JPH11156207A - 光触媒被膜形成用表面処理剤及びこの表面処理剤を用いた光触媒被膜の形成方法 - Google Patents

光触媒被膜形成用表面処理剤及びこの表面処理剤を用いた光触媒被膜の形成方法

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Publication number
JPH11156207A
JPH11156207A JP9325522A JP32552297A JPH11156207A JP H11156207 A JPH11156207 A JP H11156207A JP 9325522 A JP9325522 A JP 9325522A JP 32552297 A JP32552297 A JP 32552297A JP H11156207 A JPH11156207 A JP H11156207A
Authority
JP
Japan
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coating film
photocatalytic coating
base material
treatment agent
treating agent
Prior art date
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Pending
Application number
JP9325522A
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English (en)
Inventor
Makoto Hayakawa
信 早川
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Toto Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
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Publication date
Application filed by Toto Ltd filed Critical Toto Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 汚れが付着している既存の基材や合成樹脂か
らなる基材の表面に、親水性を発揮する光触媒被膜を形
成する。 【解決手段】 分子中にビニルアルコール単位を含む重
合体と金属化合物とを水に分散させた表面処理剤を基材
の表面に塗布すると、基材の表面はある程度親水化せし
められる。そこで、この親水化された表面に光触媒コー
ティング液を塗布することで、基材表面に対する結合力
に優れた光触媒層が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は既存の窓ガラス、窓
枠、外壁のように、既に表面に汚染物質が付着している
基材や合成樹脂等のように表面が塗料をハジく傾向のあ
る基材の表面に光触媒性親水性被膜を形成するための表
面処理剤と、この表面処理剤を用いた光触媒被膜の形成
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】本発明者らは、PCT/WO96/29
375号に開示したように、基材表面に光触媒層を形成
すると、光触媒の光励起に応じて前記層表面が、水との
接触角に換算して10°以下という高度の親水性を呈す
ることを見出し、さらにそれによりガラス、レンズ、鏡
等の透明部材の防曇・視界確保性向上、物品表面の水洗
浄性・降雨洗浄性向上などの効果が得られることを見出
した。
【0003】また、光触媒層に紫外線を照射すると、価
電子帯にあった電子(e-)が伝導帯に励起され、価電
子帯には正孔(h+)が生じ、これら電子(e-)及び正
孔(h+)が酸化還元反応を促進することで、汚れ成分
を分解する作用があることは従来から知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、既存の
基材表面に光触媒層を形成しようとすると、既存の部材
表面には既に汚染物質が付着している場合が多く、その
汚染物質の影響で親水性を発揮する光触媒含有層を形成
するためのコーティング剤が弾かれたり、うまく固着し
なかったりして光触媒含有層の光励起による表面の親水
化機能や汚れ成分の分解機能が損なわれることがある。
また、表面に汚染物質が付着していなくとも合成樹脂の
表面等は表面エネルギーが低いためハジキ現象が起きて
しまい、薄く均一な光触媒被膜を形成することができな
い。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記事情に鑑
みてなされたものであり、基材の表面に、光触媒含有層
を形成する前に、予め基材の表面に塗布され、基材の表
面を親水化して、最外側となる光触媒層の基材表面への
結合強度を向上させる表面処理剤を提供することを目的
とする。
【0006】上記課題を解決すべく本発明に係る光触媒
被膜形成用表面処理剤は、基材の表面に光触媒被膜を形
成する前に、当該表面の前処理を行うために塗布する表
面処理剤であって、この表面処理剤は分子中にビニルア
ルコール単位を含む重合体と、金属化合物とを水に分散
させて構成される。
【0007】また、本発明に係る光触媒被膜形成用表面
処理剤には、シリカ粒子やアルミナ粒子を添加すること
が可能である、これらシリカ粒子やアルミナ粒子を添加
することで、暗所での親水性維持効果が向上し、また膜
の強度も向上する。
【0008】ここで、分子中にビニルアルコール単位を
含む重合体としては、(1)ポリ酢酸ビニルなどのケン化
によって得られるケン化度50〜100%の通常のポリ
ビニルアルコール、(2)カルボン酸のビニルエステルと
ビニル系単量体との共重合体の部分または完全ケン化
物、(3)ポリビニルアルコールをアルデヒドでアセター
ル化して得られるアセタール化ポリビニルアルコール、
(4)ポリアルキレオキサイド、ポリアクリル酸またはそ
の誘導体等の重合体や重合体前駆物とポリビニルアルコ
ールとの混合物等が挙げられる。
【0009】また、金属化合物としては、分子中にビニ
ルアルコール単位を含む重合体と反応して、これを不溶
化するものであればよい。具体的には、硫酸銅、酢酸
銅、ハロゲン化銅、塩化ベリリウム等が挙げられる。
【0010】光触媒被膜の形成方法としては、図1に示
すように、基材の表面を洗浄した後、当該表面に上記構
成の表面処理剤を塗布する。すると、基材の表面がある
程度親水化せしめられる。そこで、このある程度親水化
された表面に光触媒コーティング液を塗布し乾燥せしめ
ることで、基材表面に対する結合力に優れた光触媒層が
得られる。
【0011】
【発明の実施の形態】(実施例)ケン化度50%、重合
度1700のポリビニルアルコールの10%水溶液50
gに2N−塩酸2mlを加え、これに非結晶性の硫酸チタ
ンの24%水溶液4.1gを加えて表面処理剤を調製し
た。この表面処理剤を既に使用されている合成樹脂製品
の表面にスポンジ拭きにより塗布した後、石原産業製光
触媒コーティング液STK01(酸化チタン粒子8重量
部とアルキルシリケート2重量部と硝酸水溶液54.8
重量部とメタノール28重量部とプロパノール7.2重
量部からなる組成物)を溶媒(2−プロパノール9重量
部とジアセトンアルコール1重量部との混合液)で10
0倍に希釈して得た光触媒コーティング液を、直径8m
mのエアガンを用いて105m2/gスプレーコーティ
ング法により塗布後、20℃で20分乾燥させることに
より、光触媒層を硬化させて試料を得た。上記試料につ
いて、光触媒層形成後、3時間太陽光に晒すことによ
り、紫外線が照射されるようにした後、水を噴霧したと
ころ、水滴が形成されず、水が一様に広がる様子が観察
された。また、上記試料を暗所に置いて水との接触角が
30°になった後、再び紫外線を照射したところ、水と
の接触角は5°未満に回復した。
【0012】(比較例)既に使用されている合成樹脂製
品の表面に、洗浄処理をせずに、石原産業製光触媒コー
ティング液STK01(酸化チタン粒子8重量部とアル
キルシリケート2重量部と硝酸水溶液54.8重量部と
メタノール28重量部とプロパノール7.2重量部から
なる組成物)を溶媒(2−プロパノール9重量部とジア
セトンアルコール1重量部との混合液)で100倍に希
釈して得た光触媒コーティング液を、直径8mmのエア
ガンを用いて105m2/gスプレーコーティング法に
より塗布後、20℃で20分乾燥させることにより、光
触媒層を硬化させて試料を得た。上記試料について、光
触媒層形成後、3時間太陽光に晒すことにより、紫外線
が照射されるようにした後、水を噴霧してみたが、所々
水滴が弾かれたり付着してしまい、充分に親水化されて
いない様子が観察された。これは、光触媒が均一に塗布
されていないためと考えられる。
【0013】
【発明の効果】以上に説明した如く、本発明によれば、
分子中にビニルアルコール単位を含む重合体と、金属化
合物とを水に分散させた表面処理剤を用いることによ
り、既存の基材や合成樹脂からなる基材の表面に光触媒
性親水性被膜を形成する場合に、安定的に光触媒の光励
起に応じた親水化効果が発現されるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】基材表面に光触媒被膜を形成する方法の一例を
示すブロック図
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C08K 3/36 C08K 3/36 C08L 29/04 C08L 29/04 A C09D 129/04 C09D 129/04 A

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材の表面に光触媒被膜を形成する前
    に、当該表面の前処理を行うために塗布する表面処理剤
    であって、この表面処理剤は分子中にビニルアルコール
    単位を含む重合体と、金属化合物とを含有する水性分散
    液からなることを特徴とする光触媒被膜形成用表面処理
    剤。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光触媒被膜形成用表面
    処理剤において、この表面処理剤にはシリカ粒子または
    アルミナ粒子が添加されていることを特徴とする光触媒
    被膜形成用表面処理剤。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の表面処
    理剤を基材の表面に塗布し、基材の表面を親水化した後
    に、当該基材の表面に光触媒コーティング液を塗布する
    ようにしたことを特徴とする光触媒被膜の形成方法。
JP9325522A 1997-11-27 1997-11-27 光触媒被膜形成用表面処理剤及びこの表面処理剤を用いた光触媒被膜の形成方法 Pending JPH11156207A (ja)

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