JPH11150391A - 電子回路モジュールおよびその製造方法 - Google Patents

電子回路モジュールおよびその製造方法

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JPH11150391A
JPH11150391A JP9317195A JP31719597A JPH11150391A JP H11150391 A JPH11150391 A JP H11150391A JP 9317195 A JP9317195 A JP 9317195A JP 31719597 A JP31719597 A JP 31719597A JP H11150391 A JPH11150391 A JP H11150391A
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insulating film
shield layer
small block
circuit module
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JP9317195A
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Toshifumi Nakamura
利文 中村
Katsuhiro Yoneyama
勝広 米山
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Sony Corp
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Sony Corp
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    • H01L23/552Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
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  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の電子回路小ブロックが近接して積層さ
れる電子回路モジュールにおいて、各ブロック間のシー
ルド強化と薄型軽量化とを両立させる。 【解決手段】 コネクタ14,24で電気的に接続され
る第1小ブロック1と第2小ブロック2との中間に、第
1小ブロック1の対向面の表面凹凸を反映させた薄膜状
のシールド層17を介在させることで、両ブロックを最
小間隔にて対向可能とする。このシールド層17は、第
1小ブロック1上に薄い絶縁膜15を形成した後、導電
性塗料をスプレーして得られた塗膜より形成され、開口
16を通じて第1ブロックの接地電極に接続される。シ
ールド層17と第2小ブロック2との間の絶縁は、該第
2小ブロック2の表面に形成された絶縁膜25が担う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子機器に内蔵さ
れる電子回路モジュールおよびその製造方法に関し、特
に個々の電子回路小ブロック間のシールドを強化しなが
ら薄型軽量化を実現する構造、およびその簡便な達成方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】携帯電話、PHS(パーソナル・ハンデ
ィホン・システム)、これらを内蔵した携帯情報端末、
あるいは移動体通信機器においては機器本体の薄型軽量
化と高機能化とが同時に進行しており、これらの機器に
搭載される電子回路モジュールにも、限られた容積内に
複数の電子回路小ブロックを高度に密集させることが要
求されている。
【0003】図11に、一例として2個の電子回路小ブ
ロックをシールドケースに収容した電子回路モジュール
の模式的断面図を示す。この電子回路モジュールは、第
1小ブロック100と第2小ブロック200とが、上側
シールドケース300、側面シールドケース301およ
び下側シールドケース302の三者が一体となって形成
される閉鎖空間内に収容されたものである。上記第1小
ブロック100は、実装基板101の両面に半導体素子
102や電子部品103が実装されたものであり、上記
第2小ブロック200は、実装基板201の両面に半導
体素子202や電子部品203が実装されたものであ
る。これら第1小ブロック100と第2小ブロック20
0とは、コネクタ104により相互に電気的に接続され
ている。また、上記第2小ブロック200の下面にはコ
ネクタ105が設けられており、下側シールドケース3
02に開口された外部接続穴303を通じて外部回路と
接続可能となされている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図11に示
されるような電子回路モジュールの構成では、半導体素
子102,202や電子部品103,203の実装によ
り生じた各ブロック上の表面凹凸を組み合わせるように
して該ブロック同士を近接対向させているため、薄型化
には有効である。反面、ブロック同士が近接している
分、両者間の電磁的結合によるノイズが発生しやすく、
正常な電気特性を得ることが困難である。
【0005】上記の問題に対する対策として、図12に
示されるように、第1小ブロック100と第2小ブロッ
ク200との間にたとえば銅平板よりなるシールド中隔
板304を設けることも行なわれている。しかし、かか
る構成では、双方の小ブロック100,200の対向面
に実装される半導体素子102,202や電子部品10
3,203と、導電性を有するシールド中隔板304と
の接触を避けるために、実装品の中で最も高さの大きい
ものに合わせてブロック間の距離を決定する必要がある
ので、薄型化に限界がある。また、かかる金属板を使用
することで軽量化が困難となったり、あるいはシールド
ケースとシールド中隔板の接合部等の離構造が複雑化し
て、組立て作業が煩雑となったり、コストが余分にかか
る等の短所もある。そこで本発明は、薄型軽量化の流れ
を妨げずに優れたシールド効果を達成することが可能な
電子回路モジュールと、その簡便な製造方法を提供する
ことを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の電子回路モジュ
ールは、上述の目的を達成するために提案されるもので
あり、互いに電気的に接続されかつ隣接する電子回路小
ブロック(以下、適宜ブロックと省略する。)の中間
に、これら電子回路小ブロックの少なくとも一方の対向
面の表面凹凸を反映させた薄膜状のシールド層を挟み、
両ブロックを最小間隔にて対向させる構成とすること
で、薄型軽量化を可能とするものである。かかるシール
ド層は、隣接する電子回路小ブロックの双方の対向面か
ら、その少なくとも一方の表面凹凸を反映させた絶縁膜
により隔てられていることが好適である。
【0007】このようにシールド層が絶縁膜により電子
回路小ブロックの双方の対向面から隔てられてなる電子
回路モジュールは、まず第1工程にて第1の電子回路小
ブロックの主面のうち、少なくとも他方の電子回路小ブ
ロックと対向される方の主面にその表面凹凸を反映させ
た第1絶縁膜を形成し、次に第2工程にて上記第1絶縁
膜上に同じ主面の表面凹凸を反映させるごとく薄膜状の
シールド層を形成する。このシールド層は、他方の電子
回路小ブロックの表面から絶縁されている必要があるの
で、次の第3工程ではこのシールド層の表面、または積
層相手である第2の電子回路小ブロックの対向面の少な
くともいずれかに、その表面凹凸を反映させるごとく第
2絶縁膜を形成し、最後に第4工程にて第1絶縁膜とシ
ールド層と第2絶縁膜とがこの順に重なるように上記第
1の電子回路小ブロックと前記第2の電子回路小ブロッ
クとを積層し、かつこれら両ブロックを電気的に接続す
ればよい。
【0008】なお、上記シールド層は、電子回路小ブロ
ックの積層体の外部接続端子の配設面側にも絶縁膜を介
して形成されていてもよい。さらに、この外部接続端子
の配設面側は、シールドケースに被覆されていてもよ
い。また上記シールド層は、電子回路小ブロックの積層
体の外部接続端子の配設面とは反対側の面に絶縁膜を介
して形成されていてもよい。さらに、この反対側の面が
シールドケースに被覆されていてもよい。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明では、隣接する電子回路小
ブロックの間に介在されるシールド層が、少なくとも一
方のブロックの表面凹凸を反映した薄膜で構成されてい
るため、金属平板からなるシールド中隔板を用いる場合
のように最も背の高い実装部品にブロック間距離が制約
されることなく、両ブロックを最小間隔にて対向させる
ことができる。したがって、本発明によれば、電子回路
モジュールの薄型軽量化が可能である。ところで、上記
シールド層が少なくとも一方のブロックの表面凹凸を反
映するということは、このシールド層が隣接するブロッ
クの双方にそれぞれ形成されていても良いことを意味す
る。ただし通常は、いずれか一方のブロックに十分なシ
ールド効果を発揮できる厚さのシールド層が1層設けら
れていれば十分である。
【0010】実用的な構成では、このシールド層は隣接
する電子回路小ブロックの双方の対向面から、その少な
くとも一方の表面凹凸を反映させた絶縁膜により隔てら
れる。かかる構成は、機械強度的にも極めて安定であ
り、シールド層は容易にその形状と定位置を維持するこ
とができる。しかも、シールド中隔板を用いる場合のよ
うに電子小ブロック間に隙間が発生することがなく、シ
ールド効果も確実となる。また、シールド構造が複雑化
することもないので、工数やコストの増大も抑制するこ
とができる。上記シールド層は、典型的には導電性塗料
の塗膜を用いて構成することができる。塗膜を利用すれ
ば、薄膜化や膜厚の均一化が容易となる他、形成工程も
極めて簡便となる。上記導電性塗料としては、Ni,A
g,Cu,カーボン,グラファイトの粉末をたとえばエ
ポキシ樹脂等の分散媒に分散させたものを用いることが
できる。
【0011】ところで、本発明では両ブロックの積層構
造が最終的に、「第1の電子回路小ブロック/第1絶縁
膜/シールド層/第2絶縁膜/第2の電子回路小ブロッ
ク」となれば良いので、各ブロックは次の(a),
(b)いずれかの構成を有していれば良いことになる。 (a)第1の電子回路小ブロック/第1絶縁膜/シール
ド層+ 第2絶縁膜/第2の電子回路ブロック (b)第1の電子回路小ブロック/第1絶縁膜/シール
ド層/第2絶縁膜+ 第2の電子回路ブロック 構成(a)では各々の絶縁膜が各々のブロックの表面凹
凸を反映し、構成(b)ではいずれの絶縁膜も一方のブ
ロックの表面凹凸のみを反映する。前者(a)の構成の
方が反映の度合いが忠実でプロファイルの「だれ」が少
なくなるので、ブロック間距離の短縮には有利である。
【0012】絶縁膜の構成材料としては、たとえばエポ
キシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂等の絶縁性
樹脂を用いることができる。これらの絶縁性樹脂は、適
当な溶媒に溶解して絶縁塗料とし、この絶縁塗料を電子
回路小ブロックの表面にスプレーした後、適当な方法で
硬化させることにより、容易に薄膜状に形成することが
できる。この絶縁塗料の溶媒としては、テレピン油やシ
ンナーを用いることができる。硬化方法としては、樹脂
の種類に応じて加熱、光照射を適宜選択することができ
る。
【0013】上記シールド層は、必要に応じて接地電極
に接続することができる。この接続は、絶縁膜やシール
ド層を所定の二次元的なパターンを予め想定しておけば
容易に達成することができるため、たとえばシールド中
隔板を用いる場合のようにシールドケースの形状変更ま
でも含めた複雑な設計を行う必要が何ら生じない。かか
る構造を有する電子回路モジュールを製造するには、前
述の第1絶縁膜を形成する段階で接地電極の接点を露出
させておき、該第1絶縁膜を被覆してシールド層を形成
することにより、上記接点とシールド層とを接続すれば
よい。
【0014】本発明では、隣接するブロック間にその表
面凹凸を反映させた薄膜状のシールド層を介在させるこ
とで薄型軽量化が図れることが最大のメリットであり、
その薄型軽量化の効果は、積層されるブロックの数が多
くなるほど顕著となる。ここで、積層体の最も外側を構
成するブロックについてもシールドを施すことは、この
積層体と外部回路との間の電磁的結合を防止する上で有
効な手法である。この場合のシールドは、上述のような
薄膜状のシールド層を絶縁膜を介して形成しても、ある
いは従来どおりシールドケースを使用しても、あるいは
シールド層とシールドケースを併用しても構わない。特
に、他の電気部材への外部接続端子の配設面側には、十
分なシールドを施しておくことが望ましく、したがって
シールド層の形成、またはシールド層とシールドケース
の併用が有効である。
【0015】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について説明
する。
【0016】実施例1 本実施例では、2個の電子回路小ブロックの間と外部接
続端子の配設面側にシールド層を形成し、上記配設面と
は反対側の面と側面とをシールドケースで被覆した電子
回路モジュールの構成とその製造方法について説明す
る。まず、本実施例の電子回路モジュールを図7に示
す。このモジュールは、第1小ブロック1と第2小ブロ
ック2とが、上側シールドケース4および側面シールド
ケース5aに被覆されたものである。上記第1小ブロッ
ク1は、実装基板11の両面に半導体素子12や電子部
品13が実装されたものであり、上記第2小ブロック2
は、実装基板21の両面に半導体素子22や電子部品2
3が実装されたものである。これら第1小ブロック1と
第2小ブロック2とは、コネクタ14,24により相互
に電気的に接続されている。また、上記第2小ブロック
2の下面には外部接続端子としてのコネクタ26が設け
られている。
【0017】上記第1小ブロック1と第2小ブロック2
とは、該第1小ブロック1の対向面の表面凹凸を反映さ
せた薄膜状のシールド層17を挟み、最小間隔にて対向
されている。このシールド17層は、上記第1小ブロッ
ク1の表面凹凸を反映した絶縁膜15により該第1小ブ
ロック1の対向面から、また第2小ブロック2の表面凹
凸を反映した絶縁膜25により該第2小ブロック2の対
向面から、それぞれ隔てられている。図7には図示の都
合上、絶縁膜15,25やシールド層17が半導体素子
12,22や電子部品13,23に比べて相対的に厚く
描かれているが、実際にはもっと薄いものである。した
がって、これら2個のブロック1,2のブロック間距離
は、たとえば前掲の図11に示したような、シールド中
隔板を使用しない場合とほとんど変わらない。
【0018】上記第2小ブロック2のコネクタ26の配
線面側にも、絶縁膜25を介してシールド層27が形成
されている。また、上記配線面とは反対側の面、すなわ
ち図7では第1小ブロック1の上方は上側シールドケー
ス4で被覆されている。また、第1小ブロック1と第2
小ブロック2の側壁面は、側面シールドケース5aで被
覆されている。これらのシールドケース4,5aは、た
とえば錫めっきを施した鉄板より構成され、実装基板1
1,21の外周部に沿って設けられた数カ所の穴にその
脚部を挿入したり、あるいは外周部に沿って設けられた
溝に縁部を嵌合させる等の方式により装着された後、各
実装基板11,21上の接地電極にハンダ等の接続手段
を用いて接続されている。
【0019】かかる構成を有する電子回路モジュール
は、外部からの電磁波に対する遮蔽効果に優れ、しかも
シールド層を持たない従来の電子回路モジュール、ある
いはシールド中隔離板を持つ従来の電子回路モジュール
に比べて各電子小ブロック間の干渉も格段に少ないもの
であった。したがって、本発明の電子回路モジュール
は、優れたシールド効果と薄型軽量化とを両立させたも
のであることがわかった。
【0020】次に、上記の電子回路モジュールの製造方
法について、図1ないし図7を参照しながら説明する。
まず、図1に示されるように、第1小ブロック1の実装
基板11の第1主面1a上に、半導体素子12、電子部
品13、およびコネクタ14を常法にしたがって実装し
た。次に、第1小ブロック1の表裏を図2に示されるよ
うに反転させ、第2主面1b上に電子部品13を実装し
た。なお、第2主面1b上に半導体素子12が実装され
ていても構わない。
【0021】次に、第1小ブロック1の表裏を図3に示
されるように再び反転させ、第1主面1a上にエポキシ
樹脂を主成分とする絶縁塗料をスプレーし、熱硬化を経
て厚さ約50〜100μmの絶縁膜15を形成した。こ
のとき、第1主面1a上の図示されない接地電極の接点
を露出させるために、絶縁塗料のスプレー前にこの接点
を予めたとえば絶縁テープ等のマスク材で被覆してお
き、絶縁塗料を半硬化させた段階でピンセットを用いて
上記マスク材を除去することで開口16を形成し、その
後絶縁塗料を本硬化させた。次に、エポキシ樹脂等の絶
縁性の分散媒中にNi,Ag,Cu,カーボン等の粉末
を分散させた導電性塗料を上記の絶縁膜15の上にスプ
レーし、熱硬化を経て厚さ約50〜100μmのシール
ド層17を形成した。このシールド層17は、開口16
の内部において接地電極に接続するものである。
【0022】次に、図5に示されるような第2小ブロッ
ク2を準備した。この第2小ブロック2において、外部
接続端子であるコネクタ26の配設面側、すなわち第1
主面2a上には上記と同様にして絶縁膜25とシールド
層27とが順次積層されており、第1小ブロック1との
対向面側である第2主面2b上には絶縁膜25のみが形
成されている。なお、第2主面2bには、内部接続端子
としてのコネクタ24が実装されている。図5には、こ
れら第1小ブロック1と第2小ブロック2とを位置合わ
せしながら対向させた状態を示した。次に、図6に示さ
れるように、これら両ブロック1,2を積層させた。こ
の積層は、ブロック間距離を最小とするごとく行われ、
第1小ブロック1上のシールド層17と第2小ブロック
2上の絶縁膜25とは部分的に接触する。また、両ブロ
ックの電気的接続は、コネクタ14,24の嵌合により
達成されている。この状態の積層体でも、十分にシール
ド効果に優れる本発明の電子回路モジュールとなり得
る。この後は、前掲の図7に示したように、上記の積層
体にさらに上側シールドケース4と側面シールドケース
5aを装着し、本実施例の電子回路モジュールを完成さ
せた。
【0023】実施例2 本実施例では、実施例1で上述した電子回路モジュール
の外部接続端子の配設面側に、さらに下側シールドケー
スを追加した。すなわち、図8に示されるように、コネ
クタ26の配設面側に下側シールドケースを装着した。
この下側シールドケース6は、コネクタ26の近傍に外
部接続穴7を有しており、他の電気部品の接点がこの外
部接続穴7に挿入され、コネクタ26に接続されるよう
になされている。本実施例の電子回路モジュールは、実
施例1よりもさらにシールド効果に優れたものとなっ
た。
【0024】実施例3 本実施例では、シールドケースは用いずに、電子回路小
ブロックの積層体の上下面の双方に絶縁膜を介してシー
ルド層を設けた。この電子回路モジュールは、図9に示
されるように、第1小ブロック1の第2主面1b側にも
絶縁膜15を介してシールド層17が形成されている。
この構成は、前掲の図6に示した積層体の上面にシール
ドを施したものに相当する。これにより、本実施例では
実施例1と同等のシールド効果を得ながら、より一層の
薄型軽量化を図ることができた。
【0025】実施例4 本実施例では、3個の電子回路小ブロックの積層体をシ
ールドケースに収容した電子回路モジュールについて、
図10を参照しながら説明する。この電子回路モジュー
ルは、前掲の図6に示した積層体の下側に第3小ブロッ
ク3を追加したものに相当する。この第3小ブロック3
の層構成は、第2小ブロック2とほぼ同じである。すな
わち、実装基板31の両主面には半導体素子32や電子
部品33が実装され、第2小ブロック2との対向面側に
は絶縁膜35のみが、一方、外部接続端子であるコネク
タ36の配設面側には絶縁膜35を介してシールド層3
7が形成されている。第2小ブロック2と第3小ブロッ
ク3との間の電気的接続は、コネクタ26,34により
行われている。これら3層からなる電子回路小ブロック
の積層体は、上側シールドケース4、側面シールドケー
ス5a,5bおよび下側シールドケース6の四者が一体
となって形成される閉鎖空間内に収容されている。
【0026】本実施例では、第1小ブロック1と第2小
ブロック2との間のシールドはシールド層17により、
また第2小ブロック2と第3小ブロック3との間のシー
ルドはシールド層27により達成される。同様にして、
本発明によれば電子回路小ブロックの積層数が増加して
も同様にブロック間のシールドを強化しながら最小間隔
による積層が可能となり、電子回路モジュールの薄型軽
量化に極めて有利となる。
【0027】以上、本発明の具体的な実施例を4例挙げ
たが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるもので
はない。たとえば、各ブロックの構成、ブロックの積層
数、絶縁膜やシールド層の構成材料や厚さや形成方法等
の細部については、適宜変更、選択、組合せが可能であ
る。
【0028】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の電子回路モジュールは、隣接する電子回路小ブロッ
クがその対向面の表面凹凸を反映させた薄膜状のシール
ド層を挟んで最小間隔にて対向されてなる積層体からな
るので、十分なシールド効果を得ながら薄膜軽量化を図
ることが容易となる。このシールド層は、隣接する前記
電子回路小ブロックの双方の対向面から、その少なくと
も一方の表面凹凸を反映させた絶縁膜により隔てられた
構成とされることにより、構造的にも機械強度的にも安
定したものとなる。上記シールド層を導電性塗料の塗膜
とする構成は、薄膜化や膜厚の均一化、形成の容易さと
いった観点から有利である。
【0029】上記シールド層を電子回路小ブロックの接
地電極に接続することは、極めて簡単な構造による安定
かつ確実なシールドを可能とする。上記シールド層が、
積層体の少なくとも外部接続端子の配設面側にも絶縁膜
を介して設けられていれば、この外部接続端子を介して
接続される他の電気部品との間のシールドが確実に行わ
れる。また、この外部接続端子の配設面側がシールドケ
ースに被覆されていることも、確実なシールド効果を得
る上で有効である。さらに、シールド層やシールドケー
スを積層体の外部接続端子の配設面と反対側の面にも設
ける構成は、シールド効果を一層高める上で有効であ
る。
【0030】本発明の電子回路モジュールの製造方法
は、電子回路小ブロックの表面凹凸を反映させながら絶
縁膜やシールド層を形成するものであり、何ら大がかり
で特殊な設備や高価な設備を要するものではない。シー
ルド層を電子回路小ブロックの表面に存在する接地電極
と接続したい場合には、予めこの接点を露出させるよう
に絶縁膜を形成しておき、後からこの接点にシールド層
を被着させればよい。したがって、何らシールド構造を
複雑化させるおそれがない。シールド層や絶縁膜は、導
電性塗料や絶縁塗料のスプレーにより形成することがで
き、均一性、再現性、大量生産性、製造効率、簡便性に
優れている。このように、本発明は電子回路モジュール
のシールド性能の向上と薄型軽量化の促進を通じ、最終
的には携帯情報端末に代表される小型電子機器の高性能
化と小型軽量化に大きく貢献するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用したプロセス例において、第1小
ブロックの第1主面上に半導体素子と電子部品とコネク
タを実装した状態を示す模式的断面図である。
【図2】図1の第1小ブロックの第2主面上に電子部品
を実装した状態を示す模式的断面図である。
【図3】図2の第1小ブロックの第1主面上に絶縁膜を
成膜した状態を示す模式的断面図である。
【図4】図3の絶縁膜の上にシールド層を形成した状態
を示す模式的断面図である。
【図5】図4の第1小ブロックと、別に作製した第2小
ブロックとを位置合わせして対向させた状態を示す模式
的断面図である。
【図6】図5の第1小ブロックと第2小ブロックとを積
層した状態を示す模式的断面図である。
【図7】図6の積層体に上側シールドケースと側面シー
ルドケースとを装着して電子回路モジュールを完成させ
たを状態を示す模式的断面図である。
【図8】図7の電子回路モジュールにさらに下側シール
ドケースを追加した本発明の他の実施例を示す模式的断
面図である。
【図9】図6の積層体の上面にもシールド層を形成して
シールドケースを省略した本発明の他の実施例を示す模
式的断面図である。
【図10】3個の小ブロックをシールドケースに収容し
た本発明の他の実施例を示す模式的断面図である。
【図11】2個の小ブロック間のシールド手段を持たな
い従来の電子回路モジュールを示す模式的断面図であ
る。
【図12】図11の2個の電子回路小ブロック間にシー
ルド中隔板を用いた従来の電子回路モジュールを示す模
式的断面図である。
【符号の説明】
1…第1小ブロック 1a…(第1小ブロックの)第
1主面 1b…(第1小ブロックの)第2主面 2…第
2小ブロック 2a…(第2小ブロックの)第1主面
2b…(第2小ブロックの)第2主面 3…第3小ブロ
ック 4a…上側シールドケース 5a,5b…側面シ
ールドケース 6…下側シールドケース 7…外部接続穴 11,12,13…実装基板 12,
22,32…半導体素子 13,23,33…電子部品 14,24,26,36
…コネクタ 15,25,35…絶縁膜 16…開口
17,27,37…シールド層

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 互いに電気的に接続された複数の電子回
    路小ブロックがその実装基板の主面に対して垂直な方向
    に積層されてなり、かつ他の電気部材への外部接続端子
    を備える積層体よりなる電子回路モジュールであって、 前記積層体中では、隣接する前記電子回路小ブロック同
    士が、少なくとも一方の該電子回路小ブロックの対向面
    の表面凹凸を反映させた薄膜状のシールド層を挟み、最
    小間隔にて対向されていることを特徴とする電子回路モ
    ジュール。
  2. 【請求項2】 前記シールド層は、隣接する前記電子回
    路小ブロックの双方の対向面から、その少なくとも一方
    の表面凹凸を反映させた絶縁膜により隔てられているこ
    とを特徴とする請求項1記載の電子回路モジュール。
  3. 【請求項3】 前記シールド層が導電性塗料の塗膜より
    なることを特徴とする請求項2記載の電子回路モジュー
    ル。
  4. 【請求項4】 前記シールド層が前記電子回路小ブロッ
    クの接地電極に接続されていることを特徴とする請求項
    1記載の電子回路モジュール。
  5. 【請求項5】 前記シールド層が、前記積層体の少なく
    とも前記外部接続端子の配設面側にも絶縁膜を介して設
    けられていることを特徴とする請求項1記載の電子回路
    モジュール。
  6. 【請求項6】 前記積層体の少なくとも前記外部接続端
    子の配設面側がシールドケースに被覆されていることを
    特徴とする請求項1記載の電子回路モジュール。
  7. 【請求項7】 前記シールド層が、前記積層体の前記外
    部接続端子の配設面と反対側の面にも絶縁膜を介して設
    けられていることを特徴とする請求項1記載の電子回路
    モジュール。
  8. 【請求項8】 前記積層体の前記外部接続端子の配設面
    と反対側の面がシールドケースに被覆されていることを
    特徴とする請求項1記載の電子回路モジュール。
  9. 【請求項9】 第1の電子回路小ブロックの主面中、少
    なくとも隣接する電子回路小ブロックと対向される方の
    主面にその表面凹凸を反映させるごとく第1絶縁膜を形
    成する第1工程と、 前記第1絶縁膜上に、前記主面の表面凹凸を反映させる
    ごとく薄膜状のシールド層を形成する第2工程と、 前記シールド層の表面、もしくは第2の電子回路小ブロ
    ックの主面中、少なくとも前記第1の電子回路小ブロッ
    クと対向される方の主面の少なくともいずれかに、その
    表面凹凸を反映させるごとく第2絶縁膜を形成する第3
    工程と、 前記第1絶縁膜、前記シールド層および前記第2絶縁膜
    とがこの順に重なるごとく前記第1の電子回路小ブロッ
    クと前記第2の電子回路小ブロックとを積層すると共に
    かつこれら両ブロックを電気的に接続する第4工程とを
    有することを特徴とする電子回路モジュールの製造方
    法。
  10. 【請求項10】 前記第1工程では、前記第1の電子回
    路小ブロックの表面に存在する接地電極の接点を露出さ
    せるごとく前記第1絶縁膜を形成し、 前記第2工程では前記接点に前記シールド層を被着させ
    ることを特徴とする請求項9記載の電子回路モジュール
    の製造方法。
  11. 【請求項11】 前記第2工程では、前記シールド層を
    導電性塗料のスプレーにより形成することを特徴とする
    請求項9記載の電子回路モジュールの製造方法。
  12. 【請求項12】 前記第1絶縁膜および前記第2絶縁膜
    を、絶縁塗料のスプレーにより形成することを特徴とす
    る請求項9記載の電子回路モジュールの製造方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002335094A (ja) * 2001-03-19 2002-11-22 Hewlett Packard Co <Hp> 基板レベルのemiシールド
KR100708050B1 (ko) * 2002-02-20 2007-04-16 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체패키지
US7659604B2 (en) 2004-03-30 2010-02-09 Panasonic Corporation Module component and method for manufacturing the same
JP2010153136A (ja) * 2008-12-24 2010-07-08 Hoshizaki Electric Co Ltd 電磁誘導加熱装置
WO2023119884A1 (ja) * 2021-12-24 2023-06-29 富士フイルム株式会社 プリント基板の製造方法

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