズル部１８とは所定距離を離れて取り
付けられている。さらに、ブラシ部１５とノズル部１８
との各中心部の距離は、ここでは、基板２の回転中心と
回転端部間の半径距離としたが、それ以外の所定距離と
しても良い。

【００６３】上記構成によって、案内部材８１に案内さ
れて移動部材８２と共にブラシ部１５およびノズル部１
８が一体となって移動し始める。まず、ブラシ洗浄手段
８３のブラシ部１５が基板２の回転端部から回転中心に
向かって移動する。次に、ブラシ洗浄手段８３のブラシ
部１５が基板２の回転中心から回転端部に向かって移動
するときに、超音波洗浄手段８４のノズル部１８が基板
２の回転端部から回転中心に向かって移動する。このよ
うに、ブラシ部１５およびノズル部１８が基板２の回転
中心側と回転端部側に交互に所定回数移動する。さら
に、超音波洗浄手段８４のノズル部１８が基板２の回転
中心から回転端部に向かって移動する。以上により、基
板２の主面に対するブラシ洗浄および超音波洗浄を行
う。

【００６４】このように、ブラシ部１５およびノズル部
１８がそれぞれ、互いに当たるようなことなく所定距離
以上置いて直線状に移動するようにしたため、より簡単
な構成で、２つの洗浄部材を同時に使用することができ
て、２つの洗浄部材による洗浄時間（洗浄工程のタク
ト）を並列化することでき、洗浄時間の短縮化を大幅に
図ることができる。

【００６５】なお、上記一実施形態では、垂直ロッド１
３，１６をそれぞれ、基板２の回転中心を通る略直線上
で、かつ、基板２の回転中心を点対称とする位置にそれ
ぞれ配設し、垂直ロッド１３，１６をそれぞれ回動中心
としてブラシ部１５およびノズル部１８がそれぞれ、少
なくとも基板２の回転中心と回転端部間の距離を円弧状
に移動するようにたが、これに限定されるものではな
く、要は、ブラシ部１５およびノズル部１８がそれぞれ
互いに当たることがないように基板２上で所定距離以上
を置いて、基板２の回転中心側と回転端部側に交互に位
置させるように円弧状に移動するように構成することが
できる。

【００６６】また、上記各実施形態では、第１および第
２の洗浄部材がブラシ洗浄手段７と超音波洗浄手段８で
構成したが、第１および第２の洗浄部材がそれぞれ、例
えばブラシ洗浄部材、超音波周波数の比較的周波数の低
い低側超音波洗浄部材、超音波周波数の比較的周波数の
高い高側超音波洗浄部材および高圧ジェット噴射洗浄部
材などの各種洗浄部材のうちの少なくとも何れかであれ
ばよい。例えば、第１および第２の洗浄部材が共にブラ
シ洗浄部材であってもよいし、また、第１の洗浄部材が
ブラシ洗浄部材で第２の洗浄部材が高側超音波洗浄部材
（例えば周波数が１．５〜１．６ＭＨｚ）であってもよ
いし、さらに、第１の洗浄部材がブラシ洗浄部材で第２
の洗浄部材が高圧ジェット噴射洗浄部材であってもよい
し、さらに、第１の洗浄部材がブラシ洗浄部材で第２の
洗浄部材が低側超音波洗浄部材（例えば周波数が４００
ＫＨｚ）であってもよいし、さらには、第１の洗浄部材
が高側超音波洗浄部材（例えば周波数が１．５〜１．６
ＭＨｚ）で第２の洗浄部材が低側超音波洗浄部材（例え
ば周波数が４００ＫＨｚ）であってもよい。これらの第
１および第２の洗浄部材が共に同一の洗浄部材であれ
ば、洗浄効果を略倍増させることができる。また、第１
および第２の洗浄部材に異なる洗浄部材を用いれば、例
えば、ブラシ洗浄では１０μｍ以下の大きさの塵を洗浄
できないが、低側超音波洗浄部材であれば、それ以下の
大きさの塵も取り除くことができ、また、高側超音波洗
浄部材であればさらに小さい塵を取り除くことができ、
さらに、高圧ジェット噴射洗浄部材であれば、しつこい
汚れなども取り除くことができる。このように、それぞ
れの洗浄部材の特徴が活かされて洗浄の相乗効果を得る
ことができる。

【００６７】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、第１およ
び第２の洗浄部材の洗浄部がそれぞれ、互いに当たるよ
うなことなく基板上で所定距離以上置いて移動するた
め、または、第１および第２の洗浄部材を基板の回転中
心側と回転端部側に互いに当たることなく交互に位置さ
せるようにしているため、２つの洗浄部材を同時に使用
することができて、第１および第２の洗浄部材による洗
浄時間を大幅に短縮化することができる。

【００６８】また、第１および第２の洗浄部材の支点部
を、基板の回転中心を挾んだ略反対側に配置したため、
第１および第２の洗浄部材の洗浄部がある程度大きくて
も互いに当たることなく２つの洗浄部材を同時に使用す
ることができる。

【００６９】さらに、洗浄部材が基板面に当接して洗浄
処理する場合に、基板の回転方向に対して洗浄部材の移
動が円弧状に湾曲した逃げる方向であるため、洗浄部材
に無理な荷重がかかることはなく、特に、第１および第
２の洗浄部材の洗浄部が共にブラシ部である場合にはそ
の効果が大きい。

【００７０】さらに、第１および第２の洗浄部材が共に
同一の洗浄部材であれば、洗浄効果が向上し、また、第
１および第２の洗浄部材に異なる洗浄部材を用いれば、
それぞれの洗浄部材の特徴が活かされて洗浄の相乗効果
を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態における基板洗浄装置の構
成を示す斜視図である。

【図２】図１の基板洗浄装置の構成を模式的に示す平面
図である。

【図３】図１のブラシ洗浄手段の一例を示す一部切欠き
斜視図である。

【図４】図１の超音波洗浄手段のアーム先端にあるノズ
ル部の一例を示す断面図である。

【図５】図１の制御手段によって制御されるブラシ洗浄
手段のブラシ部と超音波洗浄手段のノズル部の動きを示
した模式図である。

【図６】図１のブラシ洗浄手段のブラシ部と基板支持部
材の回転方向との関係を説明するための図である。

【図７】（ａ）は図１０のブラシ部９２およびノズル部
９４の動作を示すタイミングチャート、（ｂ）は図１お
よび図２のブラシ部１５およびノズル部１８の動作を示
すタイミングチャートである。

【図８】本発明の他の実施形態における基板洗浄装置の
構成を模式的に示す平面図である。

【図９】本発明のさらに他の実施形態における基板洗浄
装置の構成を模式的に示す平面図である。

【図１０】従来の基板洗浄装置の構成を模式的に示す平
面図である。

【符号の説明】

１ 基板洗浄装置 ２ 基板 ３ 基板保持部材 ５ 駆動モータ ７，７３，８３ ブラシ洗浄手段 ８，７４，８４ 超音波洗浄手段 ９ 制御手段 １３，１６ 垂直ロッド １４，１７ 駆動アーム １５ ブラシ部 １８ ノズル部 ７１，７２，８１ 案内部材 ８２ 移動部材

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を保持可能な基板保持部材が配設さ
   れ、前記基板保持部材に保持されて回転する基板の少な
   くとも回転中心と回転端部間の半径距離を洗浄部がそれ
   ぞれ移動して前記基板の主面をそれぞれ洗浄する第１お
   よび第２の洗浄部材が配設された基板洗浄装置におい
   て、 前記第１および第２の洗浄部材の洗浄部はそれぞれ、前
   記基板上で少なくとも所定距離を置いて直線状および円
   弧状の少なくとも何れかで移動するようにしたことを特
   徴とする基板洗浄装置。
2. 【請求項２】 基板を保持可能な基板保持部材が配設さ
   れ、前記基板保持部材に保持されて回転する基板の少な
   くとも回転中心と回転端部間の半径距離を洗浄部がそれ
   ぞれ移動して前記基板の主面をそれぞれ洗浄する第１お
   よび第２の洗浄部材が配設された基板洗浄装置におい
   て、 前記第１および第２の洗浄部材の一方の洗浄部が支点部
   を回動中心として前記回転中心から前記回転端部に向か
   って前記基板の回転方向と逆方向の円弧状に移動すると
   きに、他方の洗浄部が支点部を回動中心として前記回転
   端部から前記回転中心に向かって前記基板の回転方向と
   同一方向の円弧状に移動するように制御する制御部材が
   備えられたことを特徴とする基板洗浄装置。
3. 【請求項３】 基板を保持可能な基板保持部材が配設さ
   れ、前記基板保持部材に保持されて回転する基板の少な
   くとも回転中心と回転端部間の半径距離を洗浄部がそれ
   ぞれ移動して前記基板の主面をそれぞれ洗浄する第１お
   よび第２の洗浄部材が配設された基板洗浄装置におい
   て、 前記第１および第２の洗浄部材の一方の洗浄部が前記回
   転中心から前記回転端部に向かって直線状に移動すると
   きに、他方の洗浄部が前記回転端部から前記回転中心に
   向かって直線方向に移動するように制御する制御部材が
   備えられたことを特徴とする基板洗浄装置。
4. 【請求項４】 前記第１および第２の洗浄部材がそれぞ
   れ、支点部を回動中心として洗浄部がそれぞれ円弧状に
   移動する場合、前記第１および第２の洗浄部材の支点部
   はそれぞれ、前記回転中心に対して対向する位置に配設
   されたことを特徴とする請求項１または２記載の基板洗
   浄装置。
5. 【請求項５】 前記第１および第２の洗浄部材はそれぞ
   れ、ブラシ洗浄部材、低側超音波洗浄部材、高側超音波
   洗浄部材および高圧ジェット噴射洗浄部材のうち少なく
   とも何れかであることを特徴とする請求項１〜４の何れ
   かに記載の基板洗浄装置。
6. 【請求項６】 前記第１および第２の洗浄部材のうち少
   なくとも一方がブラシ洗浄部材であることを特徴とする
   請求項２記載の基板洗浄装置。
7. 【請求項７】 基板保持部材に保持されて回転する基板
   の回転端部から回転中心に向かって、前記基板保持部材
   の近傍位置に配置された第１および第２の洗浄部材の一
   方の洗浄部が支点部を回動中心として前記基板の回転方
   向と同一方向の円弧状に移動し、さらに、前記一方の洗
   浄部が支点部を回動中心として前記回転中心から前記回
   転端部に向かって前記基板の回転方向と逆方向の円弧状
   に移動すると共に、他方の洗浄部が支点部を回動中心と
   して前記回転端部から前記回転中心に向かって前記基板
   の回転方向と同一方向の円弧状に移動するように、前記
   第１および第２の洗浄部材の洗浄部が前記基板の回転中
   心側と回転端部側に交互に所定回数移動し、さらに、前
   記他方の洗浄部が支点部を回動中心として前記回転中心
   から前記回転端部に向かって前記基板の回転方向と逆方
   向の円弧状に移動することで、前記基板の主面を洗浄す
   ることを特徴とする基板洗浄方法。