JPH10301218A

JPH10301218A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH10301218A
Application number: JP9104574A
Authority: JP
Inventors: Makoto Honda; 本田　　誠; Akira Kawakami; 晃川上; Toshiaki Shibue; 俊明渋江
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1997-04-22
Filing date: 1997-04-22
Publication date: 1998-11-13

Abstract

(57)【要約】【課題】磁気ヘッドの寿命を損うことなく、磁気ヘッ
ドの目詰りを防止し、磁気情報の読取り、書込み精度が
劣化しにくい磁気記録媒体、及び写真構成層やその現像
処理に起因する新たな磁気ヘッドの目詰りを解決し、磁
気情報を利用した新たなハロゲン化銀カラー感光材料シ
ステムにもよく適応する磁気記録媒体の提供。【解決手段】支持体の一方の側に磁気記録層を有し、
磁気記録層側の表面が下記の表面粗さを満たすことを特
徴とする磁気記録媒体。３ｎｍ≦Ｒｒａ≦２０ｎｍかつ３０ｎｍ≦Ｒｒｔ≦
１０００ｎｍ

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体に関す
るもので、磁気ヘッドの寿命を縮めることなく磁気ヘッ
ドのクリーニング性、特に写真構成層及びその現像処理
に関わる新たなヘッド汚れに対するクリーニング性が改
良された磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は一般的に磁気ヘッドによ
って情報を読み書きするものであり、迅速かつ正確に情
報を入出力するためには磁気記録媒体と磁気ヘッドが常
に最適の状態にある必要がある。しかしながら、合成ポ
リマーバインダー中に酸化鉄を主成分とする磁性体粒子
を分散してなる磁気記録媒体表面と金属である磁気ヘッ
ドとの接触によって、磁気ヘッドの表面及びギャップ部
に磁気記録媒体自身の成分が付着し、情報入出力に支障
をきたす場合がある。また、磁気ヘッド表面又はギャッ
プ部にゴミ、埃、塵等が付着しても同様の磁気情報の入
出力エラーが発生する。

【０００３】これらの問題に対しては、磁気ヘッドのク
リーニングを行うことによって殆ど解消するが、ゴミ、
埃、塵に対して有効であっても磁気記録媒体の成分の付
着や写真構成層と共に用いた場合の写真構成層及びその
現像処理に関わる磁気ヘッド目詰りに対しては完璧では
ない。また、クリーニング部材の用意やクリーニング作
業自身の煩わしさは依然存在する。

【０００４】１９９６年４月２２日、ハロゲン化銀カラ
ー写真感光材料（以下、単に感光材料ともいう）の中に
撮影（画像露光）後の現像処理や印画紙へのプリントを
より効率よく、高精度で行うために、撮影条件の情報等
を感光材料に記録しておいて有効利用するシステムが登
場した。

【０００５】このシステムでは、米国特許４，９４７，
１９６号及び国際公開特許９０／０４２５４号にあるよ
うに写真フィルムの感光層と逆側の面に磁気記録を可能
とする磁性体粒子を含有した磁性層を有するロール状フ
ィルム及び磁気ヘッドを有する撮影用カメラが用いられ
る。これらを用い磁性層に感光材料の種類やメーカー等
の識別情報、撮影時の条件に関わる情報、プリント条件
に関する情報、プリント焼増しの条件に関する情報など
をフィルム上で磁気的に入出力することによりプリント
品質向上、プリント作業の効率化、ラボ事務処理の効率
化等をはかることが可能となる。

【０００６】すなわち、支持体の一方の側に磁気記録媒
体を、他方の側に写真構成層を設けて磁気情報と光学画
像情報を併せ持った画期的な記録媒体といえる。

【０００７】しかしながら、前記磁気ヘッドの目詰り問
題は存在し、更に写真構成層及びその現像処理関わる新
たな目詰り要因が追加されることになる。磁気記録媒体
側から行う磁気ヘッドクリーニングは、一般的には磁気
記録媒体自身に酸化アルミニウム等の研磨剤を含有さ
せ、磁気ヘッドの走行時に磁気ヘッド表面をこれらの研
磨剤が研磨することで行っている。

【０００８】これらの研磨剤は最表層となる磁気記録層
に含有されるのが一般的であるが、粒径の小さい研磨剤
を使用する場合、充分な研磨力を得るためには大量の研
磨剤が必要となり、また研磨剤量を少量とすると粒径の
大きな研磨剤を選択しなければならない。

【０００９】このような従来の方法で研磨力を上げてい
く場合、多量の研磨剤や大粒径の研磨剤の添加により磁
気記録層が脆くなり、研磨剤が脱落しやすくなるばかり
でなく、研磨力の増加に伴い磁気ヘッドのが削れが大き
くなり、前記のようなフィルムと磁気ヘッドの最適な状
態が保てなくなるまでの時間（磁気ヘッドの寿命）が短
くなってしまう。

【００１０】このような問題を解決するために特開平８
−３３４８５８号に記載のように磁性粉を含有したセル
ローストリアセテート支持体上に研磨剤としてアルミナ
を含有した層を設け、磁気記録層側の表面突起高さを制
御する方法が考案されているが、支持体中に磁性粉を含
有することで、脆弱性の悪化や引張り弾性率の低下が認
められ、さらには充分なヘッドクリーニング性を与える
と磁気ヘッドの寿命が損われてしまう欠点があった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は磁気ヘッドの寿命を損うことなく、磁気ヘッドの目詰
りを防止し、磁気情報の読取り、書込み精度が劣化しに
くい磁気記録媒体を提供することにある。また、本発明
の他の目的は先に記した写真構成層やその現像処理に起
因する新たな磁気ヘッドの目詰りを解決し、磁気情報を
利用した新たなハロゲン化銀カラー感光材料システムに
もよく適応する磁気記録媒体を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は以下
の構成により達成される。

【００１３】１．支持体の一方の側に磁気記録層を有
し、磁気記録層側の表面が下記の表面粗さを満たすこと
を特徴とする磁気記録媒体。

【００１４】３ｎｍ≦Ｒｒａ≦２０ｎｍかつ３０ｎ
ｍ≦Ｒｒｔ≦１０００ｎｍ２．前記磁気記録媒体の磁気記録層側に塗設されるいず
れかの層に、平均粒径１．０μｍ〜２．０μｍの架橋有
機物粒子研磨剤と平均粒径０．０１μｍ〜２．０μｍの
無機物粒子研磨剤を同時／又は別々に含む事を特徴とす
る前記１に記載の磁気記録媒体。

【００１５】３．前記磁気記録層側の表面突起の内架橋
有機物粒子研磨剤による突起が無機物粒子研磨剤による
突起よりも高くなることを特徴とする前記１又は２に記
載の磁気記録媒体。

【００１６】４．前記磁気記録媒体の磁気記録層側に塗
設されるいずれかの層に含まれる架橋有機物粒子研磨剤
と無機物粒子研磨剤の重量比が０．１≦無機物粒子研磨剤（重量）／架橋有機物粒子研
磨剤（重量）≦２０００を満足する範囲にあることを特徴とする前記１〜３の何
れか１項に記載の磁気記録媒体。

【００１７】５．前記磁気記録層側に塗設するいずれか
の層に含有される架橋有機物粒子研磨剤と無機物粒子研
磨剤それぞれの平均粒径が架橋有機物粒子研磨剤、無機
物粒子研磨剤を含有する層から最表面層までの乾燥膜厚
よりも大きいことを特徴とする前記１〜４の何れか１項
に記載の磁気記録媒体。

【００１８】以下に本発明を更に詳細に説明する。

【００１９】本発明でいう、磁気記録層側の表面粗さＲ
ｒａとは中心線平均粗さを表し、Ｒｒｔとは最大高さを
表す。Ｒｒａは磁気記録層側表面の全体的な粗れ具合を
表し、Ｒｒｔは磁気記録層側表面の突起の高さの指標と
なる。我々の検討の結果、表面の全体的な粗れ具合と突
起物の高さのバランスが上記１の範囲内にあるとき磁気
ヘッドのクリーニングと磁気ヘッドの磨耗性対して顕著
な効果が認められた。

【００２０】なお、表面の凹凸で凸部が囲む面積と凹部
の囲む面積が等しくなるような直線を中心線といい、最
も低い凹と最も高い凸のＰｅａｋｔｏＰｅａｋの距
離を最大高さという。

【００２１】このような効果は上記２に示した様に架橋
有機物粒子研磨剤と無機物粒子研磨剤を併用した場合に
更に顕著となり、ヘッドの寿命は損うことなく、かつ磁
気ヘッド上でフィルム搬送後にヘッドに着く汚れは、多
量の無機物粒子研磨剤を用いたときと同程度しか付着し
なかった。上記３で述べているように上記それぞれの研
磨剤の平均粒径から言って突起物は架橋有機物粒子研磨
剤、表面の地肌の粗れは無機物粒子研磨剤が起因である
と考えられるが、突起物が磁気ヘッドに着いた汚れの内
比較的軟らかい成分のものや汚れの表面を掻き崩し、次
いで無機物粒子研磨剤起因の粗れが残りの汚れを掻き落
すため、ヘッド汚れが効率的に除去され、また磁気ヘッ
ドと主に接触する表面突起物は架橋有機物粒子研磨剤が
主体であるため磁気ヘッド自体は削れにくクリーニング
性とヘッドの寿命を両立できると考えられる。特に写真
構成層と共に用いる場合、写真構成層とその現像処理に
起因する汚れが比較的軟らかい成分からなるため、架橋
有機物粒子研磨剤の突起によってかなりの部分掻き落さ
れ、このような汚れ成分が起因で起る磁気記録エラーは
殆ど無くなる。無機物粒子研磨剤のみでこの効果を出そ
うとすると磁気記録層中への添加量が増え、磁気記録層
が脆くなると同時に磁気ヘッドの寿命が著しく損われて
しまう。

【００２２】これらの効果を最適に引出すためには無機
物粒子研磨剤と架橋有機物粒子研磨剤の添加量比が重要
で、上記４を満たす範囲ある場合架橋有機物粒子研磨
剤、無機物粒子研磨剤それぞれの性能が最適に発揮さ
れ、磁気ヘッドのクリーニング効果と磁気ヘッドの寿命
を高いレベルで両立することができる。

【００２３】また、架橋有機物粒子研磨剤、無機物粒子
研磨剤は最表層の磁気記録層以外の層に添加しても良
く、その場合表面に突起と適度な粗れを作るために、架
橋有機物粒子研磨剤、無機物粒子研磨剤それぞれの平均
粒径が、それぞれの研磨剤を添加する層から最表面まで
の乾燥膜厚より大きいものを選ぶことが好ましい。

【００２４】本発明で層とは後に示すセルロース系など
のバインダー素材を含む層のことを表している。

【００２５】支持体としてＰＥＮを用いることで磁気ヘ
ッドとフィルムの当りの均一化、引張り剛性、平面性の
向上が実現されより好ましい。

【００２６】本発明の架橋有機物粒子研磨剤の平均粒径
は１．０μｍ〜２．０μｍが好ましく、より好ましくは
１．５μｍ〜２．０μｍである。

【００２７】以下に本発明の架橋架橋有機物粒子研磨剤
の具体例を示すが本発明はこれらに限定されるものでは
ない。。

【００２８】ＰＭＭＡ：ポリメチルメタクリレートＰ
ＢＭＡ：ポリブチルメタクリレートＰＥＭＡ：ポリエチルメタクリレートＰＳｔ：ポリス
チレンＰＡＩ：ポリアミドイミドベンゾグアナミン-ホルムアルデヒド縮合物メラミン-ホルムアルデヒド縮合物ベンゾグアナミン-メラミン-ホルムアルデヒド縮合物本発明の無機物粒子研磨剤としてはモース硬度５以上が
好ましく、より好ましくは６以上の非磁性無機粉末が挙
げられ、具体的には、酸化アルミニウム（α-アルミ
ナ、γ-アルミナ、コランダム）、酸化クロム（Ｃｒ₂Ｏ
₃）、酸化鉄（α-Ｆｅ₂Ｏ₃）、二酸化珪素、二酸化チタ
ン等の酸化物、ダイアモンド等の微粉末を挙げることが
できる。これらの平均粒径は０．０１μｍ〜２．０μｍ
が好ましく、０．１μｍ〜１．５μｍならば更に好まし
い。上記非磁性無機粉末の添加量は、通常磁性体粉末に
対して０．５〜３００重量％の範囲で添加することがで
きる。

【００２９】本発明に用いられる強磁性体粉末としては
強磁性酸化鉄粉末Ｃｏドープの強磁性酸化鉄微粉末、強
磁性二酸化鉄微粉末、強磁性二酸化クロム微粉末、強磁
性金属粉末、バリウムフェライト等が使用できる。

【００３０】本発明に用いられる強磁性粉末は公知の方
法を参照して容易に製造することができる。形状として
は針状、米粒状、球状、立方体状、板状等いずれでも良
いが針状、板状が電磁変換特性上好ましい。結晶子サイ
ズ、被表面積も特に制限はないが、結晶子サイズで４０
０オングストローム以上ＢＥＴ値で２０ｍ²／ｇ以上が
好ましく３０ｍ²／ｇ以上が特に好ましい。強磁性粉末
のｐＨ、表面処理等は特に制限無く用いることができ
る。好ましいｐＨの範囲は５〜１０である。強磁性酸化
鉄微粉末の場合は２価の鉄／３価の鉄の比率は特に制限
無く用いることができる。

【００３１】磁性粉の好ましい使用量は、本発明の場
合、磁気記録媒体１ｍ²当り４×１０^- ⁴ｇ以上である。
また、上限は４３６ｎｍ波長光の光学濃度が１．５以下
であればいくらでも良いが１ｍ²当り４ｇ前後が限度で
ある。これ以上となると、感光材料に適応する場合写真
構成層に光学的影響を及すことになる。

【００３２】本発明の磁気記録層には必要に応じて、滑
り剤として脂肪酸を含有させても良い。

【００３３】該脂肪酸は、一塩基性であってもよいし、
二塩基性であってもよいが、本発明において好ましい脂
肪酸の炭素原子数は６〜３０、より好ましくは炭素数１
２〜２２であるが、更に、特に具体的に好ましいのはミ
リスチン酸、オレイン酸、ステアリン酸である。

【００３４】又、磁気記録層に脂肪酸エステルを含有さ
せると磁性層の摩擦係数が低下して本発明の磁気記録媒
体の走行性及び耐久性が一段と向上する。好ましい脂肪
酸エステルはブチルステアレート及びブチルパルミテー
トである。脂肪酸エステルは１種単独で使用してもよい
し、２種以上を混合して使用してもよい。

【００３５】本発明の磁気記録層には前記脂肪酸及び／
又は脂肪酸エステルと共に他の潤滑剤を含有させること
ができる。

【００３６】他の潤滑剤としては、例えばシリコーン系
潤滑剤、脂肪酸変性シリコーン系潤滑剤、弗素系潤滑
剤、流動パラフィン、スクワラン、カーボンブラックな
どが挙げられる。これらは単独でも、２種以上を組み合
わせて用いてもよい。

【００３７】前記結合剤としてはセルロースエステル或
はゼラチン類のような透明なものが用いられる。

【００３８】セルロースエステル或はゼラチンのような
透明なバインダ中で、セルロースエステル用の有機溶剤
或はゼラチン用の水のような前記バインダ用の溶媒を用
いて、細分化された磁性粒子の分散液を調製すればよ
い。

【００３９】磁性粒子の分散、混練、塗布の際に使用す
る有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系；プロパノ
ール、ブタノール、イソブチルアルコールなどのアルコ
ール系；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル等
のエステル系；グリコールジメチルエーテルなどのエー
テル系；キシレンなどのタール系（芳香族炭化水素）；
メチレンクロライド、エチレンクロライド等の塩素化炭
化水素系等が使用できる。

【００４０】また、本発明の磁気記録層には一般式
（２）Ｒ₆ＣＯＲ₇で表される化合物を含有させることが
できる。ここで、Ｒ₆は炭素数１２以上の飽和又は不飽
和の直鎖脂肪族炭化水素を表す。該直鎖脂肪族炭化水素
としてはアルキル基及びアルケニル基が代表的である
が、更に良好な滑り性を得るためには炭素数１６以上の
ものが望ましい。Ｒ₇は、−ＯＭ（Ｍは水素原子又はア
ルカリ金属原子（好ましくはナトリウム原子又はカリウ
ム原子）を表す。）、−ＮＨ₂又は−ＯＲ⁶を表す。Ｒ⁶
は上記Ｒ₆と同義である。

【００４１】次に、一般式（２）で表される化合物の好
ましい具体例を挙げる。

【００４２】２−１Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＨ２−２Ｃ₂₁Ｈ₄₃ＣＯＯＨ２−３Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＮＨ₂ ２−４Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₁₈Ｈ₃₇ ２−５Ｃ₂₁Ｈ₄₃ＣＯＯＣ₁₇Ｈ₃₅ ２−６Ｃ₂₁Ｈ₄₃ＣＯＯＣ₁₅Ｈ₃₁ ２−７Ｃ₂₅Ｈ₅₁ＣＯＯＣ₃₀Ｈ₆₁ ２−８Ｃ₂₇Ｈ₅₅ＣＯＯＣ₁₆Ｈ₃₃ 本発明においては、上記の化合物に加えて、例えば米国
特許３，０４２，５２２号、同３，０８０，３１７号、
同４，００４，９２７号、同４，０４７，９５８号、同
３，４８９，４８７号、英国特許９５５，０６１号、同
１，１４３，１１８号、特開昭６０−１４０３４１号等
に記載のシリコーン系滑り剤、米国特許２，４５４，０
４３号、同２，７３２，３０５号、同２，９７６，１４
８号、同３，２０６，３１１号、独国特許１，２８４，
２９５号、同１，２８４，２９４号等に記載の高級脂肪
酸系、アルコール系及び酸アミド系滑り剤、英国特許
１，２６３，７２２号、米国特許３，９３３，５１６号
等に記載の金属石鹸、米国特許２，５８８，７６５号、
同３，１２１，０６０号、英国特許１，１９８，３８７
号等に記載のエステル系、エーテル系滑り剤、米国特許
第３，５０２，４７３号、同３，０４２，２２２号等に
記載のタウリン系滑り剤等も使用できる。

【００４３】更に、滑り層として、先に記載した磁気記
録層に用いられるバインダーに上記脂肪酸を含有させた
層を塗設しても良い。この場合、この層に架橋有機物粒
子研磨粒子と無機物粒子研磨粒子を含有させても良い。

【００４４】本発明の磁気記録層の厚みは０．１μｍ〜
２μｍが好ましい。磁性粒子の塗布量は１０〜１０００
ｍｇ／ｍ²が好ましく、より好ましくは１５〜３００ｍ
ｇ／ｍ²、特に好ましくは２０〜１００ｍｇ／ｍ²であ
る。

【００４５】磁性粒子は酸化鉄を主成分としたものであ
るが、内部にアルミニウム、カルシウム、珪素を微量ド
ーピングしたものは、本発明の目的に対して好ましく用
いられる。又、磁性粒子の針状比は１〜７が好ましい。

【００４６】磁性粒子を含有したドープを流延して乾燥
し磁気記録層を形成する過程において、対向する磁石に
よって規則的に磁性粒子を配向させてもよいし、ランダ
ムな磁場を与えて、いわゆるランダマイズ処理を施すこ
とも本発明においては有効である。

【００４７】次に、本発明に好ましく用いられるポリエ
ステル支持体について説明する。

【００４８】本発明に好ましく用いられる支持体はジカ
ルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするポ
リエステルである。

【００４９】主要な構成成分のジカルボン酸成分として
は、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−
ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボ
ン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエ
ーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、
シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン
酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニル
ケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸な
どを挙げることができる。また、ジオール成分として
は、エチレングリコール、プロピレングリコール、テト
ラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロ
パン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス
フェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジ
エチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイド
ロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることが
できる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの
中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、
ジカルボン酸成分として、テレフタル酸及び／または
２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分とし
て、エチレングリコール及び／または１，４−シクロヘ
キサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステ
ルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン−２，６−ナフタレート、テレフタル酸及
び２，６−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコー
ルからなるポリエステルおよびこれらのポリエステルの
二種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステル
が好ましい。ポリエステルに対してエチレンテレフタレ
ートユニット及び／またはエチレン−２，６−ナフタレ
ートユニットが７０重量％以上含有されていると、透明
性、機械的強度、寸法安定性などに高度に優れたフィル
ムが得られる。

【００５０】本発明に好ましく用いられるポリエステル
フィルムを構成するポリエステルは、本発明の効果を阻
害しない範囲であれば、さらに他の共重合成分が共重合
されていても良いし、他のポリエステルが混合されてい
ても良い。これらの例としては、先に挙げたジカルボン
酸成分やジオール成分、またはポリエステルを挙げるこ
とができる。

【００５１】本発明に好ましく用いられるポリエステル
には、ライトパイピング現象を防止する目的で、染料を
含有させることが好ましい。このような目的で配合され
る染料としては、その種類に特に限定があるわけではな
いが、フィルムの製造上、耐熱性に優れていることが必
要であり、アンスラキノン系やペリノン系の染料が挙げ
られる。また、色調としては、一般の写真感光材料に見
られるようにグレー染色が好ましい。

【００５２】本発明に好ましく用いられるポリエステル
フィルムの厚みは５０μｍ以上１００μｍ以下が好まし
く、特に６０μｍ以上９０μｍ以下であることが好まし
い。

【００５３】また、本発明に好ましく用いられるポリエ
ステルフィルムは、ヘーズが３％以下であることが好ま
しい。さらに好ましくは１％以下である。ヘーズが３％
より大きいとフィルムを写真感光材料用支持体として用
いた場合、写真用印画紙に焼付けた画像がぼけてしまい
不鮮明になる。上記ヘーズは、ＡＳＴＭ−Ｄ１００３−
５２に従って測定したものである。

【００５４】本発明に好ましく用いられるポリエステル
フィルムのガラス転移点Ｔｇは、６０℃以上が好まし
く、さらに７０℃以上１５０℃以下が好ましい。Ｔｇは
示差走査熱量計で測定することによって求められる。Ｔ
ｇがこの範囲にあることで、現像処理機の乾燥工程での
フィルムが変形がなく、現像処理後の巻きぐせカールの
小さい感光材料が得られる。

【００５５】次に、本発明に好ましく用いられるポリエ
ステルフィルムの製造方法について説明するが、特に限
定される訳ではない。

【００５６】未延伸シートを得る方法および縦方向に一
軸延伸する方法は、従来公知の方法で行うことができ
る。例えば、原料のポリエステルをペレット状に成型
し、熱風乾燥または真空乾燥した後、溶融押出し、Ｔダ
イよりシート状に押出して、静電印加法などにより冷却
ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸シートを得
る。次いで、得られた未延伸シートを複数のロール群お
よび／または赤外線ヒーターなどの加熱装置を介してポ
リエステルのＴｇからＴｇ＋１００℃の範囲内に加熱
し、一段または多段縦延伸する方法である。延伸倍率
は、通常２．５倍〜６倍の範囲で、続く横延伸が可能な
範囲とする必要がある。

【００５７】上記の様にして得られた縦方向に一軸延伸
されたポリエステルフィルムを、Ｔｇ〜Ｔｍ（融点）−
２０℃の温度範囲内で、横延伸し、次いで熱固定する。
横延伸倍率は通常３〜６倍であり、また、縦、横延伸倍
率の比は、得られた二軸延伸フィルムの物性を測定し、
好ましい特性を有するように適宜調整する。一般には巾
方向と長手方向の物性をバランスさせることが好ましい
が、使用目的に応じて変化させても良い。この時、２つ
以上に分割された延伸領域で温度差を１〜５０℃の範囲
で順次昇温しながら横延伸すると巾方向の物性の分布が
低減でき好ましい。さらに横延伸後、フィルムを、その
最終横延伸温度以下でＴｇ−４０℃以上の範囲に０．０
１〜５分間保持すると巾方向の物性の分布がさらに低減
でき好ましい。

【００５８】熱固定は、その最終横延伸温度より高温
で、Ｔｍ−２０℃以下の温度範囲内で通常０．５〜３０
０秒間熱固定する。この際、２つ以上に分割された領域
で温度差を１〜１００℃の範囲で順次昇温しながら熱固
定することが好ましい。

【００５９】熱固定されたフィルムは通常Ｔｇ以下まで
冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし
巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Ｔｇ以上
の温度範囲内で、巾方向及び／または長手方向に０．１
〜１０％弛緩処理することが好ましい。また、冷却は、
最終熱固定温度からＴｇまでを、毎秒１００℃以下の冷
却速度で徐冷することが好ましい。

【００６０】これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件の
より最適な条件は、フィルムを構成するポリエステルに
より異なるので、得られた二軸延伸フィルムの物性を測
定し、好ましい特性を有するように適宜調整することに
より決定すればよい。

【００６１】ポリエステルフィルムについては、巻癖を
低減するため種々の方法がとられる。例えば特開昭５１
−１６３５８号に記載されている様に、ポリエステルフ
ィルムのガラス転移点Ｔｇを下回る温度で熱処理するい
わゆるアニール処理（以下、熱処理という）方法があ
る。又、特開平１−１３１５５０号には、逐次２軸延伸
工程において、縦延伸と横延伸の間でフィルム表裏に温
度勾配をつけることで結晶性、配向性の差を持たせて永
久カールをつける方法が記載されている。又、製品とし
て巻き取るときにカールと逆向きに巻き取り製品貯蔵時
につく経時カールと相殺する方法や、延伸時に温度差を
持たせて製膜したポリエステルフィルムをガラス転移点
以下５０℃以上の温度で熱処理する方法も知られてい
る。熱処理で効果的に巻癖が付きにくくなる支持体は、
ガラス転移点が９０℃以上２００℃以下のポリエステル
である。これは、この熱処理の効果がガラス転移点を越
える温度にさらされると消失するため、一般ユーザーが
使用する際にさらされる最も高温（夏季の車中の温度、
８０℃を越える場合もある。）を基準として、９０℃以
上のガラス転移点を有することが必要だからである。
又、透明性を有しガラス転移点２００℃を越える汎用ポ
リエステルフィルムは今のところ存在しない。このよう
なポリエステルとして特に好ましいものはポリエチレン
ナフタレート、これを原料とする共重合物又は組成物で
ある。これらの支持体は、２軸延伸後、熱固定処理して
用いるのが好ましく、必要により熱弛緩させてもよい。

【００６２】この場合、熱処理は、５０℃以上、ガラス
転移点温度以下の温度で０．１時間以上１５００時間以
下行うことが好ましい。このうち特に好ましい熱処理方
法は、例えば、ポリエチレンナフタレートの場合はＴｇ
が約１２０℃あることが好ましく、従って１１９℃以下
の温度で０．２〜７２時間熱処理することが好ましく、
更に好ましいのは１１５℃以下で２４時間程度熱処理す
ることである。特に短時間で熱処理をするために、Ｔｇ
以上に一度昇温し、Ｔｇ近辺で徐々に冷却することが非
常に効率的で好ましい。ポリエチレンナフタレートの場
合、一例として、一度１３０℃以上２００℃の間の温度
に保った後１２５℃まで冷却し、その後１００℃まで40
分間で徐冷することで熱処理時間を著しく短縮できる。
このような熱処理を行った支持体を示差熱分析計で測定
すると、Ｔｇ近傍に吸熱ピークが出現し、この吸熱ピー
クが大きいほど巻癖は付きにくい。又、１００ｍｃａｌ
／ｇ以上が好ましく、更には２００ｍｃａｌ／ｇ以上と
なるように熱処理するのが好ましい。

【００６３】本発明に好ましく用いられるポリエステル
支持体に対しては、支持体とハロゲン化銀乳剤層や、親
水性コロイド層や、裏面層との間の接着層として下引層
を用いることができ、下引層としての制限は特にない
が、例えば特開昭５９−１９９４１号、同５９−７７４
３９号等に記載されたアクリル系共重合体、特開昭５７
−１２８３３２号等に記載されたジオレフィン単量体と
ビニル単量体との共重合体、特公昭４３−３９７６号、
特開昭６４−５３８号、特開平３−１３７６３７号等に
記載された塩化ビニリデン共重合体を含む層が挙げられ
る。

【００６４】また、これら下引層中には導電性物質、ア
ンチハレーション剤、クロスオーバーカット剤、着色染
料、顔料、塗布助剤、カブリ防止剤、酸化防止剤、紫外
線吸収剤、紫外線安定剤、エッチング処理剤、マット剤
などの各種添加剤を１種または２種以上含有しても構わ
ない。

【００６５】また、本発明に好ましく用いられるポリエ
ステルフィルム支持体は、その表面が疎水性であるため
通常はこれらの下引層のみならず、各種表面処理を予め
行うことによってその接着性を補っている。このような
表面処理とは、コロナ放電処理、火陥処理、紫外線処
理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、
レーザー処理などの表面活性化処理の他、レゾルシン、
フェノール類、アルカリ、アミン、トリクロル酢酸など
の薬品でエッチング処理する方法が挙げられる。

【００６６】表面活性化処理のうち、コロナ放電処理
は、最もよく知られている方法であり、従来公知のいず
れの方法、例えば特公昭４８−５０４３号、同４７−５
１９０５号、特開昭４７−２８０６７号、同４９−８３
７６９号、同５１−４１７７０号、同５１−１３１５７
６号等に開示された方法により達成することができる。

【００６７】放電周波数は５０Ｈｚ〜５０００ｋＨｚ、
好ましくは５ｋＨｚ〜数１００ｋＨｚが適当である。放
電周波数が小さすぎると、安定な放電が得られずかつ被
処理物にピンホールが生じ、好ましくない。また周波数
が高すぎると、インピーダンスマッチングのための特別
な装置が必要となり、装置の価格が大となり、好ましく
ない。被処理物の処理強度に関しては、通常のポリエス
テル、ポリオレフィン等のプラスチックフィルムの濡れ
性改良のためには、０．００１ＫＶ・Ａ・分／ｍ²〜５
ＫＶ・Ａ・分／ｍ²、好ましくは０．０１ＫＶ・Ａ・分
／ｍ²〜１ＫＶ・Ａ・分／ｍ²が適当である。電極と誘電
体ロールのギャップクリアランスは０．５〜２．５ｍｍ
が好ましく、更に好ましくは１．０〜２．０ｍｍであ
る。

【００６８】多くの場合、最も効果的な表面処理である
グロー放電処理は、従来知られているいずれの方法、例
えば特公昭３５−７５７８号、同３６−１０３３６号、
同４５−２２００４号、同４５−２２００５号、同４５
−２４０４０号、同４６−４３４８０号、米国特許３，
０５７，７９２号、同３，０５７，７９５号、同３，１
７９，４８２号、同３，２８８，６３８号、同３，３０
９，２９９号、同３，４２４，７３５号、同３，４６
２，３３５号、同３，４７５，３０７号、同３，７６
１，２９９号、英国特許９９７，０９３号、特開昭５３
−１２９２６２号等を用いることができる。グロー放電
処理条件は、一般に圧力は０．００５〜２０Ｔｏｒｒ、
好ましくは０．０２〜２Ｔｏｒｒが適当である。圧力が
低すぎると表面処理効果が低下し、また圧力が高すぎる
と過大電流が流れ、スパークが起こりやすく、危険でも
あるし、被処理物を破壊する恐れもある。放電は、真空
タンク中で１対以上の空間を置いて配置された金属板あ
るいは金属棒間に高電圧を印加することにより生じる。
この電圧は、雰囲気気体の組成、圧力により色々な値を
とり得るものであるが、通常上記圧力範囲内では、５０
０〜５０００Ｖの間で安定な定常グロー放電が起こる。
接着性を向上せしめるのに特に好適な電圧範囲は、２０
００〜４０００Ｖである。また、放電周波数として、従
来技術に見られるように、直流から数１０００ＭＨｚ、
好ましくは５０Ｈｚ〜２０ＭＨｚが適当である。放電処
理強度に関しては、所望の接着性能が得られることから
０．０１ＫＶ・Ａ・分／ｍ²〜５ＫＶ・Ａ・分／ｍ²、好
ましくは０．１５ＫＶ・Ａ・分／ｍ²〜１ＫＶ・Ａ・分
／ｍ²、が適当である。

【００６９】本発明においては、支持体の磁気記録層を
塗設した側と反対の側に写真構成層として感光層を塗設
しても良い。

【００７０】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、
リサーチ・ディスクロージャ（ＲＤと記す）３０８１１
９に記載されているものを用いることができる。

【００７１】以下に記載箇所を示す。

【００７２】［項目］［ＲＤ３０８１１９の項］沃度組成９９３Ｉ−Ａ項製造方法〃〃及び９９４Ｅ項晶癖正常晶〃〃双晶〃〃エピタキシャル〃〃ハロゲン組成一様９９３Ｉ−Ｂ項一様でない〃〃ハロゲンコンバージョン９９４Ｉ−Ｃ項ハロゲン置換〃〃金属含有９９５Ｉ−Ｄ項単分散９９５Ｉ−Ｆ項溶媒添加〃〃潜像形成位置表面９９５Ｉ−Ｇ項内面〃〃適用感材ネガ９９５Ｉ−Ｈ項ポジ（内部かぶり粒子含）〃〃乳剤を混合して用いる〃Ｉ−Ｊ項脱塩〃 II−Ａ項本発明において、ハロゲン化銀乳剤は物理熟成、化学熟
成及び分光増感を行ったものを使用する。このような工
程で使用される添加剤は、ＲＤ１７６４３、１８７１６
及び３０８１１９に記載されている。

【００７３】以下に記載箇所を示す。

【００７４】

【表１】

【００７５】本発明に使用できる公知の写真用添加剤も
上記ＲＤに記載されている。

【００７６】以下に関連のある記載箇所を示す。

【００７７】

【表２】

【００７８】本発明には種々のカプラーを使用すること
ができ、その具体例は、上記ＲＤに記載されている。以
下に関連ある記載箇所を示す。

【００７９】

【表３】

【００８０】使用する添加剤は、ＲＤ３０８１１９のXI
Vに記載されている分散法などにより添加することがで
きる。

【００８１】本発明においては、前述ＲＤ１７６４３の
２８頁、ＲＤ１８７１６の６４７〜８頁及びＲＤ３０８
１１９のXIXに記載されている支持体を使用することが
できる。

【００８２】写真フィルムには、前述ＲＤ３０８１１９
VII−Ｋ項に記載されているフィルター層や中間層等の
補助層を設けることができる。

【００８３】本発明に用いられる感光材料は、前述ＲＤ
３０８１１９VII−Ｋ項に記載されている順層、逆層、
ユニット構成等の様々な層・構成を採ることができる。

【００８４】本発明に用いられるカラー感光材料は、前
述ＲＤ１７６４３の２８〜２９頁、ＲＤ１８７１６の６
４７頁及びＲＤ３０８１１９のXIXに記載された通常の
方法によって、現像処理することができる。

【００８５】

【実施例】以下に本発明の具体的な実施例を述べるが、
本発明の実施の形態はこれらに限定されない。

【００８６】実施例１磁気記録媒体の作成《支持体１の作成》２，６−ナフタレンジカルボン酸ジ
メチル１００重量部、エチレングリコール６０重量部に
エステル交換触媒として酢酸カルシウム水和物０．１重
量部を添加し、常法に従ってエステル交換反応を行っ
た。得られた生成物に、三酸化アンチモン０．０５重量
部、リン酸トリメチルエステル０．０３重量部を添加し
た。次いで徐々に昇温、減圧にし、２９０℃、０．０５
ｍｍＨｇの条件で重合を行ない固有粘度０．６０のポリ
エチレン−２，６−ナフタレートを得た。

【００８７】これを、１５０℃で８時間真空乾燥した
後、３００℃でＴダイから層状に溶融押出し、５０℃の
冷却ドラム上に静電印加しながら密着させ、冷却固化さ
せ、未延伸シートを得た。この未延伸シートをロール式
縦延伸機を用いて、１３５℃で縦方向に３．３倍延伸し
た。

【００８８】得られた一軸延伸フィルムをテンター式横
延伸機を用いて、第一延伸ゾーン１４５℃で総横延伸倍
率の５０％延伸し、更に第二延伸ゾーン１５５℃で総横
延伸倍率３．３倍となるように延伸した。次いで、１０
０℃で２秒間熱処理し、更に第一熱固定ゾーン２００℃
で５秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン２４０℃で１５秒
間熱固定した。次いで、横方向に５％弛緩処理しながら
室温まで３０秒かけて徐冷して、厚さ８５μｍのポリエ
チレンナフタレートフィルムを得た。

【００８９】これをステンレス製のコアに巻き付け、１
１０℃で４８時間熱処理（アニール処理）して支持体を
作成した。

【００９０】この支持体の両面に１２Ｗ／ｍ²／ｍｉｎ
のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引塗布液Ｂ
−１を乾燥膜厚０．４μｍになるように塗布し、その上
に１２Ｗ／ｍ²／ｍｉｎのコロナ放電処理を施し、下記
下引塗布液Ｂ−２を乾燥膜厚０．０６μｍになるように
塗布した。

【００９１】１２Ｗ／ｍ²／ｍｉｎのコロナ放電処理を
施した他方の面には、下記下引塗布液Ｂ−３を乾燥膜厚
０．２μｍになるように塗布し、その上に１２Ｗ／ｍ²
／ｍｉｎのコロナ放電処理を施し、下記塗布液Ｂ−４を
乾燥膜厚０．２μｍになるように塗布した。

【００９２】各層はそれぞれ塗布後９０℃で１０秒間乾
燥し、４層塗布後引き続いて１１０℃で２分間熱処理を
行った後、５０℃で３０秒間冷却処理を行った。

【００９３】〈下引塗布液Ｂ−１〉ブチルアクリレート３０重量％，ｔ−ブチルアクリレート２０重量％，スチレン２５重量％及び２−ヒドロキシエチルアクリレート２５重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％）１２５ｇ化合物（ＵＬ−１）０．４ｇヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレン尿素）０．０５ｇ水で仕上げる１０００ｍｌ〈下引塗布液Ｂ−２〉スチレン−無水マレイン酸共重合体の水酸化ナトリウム水溶液（固形分６％）５０ｇ化合物（ＵＬ−１）０．６ｇ化合物（ＵＬ−２）０．０９ｇシリカ粒子（平均粒径３μ）０．２ｇ水で仕上げる１０００ｍｌ〈塗布液Ｂ−３〉ブチルアクリレート３０重量％、ｔ−ブチルアクリレート２０重量％、スチレン２５重量％及び２−ヒドロキシアクリレート２５重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％）５０ｇ化合物（ＵＬ−１）０．３ｇヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレン尿素）１．１ｇ水で仕上げる１０００ｍｌ

【００９４】

【化１】

【００９５】〈塗布液Ｂ−４〉ジカルボン酸成分として
テレフタル酸ジメチル６０モル％、イソフタル酸ジメチ
ル３０モル％、５−スルホイソフタル酸ジメチルのナト
リム塩１０モル％、グリコール成分としてエチレングリ
コール５０モル％、ジエチレングリコール５０モル％を
常法により共重合した。この共重合体を９５℃の熱水中
で３時間攪拌し、１５重量％の水分散液Ａとした。

【００９６】酸化スズ−酸化アンチモン複合微粒子（平均粒径０．２μ）の水分散液（固形分４０重量％) １０９ｇ水分散液Ａ６７ｇ水で仕上げる１０００ｍｌ〈磁気記録層の塗設〉下引層Ｂ−４を塗設した層上に下
記組成の磁気記録塗布液を精密イクストルージョンコー
ターを用い乾燥膜厚１．２μｍになるように塗布し、乾
燥と同時に塗膜が未乾のうちに配向磁場中で塗布方向へ
磁性体を配向させ、磁気記録再生時の高出力化を図っ
た。

【００９７】Ａ．磁気記録層塗布液１の調製１．研磨剤分散物１の調製研磨剤混練物１（表４に記載）の研磨剤、バインダー、
溶剤を加圧ニーダー混練機に投入し、３時間加圧混練を
行い研磨剤混練物１を作製した。前記研磨剤混練物１に
研磨剤分散物１（表５に記載）のバインダー、溶剤を添
加し、サンドグラインダーで３時間分散して均一な研磨
剤分散物１を作製した。

【００９８】

【表４】

【００９９】

【表５】

【０１００】２．磁性粉分散物１の調製磁性粉分散物１（表６に記載）の磁性粉、バインダー、
溶剤をサンドグラインダーに投入し、４時間分散して均
一な磁性粉分散物１を作製した。

【０１０１】

【表６】

【０１０２】３．磁気記録層塗布液１の調製下記に記載のようにして、磁気記録層塗布液１（下記に
記載）の溶液中にバインダーを添加しディゾルバーで撹
拌しバインダー溶液を作製する。その中に下記表に記載
のように磁性粉分散物１、研磨剤分散物１、架橋ＰＭＭ
Ａ（平均粒径１．５μｍ）を添加し、サンドグラインダ
ーで１時間分散して硬化剤添加後充分撹拌混練して磁気
記録層塗布液１を得た。

【０１０３】磁気記録層塗布液１１）バインダー１００重量部ジアセチルセルロース（平均分子量１８．５万、酢化度２．５５）２）溶剤シクロヘキサノン２１８．４重量部アセトン９０５．２重量部３）磁性粉分散物１２０．３重量部４）研磨剤分散物１１４．６重量部５）架橋ＰＭＭＡ０．２重量部６）硬化剤（イソシアネート）４０重量部（株）日本ポリウレタン工業製コロネートＬＢ．磁気記録層塗布液２〜１３の調製１．磁気記録層塗布液２〜５の調製磁気記録層塗布液１の成分の内、架橋ＰＭＭＡ粉末の添
加量を下記のように変更した以外は磁気記録層塗布液１
と同様にした磁気記録層塗布液２〜５を作製した。

【０１０４】磁気記録層塗布液２架橋ＰＭＭＡ添加量０．００１重量部磁気記録層塗布液３架橋ＰＭＭＡ添加量０．０２重量部磁気記録層塗布液４架橋ＰＭＭＡ添加量４０重量部磁気記録層塗布液５架橋ＰＭＭＡ添加量５０重量部２．磁気記録層塗布液６〜９の調製磁気記録層塗布液１の成分の内、架橋ＰＭＭＡ粉末の粒
径を下記のように変更した以外は磁気記録層塗布液１と
同様にした磁気記録層塗布液６〜９を作製した。

【０１０５】磁気記録層塗布液６架橋ＰＭＭＡ粒径０．５μｍ磁気記録層塗布液７架橋ＰＭＭＡ粒径１．０μｍ磁気記録層塗布液８架橋ＰＭＭＡ粒径２．０μｍ磁気記録層塗布液９架橋ＰＭＭＡ粒径３．０μｍ３．磁気記録層塗布液１０〜１３の調製磁気記録層塗布液１の成分の内、研磨剤分散物１中のア
ルミナを除き、下記に示すように架橋ＰＭＭＡ粉末の添
加量を変更した以外は磁気記録層塗布液１と同様にした
磁気記録層塗布液１０〜１３を作製した。

【０１０６】磁気記録層塗布液１０架橋ＰＭＭＡ添加量０．００１重量部磁気記録層塗布液１１架橋ＰＭＭＡ添加量０．０２重量部磁気記録層塗布液１２架橋ＰＭＭＡ添加量４０重量部磁気記録層塗布液１３架橋ＰＭＭＡ添加量５０重量部〈支持体２〜６の作製〉支持体１の塗布液の内、塗布液
Ｂ−４中に下記の様に架橋ＰＭＭＡ粉末を添加（Ｂ−５
〜Ｂ−９）した以外は支持体１と同様にして支持体２〜
６を作製した。

【０１０７】架橋ＰＭＭＡの粒径架橋ＰＭＭＡの添加量Ｂ−５０．５μｍ０．２ｇＢ−６１．５μｍ０．０６ｇＢ−７１．５μｍ０．１２ｇＢ−８５μｍ０．０６ｇＢ−９１１μｍ０．０６ｇ下引層Ｂ−５を支持体を支持体２、下引層Ｂ−６を塗布
した支持体を支持体３とし、以下下引層Ｂ−７が支持体
４、Ｂ−８が支持体５、Ｂ−９が支持体６とした。

【０１０８】下引層Ｂ−５〜Ｂ−９を塗設した支持体２
〜６の塗布した下引層上に先に記載した組成の磁気記録
層塗布液１から架橋有機物研磨剤のみを除いた塗布液
（磁気録層塗布液１４）を精密イクストルージョンコー
ターを用い乾燥膜厚１．２μｍになるように塗布し、乾
燥と同時に塗膜が未乾のうちに配向磁場中で塗布方向へ
磁性体を配向させ、磁気記録再生時の高出力化を図っ
た。支持体２〜６に前述の磁気記録層塗布液２を塗布し
たサンプルをそれぞれサンプル１４〜１８とした。

【０１０９】〈滑り層の塗布液の調製及び塗設〉〈滑り層１の調製〉下に記載の滑り層の混合溶剤を７０
℃に加温し、撹拌しつつカルナバワックスを溶解した後
に、４０℃に降温し滑り層塗布液を得た。

【０１１０】１）溶剤トルエン７００重量部メチルエチルケトン３００重量部２）滑り剤カルナバワックス１重量部〈滑り層２の調製〉下記に示すように滑り層２を調製し
た。

【０１１１】Ｃ₆Ｈ₁₃ＣＨ（ＯＨ）（ＣＨ₂）₁₀ＣＯＯＣ₄₀Ｈ₈₁ ０．７重量部ｎ−Ｃ₅₀Ｈ₁₀₁（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₆Ｈ（活性剤）１重量部キシレン２．５重量部シクロヘキサノン０．７重量部プロピレングリコールモノエチルメーテル３５．１重量部この溶液を高速撹拌ホモジナイザーにて充分分散した。

【０１１２】その後、下記の溶剤で希釈し、再度高速撹
拌ホモジナイザーで分散した。

【０１１３】シクロヘキサノン３５０重量部分散した上記溶液に下記の素材を添加し撹拌混合して滑
り層２の塗布液を得た。

【０１１４】アセトン６００重量部ジアセチルセルロース３重量部架橋ＰＭＭＡ粉末（平均粒径１．５μｍ）０．５重量部下記に記載のように、滑り層１は、支持体１に磁気記録
層塗布液１または、支持体２〜６に磁気記録層塗布液２
を塗布した試料に、滑り層２は支持体１に磁気記録層塗
布液２を塗布した試料（サンプル１９）に、それぞれの
磁気記録層を塗布、乾燥させた後、精密イクストルージ
ョンコーターを用い塗布した。滑り層の乾燥膜厚はいず
れの水準も１０ｎｍとなるようにした。

【０１１５】〈写真構成層の塗設〉前記の全ての磁気記
録媒体の磁気記録層とは反対側に前記下引塗布液Ｂ−１
及びＢ−２を同一条件で塗設した下引層を設けてある上
に、以下に示す組成の写真構成層を設けて、試料１〜１
８を得た。添加量は１ｍ²当りのグラム数で表す。但
し、ハロゲン化銀とコロイド銀は銀の量に換算し、増加
色素は（ＳＤで示す）は銀１モル当りのモル数で示し
た。

【０１１６】第１層（ハレーション防止層）黒色コロイド銀０．１６ＵＶ−１０．３ＣＭ−１０．０４４ＯＩＬ−１０．０４４ゼラチン１．３３第２層（中間層）ＡＳ−１０．１６ＯＩＬ−１０．２０ゼラチン１．４０第３層（低感度赤感色性層）沃臭化銀ａ０．１２沃臭化銀ｂ０．５０ＳＤ−１３．０×１０^-5 ＳＤ−４１．５×１０^-4 ＳＤ−３３．０×１０^-4 ＳＤ−６３．０×１０^-6 Ｃ−１０．５１ＣＣ−１０．０４７ＯＩＬ−２０．４５ＡＳ−２０．００５ゼラチン１．４０第４層（中感度赤感色性層）沃臭化銀ｃ０．６４ＳＤ−１３．０×１０^-5 ＳＤ−２１．５×１０^-4 ＳＤ−３３．０×１０^-4 Ｃ−２０．２２ＣＣ−１０．０２８ＤＩ−１０．００２ＯＩＬ−２０．２１ＡＳ−３０．００６ゼラチン０．８７第５層（高感度赤感色性層）沃臭化銀ｃ０．１３沃臭化銀ｄ１．１４ＳＤ−１３．０×１０^-5 ＳＤ−２１．５×１０^-4 ＳＤ−３３．０×１０^-4 Ｃ−２０．０８５Ｃ−３０．０８４ＣＣ−１０．０２９ＤＩ−１０．０２７ＯＩＬ−２０．２３ＡＳ−３０．０１３ゼラチン１．２３第６層（中間層）ＯＩＬ−１０．２９ＡＳ−１０．２３ゼラチン１．００第７層（低感度緑感色性層）沃臭化銀ａ０．２４５沃臭化銀ｂ０．１０５ＳＤ−６５．０×１０^-4 ＳＤ−５５．０×１０^-4 Ｍ−１０．２１ＣＭ−２０．０３９ＯＩＬ−１０．２５ＡＳ−２０．００３ＡＳ−４０．０６３ゼラチン０．９８第８層（中間層）Ｍ−１０．０３ＣＭ−２０．００５ＯＩＬ−１０．１６ＡＳ−１０．１１ゼラチン０．８０第９層（中感度緑感色性層）沃臭化銀ｅ０．８７ＳＤ−７３．０×１０^-4 ＳＤ−８６．０×１０^-5 ＳＤ−９４．０×１０^-5 Ｍ−１０．１７ＣＭ−２０．０４８ＣＭ−３０．０５９ＤＩ−２０．０１２ＯＩＬ−１０．２９ＡＳ−４０．０５ＡＳ−２０．００５ゼラチン１．４３第１０層（高感度緑感色性層）沃臭化銀ｆ１．１９ＳＤ−７４．０×１０^-4 ＳＤ−８８．０×１０^-5 ＳＤ−９５．０×１０^-5 Ｍ−１０．０９ＣＭ−３０．０２０ＤＩ−３０．００５ＯＩＬ−１０．１１ＡＳ−４０．０２６ＡＳ−５０．０１４ＡＳ−６０．００６ゼラチン０．７８第１１層（イエローフィルター層）黄色コロイド銀０．０５ＯＩＬ−１０．１８ＡＳ−７０．１６ゼラチン１．００第１２層（低感度青感色性層）沃臭化銀ｇ０．２９沃臭化銀ｈ０．１９ＳＤ−１０８．０×１０^-4 ＳＤ−１１３．１×１０^-4 Ｙ−１０．９１ＤＩ−４０．０２２ＯＩＬ−１０．３７ＡＳ−２０．００２ゼラチン１．２９第１３層（高感度青感色性層）沃臭化銀ｈ０．１３沃臭化銀ｉ１．００ＳＤ−１０４．４×１０^-4 ＳＤ−１１１．５×１０^-4 Ｙ−１０．４８ＤＩ−４０．０１９ＯＩＬ−１０．２１ＡＳ−２０．００４ゼラチン１．５５第１４層（第１保護層）沃臭化銀ｊ０．３０ＵＶ−１０．０５５ＵＶ−２０．１１０ＯＩＬ−２０．６３ゼラチン１．３２第１５層（第２保護層）ＰＭ−１０．１５ＰＭ−２０．０４ＷＡＸ−１０．０２Ｄ−１０．００１ゼラチン０．５５尚、上記の組成物の他に、塗布助剤ＳＵ−１、ＳＵ−
２、ＳＵ−３、分散助剤ＳＵ−４、粘度調整剤Ｖ−１、
安定剤ＳＴ−１、ＳＴ−２、カブリ防止剤ＡＦ−１、重
量平均分子量：１０，０００及び重量平均分子量：１，
１００，０００の２種のポリビニルピロリドン（ＡＦ−
２）、抑制剤ＡＦ−３、ＡＦ−４、ＡＦ−５、硬膜剤Ｈ
−１、Ｈ−２及び防腐剤Ａｓｅ−１を添加した。

【０１１７】上記試料に用いた化合物の構造を以下に示
す。

【０１１８】上記沃臭化銀の特徴を表７に示す。

【０１１９】

【表７】

【０１２０】

【化２】

【０１２１】

【化３】

【０１２２】

【化４】

【０１２３】

【化５】

【０１２４】

【化６】

【０１２５】

【化７】

【０１２６】

【化８】

【０１２７】

【化９】

【０１２８】

【化１０】

【０１２９】尚、ハロゲン化銀粒子の形成例として、沃
臭化銀ｄ，ｆの製造例を以下に示す。

【０１３０】種晶乳剤−１の調製以下のようにして種晶乳剤を調製した。

【０１３１】特公昭５８−５８２８８号、同５８−５８
２８９号に示される混合攪拌機を用いて、３５℃に調整
した下記溶液Ａ１に硝酸銀水溶液（１．１６１モル）
と、臭化カリウムと沃化カリウムの混合水溶液（沃化カ
リウム２モル％）を、銀電位（飽和銀−塩化銀電極を比
較電極として銀イオン選択電極で測定）を０ｍＶに保ち
ながら同時混合法により２分を要して添加し、核形成を
行った。続いて、６０分の時間を要して液温を６０℃に
上昇させ、炭酸ナトリウム水溶液でｐＨを５．０に調整
した後、硝酸銀水溶液（５．９０２モル）と、臭化カリ
ウムと沃化カリウムの混合水溶液（沃化カリウム２モル
％）を、銀電位を９ｍＶに保ちながら同時混合法によ
り、４２分を要して添加した。添加終了後４０℃に降温
しながら、通常のフロキュレーション法を用いて直ちに
脱塩、水洗を行った。

【０１３２】得られた種晶乳剤は、平均球換算直径が
０．２４μｍ、平均アスペクト比が４．８、ハロゲン化
銀粒子の全投影面積の９０％以上が最大辺比率が１．０
〜２．０の六角状の平板状粒子からなる乳剤であった。
この乳剤を種晶乳剤−１と称する。

【０１３３】〔溶液Ａ１〕オセインゼラチン２４．２ｇ臭化カリウム１０．８ｇＨＯ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）ｍ（ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂Ｏ）_19.8（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）ｎＨ（ｍ＋ｎ＝９．７７）（１０％エタノール溶液）６．７８ｍｌ１０％硝酸１１４ｍｌＨ₂Ｏ９６５７ｍｌ沃化銀微粒子乳剤ＳＭＣ−１の調製０．０６モルの沃化カリウムを含む６．０重量％のゼラ
チン水溶液５リットルを激しく攪拌しながら、７．０６
モルの硝酸銀水溶液と７．０６モルの沃化カリウム水溶
液、各々２リットルを１０分を要して添加した。この間
ｐＨは硝酸を用いて２．０に、温度は４０℃に制御し
た。粒子調製後に、炭酸ナトリウム水溶液を用いてｐＨ
を５．０に調整した。得られた沃化銀微粒子の平均粒径
は０．０５μｍであった。この乳剤をＳＭＣ−１とす
る。

【０１３４】沃臭化銀ｄの調製０．１７８モル相当の種晶乳剤−１とＨＯ（ＣＨ₂ＣＨ₂
Ｏ）ｍ（ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂Ｏ）_19.8（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）
ｎＨ（ｍ＋ｎ＝９．７７）の１０％エタノール溶液０．
５ｍｌを含む、４．５重量％の不活性ゼラチン水溶液７
００ｍｌを７５℃に保ち、ｐＡｇを８．４、ｐＨを５．
０に調整した後、激しく攪拌しながら同時混合法により
以下の手順で粒子形成を行った。

【０１３５】１）２．１モルの硝酸銀水溶液と０．１９
５モルのＳＭＣ−１、及び臭化カリウム水溶液を、ｐＡ
ｇを８．４、ｐＨを５．０に保ちながら添加した。

【０１３６】２）続いて溶液を６０℃に降温し、ｐＡｇ
を９．８に調製した。その後、０．０７１モルのＳＭＣ
−１を添加し、２分間熟成を行った（転位線の導入）。

【０１３７】３）０．９５９モルの硝酸銀水溶液と０．
０３モルのＳＭＣ−１、及び臭化カリウム水溶液を、ｐ
Ａｇを９．８、ｐＨを５．０に保ちながら添加した。

【０１３８】尚、粒子形成を通して各溶液は、新核の生
成や粒子間のオストワルド熟成が進まないように最適な
速度で添加した。上記添加終了後に４０℃で通常のフロ
キュレーション法を用いて水洗処理を施した後、ゼラチ
ンを加えて再分散し、ｐＡｇを８．１、ｐＨを５．８に
調整した。

【０１３９】得られた乳剤は、粒径（同体積の立方体１
辺長）０．７５μｍ、平均アスペクト比５．０、粒子内
部から２／８．５／Ｘ／３モル％（Ｘは転位線導入位
置）のハロゲン組成を有する平板状粒子からなる乳剤で
あった。この乳剤を電子顕微鏡で観察したところ乳剤中
の粒子の全投影面積の６０％以上の粒子にフリンジ部と
粒子内部双方に５本以上の転位線が観察された。表面沃
化銀含有率は、６．７モル％であった。

【０１４０】沃臭化銀ｆの調製沃臭化銀ｄの調製において、１）の工程でｐＡｇを８．
８とし、３）の工程で添加する硝酸銀水溶液を０．９２
モル、ＳＭＣ−１の量を０．０６９モルとした以外は沃
臭化銀ｄと全く同様にして沃臭化銀ｆを調製した。

【０１４１】得られた乳剤は、粒径（同体積の立方体１
辺長）０．６５μｍ、平均アスペクト比６．５、粒子内
部から２／８．５／Ｘ／７モル％（Ｘは転位線導入位
置）のハロゲン組成を有する平板状粒子からなる乳剤で
あった。この乳剤を電子顕微鏡で観察したところ乳剤中
の粒子の全投影面積の６０％以上の粒子にフリンジ部と
粒子内部双方に５本以上の転位線が観察された。表面沃
化銀含有率は、１１．９モル％であった。

【０１４２】上記各乳剤に前述の増感色素を添加、熟成
した後、トリフォスフィンセレナイド、チオ硫酸ナトリ
ウム、塩化金酸、チオシアン酸カリウムを添加し、常法
に従い、かぶり、感度関係が最適になるように化学増感
を施した。

【０１４３】沃臭化銀ａ，ｂ，ｃ，ｅ，ｇ，ｈ，ｉ，ｊ
についても、上記ｄ，ｆに準じ分光増感、化学増感を施
した。

【０１４４】写真構成層に対して画像露光を与え、下記
現像処理を施した。

【０１４５】（処理工程）処理工程処理時間処理温度補充量＊発色現像３分１５秒３８±０．３℃ ７８０ｍｌ漂白４５秒３８±２．０℃ １５０ｍｌ定着１分３０秒３８±２．０℃ ８３０ｍｌ安定６０秒３８±５．０℃ ８３０ｍｌ乾燥１分５５±５．０℃ − ＊補充量は感光材料１ｍ²当たりの値である。

【０１４６】発色現像液、漂白液、定着液、安定液及び
その補充液は、以下のものを使用した。

【０１４７】発色現像液及び発色現像補充液現像液補充液水８００ｍｌ８００ｍｌ炭酸カリウム３０ｇ３５ｇ炭酸水素ナトリウム２．５ｇ３．０ｇ亜硫酸カリウム３．０ｇ５．０ｇ臭化ナトリウム１．３ｇ０．４ｇ沃化カリウム１．２ｍｇ − ヒドロキシルアミン硫酸塩２．５ｇ３．１ｇ塩化ナトリウム０．６ｇ − ４−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−（β−ヒドロキシルエチル）アニリン硫酸塩４．５ｇ６．３ｇジエチレントリアミン五酢酸３．０ｇ３．０ｇ水酸化カリウム１．２ｇ２．０ｇ水を加えて１リットルとし、水酸化カリウム又は２０％
硫酸を用いて発色現像液はｐＨ１０．０６に、補充液は
ｐＨ１０．１８に調整する。

【０１４８】漂白液及び漂白補充液漂白液補充液水７００ｍｌ７００ｍｌ１，３−ジアミノプロパン四酢酸鉄（III）アンモニウム１２５ｇ１７５ｇエチレンジアミン四酢酸２ｇ２ｇ硝酸ナトリウム４０ｇ５０ｇ臭化アンモニウム１５０ｇ２００ｇ氷酢酸４０ｇ５６ｇ水を加えて１リットルとし、アンモニア水又は氷酢酸を
用いて漂白液はｐＨ４．４に、補充液はｐＨ４．０に調
整する。

【０１４９】定着液及び定着補充液定着液補充液水８００ｍｌ８００ｍｌチオシアン酸アンモニウム１２０ｇ１５０ｇチオ硫酸アンモニウム１５０ｇ１８０ｇ亜硫酸ナトリウム１５ｇ２０ｇエチレンジアミン四酢酸２ｇ２ｇアンモニア水又は氷酢酸を用いて定着液はｐＨ６．２
に、補充液はｐＨ６．５に調整後、水を加えて１リット
ルとする。

【０１５０】安定液及び安定補充液水９００ｍｌｐ−オクチルフェノールのエチレンオキシド１０モル付加物２．０ｇジメチロール尿素０．５ｇヘキサメチレンテトラミン０．２ｇ１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン０．１ｇシロキサン（ＵＣＣ製Ｌ−７７）０．１ｇアンモニア水０．５ｍｌ水を加えて１リットルとした後、アンモニア水又は５０
％硫酸を用いてｐＨ８．５に調整する。

【０１５１】写真構成層を塗設した磁気記録媒体のサン
プル番号は以下のように決めた。

【０１５２】

【表８】

【０１５３】〈評価方法〉１．表面粗さ三次元表面粗さ計ＴＯＰＯ−３Ｄ（ＷＹＫＯ社製）を用
いて写真構成層を塗設していない試料の磁気記録層側の
表面粗さを測定し、中心線平均粗さ（Ｒra）と最大高さ
（Ｒrt）を求めた。それぞれの試料で５点測定を行い、
それらの平均値をその試料の表面粗さとした。また、表
面の三次元チャートでキズやゴミなどの異常がないこと
を確認して測定を行った。

【０１５４】２．磁気記録性能（Ｓ／Ｎ）評価前記に記載の組成の各層を重層塗布した磁気記録媒体を
１インチ幅、長さ５０ｍに断裁した各サンプルに、トラ
ック幅１．５ｍｍ、ヘッドギャップ７μｍ、ターン数１
０００の入出力可能なヘッドを用いて、１００ｍｍ／Ｓ
の送り速度で１０００ｂｐｉの記録密度信号を記録す
る。その後、同一ヘッド、同一速度で信号を再生したと
きの出力ＳとノイズＮの比を測した。

【０１５５】なお、表記した値は比較例で得られた磁気
記録層のＳ／Ｎ比を０ｄＢとしたときの値である。評価
条件は２３℃５８％ＲＨで行った。また、現像処理後の
サンプルについても同様の評価を行った。

【０１５６】３．ヘッド汚れ顕微鏡観察現像処理後のサンプルを搬送した後、ヘッドを外して表
面の汚れ状態を顕微鏡により観察し下記のグレードに分
けて評価した。

【０１５７】全面汚れ：× ヘッドの汚れ５０％以上：△ ヘッドの汚れ１０％以下：○ ４．磁気ヘッドの寿命上記のヘッドの汚れをメタノールで洗浄し、ヘッドギャ
ップ部の磨耗度合を見るためギャップ間隔を測定した。
この値から磨耗前のギャップ間隔７μｍを差引いた値を
１０倍し、フィルムを５００ｍ搬送したときの磨耗分を
算出した。従ってこの数値の単位はμｍ／５００ｍであ
る。これをヘッド磨耗量ということにした。

【０１５８】次に、磁気ヘッドのギャップ間隔が磁気記
録の最低磁束反転長８μｍとなった時点を磁気ヘッドの
寿命とし、上記のように算出した値からフィルムによる
ヘッド研磨性を推定し、以下のように評価した。

【０１５９】ヘッド磨耗量０．７μｍ未満：○ ヘッド磨耗量０．７〜１．２μｍ：△ ヘッド磨耗量１．２μｍを越えると：× ５．ヘーズ乳剤塗布前のベースのヘーズを濁度計（ＴＵＲＢＩＮＤ
ＩＭＥＴＥＲ：（株）三菱化成工業製）を用いて測定し
た。

【０１６０】以上の結果を以下の表に示す。

【０１６１】

【表９】

【０１６２】磁気記録層、滑り層塗布後にロール形態で
６０℃−３日間熱処理しても、全てのサンプルにおいて
ベース同士のくっつき（ブロッキング）は発生しておら
ず、平面性は良好だった。また、現像処理を行っても磁
気記録性能の劣化はなかった。

【０１６３】上記表から判るように、本発明の、表面粗
さ、架橋有機物粒子研磨剤と無機物粒子研磨剤の平均粒
径、重量比を満足し、磁気記録層側に有機、無機物粒子
研磨剤が同時に存在するサンプルは、磁気記録性能（現
像処理後も含む）、磁気ヘッド汚れに対して優れた性能
をもち、かつ磁気ヘッドの寿命も損うことなくその性能
を実現している。

【０１６４】

【発明の効果】実施例で実証した如く、本発明による磁
気記録媒体は、磁気ヘッドの寿命を損うことなく、磁気
ヘッドの目詰りを防止し、磁気情報の読取り、書込み精
度が劣化しにくく、写真構成層やその現像処理に起因す
る新たな磁気ヘッドの目詰りを解決し、磁気情報を利用
した新たなハロゲン化銀カラー感光材料システムにもよ
く適応し優れた効果を有する。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体の一方の側に磁気記録層を有し、
磁気記録層側の表面が下記の表面粗さを満たすことを特
徴とする磁気記録媒体。３ｎｍ≦Ｒｒａ≦２０ｎｍかつ３０ｎｍ≦Ｒｒｔ≦
１０００ｎｍ
【請求項２】前記磁気記録媒体の磁気記録層側に塗設
されるいずれかの層に、平均粒径１．０μｍ〜２．０μ
ｍの架橋有機物粒子研磨剤と平均粒径０．０１μｍ〜
２．０μｍの無機物粒子研磨剤を同時／又は別々に含む
事を特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】前記磁気記録層側の表面突起の内架橋有
機物粒子研磨剤による突起が無機物粒子研磨剤による突
起よりも高くなることを特徴とする請求項１又は２に記
載の磁気記録媒体。
【請求項４】前記磁気記録媒体の磁気記録層側に塗設
されるいずれかの層に含まれる架橋有機物粒子研磨剤と
無機物粒子研磨剤の重量比が０．１≦無機物粒子研磨剤（重量）／架橋有機物粒子研
磨剤（重量）≦２０００を満足する範囲にあることを特徴とする請求項１〜３の
何れか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】前記磁気記録層側に塗設するいずれかの
層に含有される架橋有機物粒子研磨剤と無機物粒子研磨
剤それぞれの平均粒径が架橋有機物粒子研磨剤、無機物
粒子研磨剤を含有する層から最表面層までの乾燥膜厚よ
りも大きいことを特徴とする請求項１〜４の何れか１項
に記載の磁気記録媒体。