JPH11144222A

JPH11144222A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH11144222A
Application number: JP30272397A
Authority: JP
Inventors: Makoto Honda; 本田　　誠; Kazuo Genda; 和男源田
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1997-11-05
Filing date: 1997-11-05
Publication date: 1999-05-28

Abstract

(57)【要約】【課題】磁気ヘッドの寿命を縮めることなく、磁気ヘ
ッドのクリーニング性能、特に写真構成層及びその現像
処理に起因するヘッド汚れに対するクリーニング性能が
改良された磁気記録媒体を提供する。【解決手段】支持体上の磁気記録層を有する側の、表
面粗さの中心線から７０ｎｍ〜１００ｎｍの高さを持つ
突起が占める面積が全面積の０．１〜１．０％である磁
気記録媒体、支持体上の磁気記録層を有する側の表面粗
さＲ_pkが１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にある磁気記録媒
体、及び支持体上の磁気記録層を有する側の表面粗さＲ
_kが１０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲にある磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体に関
し、詳しくは写真構成層と組み合わせても、該写真構成
層及びその現像処理に起因する汚れも含めた磁気ヘッド
の汚れを、磁気ヘッドの寿命を縮めることなく有効にク
リーニングできる磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は一般的に磁気ヘッドによ
って情報を読み書きするものであるから、迅速かつ正確
に情報を入出力するためには磁気記録媒体と磁気ヘッド
が常に最適の状態にある必要がある。しかしながら、合
成ポリマーバインダー中に酸化鉄を主成分とする磁性体
粒子を分散してなる磁気記録層表面と金属である磁気ヘ
ッドとの接触によって、磁気ヘッドの表面又はギャップ
部に磁気記録媒体の成分が付着し、情報入出力に支障を
きたす場合がある。又、磁気ヘッド表面又はギャップ部
にゴミ、埃、塵等が付着しても同様の磁気情報の入出力
エラーが発生する。

【０００３】これらの問題は、磁気ヘッドのクリーニン
グを行うことによって殆ど解消するが、ゴミ、埃、塵に
対して有効であっても磁気記録媒体の成分の付着や写真
構成層と共に用いる場合の写真構成層及びその現像処理
に起因する磁気ヘッド目詰りは必ずしも解消できない。
又、クリーニング部材を用意したり、クリーニング作業
を行ったりの煩わしさがある。

【０００４】ところで、１９９６年４月２２日、撮影
（画像露光）後の現像処理や印画紙へのプリントをより
効率よく、高精度で行うために、ハロゲン化銀カラー写
真感光材料（以下、感光材料とも言う。）に撮影条件の
情報等を記録して利用するシステムが登場した。このシ
ステムでは、米国特許第４，９４７，１９６号及び国際
公開特許９０／０４２５４号にあるように写真フィルム
の感光層と反対側の面に磁気記録を可能とする磁性体粒
子を含有する磁性層を有するロール状フィルム及び、磁
気ヘッドを有する撮影用カメラが用いられる。これらを
用い磁性層に感光材料の種類やメーカー等の識別情報、
撮影時の条件に関わる情報、プリント条件に関する情
報、プリント焼増しの条件に関する情報等をフィルム上
で磁気的に入力することにより、プリント品質の向上、
プリント作業の効率化、現像所の事務処理の効率化等を
図ることが可能となる。

【０００５】上記ロール状フィルム、即ち、支持体の一
方の側に磁気記録層、他方の側に写真構成層を設けた記
録媒体にも前記磁気ヘッドの目詰りの問題、つまりゴ
ミ、埃、塵、磁気記録層の成分の付着、写真構成層及び
その現像処理に起因するものがある。

【０００６】磁気記録媒体自体で磁気ヘッドをクリーニ
ングすることが行われ、一般的には磁気記録層に酸化ア
ルミニウム等の研磨剤を含有させ、磁気ヘッドの走行時
に磁気ヘッド表面を研磨することで行っている。従っ
て、研磨力を向上させるには、小粒径の研磨剤を使用す
る場合はより多量添加することになり、研磨剤量を減ら
すためには粒径の大きな研磨剤を選択しなければならな
い。この様に従来の方法で研磨力を上げていく場合、多
量の研磨剤の添加や大粒径の研磨剤の添加により磁気記
録層が脆くなり、研磨剤が脱落しやすくなるばかりでな
く、磁気ヘッドの削れが大きくなり、ヘッドの寿命（磁
気記録媒体と磁気ヘッドとの最適な状態が保てなくなる
までの時間）が短くなってしまう。

【０００７】この様な問題を解決するために、磁性粉を
含有させたセルローストリアセテート支持体上に研磨剤
としてアルミナを含有する層を設け、磁気記録層側の表
面突起高さを制御する方法が特開平８−３３４８５８号
に記載されているが、支持体中に磁性粉を含有させるの
で、脆弱性の悪化や引張り弾性率の低下が認められ、更
には充分なヘッドクリーニング性を与えると、磁気ヘッ
ドの寿命が損なわれてしまう欠点がある。また特開平９
−１２８７３９号には、磁性層表面の研磨剤の突起と非
研磨剤の突起の高さと存在密度を特定の範囲に設定する
方法が記載されているが、走行耐久性と磁気ヘッド摩耗
性、磁気ヘッドの目詰り性のバランスはまだ不充分であ
る。特に、写真構成層と組み合わせて用いる場合、ヘッ
ドの目詰りの解消には至らない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑みてなされたものであり、その目的は、磁気ヘッドの
寿命を縮めることなく、磁気ヘッドのクリーニング性
能、特に写真構成層及びその現像処理に起因するヘッド
汚れに対するクリーニング性能が改良された磁気記録媒
体を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、支持体上の磁気記録層を有する側の、表面粗さの中
心線から７０ｎｍ〜１００ｎｍの高さを持つ突起が占め
る面積が全面積の０．１〜１．０％である磁気記録媒
体、前記磁気記録層を有する側に平均粒径０．１〜３．
０μｍの架橋有機粒子を含有すること、該架橋有機粒子
の粒径分布曲線の半値幅が１μｍ以下であること、該架
橋有機粒子が磁気記録層のバインダーに対して０．０１
〜１．０重量％で含有されること、架橋有機粒子を保持
する層から最表面層までの膜厚に対する該粒子の平均粒
径の比が１．１〜２．０であること、支持体上の磁気記録層を有する側の表面粗さＲ_pkが
１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にある磁気記録媒体、支持体上の磁気記録層を有する側の表面粗さＲ_kが
１０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲にある磁気記録媒体、において支持体上の磁気記録層を有する側の表面
粗さＲ_pkが１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあること、又はにおいて支持体上の磁気記録層を有する側
の表面粗さＲ_kが１０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲にあるこ
と、及び、〜においてヘーズが１０％以下であること、に
よって達成される。

【００１０】以下、本発明について説明する。

【００１１】本発明の磁気記録媒体は磁気記録層を有す
る側の、表面粗さの中心線から７０ｎｍ〜１００ｎｍの
高さを持つ突起が占める面積が全面積の０．１〜１．０
％であることを１つの態様とする。尚、突起の高さが７
０ｎｍ以下であると磁気ヘッド表面に付着する汚れを効
率的に掻き落とすことができない。突起の高さが１００
ｎｍ以上であると、磁気ヘッドと磁気記録媒体との間が
大きくなりすぎ電磁変換特性が悪くなってしまう。前記
突起の存在密度が０．１％未満だと磁気ヘッドの汚れを
取りきれず、１．０％より大きいと電磁変換特性の悪化
や磁気ヘッドの摩耗、また透明性の悪化等が起きてしま
い本発明の目的を達成できなくなってしまう。

【００１２】本発明に係る突起を形成するにあたって、
平均粒径０．１〜３．０μｍの架橋有機粒子を用いるこ
とが好ましい。磁気記録層側表面の高い突起は磁気ヘッ
ドの摩耗を左右するため、この突起を架橋有機粒子で形
成することにより磁気ヘッドに傷が付き難く、ヘッドに
付着した汚れを掻き落とすことができる。この粒子を用
いる場合、平均粒径０．１μｍ未満のもので表面粗さの
中心線から７０ｎｍ〜１００ｎｍの高さを持つ突起を形
成するのは困難であり、平均粒径３．０μｍより大きい
ものでは電磁変換特性の悪化や、磁気ヘッドの摩耗、透
明性の悪化を招く場合がある。添加量は磁気記録層のバ
インダーに対して０．０１〜１．０重量％が好ましく、
０．０１重量％未満では磁気ヘッドの汚れを掻き落とす
能力が不足し、１．０重量％より多いと電磁変換特性の
悪化や、磁気ヘッドの摩耗、透明性の悪化を招く場合が
ある。

【００１３】好ましい架橋有機粒子としては、ポリメチ
ルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリブチルメタクリレ
ート（ＰＢＭＡ）、ポリエチルメタクリレート（ＰＥＭ
Ａ）、ポリスチレン（ＰＳｔ）、ポリアミドイミド（Ｐ
ＡＩ）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物、
メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、ベンゾグアナミン
−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物等が挙げられる。

【００１４】本発明に係る突起を効率的に機能せしめる
には、表面粗さＲ_pkを１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲に調整
することが好ましい。又、磁気記録層側表面の地肌と突
起とのバランスを取るために、表面粗さＲ_kを１０ｎｍ
〜４０ｎｍの範囲に調整することが好ましい。

【００１５】ここに、Ｒ_pk及びＲ_kは以下の様にして求
めたものとする。即ち、まず測定した磁気記録層側表面
の形状を図１の様に高さの分布でプロットする（横軸ｔ
ｐ％、縦軸高さ）。図２に示す如く、その曲線を４０ｔ
ｐ％の範囲で検索したときに変動（図２のＨ_tp）が最も
少ない傾きの直線を選び、その直線と縦軸との交点の値
とｔｐ％＝１００との交点の値との差を表面の地の粗さ
Ｒ_kとする。又、地の粗さの傾きより高い部分の面積
（図３（ａ）のＡＲＥＡ１）と同じ面積の三角形（図３
（ｂ）のＡＲＥＡ２）の高さをＲ_pkとする。

【００１６】表面粗さの調整は、１）見掛け比重の低い粒子を使用して突起数を上げる２）粒子サイズを大きくして突起の高さを高くする３）粒子径と、粒子を添加した層から再表面層までの
膜厚との比を大きくして突起の高さを高くする４）粒子の比表面積を小さくして、加工液中の分散性
を高めて２次粒子の形成を防ぎ、突起数を増しながら高
さを抑える５）添加量を増して突起数を上げるといった方法を適宜組み合わせて行うことができる。

【００１７】即ち、架橋有機粒子の平均粒径、添加量、
磁気記録層の乾燥条件等を制御することで表面粗さを制
御することができる。また通常研磨剤として用いられる
無機粒子研磨剤を添加して調整してもよい。無機粒子研
磨剤としてはモース硬度５以上、好ましくは６以上の非
磁性無機粉末が挙げられ、具体的には、酸化アルミニウ
ム（α−アルミナ、γ−アルミナ、コランダム）、酸化
クロム（Ｃｒ₂Ｏ₃）、酸化鉄（α−Ｆｅ₂Ｏ₃）、二酸化
ケイ素、二酸化チタン等の酸化物、ダイアモンド等の微
粉末を挙げることができる。これらの平均粒径は０．０
１μｍ〜５．０μｍが好ましく、更には０．１μｍ〜
５．０μｍである。

【００１８】架橋有機粒子に比べ無機粒子研磨剤は比重
が重く、無機粒子の平均粒径を小さめにとって、特にこ
れらを併用する場合、高さの高い突起は架橋有機粒子で
形成し、地肌の粗れの様な高さの低い突起は無機粒子で
形成するという様に、高さと硬度を別々に制御できる。
従って、磁気ヘッドを痛めずかつ汚れも効率的に落とす
ことが可能となる。

【００１９】しかし、表面粗さを調整するために添加し
た粒子を媒体上に保持できなければ、磁気ヘッドをクリ
ーニングする効果が数回の走行でしか発揮できなかった
り、添加した粒子が脱落してそれ自身が磁気ヘッドの汚
れの原因になったりと、走行安定性に問題が生ずるた
め、特に表面突起を形成するための架橋有機粒子が脱落
しない様にするという観点から、該粒子を保持する層か
ら最表面層までの膜厚に対する該粒子の平均粒径の比を
１．１〜２．０とすることが好ましい。この比が１．１
より小さいと磁気記録層側表面に突起を形成し難く、磁
気ヘッドのクリーニング効果に劣ってしまう。又、２．
０を越えると、走行中磁気ヘッドや走行系の部材との接
触により突起を形成している架橋有機粒子が脱落し易く
なり、走行安定性が悪化してしまう。尚、本発明で層と
は後述のセルロース系等のバインダー素材を含む層を言
う。

【００２０】架橋有機粒子の粒径分布としては、粒径分
布曲線の半値幅が１μｍ以下であることが好ましい。こ
れが１μｍより大きいと平均粒径や添加量に比して、磁
気記録層表面の突起密度が少なく磁気ヘッドのクリーニ
ング効果が小さかったり、逆に突起が大きすぎて脱落が
多くなり走行安定性が悪くなったりすることがある。更
に磁気記録媒体のロット間での性能差が大きくなってし
まう場合もある。

【００２１】本発明の磁気記録媒体は支持体上の磁気記
録層とは反対側の面に写真構成層を設け、写真感光材料
として用いる際、その効果を遺憾なく発揮する。その
際、写真構成層を除いた媒体の失透度を１５ｐｐｍ以下
とすることが好ましい。これより大きくなると、写真構
成層と組み合わせて構成する場合、写真構成層に光学的
影響を及ぼすことがある。

【００２２】本発明の磁気記録媒体に用いる磁性体粉末
としては、強磁性酸化鉄粉末、Ｃｏドープの強磁性酸化
鉄微粉末、強磁性二酸化鉄微粉末、強磁性二酸化クロム
微粉末、強磁性金属粉末、バリウムフェライト等が挙げ
られる。これらは公知の方法に従って製造でき、形状と
しては針状、米粒状、球状、立方体状、板状等いずれで
もよいが、針状、板状が電磁変換特性の観点から好まし
い。結晶子サイズ、比表面積も特に制限はないが、結晶
子サイズで４００Å以上、ＢＥＴ値で２０ｍ²／ｇ以
上、更には３０ｍ²以上が好ましい。強磁性粉末のｐ
Ｈ、表面処理等にも特に制限はないが、ｐＨとして好ま
しくは５〜１０である。強磁性酸化鉄微粉末の場合は２
価の鉄／３価の鉄の比率は特に制限なく用いることがで
きる。本発明において磁性粉の好ましい使用量は、写真
構成層と組み合わせる場合、４×１０^-4ｇ／ｍ²以上で
あれば、４３６ｎｍでの光学濃度が１．５以下の範囲で
任意であるが、４ｇ前後が限度である。あまり多量に使
用すると写真構成層に光学的影響を及ぼすことになる。

【００２３】本発明の磁気記録媒体の磁気記録層には、
必要に応じて滑り剤として脂肪酸を含有させてもよい。
該脂肪酸は、一塩基性であってもよいし、二塩基性であ
ってもよく、好ましくは、脂肪酸の炭素原子数は６〜３
０、特に１２〜２２で、特に好ましいのはミリスチン
酸、オレイン酸、ステアリン酸である。

【００２４】又、磁気記録層に脂肪酸エステルを含有さ
せると摩擦係数が低下して磁気記録媒体の走行性及び耐
久性が一段と向上する。好ましい脂肪酸エステルはブチ
ルステアレート及びブチルパルミテートである。脂肪酸
エステルは１種単独で使用してもよいし、２種以上を混
合して使用してもよい。

【００２５】磁気記録層には前記脂肪酸及び／又は脂肪
酸エステルと共に他の潤滑剤を含有させることができ、
例えばシリコーン系潤滑剤、脂肪酸変性シリコーン系潤
滑剤、弗素系潤滑剤、流動パラフィン、スクワラン、カ
ーボンブラック等が挙げられる。これらは単独でも、２
種以上を組み合わせて用いてもよい。

【００２６】磁気記録層のバインダーとしてはセルロー
スエステル或はゼラチン類の様な透明なものが用いられ
る。セルロースエステルでは有機溶媒、ゼラチンでは水
の様な溶媒を用いて、磁性体粒子の分散液を調製する。
有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系；プロパノー
ル、ブタノール、イソブチルアルコール等のアルコール
系；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル等のエ
ステル系；グリコールジメチルエーテル等のエーテル
系；キシレン等のタール系（芳香族炭化水素）；メチレ
ンクロライド、エチレンクロライド等の塩素化炭化水素
系のもの等が使用できる。

【００２７】本発明の磁気記録媒体の磁気記録層には一
般式Ｒ₁ＣＯＲ₂ で表される化合物を含有させること
ができる。ここで、Ｒ₁は炭素数１２以上の飽和又は不
飽和の直鎖脂肪族炭化水素を表す。該直鎖脂肪族炭化水
素としてはアルキル基及びアルケニル基が代表的である
が、更に良好な滑り性を得るためには炭素数１６以上の
ものが望ましい。Ｒ₂は、−ＯＭ（Ｍは水素原子又はア
ルカリ金属原子（好ましくはナトリウム又はカリウム）
を表す。）、−ＮＨ₂又は−ＯＲ₁を表す。

【００２８】前記一般式で表される化合物の好ましい具
体例として、１）Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＨ２）Ｃ₂₁Ｈ₄₃ＣＯＯＨ３）Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＮＨ₂ ４）Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₁₈Ｈ₃₇ ５）Ｃ₂₁Ｈ₄₃ＣＯＯＣ₁₇Ｈ₃₅ ６）Ｃ₂₁Ｈ₄₃ＣＯＯＣ₁₅Ｈ₃₁ ７）Ｃ₂₅Ｈ₅₁ＣＯＯＣ₃₀Ｈ₆₁ ８）Ｃ₂₇Ｈ₅₅ＣＯＯＣ₁₆Ｈ₃₃ が挙げられる。

【００２９】本発明においては、上記の化合物に加え
て、例えば米国特許第３，０４２，５２２号、同３，０
８０，３１７号、同４，００４，９２７号、同４，０４
７，９５８号、同３，４８９，４８７号、英国特許第９
５５，０６１号、同１，１４３，１１８号、特開昭６０
−１４０３４１号等に記載のシリコーン系滑り剤、米国
特許第２，４５４，０４３号、同２，７３２，３０５
号、同２，９７６，１４８号、同３，２０６，３１１
号、独国特許第１，２８４，２９５号、同１，２８４，
２９４号等に記載の高級脂肪酸系、アルコール系及び酸
アミド系滑り剤、英国特許第１，２６３，７２２号、米
国特許第３，９３３，５１６号等に記載の金属石鹸、米
国特許第２，５８８，７６５号、同３，１２１，０６０
号、英国特許第１，１９８，３８７号等に記載のエステ
ル系、エーテル系滑り剤、米国特許第３，５０２，４７
３号、同３，０４２，２２２号等に記載のタウリン系滑
り剤等も使用できる。

【００３０】これら一般式の化合物及び滑り剤はメタノ
ール、エタノール等のアルコール類；アセトン、メチル
エチルケトン等のケトン類；メチレンクロライド、四塩
化炭素等のハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、
ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン等の芳
香族炭化水素類等の溶媒に溶解して添加することができ
る。

【００３１】更に、前記磁気記録層に用いるバインダー
に上記滑り剤を含有させた層を設け、滑り層としてもよ
い。またこの層に前述の研磨剤粒子を含有させてもよ
い。

【００３２】磁気記録層の厚みは０．１〜２μｍが好ま
しい。

【００３３】磁性体粒子としては、内部にアルミニウ
ム、カルシウム、珪素を微量ドーピングしたものが本発
明の目的に対して好ましく用いられる。又、磁性体粒子
の針状比は１〜７が好ましい。

【００３４】磁性体粒子を含有したドープを流延して乾
燥し磁気記録層を形成する過程において、対向する磁石
によって規則的に磁性体粒子を配向させてもよいし、ラ
ンダムな磁場を与えて、いわゆるランダマイズ処理を施
すことも有効である。

【００３５】本発明の磁気記録媒体に用いる支持体とし
て好ましいものは、セルロース誘導体（ジアセチル−、
トリアセチル−、プロピオニル−、ブタノイル−、アセ
チルプロピオニル−アセテート等）フィルム、ポリアミ
ドフィルム、米国特許第３，０２３，１０１号に記載の
ポリカーボネートフィルム等があり、特に好ましくは特
公昭４８−４０４１４号等に記載のポリエステル支持体
である。ポリエステルはジオールと芳香族ジカルボン酸
を必須成分として形成されるが、その他のジカルボン酸
との混用でもよく、使用可能な二塩基酸としては、テレ
フタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、ナ
フタレンジカルボン酸（２，６−、１，５−、１，４
−、２，７−）、ジフェニレンｐ，ｐ′−ジカルボン
酸、テトラクロロ無水フタル酸、琥珀酸、グルタル酸、
アジピン酸、セバシン酸、無水琥珀酸、マレイン酸、フ
マル酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水シトラコン
酸、テトラヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドメチレ
ンテトラヒドロ無水フタル酸、１，４−シクロヘキサン
ジカルボン酸、ハロゲン化テレフタル酸、ビス（ｐ−カ
ルボキシフェンノール）エーテル、１，１−ジカルボキ
シ−２−フェニルエチレン、１，４−ジカルボキシメチ
ルフェノール、１，３−ジカルボキシ−５−フェニルフ
ェノール、３−スルホイソフタル酸ソーダ等を挙げるこ
とができる。ジオールとしては、エチレングリコール、
１，３−プロパンジオール、１、２−プロパンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオー
ル、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオ
ール、１，８−オクタンジオール、１，１０−デカンジ
オール、１，１２−ドデカンジオール、１，４−シクロ
ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノー
ル、１，３−シクロヘキサンジオール、１，１−シクロ
ヘキサンジメタノール、カテコール、レゾルシン、ハイ
ドロキノン、１，４−ベンゼンジメタノール、ジメチロ
ールナフタレン、ｐ−ヒドロキシエチルオキシベンゼ
ン、ビスフェノールＡ等を挙げることができる。

【００３６】これらは必要に応じて、単官能又は３以上
の多官能の水酸基含有化合物或いは酸含有化合物が共重
合されていても構わない。又、分子内に水酸基とカルボ
キシル基（或いはそのエステル）を同時に有する化合物
が共重合されていてもよく、サリチル酸等がある。

【００３７】好ましい芳香族ジカルボン酸のモノマーと
しては、２，６−ナフタレンジカルボン酸（ＮＤＣ
Ａ）、テレフタル酸（ＴＰＡ）、イソフタル酸（ＩＰ
Ａ）、オルトフタル酸（ＯＰＡ）、パラフェニレンジカ
ルボン酸（ＰＰＤＣ）が、好ましいジオールのモノマー
としては、エチレングリコール（ＥＧ）、シクロヘキサ
ンジメタノール（ＣＨＤＭ）、ネオペンチルグリコール
（ＮＰＧ）、ビスフェノールＡ（ＢＰＡ）、ビフェノー
ル（ＢＰ）、共重合成分であるヒドロキシカルボン酸と
しては、パラヒドロキシ安息香酸（ＰＨＢＡ）、６−ヒ
ドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸（ＨＮＣＡ）を共
重合させたものが挙げられる。

【００３８】ポリマーとして好ましいのは、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリシ
クロヘキサンジメタノールテレフタレート（ＰＣＴ）等
のホモポリマー；テレフタル酸、ナフタレンジカルボン
酸とエチレングリコールのコポリマー（テレフタル酸と
ナフタレンジカルボン酸の混合モル比は０．９：０．１
〜０．１：０．９程度、好ましくは０．８：０．２〜
０．２：０．８）、テレフタル酸とエチレングリコー
ル、ビスフェノールＡのコポリマー（エチレングリコー
ルとビスフェノールＡの混合モル比は０．６：０．４〜
０：１．０程度、好ましくは０．５：０．５〜０：０．
９）、イソフタール酸、パラフェニレンジカルボン酸、
テレフタル酸とエチレングリコールのコポリマー（イソ
フタール酸、パラフェニレンジカルボン酸のモル比はテ
レフタル酸を１としてそれぞれ０．１〜０．５、０．１
〜０．５、好ましくは０．２〜０．３、０．２〜０．
３）、テレフタル酸、ネオペンチルグリコールとエチレ
ングリコールのコポリマー（ネオペンチルグリコールと
エチレングリコールのモル比は１：０〜０．７：０．３
程度、好ましくは０．９：０．１〜０．６：０．４）、
テレフタル酸、エチレングリコールとビスフェノールの
コポリマー（エチレングリコールとビスフェノールのモ
ル比は０：１．０〜０．８：０．２程度、好ましくは
０．１：０．９〜０．７：０．３）、パラヒドロキシ安
息香酸、エチレングリコールとテレフタル酸のコポリマ
ー（パラヒドロキシ安息香酸とエチレングリコールのモ
ル比は１：０〜０．１：０．９程度、好ましくは０．
９：０．１〜０．２：０．８）等である。とりわけ２，
６−ナフタレンジカルボン酸を含むポリエステルが好ま
しく、特にポリエチレン２，６−ナフタレートが好まし
い。

【００３９】これらは従来公知の製造方法に従って合成
でき、平均分子量５０００〜２０００００のものが好ま
しい。ガラス転移点（Ｔｇ）は５０〜２００℃程度、好
ましくは５５〜２００℃、更には７０〜２００℃、より
好ましくは９０〜２００℃の範囲にあることである。

【００４０】本発明の磁気記録媒体を写真構成層と組み
合わせて構成する場合、用いることができるハロゲン化
銀乳剤としては、リサーチ・ディスクロージャ（ＲＤと
記す）３０８１１９に記載されているものが挙げられ
る。ハロゲン化銀乳剤は物理熟成、化学熟成及び分光増
感を行ったものを使用する。この様な工程で使用される
添加剤は、ＲＤ１７６４３、１８７１６及び３０８１１
９に記載されている。また使用できる写真用添加剤も、
カプラーも前記ＲＤに記載されている。

【００４１】使用する添加剤は、ＲＤ３０８１１９のXI
Vに記載されている分散法等により添加することができ
る。また写真構成層として、前述のＲＤ３０８１１９VI
I−Ｋ項に記載されているフィルター層や中間層等の補
助層を設けることができる。更に前述のＲＤ３０８１１
９VII−Ｋ項に記載されている順層、逆層、ユニット構
成等の様々な層・構成を採ることができる。

【００４２】本発明の磁気記録媒体をカラー感光材料と
する場合、前述のＲＤ１７６４３の２８〜２９頁、ＲＤ
１８７１６の６４７頁及びＲＤ３０８１１９のXIXに記
載された通常の方法によって、現像処理することができ
る。

【００４３】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。

【００４４】実施例１《支持体の作成》２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメ
チル１００重量部、エチレングリコール６０重量部にエ
ステル交換触媒として酢酸カルシウム水和物０．１重量
部を添加し、常法に従ってエステル交換反応を行った。
得られた生成物に、三酸化アンチモン０．０５重量部、
リン酸トリメチルエステル０．０３重量部を添加した。
次いで徐々に昇温、減圧にし、２９０℃、０．０５ｍｍ
Ｈｇの条件で重合を行ない固有粘度０．６０のポリエチ
レン−２，６−ナフタレートを得た。

【００４５】これを、１５０℃で８時間真空乾燥した
後、３００℃でＴダイから層状に溶融押出し、５０℃の
冷却ドラム上に静電印加しながら密着させ、冷却固化さ
せ、未延伸シートを得た。この未延伸シートをロール式
縦延伸機を用いて、１３５℃で縦方向に３．３倍延伸し
た。

【００４６】得られた一軸延伸フィルムをテンター式横
延伸機を用いて、第一延伸ゾーン１４５℃で総横延伸倍
率の５０％延伸し、更に第二延伸ゾーン１５５℃で総横
延伸倍率３．３倍となるように延伸した。次いで、１０
０℃で２秒間熱処理し、更に第一熱固定ゾーン２００℃
で５秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン２４０℃で１５秒
間熱固定した。次いで、横方向に５％弛緩処理しながら
室温まで３０秒かけて徐冷して、厚さ８５μｍのポリエ
チレンナフタレートフィルムを得た。

【００４７】これをステンレス製のコアに巻き付け、１
１０℃で４８時間熱処理（アニール処理）して支持体を
作成した。

【００４８】この支持体の両面に１２Ｗ／ｍ²／ｍｉｎ
のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引塗布液Ｂ
−１を乾燥膜厚０．４μｍになる様に塗布し、その上に
１２Ｗ／ｍ²／ｍｉｎのコロナ放電処理を施し、下記下
引塗布液Ｂ−２を乾燥膜厚０．０６μｍになる様に塗布
した。

【００４９】１２Ｗ／ｍ²／ｍｉｎのコロナ放電処理を
施した他方の面には、下記下引塗布液Ｂ−３を乾燥膜厚
０．２μｍになる様に塗布し、その上に１２Ｗ／ｍ²／
ｍｉｎのコロナ放電処理を施し、下記塗布液Ｂ−４を乾
燥膜厚０．２μｍになる様に塗布した。

【００５０】各層はそれぞれ塗布後９０℃で１０秒間乾
燥し、４層塗布後引き続いて１１０℃で２分間熱処理を
行った後、５０℃で３０秒間冷却処理を行った。

【００５１】〈下引塗布液Ｂ−１〉ブチルアクリレート３０重量％，ｔ−ブチルアクリレート２０重量％，スチレン２５重量％及び２−ヒドロキシエチルアクリレート２５重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％）１２５ｇ化合物（ＵＬ−１）０．４ｇヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレン尿素）０．０５ｇ水で仕上げる１０００ｍｌ〈下引塗布液Ｂ−２〉スチレン−無水マレイン酸共重合体の水酸化ナトリウム水溶液（固形分６％）５０ｇ化合物（ＵＬ−１）０．６ｇ化合物（ＵＬ−２）０．０９ｇシリカ粒子（平均粒径３μｍ）０．２ｇ水で仕上げる１０００ｍｌ〈塗布液Ｂ−３〉ブチルアクリレート３０重量％、ｔ−ブチルアクリレート２０重量％、スチレン２５重量％及び２−ヒドロキシアクリレート２５重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％）５０ｇ化合物（ＵＬ−１）０．３ｇヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレン尿素）１．１ｇ水で仕上げる１０００ｍｌ

【００５２】

【化１】

【００５３】〈塗布液Ｂ−４〉ジカルボン酸成分として
テレフタル酸ジメチル６０モル％、イソフタル酸ジメチ
ル３０モル％、５−スルホイソフタル酸ジメチルのナト
リム塩１０モル％、グリコール成分としてエチレングリ
コール５０モル％、ジエチレングリコール５０モル％を
常法により共重合した。この共重合体を９５℃の熱水中
で３時間攪拌し、１５重量％の水分散液Ａとした。

【００５４】酸化スズ−酸化アンチモン複合微粒子（平均粒径０．２μｍ）の水分散液（固形分４０重量％）１０９ｇ水分散液Ａ６７ｇ水で仕上げる１０００ｍｌ《磁気記録層の塗設》下引層Ｂ−４塗布液を塗設した層
上に下記組成の磁気記録層塗布液を精密イクストルージ
ョンコーターを用い乾燥膜厚１．２μｍとなる様に塗布
し、乾燥と同時に塗膜が未乾のうちに配向磁場中で塗布
方向へ磁性体を配向させ、磁気記録再生時の高出力化を
図った。

【００５５】Ａ．磁気記録層塗布液１の調製１．研磨剤分散物１の調製研磨剤（Ａｌ₂Ｏ₃）１００重量部〔住友化学（株）製、ＨＩＴ−６０Ｇ〕バインダー：ジアセチルセルロース８重量部〔重量平均分子量１０．４万、酸化度２．６１〕溶剤：シクロヘキサノン１１重量部メチルエチルケトン１１重量部を加圧ニーダー混練機に投入し、３時間加圧混練を行い
研磨剤混練物１を作製した。該研磨剤混練物１の１３０
重量部にバインダーとしてジアセチルセルロース（前
出）１４重量部、溶剤としてシクロヘキサノン８０．５
重量部及びメチルエチルケトン８０．５重量部を添加
し、サンドグラインダーで３時間分散して均一な研磨剤
分散物１を作製した。

【００５６】２．磁性粉分散物１の調製磁性粉（Ｃｏ−γ酸化鉄）１００重量部〔石原産業（株）製、ＶＳ−９９２７〕バインダー：飽和共重合ポリエステルウレタン１６重量部〔重量平均分子量２．５万〕溶剤：シクロヘキサノン８７重量部メチルエチルケトン８７重量部をサンドグラインダーに投入し、４時間分散して均一な
磁性粉分散物１（固形分４０重量％）を作製した。

【００５７】３．磁気記録層塗布液１の調製バインダー：ジアセチルセルロース１００重量部〔重量平均分子量１８．５万、酸化度２．５５〕溶剤：シクロヘキサノン２１８．４重量部アセトン９０５．２重量部磁性粉分散物１２０．３重量部研磨剤分散物１１４．６重量部架橋ＰＭＭＡ０．２重量部硬化剤：多官能ポリイソシアネート４０重量部〔日本ポリウレタン工業（株）製、ミリオネートＭＲ
−４００〕になる様に、溶剤中にバインダーを添加しデ
ィソルバーで攪拌しバインダー溶液を作製する。その中
に磁性粉分散物１、研磨剤分散物１、架橋ＰＭＭＡ（平
均粒径１．５μｍ）を添加し、サンドグラインダーで１
時間分散して硬化剤を添加後充分攪拌混合して磁気記録
層塗布液１を得た。

【００５８】Ｂ．磁気記録層塗布液２〜１３の調製１．磁気記録層塗布液２〜５の調製架橋ＰＭＭＡ粒子の添加量を下記の様に変更した以外は
磁気記録層塗布液１と同様にして磁気記録層塗布液２〜
５を作製した。

【００５９】磁気記録層塗布液架橋ＰＭＭＡ添加量（重量部）２０．００１３０．０２４４５５０２．磁気記録層塗布液６〜９の調製架橋ＰＭＭＡ粒子の平均粒径を下記の様に変更した以外
は磁気記録層塗布液１と同様にして磁気記録層塗布液６
〜９を作製した。

【００６０】磁気記録層塗布液架橋ＰＭＭＡ平均粒径（μｍ）６０．５７１．０８５９１１３．磁気記録層塗布液１０〜１３の調製研磨剤分散物１中のアルミナを除き、下記に示す様に架
橋ＰＭＭＡ粒子の添加量を変更した以外は磁気記録層塗
布液１と同様にして磁気記録層塗布液１０〜１３を作製
した。

【００６１】磁気記録層塗布液架橋ＰＭＭＡ添加量（重量部）１００．００１１１０．０２１２４１３５０各磁気記録媒体の、磁気記録層側とは反対側に前記下引
塗布液Ｂ−１及びＢ−２を同一条件で塗設した下引層を
設け、その上に、以下に示す組成の写真構成層を設け
て、試料１４〜２６を得た。添加量は１ｍ²当たりのグ
ラム数で表す。但し、ハロゲン化銀とコロイド銀は銀の
量に換算し、増感色素（ＳＤで示す）は銀１モル当たり
のモル数で示した。

【００６２】第１層（ハレーション防止層）黒色コロイド銀０．１６ＵＶ−１０．３ＣＭ−１０．０４４ＯＩＬ−１０．０４４ゼラチン１．３３第２層（中間層）ＡＳ−１０．１６ＯＩＬ−１０．２０ゼラチン１．４０第３層（低感度赤感色性層）沃臭化銀ａ０．１２沃臭化銀ｂ０．５０ＳＤ−１３．０×１０^-5 ＳＤ−４１．５×１０^-4 ＳＤ−３３．０×１０^-4 ＳＤ−６３．０×１０^-6 Ｃ−１０．５１ＣＣ−１０．０４７ＯＩＬ−２０．４５ＡＳ−２０．００５ゼラチン１．４０第４層（中感度赤感色性層）沃臭化銀ｃ０．６４ＳＤ−１３．０×１０^-5 ＳＤ−２１．５×１０^-4 ＳＤ−３３．０×１０^-4 Ｃ−２０．２２ＣＣ−１０．０２８ＤＩ−１０．００２ＯＩＬ−２０．２１ＡＳ−３０．００６ゼラチン０．８７第５層（高感度赤感色性層）沃臭化銀ｃ０．１３沃臭化銀ｄ１．１４ＳＤ−１３．０×１０^-5 ＳＤ−２１．５×１０^-4 ＳＤ−３３．０×１０^-4 Ｃ−２０．０８５Ｃ−３０．０８４ＣＣ−１０．０２９ＤＩ−１０．０２７ＯＩＬ−２０．２３ＡＳ−３０．０１３ゼラチン１．２３第６層（中間層）ＯＩＬ−１０．２９ＡＳ−１０．２３ゼラチン１．００第７層（低感度緑感色性層）沃臭化銀ａ０．２４５沃臭化銀ｂ０．１０５ＳＤ−６５．０×１０^-4 ＳＤ−５５．０×１０^-4 Ｍ−１０．２１ＣＭ−２０．０３９ＯＩＬ−１０．２５ＡＳ−２０．００３ＡＳ−４０．０６３ゼラチン０．９８第８層（中間層）Ｍ−１０．０３ＣＭ−２０．００５ＯＩＬ−１０．１６ＡＳ−１０．１１ゼラチン０．８０第９層（中感度緑感色性層）沃臭化銀ｅ０．８７ＳＤ−７３．０×１０^-4 ＳＤ−８６．０×１０^-5 ＳＤ−９４．０×１０^-5 Ｍ−１０．１７ＣＭ−２０．０４８ＣＭ−３０．０５９ＤＩ−２０．０１２ＯＩＬ−１０．２９ＡＳ−４０．０５ＡＳ−２０．００５ゼラチン１．４３第１０層（高感度緑感色性層）沃臭化銀ｆ１．１９ＳＤ−７４．０×１０^-4 ＳＤ−８８．０×１０^-5 ＳＤ−９５．０×１０^-5 Ｍ−１０．０９ＣＭ−３０．０２０ＤＩ−３０．００５ＯＩＬ−１０．１１ＡＳ−４０．０２６ＡＳ−５０．０１４ＡＳ−６０．００６ゼラチン０．７８第１１層（イエローフィルター層）黄色コロイド銀０．０５ＯＩＬ−１０．１８ＡＳ−７０．１６ゼラチン１．００第１２層（低感度青感色性層）沃臭化銀ｇ０．２９沃臭化銀ｈ０．１９ＳＤ−１０８．０×１０^-4 ＳＤ−１１３．１×１０^-4 Ｙ−１０．９１ＤＩ−４０．０２２ＯＩＬ−１０．３７ＡＳ−２０．００２ゼラチン１．２９第１３層（高感度青感色性層）沃臭化銀ｈ０．１３沃臭化銀ｉ１．００ＳＤ−１０４．４×１０^-4 ＳＤ−１１１．５×１０^-4 Ｙ−１０．４８ＤＩ−４０．０１９ＯＩＬ−１０．２１ＡＳ−２０．００４ゼラチン１．５５第１４層（第１保護層）沃臭化銀ｊ０．３０ＵＶ−１０．０５５ＵＶ−２０．１１０ＯＩＬ−２０．６３ゼラチン１．３２第１５層（第２保護層）ＰＭ−１０．１５ＰＭ−２０．０４ＷＡＸ−１０．０２Ｄ−１０．００１ゼラチン０．５５尚、上記の組成物の他に、塗布助剤ＳＵ−１、ＳＵ−
２、ＳＵ−３、分散助剤ＳＵ−４、粘度調整剤Ｖ−１、
安定剤ＳＴ−１、ＳＴ−２、カブリ防止剤ＡＦ−１、重
量平均分子量：１０，０００及び重量平均分子量：１，
１００，０００の２種のポリビニルピロリドン（ＡＦ−
２）、抑制剤ＡＦ−３、ＡＦ−４、ＡＦ−５、硬膜剤Ｈ
−１、Ｈ−２及び防腐剤Ａｓｅ−１を添加した。

【００６３】

【化２】

【００６４】

【化３】

【００６５】

【化４】

【００６６】

【化５】

【００６７】

【化６】

【００６８】

【化７】

【００６９】

【化８】

【００７０】

【化９】

【００７１】

【化１０】

【００７２】また用いたハロゲン化銀乳剤について表１
に示す。

【００７３】

【表１】

【００７４】尚、ハロゲン化銀粒子の形成例として沃臭
化銀ｄ，ｆについて以下に示す。

【００７５】（種晶乳剤−１の調製）特公昭５８−５８
２８８号に記載の混合攪拌機を用いて、３５℃に調整し
た下記溶液Ａ１に硝酸銀水溶液（１．１６１モル）と、
臭化カリウムと沃化カリウムの混合水溶液（沃化カリウ
ム２モル％）を、銀電位（飽和銀−塩化銀電極を比較電
極として銀イオン選択電極で測定）を０ｍＶに保ちなが
ら同時混合法により２分を要して添加し、核形成を行っ
た。続いて、６０分の時間を要して液温を６０℃に上昇
させ、炭酸ナトリウム水溶液でｐＨを５．０に調整した
後、硝酸銀水溶液（５．９０２モル）と、臭化カリウム
と沃化カリウムの混合水溶液（沃化カリウム２モル％）
を、銀電位を９ｍＶに保ちながら同時混合法により、４
２分を要して添加した。添加終了後４０℃に降温しなが
ら、通常のフロキュレーション法を用いて直ちに脱塩、
水洗を行った。

【００７６】得られた種晶乳剤は、平均球換算直径が
０．２４μｍ、平均アスペクト比が４．８、ハロゲン化
銀粒子の全投影面積の９０％以上が最大辺比率が１．０
〜２．０の六角状の平板状粒子からなる乳剤であった。
この乳剤を種晶乳剤−１と称する。

【００７７】〔溶液Ａ１〕オセインゼラチン２４．２ｇ臭化カリウム１０．８ｇＨＯ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_m（ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂Ｏ）_19.8（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_nＨ（ｍ＋ｎ＝９．７７）（１０％エタノール溶液）６．７８ｍｌ１０％硝酸１１４ｍｌＨ₂Ｏ９６５７ｍｌ。

【００７８】（沃化銀微粒子乳剤ＳＭＣ−１の調製）
０．０６モルの沃化カリウムを含む６．０重量％のゼラ
チン水溶液５リットルを激しく攪拌しながら、７．０６
モルの硝酸銀水溶液と７．０６モルの沃化カリウム水溶
液、各々２リットルを１０分を要して添加した。この間
ｐＨは硝酸を用いて２．０に、温度は４０℃に制御し
た。粒子調製後に、炭酸ナトリウム水溶液を用いてｐＨ
を５．０に調整した。得られた沃化銀微粒子の平均粒径
は０．０５μｍであった。この乳剤をＳＭＣ−１とす
る。

【００７９】（沃臭化銀ｄの調製）０．１７８モル相当
の種晶乳剤−１とＨＯ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_m（ＣＨ（Ｃ
Ｈ₃）ＣＨ₂Ｏ）_19.8（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_nＨ（ｍ＋ｎ＝
９．７７）の１０％エタノール溶液０．５ｍｌを含む、
４．５重量％の不活性ゼラチン水溶液７００ｍｌを７５
℃に保ち、ｐＡｇを８．４、ｐＨを５．０に調整した
後、激しく攪拌しながら同時混合法により以下の手順で
粒子形成を行った。

【００８０】１）２．１モルの硝酸銀水溶液と０．１９
５モルのＳＭＣ−１、及び臭化カリウム水溶液を、ｐＡ
ｇを８．４、ｐＨを５．０に保ちながら添加した２）続いて溶液を６０℃に降温し、ｐＡｇを９．８に調
製した。その後、０．０７１モルのＳＭＣ−１を添加
し、２分間熟成を行った（転位線の導入）３）０．９５９モルの硝酸銀水溶液と０．０３モルのＳ
ＭＣ−１、及び臭化カリウム水溶液を、ｐＡｇを９．
８、ｐＨを５．０に保ちながら添加した尚、粒子形成を
通して各溶液は、新核の生成や粒子間のオストワルド熟
成が進まないように最適な速度で添加した。上記添加終
了後に４０℃で通常のフロキュレーション法を用いて水
洗処理を施した後、ゼラチンを加えて再分散し、ｐＡｇ
を８．１、ｐＨを５．８に調整した。

【００８１】得られた乳剤は、粒径（同体積の立方体１
辺長）０．７５μｍ、平均アスペクト比５．０、粒子内
部から２／８．５／Ｘ／３モル％（Ｘは転位線導入位
置）のハロゲン組成を有する平板状粒子からなる乳剤で
あった。この乳剤を電子顕微鏡で観察したところ乳剤中
の粒子の全投影面積の６０％以上の粒子にフリンジ部と
粒子内部双方に５本以上の転位線が観察された。表面沃
化銀含有率は、６．７モル％であった。

【００８２】（沃臭化銀ｆの調製）沃臭化銀ｄの調製に
おいて、１）の工程でｐＡｇを８．８とし、３）の工程
で添加する硝酸銀量を０．９２モル、ＳＭＣ−１の量を
０．０６９モルとした以外は沃臭化銀ｄと全く同様にし
て沃臭化銀ｆを調製した。

【００８３】得られた乳剤は、粒径（同体積の立方体１
辺長）０．６５μｍ、平均アスペクト比６．５、粒子内
部から２／８．５／Ｘ／７モル％（Ｘは転位線導入位
置）のハロゲン組成を有する平板状粒子からなる乳剤で
あった。この乳剤を電子顕微鏡で観察したところ乳剤中
の粒子の全投影面積の６０％以上の粒子にフリンジ部と
粒子内部双方に５本以上の転位線が観察された。表面沃
化銀含有率は、１１．９モル％であった。

【００８４】上記各乳剤に前述の増感色素を添加、熟成
した後、トリフォスフィンセレナイド、チオ硫酸ナトリ
ウム、塩化金酸、チオシアン酸カリウムを添加し、常法
に従い、かぶり、感度関係が最適になるように化学増感
を施した。なお沃臭化銀ａ，ｂ，ｃ，ｅ，ｇ，ｈ，ｉ，
ｊについても、上記ｄ，ｆに準じ分光増感、化学増感を
施した。

【００８５】《評価方法》１．表面粗さＷＹＫＯ社製三次元表面粗さ計ＲＳ−ｐｌｕｓを用い
て、倍率４０倍で各試料の磁気記録層側の表面粗さを測
定し、付属の解析ソフトでＲ_k、Ｒ_pkをそれぞれ調べ
た。又、スライスレベルを７０ｎｍにとり、そのレベル
での面積を調べ、その値を視野の全面積で割ることで７
０ｎｍ以上の突起の占める面積を算出した。

【００８６】２．磁気記録性能（Ｓ／Ｎ）評価各試料を１インチ幅で長さ５０ｍに断裁した各サンプル
に、トラック幅１．５ｍｍ、ヘッドギャップ７μｍ、タ
ーン数１０００の入出力可能なヘッドを用いて、１００
ｍｍ／Ｓの送り速度で１０００ｂｐｉの記録密度信号を
記録する。その後、同一ヘッド、同一速度で信号を再生
したときの出力ＳとノイズＮの比を測した。評価は２３
℃、５８％ＲＨで行った。

【００８７】尚、写真構成層と組み合わせた試料は画像
露光を与え、下記現像処理したものについて評価を行な
った。

【００８８】（処理工程）処理工程処理時間処理温度補充量＊発色現像３分１５秒３８±０．３℃ ７８０ｍｌ漂白４５秒３８±２．０℃ １５０ｍｌ定着１分３０秒３８±２．０℃ ８３０ｍｌ安定６０秒３８±５．０℃ ８３０ｍｌ乾燥１分５５±５．０℃ − ＊補充量は感光材料１ｍ²当たりの値である。

【００８９】発色現像液及び発色現像補充液現像液補充液水８００ｍｌ８００ｍｌ炭酸カリウム３０ｇ３５ｇ炭酸水素ナトリウム２．５ｇ３．０ｇ亜硫酸カリウム３．０ｇ５．０ｇ臭化ナトリウム１．３ｇ０．４ｇ沃化カリウム１．２ｍｇ − ヒドロキシルアミン硫酸塩２．５ｇ３．１ｇ塩化ナトリウム０．６ｇ − ４−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−（β−ヒドロキシルエチル）アニリン硫酸塩４．５ｇ６．３ｇジエチレントリアミン五酢酸３．０ｇ３．０ｇ水酸化カリウム１．２ｇ２．０ｇ水を加えて１リットルとし、水酸化カリウム又は２０％
硫酸を用いて発色現像液はｐＨ１０．０６に、補充液は
ｐＨ１０．１８に調整する。

【００９０】漂白液及び漂白補充液漂白液補充液水７００ｍｌ７００ｍｌ１，３−ジアミノプロパン四酢酸鉄（III）アンモニウム１２５ｇ１７５ｇエチレンジアミン四酢酸２ｇ２ｇ硝酸ナトリウム４０ｇ５０ｇ臭化アンモニウム１５０ｇ２００ｇ氷酢酸４０ｇ５６ｇ水を加えて１リットルとし、アンモニア水又は氷酢酸を
用いて漂白液はｐＨ４．４に、補充液はｐＨ４．０に調
整する。

【００９１】定着液及び定着補充液定着液補充液水８００ｍｌ８００ｍｌチオシアン酸アンモニウム１２０ｇ１５０ｇチオ硫酸アンモニウム１５０ｇ１８０ｇ亜硫酸ナトリウム１５ｇ２０ｇエチレンジアミン四酢酸２ｇ２ｇアンモニア水又は氷酢酸を用いて定着液はｐＨ６．２
に、補充液はｐＨ６．５に調整後、水を加えて１リット
ルとする。

【００９２】安定液及び安定補充液水９００ｍｌｐ−オクチルフェノールのエチレンオキシド１０モル付加物２．０ｇジメチロール尿素０．５ｇヘキサメチレンテトラミン０．２ｇ１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン０．１ｇシロキサン（ＵＣＣ製Ｌ−７７）０．１ｇアンモニア水０．５ｍｌ水を加えて１リットルとした後、アンモニア水又は５０
％硫酸を用いてｐＨ８．５に調整する。

【００９３】３．磁気ヘッドの摩耗量磁気記録媒体試料１〜１３及び現像処理後の試料１４〜
２６をそれぞれ搬送後、ヘッドの汚れをメタノールで洗
浄し、ヘッドギャップ部の摩耗度合いを見るためにギャ
ップ間隔を測定し、初期のギャップ間隔との差から搬送
５００ｍあたりの摩耗分（μｍ）を算出してヘッド摩耗
量とした。次に、磁気ヘッドのギャップ間隔が磁気記録
の最低磁束反転長の８μｍとなった時点を磁気ヘッドの
寿命とし、ヘッド摩耗量から試料のヘッド研磨性を推定
して、以下の評価基準とした。

【００９４】 ○：ヘッド摩耗量≦０．７μｍ △：０．７μｍ＜ヘッド摩耗量≦１．２μｍ ×：１．２μｍ＜ヘッド摩耗量以上の結果を表２に示す。

【００９５】

【表２】

【００９６】表から明らかな様に、本発明の試料は磁気
ヘッドの汚れのクリーニング性に優れることから、電磁
変換特性に優れ、かつ磁気ヘッドの摩耗も少ない。更に
写真構成層と組み合わせた試料では、現像処理後の出力
低下も起こり難い。又、架橋有機粒子のみ研磨剤として
添加した試料は、無機粒子研磨剤を併用するものに比
べ、表面粗さの割りには磁気ヘッドの摩耗量が少ないこ
とが判る。

【００９７】実施例２実施例１の試料１、８及び９と、以下の試料を用いて架
橋有機粒子の脱落性、その粒径分布の影響及び透明性を
評価した。

【００９８】〈試料２７、２８の作製〉平均粒径は同じ
で粒径分布の半値幅が２．０μｍの架橋ＰＭＭＡ粒子を
用いた以外は試料１と同様にして試料２７を、同じく平
均粒径は同じで粒径分布の半値幅が３．０μｍの架橋Ｐ
ＭＭＡ粒子を用いた以外は試料１と同様にして試料２８
を、それぞれ作製した。

【００９９】〈脱落性の評価〉試料の磁気記録層側表面
を不織布に接触させ、反対側から１ｋｇ／ｃｍ²の荷重
を掛けて３０ｃｍ／秒で搬送する。搬送の前後で７０ｎ
ｍ以上の高さの突起の占める面積の比率を測定し、該比
率が５０％以上減少したものを×、減少が２０％以上５
０％未満のものを△、５％以上２０％未満のものを○、
５％未満のものを◎と評価した。○と◎のものが実用上
有用である。

【０１００】〈透明性の評価〉試料のヘーズを三菱化成
工業（株）製濁度計ＴＵＲＢＩＮＤＩＭＥＴＥＲで測定
し、ヘーズ１０％以下を○、１０％より大きい値を×と
して評価した。尚、写真構成層と組み合わせる場合、ヘ
ーズ値が１０％を越えると、プリント画像の鮮鋭性が悪
くなったり、現像処理後のフィルムが曇って見えたりし
始める。特にリバーサルフィルム（ポジフィルム）とし
て用いる場合は、フィルムを直接鑑賞するのでヘーズ値
は１０％以下にすることが好ましい。

【０１０１】以上の結果を表３に示す。

【０１０２】

【表３】

【０１０３】これにより、研磨剤平均粒径／磁性層膜厚
の比が２．０を越える、又は粒径分布曲線の半値幅が１
μｍを越えると粒子が脱落し易くなることが判る。

【０１０４】

【発明の効果】本発明によれば、磁気ヘッドの寿命を縮
めることなく、磁気ヘッドのクリーニング性能、特に写
真構成層及びその現像処理に起因するヘッド汚れに対す
るクリーニング性能が改良され、走行安定性にも優れる
磁気記録媒体が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】測定した表面形状を高さの分布でプロットした
曲線を示す図。

【図２】Ｒ_kの求め方を説明する図。

【図３】Ｒ_pkの求め方を説明する図。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上の磁気記録層を有する側の、表
面粗さの中心線から７０ｎｍ〜１００ｎｍの高さを持つ
突起が占める面積が全面積の０．１〜１．０％であるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】前記磁気記録層を有する側に平均粒径
０．１〜３．０μｍの架橋有機粒子を含有することを特
徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】前記架橋有機粒子の粒径分布曲線の半値
幅が１μｍ以下であることを特徴とする請求項２に記載
の磁気記録媒体。
【請求項４】前記架橋有機粒子が磁気記録層のバイン
ダーに対して０．０１〜１．０重量％で含有されること
を特徴とする請求項２又は３に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】前記架橋有機粒子を保持する層から最表
面層までの膜厚に対する該粒子の平均粒径の比が１．１
〜２．０であることを特徴とする請求項２、３又は４に
記載の磁気記録媒体。
【請求項６】支持体上の磁気記録層を有する側の表面
粗さＲ_pkが１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあることを特徴
とする磁気記録媒体。
【請求項７】支持体上の磁気記録層を有する側の表面
粗さＲ_kが１０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲にあることを特徴
とする磁気記録媒体。
【請求項８】支持体上の磁気記録層を有する側の表面
粗さＲ_pkが１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあることを特徴
とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項９】支持体上の磁気記録層を有する側の表面
粗さＲ_kが１０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲にあることを特徴
とする請求項１又は８に記載の磁気記録媒体。
【請求項１０】ヘーズが１０％以下であることを特徴
とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８又は９に
記載の磁気記録媒体。