JPH1116145A

JPH1116145A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH1116145A
Application number: JP16472197A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Sato; 諭佐藤; Shinichi Matsumura; 伸一松村
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-06-20
Filing date: 1997-06-20
Publication date: 1999-01-22

Abstract

(57)【要約】【課題】非磁性支持体及び磁気記録媒体の製造工程に
おいて、良好な走行性と作業性を確保できるとともに、
裏写りや転写等による磁性層の表面性の悪化を防止し、
良好な電磁変換特性を有する磁気記録媒体を提供する。【解決手段】非磁性支持体１上に金属磁性薄膜からな
る磁性層２が形成されてなる磁気記録媒体において、上
記非磁性支持体１は、磁性層２が形成される面３の空間
平均波長（Ｓλａ）が６〜１０μｍであり、磁性層２が
形成される面とは反対側の面４の中心線平均粗さ（ＳＲ
ａ）が２〜１２ｎｍであり、かつ磁性層２が形成される
面とは反対側の面４の十点平均粗さ（ＳＲｚ）が２０〜
３００ｎｍである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、非磁性支持体上に
金属磁性薄膜からなる磁性層が形成されてなる磁気記録
媒体に関するものであり、特に非磁性支持体の改良に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、磁気記録媒体として、鉄、コ
バルト、ニッケル、或いはこれらを主成分とする金属磁
性材料を、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング等の真空中成膜法により非磁性支持体上に成膜す
る、いわゆる金属磁性薄膜型磁気記録媒体は、従来の塗
布型磁気記録媒体に比べて、飛躍的に記録密度を向上で
きることが知られている。

【０００３】但し、このような記録密度の向上、すなわ
ち高密度記録化のためには、磁気記録ヘッドのギャップ
を小さくし、併せて磁気記録媒体の表面を平滑化してス
ペーシングロスを極力減少させる必要がある。

【０００４】しかし、磁気記録媒体の表面の平滑化を図
るために、非磁性支持体の表面をあまり平坦にしすぎる
と、非磁性支持体が通常の単層構造からなる場合、非磁
性支持体の滑り性、すなわち走行性が悪くなってはり付
きが生じる。そのため、非磁性支持体及び磁気記録媒体
の製造工程で作業性（ハンドリング性）が悪くなる等の
問題がある。

【０００５】これを解決する方法としては、単層構造の
非磁性支持体に対し、磁性層を形成する面とは反対側の
面に、別の層をコーティング（塗布）し、この面を比較
的粗くして走行性を確保する方法が知られている。しか
し、この方法では、コーティングの削れが発生しやす
く、削れ物がドロップアウトの原因となることがある。

【０００６】そこで、別の方法として、非磁性支持体を
複数の層からなる積層体、いわゆる複合化フィルムと
し、磁性層が形成される面とは反対側の面の粗度を大き
くして走行性を向上させ、作業性を確保する方法も試み
られている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たように、非磁性支持体に複合化フィルムを用いる場合
では、通常、非磁性支持体の磁性層を形成する側（以
下、表面と称する。）と、その反対側（裏面と称す
る。）とで表面粗度が異なる。そのため、この非磁性支
持体をロール状に巻取った際に、ロール巻心部で非磁性
支持体の裏面と表面とが強く圧接し、表面に裏面の表面
粗さが裏写りや転写し、磁性層が形成される表面の表面
粗さが悪化してしまう。その結果、この非磁性支持体に
磁性層を形成してテープ化しても、磁性層の表面が非磁
性支持体の裏面の表面粗さの影響を受け、磁性層の表面
粗さが設計通りのものにならないという問題があった。

【０００８】特に、非磁性支持体の厚みが薄く、厚み８
μｍ以下であるような極めて薄い磁気記録媒体になる
と、上述したように非磁性支持体をロール状に巻回した
時に表面への裏写りが激しくなり、電磁変換特性の劣化
が大きくなる。また、非磁性支持体の厚みを薄くする
と、その薄さのためにはり付きが生じ易く、作業性を確
保することが困難である。

【０００９】このように、非磁性支持体の厚みを薄くし
た場合、作業性を確保すると同時に、電磁変換特性を向
上させることは、極めて困難であった。

【００１０】本発明は、このような問題点を解決しよう
とするものであり、非磁性支持体及び磁気記録媒体の製
造工程において、良好な走行性と作業性を確保できると
ともに、裏写りや転写等による磁性層の表面性の悪化を
防止し、良好な電磁変換特性を有する磁気記録媒体を提
供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らが、上記目的
を達成するため、鋭意検討を重ねた結果、非磁性支持体
の磁性層が形成される面とその反対側の面の３次元の表
面性を制御することにより、作業性と電磁変換特性とを
両立できることを見いだした。

【００１２】すなわち、本発明に係る磁気記録媒体は、
非磁性支持体上に金属磁性薄膜からなる磁性層が形成さ
れてなるものである。そして、上記非磁性支持体は、磁
性層が形成される面（表面）の空間平均波長（Ｓλａ）
が６〜１０μｍであり、磁性層が形成される面とは反対
側の面（裏面）の中心線平均粗さ（ＳＲａ）が２〜１２
ｎｍであり、かつ磁性層が形成される面とは反対側の面
（裏面）の十点平均粗さ（ＳＲｚ）が２０〜３００ｎｍ
であることを特徴とする。

【００１３】このように、本発明に係る磁気記録媒体
は、非磁性支持体の磁性層が形成される面（表面）と、
磁性層が形成される面とは反対側の面（裏面）との３次
元の表面性を上記範囲に制御することにより、非磁性支
持体及び磁気記録媒体の製造工程での良好な作業性を確
保することができる。さらに、この磁気記録媒体は、磁
性層の形成される面とは反対側の面（裏面）の表面粗さ
が磁性層の形成される面（表面）に裏写りや転写して磁
性層の表面性の悪化を防止することができ、良好な電磁
変換特性と走行耐久性を得ることができる。

【００１４】なお、本発明に係る磁気記録媒体は、非磁
性支持体の厚みが、８μｍ以下であってもよい。非磁性
支持体の厚みを８μｍ以下とすることにより、磁気記録
媒体全体としての厚みも薄くすることが可能となり、結
果的に磁気記録媒体の全長を長くして、リールに巻回し
て収納することができる。したがって、記録時間の超時
間化及び情報量の増大化が達成される。

【００１５】また、本発明に係る磁気記録媒体は、ハイ
バンド８ｍｍビデオテープや家庭用デジタルビデオ（Ｄ
ＶＣ）等に代表されるようにその全厚をできるだけ薄く
することが望まれている磁気記録媒体に適用することが
できる。

【００１６】さらに、上記非磁性支持体には、磁性層が
形成される面（表面）の空間平均波長（Ｓλａ）が６〜
１０μｍである第１の層と、磁性層が形成される面とは
反対側の面（裏面）の中心線平均粗さ（ＳＲａ）が２〜
１２ｎｍであり、かつ十点平均粗さ（ＳＲｚ）が２０〜
３００ｎｍである第２の層とが少なくとも積層されてな
る複合化フィルムを用いるとよい。非磁性支持体として
は、別の層をコーティング（塗布）して、表面粗さを調
節したものを用いてもよいが、コーティングの削れが発
生しやすく、削れ物がドロップアウトの原因となる。し
たがって、上述したように、非磁性支持体として、複数
の層が積層されてなる複合化フィルムを用いることによ
り、すぐれた電磁変換特性を発揮することができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る磁気記録媒体
の好適な実施例を図面を参照しながら詳細に説明する。

【００１８】本発明を適用した磁気記録媒体は、図１に
示すように、第１の層１ａと第２の層１ｂとの積層体
（複合化フィルム）である非磁性支持体１上に金属磁性
薄膜からなる磁性層２が形成されてなるものである。こ
こで、第１の層１ａの磁性層が形成される面を表面３と
し、磁性層が形成される面とは反対側になる面、すなわ
ち第２の層の露出面を裏面４とする。

【００１９】そして、第１の層１ａの表面３の空間平均
波長（Ｓλａ）が６〜１０μｍであり、第２の層１ｂの
裏面４の中心線平均粗さ（ＳＲａ）が２〜１２ｎｍであ
り、かつ第２の層１ｂの裏面４の十点平均粗さ（ＳＲ
ｚ）が２０〜３００ｎｍとなるように形成されている。

【００２０】第１の層の表面３の空間平均波長（Ｓλ
ａ）は、６〜１０μｍの範囲で形成され、８〜１０μｍ
の範囲がより好ましい。表面３の空間平均波長（Ｓλ
ａ）が５μｍ以下であると、非磁性支持体及び磁気記録
媒体の製造工程ではり付きが生じて良好な作業性を得ら
れなくなる。また、表面３の空間平均波長（Ｓλａ）が
１０μｍを越えると、磁気テープと磁気ヘッドとの当た
り特性が低下し、電磁変換特性が低下するため好ましく
ない。

【００２１】また、第２の層１ｂの裏面４の中心線平均
粗さ（ＳＲａ）は、２〜１２ｎｍの範囲で形成され、３
〜１０ｎｍの範囲がより好ましい。裏面４の中心線平均
粗さ（ＳＲａ）が２ｎｍ未満になると、非磁性支持体及
び磁気記録媒体の製造工程においてはり付きが生じ、良
好な作業性を確保できなくなる。また、裏面４の中心線
平均粗さ（ＳＲａ）が１２ｎｍを越えると、非磁性支持
体及び磁気記録媒体のロール状の巻取り状態において、
裏面４の表面粗さが表面３に裏写りや転写して、磁性層
２の表面粗さが悪化するため好ましくない。

【００２２】同じく、第２の層１ｂの裏面４の十点平均
粗さ（ＳＲｚ）は、２０〜３００ｎｍの範囲で形成さ
れ、２０〜１５０ｎｍの範囲がより好ましい。裏面４の
十点平均粗さ（ＳＲｚ）が２０ｎｍ未満になると、非磁
性支持体及び磁気記録媒体の製造工程においてはり付き
が生じ、良好な作業性を確保できなくなる。また、裏面
４の十点平均粗さ（ＳＲｚ）が３００ｎｍを越えると、
非磁性支持体及び磁気記録媒体のロール状の巻取り状態
において、裏面４の表面粗さが表面３に裏写りや転写し
て、磁性層２の表面粗さが悪化するため好ましくない。

【００２３】このように、本発明を適用した磁気記録媒
体は、非磁性支持体１の磁性層２が形成される表面３
と、磁性層２が形成される表面３とは反対側の裏面４の
３次元の表面性を上述した範囲に制御することにより、
非磁性支持体１の及び磁気記録媒体の製造工程での良好
な作業性を確保することができる。さらに、この磁気記
録媒体においては、裏面４の表面粗さが表面３に裏写り
や転写して、磁性層２の表面性が悪化すること防止で
き、良好な電磁変換特性を得ることができる。

【００２４】ここで、本発明において使用した３次元の
表面粗さの指標となる空間平均波長（Ｓλａ）と、中心
線平均粗さＳＲａ、十点平均粗さＳＲｚは、以下のよう
に定義されるものである。

【００２５】中心線平均粗さＳＲａは、Ｌｘ、ＬｙをＸ
方向、Ｙ方向の寸法とし、触針式粗さ計により得られた
粗さ曲面をｆ（ｘ，ｙ）と表したとき、下記の数１式で
与えられる値をｎｍの単位で表したものである。

【００２６】

【数１】

【００２７】十点平均粗さ（ＳＲｚ）は、粗さ曲面を基
準面積分だけ切り取った平均面に平行な平面のうち、高
い方から１〜５番目までの山の平均高さと、深い（低
い）方から１〜５番目までの谷の平均深さとの差を表し
たものである。

【００２８】空間平均波長（Ｓλａ）は、以下のように
して求められるものである。すなわち、触針式表面粗さ
計により得られた粗さ曲線に対して、上述した中心線平
均粗さ（ＳＲａ）による直線をＸ軸、それに直角な方向
をＹ軸として、粗さ曲線を関数ｙ＝ｆ（ｘ）で表した
時、次式で与えられる値をμｍ単位で表したものであ
る。

【００２９】ここで、２次元の表面粗さの空間平均波長
（λａ）は、下記の数２式で与えられる。

【００３０】

【数２】

【００３１】これより、３次元の表面粗さの空間平均波
長（Ｓλａ）は、下記の数３式により定義される。

【００３２】

【数３】

【００３３】なお、本発明において、これら表面粗さ
は、表面粗さ測定器により、触針計２μｍＲ、触針圧１
０ｍｇ、カットオフ値０．２５ｍｍ、Ｘ方向の測定長
０．８ｍｍ、Ｙ方向の測定長０．０２μｍの各条件で求
められたものである。

【００３４】ところで、これら空間平均波長（Ｓλ
ａ）、中心線平均粗さ（ＳＲａ）、及び十点平均粗さ
（ＳＲｚ）は、様々な要素によって左右される。

【００３５】例えば、第１の層１ａの表面３における空
間平均波長（Ｓλａ）は、複合化フィルムの成膜時の延
伸条件（温度、強度等）によって調整できる。

【００３６】この表面３は、従来公知の方法（例えば、
微粒子の添加等により）以下のような形状を有すること
が好ましい。

【００３７】（１）粒状、シワ状、ミミズ状の突起が形
成され、かつ、これらの突起より高い時が表面に１０〜
１万個／ｍｍ²の割合で形成されていること。

【００３８】（２）高さ１０００〜２００００ｎｍで１
ｍｍ²当たりで平均１万〜１００万個の山状突起が形成
されていること。

【００３９】（３）高さ５００〜６０００ｎｍで１ｍｍ
²当たりで平均１×１０⁵〜１×１０^８個の山状突起が形
成されていること。

【００４０】（４）表面に連続被膜からなるプライマー
が塗設されており、この膜に粒径０．０１μｍ以下の微
粒子を核とした樹脂（結合剤）による微小突起と、この
樹脂のみによる微小突起とが形成されていること。

【００４１】また、第２の層１ｂの裏面４の中心平均粗
さ（ＳＲａ）及び十点平均粗さ（ＳＲｚ）は、第２の層
に添加する粒子の粒径、添加量によって調整できる。

【００４２】この粒子の粒径としては、０．０１〜１μ
ｍのものが好ましく用いられ、０．１〜１μｍのものが
より好ましい。この粒子の添加量としては、第２の層の
０．０１〜０．５重量％とすることが好ましく、０．０
１〜０．３重量％がより好ましい。

【００４３】また、第２の層１ｂの厚みを２μｍ以下と
することも、上述した表面粗度を調整するための１つの
手段である。この厚みが２μｍを越えると、第２の層１
ｂに添加する微粒子の粒径による影響、特に中心線平均
粗さ（ＳＲａ）に対する影響が大きくなり、表面粗度を
上記範囲にすることが困難となる。

【００４４】第２の層１ｂに添加する粒子としては、特
に限定されるものではないが、例えば、シリカ、アルミ
ナ、二酸化チタン、カオリン、タルク、グラファイト、
炭酸カルシウム、長石、二硫化モリブデン、カーボンブ
ラック、硫酸バリウム等の無機質系微粒子が挙げられ
る。また、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、
メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート
共重架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリ
デンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグア
ナミン樹脂等の有機質系微粒子も挙げられる。

【００４５】次に、本発明に係る磁気記録媒体は、非磁
性支持体の厚みを８μｍ以下にするとよい。非磁性支持
体の厚みを８μｍ以下とすることにより、磁気記録媒体
全体としての厚みも薄くすることが可能となり、結果的
に磁気記録媒体の全長を長くして、リールに巻回して収
納することができる。したがって、記録時間の長時間化
及び情報量の増大化が達成される。但し、非磁性支持体
の耐久性を考慮すると、非磁性支持体の厚みは３μｍ以
上が好ましい。

【００４６】また、ここでは、非磁性支持体１は、第１
の層１ａと第２の層１ｂとの２層構造からなる複合化フ
ィルムであるが、表面３と裏面４との表面性が上述した
条件を満たしていれば、第１の層１ａと第２の層１ｂと
の間に他の層が形成された３層以上の層を有する複合化
フィルムであってもよい。

【００４７】一般に、これら複合化フィルムとしては、
高分子化合物類を溶融してシート状に押し出し、少なく
とも１方向に延伸して形成されたフィルムが好ましく用
いられ、通常のバランスタイプ、機械軸方向又はその直
角方向に強化されたタイプ、二軸方向に強化されたタイ
プのいずれかが好ましく用いられる。複合化フィルム
は、各層間の密着性、接着性、及び生産性の点から、溶
融共押し出し法等より好ましく作製される。

【００４８】このように、非磁性支持体として、複数の
層からなる複合化フィルムを用いることにより、削れが
発生しにくく、削れ物が原因となるドロップアウトを防
止することができ、すぐれた電磁変換特性を発揮するこ
とができる。

【００４９】なお、この非磁性支持体の材料としては、
従来公知の高分子材料を使用することができる。例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，
６−ナフタレート等のポリエステル類、芳香族ポリアミ
ド、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
類、ニトロセルロース、セルローストリアセテート、セ
ルロースダイアセテート、セルローストリアセテートブ
チレート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート
類、ポリイミド類に代表されるような高分子材料が挙げ
られる。

【００５０】次に、本発明を適用した磁気記録媒体の磁
性層２を形成する金属磁性薄膜としては、例えば、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｆｅ等を主体とする金属磁性薄膜、又はそれ
らの合金を主体とする金属磁性薄膜が使用される。

【００５１】この金属磁性薄膜からなる磁性層２の厚み
は、０．０５〜０．２μｍが好ましく、０．１〜０．２
μｍがより好ましい。すなわち、磁性層２の厚みを薄く
すると、自己減磁損失等を少なくすると共に、上述した
ように非磁性支持体の薄さに加えて磁気記録媒体の全厚
を薄くすることができ、磁気記録媒体の全長を長くして
供給リール等に収納することができる。その結果、記録
時間の長時間化及び情報量の増大化が十分に達成され
る。

【００５２】この金属磁性薄膜の形成手段としては、真
空下で強磁性金属材料を加熱蒸発させ、非磁性支持体上
に堆積させる真空蒸着法等が好ましく使用されている。
この他にも、強磁性金属材料の蒸発を放電中で行うイオ
ンプレーティング法、アルゴンを主成分とする雰囲気で
グロー放電を起こし、生じたアルゴンイオンでターゲッ
ト表面の原子をたたき出すスパッタリング法等、いわゆ
るＰＶＤ技術を使用してもよい。

【００５３】さらに、この金属磁性薄膜においては、非
磁性支持体との付着強度改善、或いは強磁性薄膜自体の
耐食性、耐摩耗性の改善の目的で、酸素ガスが支配的と
なる雰囲気下で行うとよい。

【００５４】なお、本発明に係る磁気記録媒体の構成
は、上述した非磁性支持体１と磁性層２の２層に限定さ
れるものではなく、非磁性支持体１と磁性層２との間
に、各層間の付着力向上及び保磁力の制御のために、下
地層や中間層を設けてもよい。

【００５５】また、非磁性支持体１の磁性層２が形成さ
れる面とは反対側、すなわち、第２の層１ｂの裏面４に
は、走行性の向上及び耐久性を高める目的で、バックコ
ート層を設けてもよい。バックコート層には、従来公知
の材料を用いることができ、例えば、カーボン、炭酸カ
ルシウム等の非磁性顔料をポリウレタン、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体等の結合剤に分散させたものを用い
ることができる。

【００５６】さらに、金属磁性薄膜からなる磁性層２の
表面には、磁気記録媒体の耐久性や耐候性を高める目的
で、硬質炭素膜を設けてもよい。硬質炭素膜は、スパッ
タリング法や化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、膜厚
がスペーシングやテープ特性に影響を与えない６〜１０
ｎｍ程度に形成されるのが好ましい。さらに、潤滑剤を
存在せしめることにより、磁性材料の粒子状突起の形状
に基づく走行性を高めることも可能である。

【００５７】また、磁気記録媒体の表面、裏面、並びに
それらの近傍、或いは磁性層２内（強磁性金属薄膜内の
空隙）、非磁性支持体１と磁性層２との界面、非磁性支
持体１内等に公知の手段により防錆剤、帯電防止剤等の
各種添加剤を必要に応じて存在させてもよい。

【００５８】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する
が、本発明は、本実施例に限定されるものではないこと
は言うまでもない。

【００５９】実施例１先ず始めに、第１の層と第２の層とからなる非磁性支持
体（複合化フィルム）を以下のように作製した。

【００６０】第１の層用の原料として、重合触媒残さ等
の基づいて形成される内部粒子をできる限り含まず、実
質的に無配向、非結晶のポリエチレンテレフタレートを
調製した。また、第２の層用の原料として、第１の層と
同様に、重合触媒残さに基づいて形成される内部粒子を
できる限り含まず、実質的に無配向、非結晶のポリエチ
レンテレフタレートに、粒子として平均粒径が０．２μ
ｍであるＳｉＯ_２粒子を０．１重量％含有させたものを
調製した。

【００６１】そして、これら第１の層用及び第２の層用
の各原料を約２０℃に維持された回転ドラム上に溶融共
押し出し、縦方向に９０℃で３．５倍の延伸を行った。

【００６２】さらに、この非磁性支持体（一軸延伸フィ
ルム）の第１の層の表面にロールコート法で以下に示す
組成の塗料を塗布し、下塗り層を形成した。

【００６３】（下塗り層用塗料の組成）アクリル−ポリエステル樹脂の１．５重量％溶液８０重量部（商品名：ペスレジンＳＨ５５１Ａ；高松油脂社製）平均粒径０．０２μｍのＳｉＯ₂粒子の１．５重量％溶液６重量部ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル１６重量部（商品名：ＮＳ２４０；日本油脂社製）その後、横方向に１００℃で３．５倍の逐次二軸延伸を
行い、第２の層の厚さが２μｍ、第１の層の厚さが６μ
ｍ、全厚が８μｍの非磁性支持体（複合化フィルム）を
得た。この時の第１の層の表面の空間平均波長（Ｓλ
ａ）は６μｍ、第２の層の裏面の中心線平均粗さ（ＳＲ
ａ）は３．２ｎｍ、十点平均粗さ（ＳＲｚ）は４８ｎｍ
である。

【００６４】次に、このようにして作製された非磁性支
持体（複合化フィルム）に対して、図２に示す連続巻取
り式蒸着装置を用いて、連続斜め蒸着法により磁性層を
形成する。

【００６５】この連続巻き取り式蒸着装置は、内部が１
０^-3Ｐａ程度の真空状態とされた真空室１１内に、冷却
キャン１２に対向して、金属磁性薄膜用の蒸着源（Ｃ
ｏ）１３を収納するるつぼ１４が配置されてなる。

【００６６】上記冷却キャン１２は、−２０℃に冷却さ
れ、図中反時計回り方向に回転している。そして、非磁
性支持体１は、送り速度５０ｍ／分で供給ロール１５か
ら繰り出され、冷却キャン１２の周面に沿って移行し、
巻取りロール１６に巻取られるようになっている。な
お、供給ロール１５と冷却キャン１２との間には、ガイ
ドローラー１７が配置され、冷却キャン１２と巻取りロ
ール１６の間には、ガイドローラー１８が配置され、非
磁性支持体１が所定のテンションをもって供給ロール１
５から冷却キャン１２、及び冷却キャン１２から巻取り
ロール１６の間を円滑に走行できるようになっている。

【００６７】また、上記蒸着源１３に対しては、電子ビ
ーム発生源１９から電子ビーム２０が加速照射される。
電子ビーム２０が加速照射された蒸着源１３は、加熱蒸
発し、冷却キャン１２の周面にそって走行する非磁性支
持体上の第１の層上に付着（蒸着）する。このとき、蒸
着源１３と冷却キャン１２との間には、シャッタ２２を
位置調整可能なように取り付けた防着板２１が配置され
てなることから、非磁性支持体１には、蒸着粒子が所定
の角度で入射するようになっている。したがって、非磁
性支持体１の第１の層の表面には、磁性粒子が非磁性支
持体１の表面に対して斜めに配向して磁性層が形成され
る。ここで、磁性層の膜厚は、１８０ｎｍとする。

【００６８】さらに、このような金属磁性薄膜の蒸着に
際しては、図示しない酸素ガス導入口から非磁性支持体
の表面に流量２Ｌ／分で酸素ガスが供給され、金属磁性
薄膜の磁気特性、耐久性、及び耐候性の向上が図られて
いる。

【００６９】次に、磁性層上に、スパッタ法により硬質
炭素膜を形成する。スパッタ条件は、真空度をＡｒガス
雰囲気中０．８Ｐａとし、テープ送り速度を５ｍ／分、
硬質炭素膜の膜厚を５ｎｍとした。

【００７０】次に、この硬質炭素膜に対して、有機物防
錆剤０．１重量％溶液をグラビアロールを使用した塗布
機にて塗布し、１００℃のドライヤーで乾燥させた。そ
の後に、潤滑剤としてパーフルオロ・ポリエーテル誘導
体よりなる有機物を主体とした０．５重量％溶液を同様
にグラビアロールにて塗布乾燥させ、これをトップコー
ト層とした。

【００７１】次に、非磁性支持体の第２の層の裏面（磁
性層を形成される側とは反対側の面）に、カーボンを主
体とし、結合剤として塩化ビニル系を使用したバックコ
ート層（厚さ０．５μｍ）を形成した。

【００７２】以上、このようにして得られた磁気記録媒
体原反を８ｍｍ幅に裁断して、サンプルテープ（実施例
１）を作製した。

【００７３】実施例２〜実施例７第２の層に添加するＳｉＯ₂又はＣａＣＯ₃の粒子の粒径
（０．１〜１μｍ）及び添加量（０．０１〜０．３重量
％）、延伸条件等を調整し、第１の層の空間平均波長
（Ｓλａ）、及び第２の層の表面粗さ（ＳＲａ，ＳＲ
ｚ）を変更した以外は、実施例１と同様の構成の非磁性
支持体を得た。そして、実施例１と同様の条件で金属磁
性薄膜からなる磁性層を設け、８ｍｍ幅に裁断して、サ
ンプルテープ（実施例２〜実施例７）を作製した。

【００７４】実施例８第１の層用の原料として、以下に示す芳香族ポリアミド
フィルムを用意した。まず、脱水したＮ−メチルピロリ
ドンに、０．９モル比に相当する２−クロル−フェニレ
ンジアミンと、０．１モル比に相当する４，４’−ジア
ミノジフェニルスルホンを攪拌溶解させ、冷却し、この
中に０．７モル比に相当するテレフタル酸クロリドを添
加し、２時間攪拌し、芳香族ポリアミド溶液を得た。

【００７５】第２の層用原料としては、第１の層用の原
料として得られたポリマーに対して、十分精製した水酸
化カルシウム、粒径０．２μｍのＳｉＯ₂を０．１５重
量％添加し攪拌して、芳香族ポリアミド溶液を得た。

【００７６】次に、このポリアミド溶液を表面研磨した
金属ドラム上へ３０℃で均一に流延し、１２０℃の雰囲
気で約１０分間乾燥した。そして、この芳香族ポリアミ
ドフィルムを金属ドラムから剥離し、３０℃の水槽中に
連続的に約３０分間浸漬しながら、ＭＤ方向に延伸し
た。さらにこの芳香族ポリアミドフィルムをテンターに
導入して、３２０℃でＴＤ方向に延伸して厚さ４μｍの
芳香族ポリアミドフィルムよりなる非磁性支持体を得
た。

【００７７】これにより、第１の層の表面の空間平均波
長（Ｓλａ）が６μｍ、第２の層の裏面の中心線平均粗
さ（ＳＲａ）が４ｎｍ、十点平均粗さ（ＳＲｚ）が６０
ｎｍである非磁性支持体を得ることができた。

【００７８】この非磁性支持体を用いた以外は、実施例
１と同様の条件で金属磁性薄膜からなる磁性層を設け、
８ｍｍ幅に裁断して、サンプルテープ（実施例８）を作
製した。

【００７９】比較例１〜比較例６第２の層に添加するＳｉＯ₂又はＣａＣＯ₃の粒子の粒径
（０．０１〜２．０μｍ）及び添加量（０．００１〜
０．３重量％）、延伸条件等を調整し、第１の層の空間
平均波長（Ｓλａ）及び第２の層の表面粗さ（ＳＲａ，
ＳＲｚ）を変更した以外は、実施例１と同様の構成のポ
リエチレンテレフタレートフィルムからなる非磁性支持
体を得た。

【００８０】この非磁性支持体を用いた以外は、実施例
１と同様の条件で金属磁性薄膜からなる磁性層を設け、
８ｍｍ幅に裁断して、サンプルテープ（比較例１〜比較
例６）を作製した。

【００８１】比較例７第１の層の単層構造からなる非磁性支持体に、第２の層
をコーティング（塗布）して第２の層の表面粗さを変更
した以外は、実施例１と同様の構成のポリエチレンテレ
フタレートフィルムからなる非磁性支持体を得た。

【００８２】この非磁性支持体を用いた以外は、実施例
１と同様の条件で金属磁性薄膜からなる磁性層を設け、
８ｍｍ幅に裁断して、サンプルテープ（比較例７）を作
製した。

【００８３】比較例８第２の層に添加するＳｉＯ₂の粒子の粒径を０．３μ
ｍ、添加量を０．１重量％に調整し、第１の層の空間平
均波長及び第２の層の表面粗さを変更した以外は、実施
例８と同様の構成の芳香族ポリアミドフィルムよりなる
非磁性支持体を得た。

【００８４】この非磁性支持体を用いた以外は、実施例
１と同様の条件で金属磁性薄膜からなる磁性層を設け、
８ｍｍ幅に裁断して、サンプルテープ（比較例８）を作
製した。

【００８５】実施例１〜実施例８及び比較例１〜比較例
８で得られた非磁性支持体の第１の層の表面の空間平均
波長（Ｓλａ）、及び第２の層の裏面の中心線平均粗さ
（ＳＲａ）、十点平均粗さ（ＳＲｚ）を表１に示す。な
お、これら表面粗さは、表面粗さ測定器（小坂研究所
製；ＥＴ−３０ＨＫ）により、触針計２μｍＲ、触針圧
１０ｍｇ、カットオフ値０．２５ｍｍ、Ｘ方向の測定長
０．８ｍｍ、Ｙ方向の測定長０．０２μｍの各条件で求
めたものである。

【００８６】

【表１】

【００８７】評価実施例１及び比較例で得られた磁気記録媒体原反及びサ
ンプルテープについて、以下に示す評価試験を行った。

【００８８】（作業性の評価）ロール形状の磁気記録媒
体原反（８ｍｍ幅に裁断する以前のもの）に対して、全
くシワがないものを○、シワがあるがその数は１〜１０
本であり、サンプルテープの採取が可能であるものを
△、原反全面にシワ（１０本以上）がみられ、サンプル
テープの採取が困難であるものを×として評価した。

【００８９】（磁性層の評価）８ｍｍ幅に裁断されたサ
ンプルテープを８ｍｍカセットに組み込み、ハイバンド
８ｍｍビデオデッキ（ソニー社製；ＥＶ−９００）の改
造機（相対速度：３．８ｍ／秒、記録周波数：７ＭＨ
ｚ）を用いて、サンプルテープの電磁変換特性、ドロッ
プアウト、及び走行耐久性を以下に示すように評価し
た。なお、第２の層の表面粗さによる裏写りや転写の影
響を測定するため、磁気記録媒体原反のロール表層部
（巻外）と、ロール巻心部（巻内）の２箇所について、
各特性を調べた。

【００９０】電磁変換特性：ビデオ信号のＳ／Ｎ比を求
めた。なお、市販のＨｉ８テープ（Ｓλａ＝６．０μ
ｍ、ＳＲａ＝４．０ｎｍ、ＳＲｚ＝４５ｎｍ）を０ｄＢ
として比較測定した。

【００９１】ドロップアウト：ドロップアウトカウンタ
ーを用い、再生出力の減衰が−１６ｄＢ以上、長さが１
０μ秒以上のものを求めた。

【００９２】走行耐久性：１００回繰り返し再生走行さ
せ、初期の出力に対する走行後の出力の低下（減衰）を
測定した。出力の低下は、−２．０ｄＢまでを許容とし
た。

【００９３】これらの結果を表２に示す。

【００９４】

【表２】

【００９５】表１及び表２の結果から、非磁性支持体の
第１の層の空間平均波長（Ｓλａ）が６〜１０μｍであ
り、第２の層の中心線平均粗さ（ＳＲａ）が２〜１２ｎ
ｍであり、かつ十点平均粗さ（ＳＲｚ）が２０〜３００
ｎｍであることを満たす実施例１〜実施例８において
は、いずれも優れた作業性、電磁変換特性、走行耐久性
等を得ることができた。

【００９６】実施例６においては、非磁性支持体の全厚
が６μｍと非常に薄いサンプルテープであるが、第１の
層の空間平均波長（Ｓλａ）、第２の層の表面粗度（Ｓ
Ｒａ，ＳＲｚ）が適切な範囲内にあるので、電磁変換特
性等の特性に優れるとともに、作業性にも優れているこ
とがわかる。

【００９７】実施例７においては、非磁性支持体の第１
の層の厚さを１μｍとしたサンプルテープであるが、第
１の層の空間平均波長（Ｓλａ）、第２の表面粗度（Ｓ
Ｒａ，ＳＲｚ）が適切な範囲内にあるので、電磁変換特
性等の特性に優れるとともに、作業性にも優れているこ
とがわかる。

【００９８】実施例８においては、非磁性支持体に第１
の層の厚さを４μｍとした芳香族ポリアミドフィルムを
用いたサンプルテープであるが、第１の層の空間平均波
長（Ｓλａ）、第２の表面粗度（ＳＲａ，ＳＲｚ）が適
切な範囲内にあるので、電磁変換特性等の特性に優れる
とともに、作業性にも優れていることがわかる。なお、
芳香族ポリアミドフィルムは、機械強度に優れているこ
とから、ポリエステルに比べ厚みを薄くしやすいという
利点を有する。

【００９９】一方、比較例１においては、第２の層の表
面粗度（ＳＲａ，ＳＲｚ）は適切な範囲にあるが、第１
の空間平均波長（Ｓλａ）が大きすぎるため、ハンドリ
ング性には優れているものの、磁気ヘッドとの当たりが
悪く、電磁変換特性に対して良好な結果を得ることがで
きない。

【０１００】また、比較例２〜比較例４においては、第
２の層の表面粗度（ＳＲａ，ＳＲｚ）が大きすぎるた
め、電磁変換特性、ドロップアウト、走行耐久性のいず
れについてもその特性が大きく劣化している。これは、
第２の層の表面粗度が粗すぎるので、磁性層表面に表面
粗さが裏写りや転写して、電磁変換特性が悪化したもの
と考えられる。

【０１０１】また、比較例５においては、第２の層の表
面粗度（ＳＲａ，ＳＲｚ）は適切な範囲にあるが、第１
の空間平均波長（Ｓλａ）が小さすぎるため、電磁変換
特性、走行耐久性等については優れているが、作業性が
悪くなる。

【０１０２】さらに、比較例６のように、第１の空間平
均波長（Ｓλａ）、第２の層の表面粗度（ＳＲａ，ＳＲ
ｚ）が共に小さい場合には、作業性が極端に悪くなり、
ロール全面にシワが生じてしまいサンプルテープの採取
が困難なる。

【０１０３】比較例７においては、第１の層の空間平均
波長（Ｓλａ）、第２の表面粗度（ＳＲａ，ＳＲｚ）が
適切な範囲内にあるが、単層構造の非磁性支持体に対し
て第２の層がコーティングされてなることから、コーテ
ィングの削れが発生して、ドロップアウトが多くなって
好ましくない。

【０１０４】比較例８においては、厚さ４μｍの芳香族
ポリアミドフィルムよりなる非磁性支持体を用いている
が、第１の層の空間平均波長（Ｓλａ）が小さいため、
作業性が悪くなり、ロール全面にシワが生じた。

【０１０５】このように、非磁性支持体として、第１の
層の空間平均波長（Ｓλａ）が６〜１０μｍであり、第
２の層の中心線平均粗さ（ＳＲａ）が２〜１２ｎｍであ
り、かつ十点平均粗さ（ＳＲｚ）が２０〜３００ｎｍで
あることを満たすような複合化フィルムを用いた場合に
は、作業性、電磁変換特性、走行耐久性等を大幅に向上
できることがわかる。また、このように非磁性支持体の
３次元の表面性を制御することにより、非磁性支持体の
厚みを薄くすることができ、その結果、記録時間の長時
間化及び情報量の増大化が可能となることがわかる。

【０１０６】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明に係る磁気記録媒体は、非磁性支持体の磁性層が形成
される面と、磁性層が形成される面とは反対側の面の表
面性が制御されてなることから、非磁性支持体及び磁気
記録媒体の製造工程において、良好な走行性と作業性を
確保できるとともに、裏写りや転写等による磁性層の表
面性の悪化を防止し、良好な電磁変換特性を得ることが
できる。さらに、本発明によれば、非磁性支持体の厚み
を薄くすることができることから、記録時間の長時間化
及び情報量の増大化を図ることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気記録媒体の一構成例を示
す断面図である。

【図２】同磁気記録媒体の製造に用いる連続巻き取り式
蒸着装置の概略を示す構成図である。

【符号の説明】

１非磁性支持体、１ａ第１の層、１ｂ第２の層、
２磁性層、３表面、４裏面

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性支持体上に金属磁性薄膜からなる
磁性層が形成されてなる磁気記録媒体において、上記非磁性支持体は、磁性層が形成される面の空間平均
波長（Ｓλａ）が６〜１０μｍであり、磁性層が形成さ
れる面とは反対側の面の中心線平均粗さ（ＳＲａ）が２
〜１２ｎｍであり、かつ磁性層が形成される面とは反対
側の面の十点平均粗さ（ＳＲｚ）が２０〜３００ｎｍで
あることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】上記非磁性支持体の厚みは、８μｍ以下
であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】上記非磁性支持体は、磁性層が形成され
る面の空間平均波長（Ｓλａ）が６〜１０μｍである第
１の層と、磁性層が形成される面とは反対側の面の中心
線平均粗さ（ＳＲａ）が２〜１２ｎｍであり、かつ十点
平均粗さ（ＳＲｚ）が２０〜３００ｎｍである第２の層
とが少なくとも積層されてなる複合化フィルムであるこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項４】上記第２の層の厚みは、２μｍ以下であ
ることを特徴とする請求項３記載の磁気記録媒体。
【請求項５】上記第２の層は、粒径が０．１〜１μｍ
である微粒子が添加されてなることを特徴とする請求項
３記載の磁気記録媒体。
【請求項６】微粒子の添加量は、第２の層の０．０１
〜０．３重量％であることを特徴とする請求項５記載の
磁気記録媒体。