JPH11175950A - 研磨剤層を有する磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 研磨剤含有層を有する磁気記録媒体におい
て、磨耗に対する耐久性、磁気ヘッドのクリーニング
性、磁気ヘッドの目詰まり防止の点で優れた磁気記録媒
体を提供する。 【解決手段】 支持体上の一方の側に、少なくとも２層
の研磨剤含有層を有することを特徴とする磁気記録媒
体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体に関
し、更に詳しくは、磁気ヘッドのクリーニング性、層間
接着性、耐久性が改良された磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は一般に磁気ヘッドによっ
て情報を読み書きするものであり、迅速かつ正確に情報
を入出力するためには磁気記録媒体と磁気ヘッドが常に
最適の状態にある必要がある。しかしながら、合成ポリ
マーバインダー中に酸化鉄を主成分とする磁性体粒子を
分散してなる磁気記録媒体表面と、金属である磁気ヘッ
ドとの接触によって、磁気ヘッドの表面及びギャップ部
分にゴミ、埃、塵、或いは磁気記録媒体自身の成分が付
着して目づまりをおこし、情報入出力に支障をきたす場
合がある。

【０００３】これらの問題に対しては、磁気ヘッドのク
リーニングを行なうことによってほとんど解消するが、
ゴミ、埃、塵に対して有効であっても磁気記録媒体の成
分の付着に対しては完ぺきではない。またクリーニング
部材の用意やクリーニングの煩わしさは依然存在する。

【０００４】近年、ハロゲン化銀カラー写真感光材料
（以下、単に感光材料ともいう）は、撮影（画像露光）
後の現像処理や印画紙へのプリントをより効率よく高精
度で行うために、撮影条件の情報等をハロゲン化銀カラ
ー感光材料に記録しておいて有効利用しようとする提案
がある。

【０００５】米国特許第４，９４７，１９６号及び国際
公開特許９０／０４２５４号には、写真フィルムの裏面
に磁気記録を可能とする磁性体粒子を含有した磁性層を
有するロール状フィルム及び磁気ヘッドを有する撮影用
カメラが開示されている。上記改良技術によれば、磁性
層に感光材料の種類やメーカー等の識別情報、撮影時の
条件に係わる情報、顧客に関する情報、プリント条件に
係わる情報、プリント焼き増しの条件に係わる情報など
をフィルム上で磁気的に入／出力することにより、プリ
ント品質の向上、プリント作業の効率化、ラボ事務処理
の効率化等をはかることが可能となる。

【０００６】すなわち、支持体の一方の側に磁気記録媒
体を、他方の側に写真構成層を設けて磁気情報と光学的
画像情報を併せ持った画期的な記録媒体と言える。

【０００７】しかしながら、前記磁気ヘッドの目づまり
の問題は存在し、更に写真構成層及びその現像処理に関
わる新たな目づまり要因が追加されることになる。

【０００８】磁気記録媒体の側から行う磁気ヘッドのク
リーニングは、磁気記録媒体自身に酸化アルミニウム等
の研磨剤を含有させ、磁気ヘッドの走行時に磁気ヘッド
表面がこれら研磨剤により研磨されることによって行っ
ている。

【０００９】従来は最表面となる磁気記録層にのみ研磨
剤を含有させていた。粒径の小さい研磨剤を使用する場
合は、充分な研磨力を得るためには大量の研磨剤が必要
となり、研磨剤量を少量とすると粒径の大きな研磨剤を
選択しなければならない。いずれも磁気記録層中の粒子
成分の含有率が高くなる方向であり、磁気記録層が脆く
なりやすい。磁気ヘッド走行時にこれら研磨剤が脱落し
易く、耐久性が著しく劣化してしまう。

【００１０】更に、特開平８−１７０４７号及び特開平
８−５０３４０号では中心粒径が０．２〜０．４μｍの
研磨剤を含む層を磁気記録層の外側に設ける方法が開示
されているが、バインダーの厚みに対し研磨剤中心粒径
が小さく、充分な研磨効果が得られなかった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】研磨剤含有層を有する
磁気記録媒体において、磨耗に対する耐久性、磁気ヘッ
ドのクリーニング性、磁気ヘッドの目詰まりの点で優れ
た磁気記録媒体を提供する。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題を
解決するために種々検討を重ねた結果、以下に述べる本
発明の構成によって達成されることを見い出した。

【００１３】すなわち、支持体上の一方の側に、少なく
とも２層の研磨剤含有層を有することを特徴とする磁気
記録媒体である。

【００１４】本発明者らは上記のように少なくとも２層
の研磨剤含有層中の研磨剤の平均粒径が、層ごとにそれ
ぞれ異なる研磨剤塗布液を共に同時または逐次にいわゆ
るウエット・オン・ウエットによる多層同時塗布によっ
て設けることにより耐久性・層間接着性が高く、磁気ヘ
ッドのクリーニング性の優れた磁気記録媒体を得ること
ができた。

【００１５】以下、本発明を詳細に説明する。

【００１６】本発明に使用される研磨剤としてはモース
硬度５以上、好ましくは６以上の非磁性無機粉末が挙げ
られ、具体的には、酸化アルミニウム（α−アルミナ、
γ−アルミナ、コランダム等）、酸化クロム（Ｃｒ
₂Ｏ₃）、酸化鉄（α−Ｆｅ₂Ｏ₃）二酸化珪素、二酸化チ
タン等の酸化物、ダイアモンド等の微粉末を挙げること
ができる。これらの平均粒径は０．０１〜５．０μｍが
好ましく、平均粒径の小さい研磨剤の平均粒径は０．０
１〜０．６μｍが好ましく、平均粒径の大きい研磨剤の
平均粒径は０．４〜２．５μｍが好ましい。磁性体粉末
に対し０．５〜３００重量％の範囲で添加することがで
きる。また、支持体上の一方の側に研磨剤を５〜１００
ｍｇ／ｍ²の範囲で塗布することができ、１０〜５５ｍ
ｇ／ｍ²の範囲で塗布することがより好ましい。

【００１７】本発明に使用される強磁性微粉末としては
強磁性酸化鉄微粉末Ｃｏドープの強磁性酸化鉄微粉末、
強磁性二酸化鉄微粉末、強磁性二酸化クロム微粉末、強
磁性金属粉末、バリウムフェライト等が使用できる。

【００１８】本発明で用いられる強磁性粉末は公知の方
法に従って製造することができる。

【００１９】形状としては針状、米粒状、球状、立方体
状、板状等いずれでも良いが、針状、板状が電磁変換特
性上好ましい。結晶子サイズ、被表面積もとくに制限は
ないが、結晶子サイズで４００Å以上、ＢＥＴ値で２０
ｍ²／ｇ以上が好ましく、３０ｍ²／ｇ以上が特に好まし
い。強磁性粉末のｐＨ、表面処理等は特に制限なく用い
ることができる。好ましいｐＨの範囲は５〜１０であ
る。強磁性酸化鉄微粉末の場合は２価の鉄／３価の鉄の
比率は特に制限なく用いることができる。

【００２０】磁性粉の好ましい使用量は、本発明の場
合、磁気記録媒体１ｍ²当たり４×１０^-4ｇ以上が好ま
しい。また上限は４３６ｎｍ波長光の光学濃度が１．５
以下で有ればいくらでも良いが１ｍ²当たり４ｇ前後が
限度である。これ以上となると、写真感光材料に適用す
る場合写真構成層に光学的影響をおよぼすことになる。

【００２１】本発明における研磨剤含有層及び磁気記録
層を構成するバインダーとしては、熱可塑性樹脂、放射
線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、その他反応性樹脂であっ
て、これらを単独又は混合して使用することができる。

【００２２】上記熱可塑性樹脂としては、セルロース系
樹脂（セルロースアセテート、ニトロセルロース等のセ
ルロース誘導体）、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、塩化
ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル−とビニルア
ルコールの共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重
合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレ
ン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニ
ル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン酢酸ビニ
ル共重合体、マレイン酸及びアクリル酸の共重合体、ア
クリル酸エステル系共重合体、ポリビニルブチラール樹
脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリア
ミド樹脂、アミノ樹脂、スチレンブタジエン樹脂、シリ
コーン樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができる。

【００２３】これらは水系エマルジョン又は水系コロイ
ド溶液として使用することもできる。放射線硬化性樹脂
とは、電子線、紫外線等の放射線によって硬化される樹
脂で、無水マレイン酸タイプ、ウレタンアクリルタイ
プ、エーテルアクリルタイプのものが挙げられる。

【００２４】また熱硬化性樹脂、その他の反応型樹脂と
しては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン
系硬化型樹脂、ユリア樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン系硬化型樹脂等が挙げられる。

【００２５】上記列挙のバインダーはその分子中に極性
基を有していてもよい。極性基としてはエポキシ基、−
ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−Ｎ（Ｒ）₂、−Ｎ（Ｒ）₃Ｘ、−Ｓ
Ｏ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ₃Ｍ₂、−ＯＰＯ₃Ｍ（Ｍ，
Ｍ₂はそれぞれ水素原子、アルカリ金属原子、アンモニ
ウムを、Ｘはアミン塩を形成する酸を、Ｒは水素原子又
はアルキル基を表す。複数のＲは同一でも異なってもよ
い。）が挙げられる。

【００２６】この他に本発明に使用できる親水性バイン
ダーとしては、例えば、リサーチ・ディスクロージャー
Ｎｏ．１７６４３、２６頁、及び同Ｎｏ．１８７１６、
６５１頁に記載されている水溶性ポリマー、セルロース
エーテル、ラテックスポリマー、水溶性ポリエステルを
挙げることができる。

【００２７】水溶性ポリマーとしては、前述の他にゼラ
チン、ゼラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ソ
ーダ、澱粉、ポリビニールアルコール、アクリル酸系共
重合体、無水マレイン酸共重合体等が挙げられ、セルロ
ースエーテルとしては、メチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルセルロース等が挙げられる。

【００２８】水溶性ポリマーを使用する場合は硬膜剤を
使用するのが好ましい。使用できる硬膜剤としては、ア
ルデヒド系化合物類、ケトン化合物類、反応性のハロゲ
ンを有する化合物類、反応性のオレフィンを持つ化合物
類、Ｎ−メチロール化合物、アジリジン化合物類、酸誘
導体類、エポキシ化合物類、ハロゲンカルボキシアルデ
ヒド類、クロム明バン、硫酸ジルコニウム、カルボキシ
ル基活性型硬膜剤等を挙げることができる。硬膜剤は、
通常、樹脂固形分に対して０．０１〜６０重量％用いら
れ、好ましくは０．０５〜５０重量％である。

【００２９】本発明では必要に応じて、研磨剤含有層の
いずれかの層、複数層または全ての層のバインダー及び
磁気記録層のバインダーを架橋することができる。架橋
剤としては、アルデヒド系化合物類、ケトン化合物類、
反応性のハロゲンを有する化合物類、反応性のオレフィ
ンを持つ化合物類、Ｎ−ヒドロキシメチルフタルイミ
ド、Ｎ−メチロール化合物、イソシアネート類、アジリ
ジン化合物類、酸誘導体類、エポキシ化合物類、ハロゲ
ンカルボキシアルデヒド類及び無機系架橋剤をあげるこ
とができる。

【００３０】架橋剤は通常、バインダーに対して０．０
１〜３０重量％用いられ、好ましくは０．０５〜２０重
量％である。

【００３１】本発明の研磨剤含有層、磁気記録層の塗布
液を作製する際に上記各成分を有機溶剤中に溶解あるい
は均一に分散させ支持体上に塗布した場合いずれの部分
も均一な組成となるようにする。

【００３２】有機溶剤としてはメタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコー
ル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、エーテル、グ
リコールジメチルエーテル、グリコールモノメチルエー
テル、ジオキサン等のエーテル系溶剤、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤、メチレンク
ロライド、エチレンクロライド四塩化炭素、クロロホル
ム、エチレンクロルヒドリン等の塩素化炭化水素、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン、水等を単独もし
くは適当な比率で混合した混合溶剤がある。

【００３３】本発明において研磨剤含有層の各々の乾燥
膜厚はそれぞれ０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０
１〜１．０μｍが更に好ましい。さらに、研磨剤含有層
の乾燥膜厚の合計は０．１〜２．０μｍが好ましい。ま
た、研磨剤含有層中に磁性体を含まず磁気記録層を設け
るときは、磁気記録層の乾燥膜厚はそれぞれ０．０１〜
１０μｍが好ましく、０．１〜５．０μｍがより好まし
い。

【００３４】研磨剤含有層のバインダーの膜厚と研磨剤
中心粒径の関係は、支持体から遠い側の研磨剤含有層
は、研磨剤中心粒径／バインダー膜厚比率が２．０以下
が好ましく、１．２５以下がより好ましい。さらに支持
体に近い側の研磨剤含有層は、研磨剤中心粒径／バイン
ダー膜厚比率が２．５以下が好ましく、１．７以下がよ
り好ましい。

【００３５】研磨剤含有層、磁気記録層を形成する塗布
液には潤滑性の付与、帯電防止、接着防止、摩擦磨耗特
性向上等の機能を持たせるために、潤滑剤、帯電防止剤
など種々の添加剤を添加することができる。また塗布液
には、例えば研磨剤含有層、磁気記録層に柔軟性を与え
るために可塑剤を、塗布液中の研磨剤、磁性体の分散を
助けるために分散剤を添加することができる。上記潤滑
性の付与、帯電防止、摩擦磨耗特性向上等の機能は研磨
剤含有層、磁気記録層とは別にこれらの機能層を設けて
も良い。

【００３６】潤滑性を付与する方法として、隣接層に潤
滑剤の添加及び／または最外層に潤滑剤を添加すること
ができる。また、最外層の外側にオーバーコート層とし
て、潤滑剤をバインダーを伴わないで塗設しても良い。
潤滑剤をバインダーを伴わずに塗設する方法は特に限定
されないが、例えば潤滑剤を溶剤で溶解して塗設する方
法や、潤滑剤をエマルジョン化してその分散液を塗設す
る方法などがあげられる。

【００３７】本発明の磁気記録層に使用できる潤滑剤と
しては、ポリシロキサン等のシリコーンオイル、ポリエ
チレン、ポリテトラフルオロエチレン等のプラスチック
微粉末、高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、パラフィン
ワックス、フルオロカーボン類が挙げられる。具体的に
はこれらは、単独或いは混合して用いることができる。
これらの添加量は乾燥塗膜１００重量部に対し、０．５
〜２０重量部の範囲で用いることができる。水に溶ける
か拡散させることができるものが好ましい。

【００３８】また、本発明で使用できる帯電防止剤は、
一般にハロゲン化銀写真感光材料に有用な帯電防止剤、
帯電防止組成物のほとんどを用いることができる。

【００３９】例えば、特公昭４７−２８９３７号あるい
は特公昭４９−２３８２８号記載のスチレン−マレイン
酸ナトリウム共重合体、特開昭５３−８２８７６号記載
のビニルベンジルスルホン酸ナトリウム共重合体、特公
昭４８−２３４５１号記載のスチレンスルホン酸ナトリ
ウムの重合体あるいは共重合体等のアニオン系帯電防止
剤、特開昭５１−４２５３５号、特開昭５４−１５９２
２２号、特開昭５５−７７６３号記載のアイオネン重合
物（例えば、トリエチレンジアミンとキシリデンジクロ
ライドとの重合物）、米国特許第２，８８２，１５７号
記載の例えば、ポリメタクロイルエチルジエチルメチル
アンモニウムメチルスルホネート、特公昭６０−５１６
９３号、特開昭６１−２２３７３６号及び特開昭６２−
９３４６号記載の第４級アンモニウム基を側鎖に持つ架
橋型共重合体粒子（例えば、コポリマー〔Ｎ，Ｎ，Ｎ−
トリメチル−Ｎ−ビニルベンジルアンモニウムクロライ
ド−コ−ジビニルベンゼン〕）、特開平７−２８１９４
号記載のアイオネン重合体架橋型あるいはアイオネン重
合体を側鎖に持つ共重合体粒子等のカチオン帯電防止剤
（例えば、ポリビニルベンジルクロライドと末端Ｎ−
（トリエチレンジアミンとキシリデンジクロライドとの
重合物）との架橋反応物）、特公昭５７−１２９７９号
に記載のアルミナゾルを主成分とするもの、特開昭５７
−１０４９３１号記載のＺｎＯ，ＳｎＯ₂，ＴｉＯ₂，Ａ
ｌ₂Ｏ₃，Ｉｎ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂，ＭｇＯ，ＢａＯ，Ｍｏ
Ｏ₃，ＺｉＯ₂等の微粒子金属酸化物、特公昭５５−５９
８２号記載のＶ₂Ｏ₅等の金属酸化物帯電防止剤、特公昭
５２−３２５７２号記載の高級脂肪アルコールリン酸エ
ステル帯電防止剤、特開平２−２５２７２６号記載のポ
リ（イソチアナフテン）系、特開平２−２５５７７０号
あるいは特開平２−３０８２４６号記載のポリ（チオフ
ェン）系等の共役二重結合導電性高分子等が挙げられ
る。特に上記帯電防止剤のうち特公昭４８−２３４５１
号記載のスチレンスルホン酸ナトリウムの共重合体、特
開昭５３−８２８７６号記載のビニルベンジルスルホン
酸ナトリウムの共重合物等のアルカリ金属スルホン酸型
アニオン高分子帯電防止剤、特開昭５４−１５９２２２
号記載のトリエチレンジアミンとキシリデンジクロライ
ド等のジハライドよりなる重合体を代表とするアイオネ
ン重合体、特開平７−２８１９４号記載のトリエチレン
ジアミン等のジアミンとキシリデンジクロライド等のジ
ハライドよりなる縮合物あるいはアイオネン重合体がビ
ニル共重合体の架橋剤の役目をしているアイオネン架橋
型共重合体粒子、同記載のトリエチレンジアミン等のジ
アミンとキシリデンジクロライド等のジハライドよりな
る縮合物あるいは重合体が架橋型ビニル共重合体の側鎖
に結合しているアイオネン側鎖ペンダント型架橋共重合
体粒子等の第４級トリエチレンジアミンを構成要素とす
るカチオン型アイオネン高分子帯電防止剤、特公昭６０
−５１６９３号記載のベンジルトリアルキルアンモニウ
ムクロライド基を側鎖に持つ架橋型共重合体粒子等の第
４級ベンジルアミンカチオン型高分子帯電防止剤、特開
昭５７−１０４９３１号記載のＳｎＯ₂，ＴｉＯ₂，Ｚｎ
Ｏ，Ｉｎ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂，ＭｏＯ₃，ＷＯ₃の金属酸化物
及び／又はこれらの金属複合酸化物を主体とする結晶性
金属酸化物微粉末帯電防止剤、特公昭５７−１２９７９
号記載のアルミナゾル組成物、特開平２−２５２７２６
号、特開平２−２５５７７０号、特開平２−３０８２４
６号等に記載のポリ−（５−ドデシルベンゾチオフェ
ン）、ポリ−（３−ドデシルチオフェン）、メタクリロ
イルエチルオキシメチル−３−ポリチオフェン等を代表
とするポリチオフェン系の共役二重結合を有する導電性
高分子帯電防止剤が好ましく、ポリフラン、ポリピロー
ル等も有用である。

【００４０】本発明の少なくとも２層の研磨剤含有層
は、帯電防止層の上に直接設けるのが一般的であるが、
これらの層の間に１層以上の帯電防止層あるいは他の層
があってもよい。

【００４１】可塑剤としては特に限定されないが、例え
ばジオクチルフタル酸（ＤＯＰ）、ジブチルフタル酸
（ＤＢＰ）、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）、
トリクレジルフォスフェート（ＴＣＰ）等が好ましい。
これらは単独あるいは混合して用いることができる。

【００４２】支持体上に磁気記録層を設ける方法として
は、イクストルージョンコーター、エアードクターコー
ト、ブレードコート、エアーナイフコート、スクイズコ
ート、含浸コート、リバースロールコート、トランスフ
ァーロールコート、グラビアコート、キスコート、キャ
ストコート、スプレイコート等が利用できる。多条のス
トライプ塗布を行うには、これら塗布ヘッドを多連にす
ればよい。ストライプ塗布の具体的な方法としては、例
えば、特開昭４８−２５５０３号公報、同４８−２５５
０４号公報、同４８−９８８０３号公報、同５０−１３
８０３７号公報、同５２−１５５３３号公報、同５１−
３２０８号公報、同５１−６２３９号公報、同５１−６
５６０６号公報、同５１−１４０７０３号公報、特公昭
２９−４２２１号公報、米国特許第３，０６２，１８１
号明細書、同３，２２７，１６５号明細書の記載を参考
にすることができる。

【００４３】磁気記録層を支持体上に強固に接着させる
ために、支持体に下塗り層を設けてもよく、また、支持
体を薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火炎処
理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プ
ラズマ処理、レーザー処理、濃酸処理、オゾン酸化処理
等の表面活性化処理をしてもよい。また更に、これら表
面活性化処理をした後に下塗り層を設けてもよい。

【００４４】また本発明の研磨剤含有層は、逐次にいわ
ゆるウエット・オン・ドライで塗布しても良いが、多層
同時塗布方式、いわゆるウエット・オン・ウエット塗布
方式によって支持体上に設けることがより好ましい。

【００４５】本発明で研磨剤層と磁気記録層を設けるウ
エット・オン・ウエット塗布方式とは、初め一層を塗布
した後に湿潤状態で可及的すみやかに次の層をその上に
塗布する所請逐次塗布方式、及び多層同時にエクストル
ージョン塗布方式で塗布する方法等をいう。

【００４６】ウエット・オン・ウエット塗布方式として
は特開昭６１−１３９９２９号に示した磁気記録媒体塗
布方法が使用できる。またウエット・オン・ウエット塗
布方式で使用する装置としては、特開平２−２５１２６
５号、特開平３−１５３号、特開平３−１６１号、特開
平３−１６２及び特開平３−１６３号の記載を参考にで
きる。

【００４７】図２４〜３０は本発明で研磨剤層及び磁気
記録層を設けるのに用いられる塗布方式の一例を示す説
明図である。

【００４８】図２４及び２５は磁気記録媒体の研磨剤層
又は磁気記録層を設けるのに用いられるウエット・オン
・ドライ塗布方式を示す図である。図２４はウエット・
オン・ドライ塗布方式に用いるエクストルージョン塗布
コーターを示すものである。この図では注液器２２が支
持体１を支持するロール４０とロール４１との間に位置
しているが、図２５のように支持体２を支持するロール
４２上に注液器２３を設けても良い。

【００４９】図２６以降はウエット・オン・ウエット塗
布方式で使用する装置で、図２６は連続的に走行するポ
リエチレンテレフタレート等の支持体３に同時多層塗布
注液器２４を用いて、下層用塗布液１１と上層用塗布液
１０を同時に塗布する状態を示すものである。図２６で
は図２４と同様に注液器２４が支持体３を支持するロー
ル４３とロール４４の間に位置しているが、多層同時塗
布注液器についても図２７のように支持体４を支持する
ロール４５と上に注液器２５を設けても良い。図２８は
図２６と同様に上・中・下層用塗布液を同時に塗布する
状態を示すものである。図２９は単層用の塗布注液器２
８を用いて支持体６に下層用塗布液１８を塗布したのち
に、塗布液１８が湿潤状態にあるうちに、別の注液器２
７にて塗布液１７を塗布するものである。図３０は図２
６に示したと同様の多層同時塗布液注液器２９と前述の
別の注液器３０での重層塗布を組み合わせた塗布方式を
示すものである。

【００５０】本発明でウエット・オン・ウエット塗布方
式で支持体上に塗設するときに、研磨剤含有層中に磁性
体を含まず磁気記録層を設けるときは、あらかじめ磁気
記録層を塗設・乾燥した後に研磨剤含有層同志をウエッ
ト・オン・ウエット塗布方式で塗布する方法、研磨剤含
有層同志をウエット・オン・ウエット塗布方式で塗布し
た後に、磁気記録層をウエット・オン・ドライで塗布す
る方法と、研磨剤含有層・磁気記録層を共にウエット・
オン・ウエット塗布方式で塗布する方法のいずれの方法
を用いても良いが、研磨剤含有層・磁気記録層を共にウ
エット・オン・ウエット塗布方式で塗設する方法がより
好ましい。

【００５１】研磨剤層、磁気記録層を支持体上に強固に
接着させるために、支持体に下塗り層を設けても良く、
また、支持体を薬品処理、機械的処理、コロナ放電処
理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処
理、活性プラズマ処理、レーザー処理、濃酸処理、オゾ
ン酸化処理等の表面活性化処理をしても良い。また更に
これら表面処理をした後に下塗り層を設けても良い。

【００５２】下塗り層としての制限は特にないが、例え
ば特開昭５９−１９９４１号、特開昭５９−７７４３９
号に記載されたアクリル系共重合体、特開昭５７−１２
８３３２号に記載されたジオレフィン単量体とビニル単
量体との共重合体、特公昭４３−３９７６号、特開昭６
４−５３８号、特開平３−１３７６３７号に記載された
塩化ビニリデン共重合体を含む層が挙げられる。

【００５３】またこれらの下塗り層中には、導電性物
質、アンチハレーション剤、クロスオーバーカット剤、
着色染料、顔料、塗布助剤、カブリ防止剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、エッチング処理剤、
マット剤などの各種添加剤を１種または２種以上含有し
ていてもよい。

【００５４】磁気記録層を設けた後にこの層の上をカレ
ンダリング処理して平滑性を向上させ磁気出力のＳ／Ｎ
比を向上することも可能である。

【００５５】本発明において支持体としてはポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリ
エステルフィルム、セルローストリアセテート、セルロ
ースジアセテート等のセルロースエステル系フィルム、
ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポ
リオレフィンフィルム等を挙げることができる。

【００５６】特にこれらをハロゲン化銀写真感光材料に
用いる際は、現像処理後の巻き癖回復性から特開平１−
２４４４４６号公報、同１−２９１２４８号公報、同１
−２９８３５０号公報、同２−８９０４５号公報、同２
−９３６４１号公報、同２−１８１７４９号公報、同２
−２１４８５２号公報及び特開平２−２９１１３５号公
報等に示されるような、含水率の高いポリエステルフィ
ルムを用いることが好ましい。

【００５７】また支持体にはマット剤、帯電防止剤、滑
剤、界面活性剤、安定剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収
剤、導電性物質、粘着性付与剤、軟化剤、流動性付与
剤、増粘剤、酸化防止剤等を添加することができる。

【００５８】支持体は、最小濃度部の色味のニュートラ
ル化、写真構成層を塗設したフィルムに光がエッジから
入射した時に起こるライトパイピング現象（ふちかぶ
り）の防止、ハレーション防止等の目的で染料を含有さ
せることができる。

【００５９】染料の種類は特に限定されないが、支持体
としてポリエステルフィルムを用いる場合、製膜工程
上、耐熱性に優れたものが好ましく、例えば、アンスラ
キノン系化学染料等が挙げられる。また、色調として
は、ライトパイピング防止を目的とする場合、一般の感
光材料に見られるようにグレー染色が好ましい。染料は
１種類もしくは２種類以上の染料を混合して用いてもよ
い。三菱化成株式会社製Ｄｉａｒｅｓｉｎ、Ｂａｙｅｒ
社製 ＭＡＣＲＯＬＥＸ等の染料を単独又は適宜混合し
て用いることで目標を達成することが可能である。

【００６０】本発明の磁気記録媒体の、磁気記録層とは
反対側に写真構成層を設けることができる。写真構成層
としては当該分野の公知の技術を用いることができる。

【００６１】本発明において、ハロゲン化銀乳剤は、リ
サーチ・ディスクロージャＮｏ．３０８１１９（以下Ｒ
Ｄ３０８１１９と略す）に記載されているものを用いる
ことができる。

【００６２】以下に記載箇所を示す。

【００６３】 〔項 目〕 〔ＲＤ３０８１１９の頁〕 沃度組成 ９９３ Ｉ−Ａ項 製造方法 ９９３ Ｉ−Ａ項及び９９４ Ｅ項 晶壁 正常晶 ９９３ Ｉ−Ａ項 双晶 ９９３ Ｉ−Ａ項 エピタキシャル ９９３ Ｉ−Ａ項 ハロゲン組成 一様 ９９３ Ｉ−Ｂ項 一様でない ９９３ Ｉ−Ｂ項 ハロゲンコンバージョン ９９４ Ｉ−Ｃ項 ハロゲン置換 ９９４ Ｉ−Ｃ項 金属含有 ９９４ Ｉ−Ｄ項 単分散 ９９５ Ｉ−Ｆ項 溶媒添加 ９９５ Ｉ−Ｆ項 潜像形成位置 表面 ９９５ Ｉ−Ｇ項 内部 ９９５ Ｉ−Ｇ項 適用感材ネガ ９９５ Ｉ−Ｈ項 ポジ（内部カブリ粒子含） ９９５ Ｉ−Ｈ項 乳剤を混合している ９９５ Ｉ−Ｊ項 脱塩 ９９５ II−Ａ項 本発明において、ハロゲン化銀乳剤は、物理熟成、科学
熟成及び分光増感を行ったものを使用する。この様な工
程で使用される添加剤は、リサーチ・ディスクロージャ
Ｎｏ．１７６４３、Ｎｏ．１８７１６及びＮｏ．３０８
１１９（それぞれ、以下ＲＤ１７６４３、ＲＤ１８７１
６及びＲＤ３０８１１９と略す）に記載されている。

【００６４】以下に記載箇所を示す。

【００６５】

【表１】

【００６６】本発明に使用できる公知の写真用添加剤も
上記リサーチ・ディスクロージャに記載されている。

【００６７】以下に関連のある記載箇所を示す。

【００６８】

【表２】

【００６９】本発明には種々のカプラーを加えて使用す
ることが出来、その具体例は、上記リサーチ・ディスク
ロージャに記載されている。

【００７０】以下に関連のある記載箇所を示す。

【００７１】

【表３】

【００７２】本発明に使用する添加剤は、ＲＤ３０８１
１９XIVに記載されている分散法などにより、添加する
ことができる。

【００７３】本発明においては、前述ＲＤ１７６４３
２８頁、ＲＤ１８７１６ ６４７〜６４８頁及びＲＤ３
０８１１９のXIXに記載されている支持体を使用するこ
とができる。

【００７４】本発明に用いられる写真構成層には、前述
ＲＤ３０８１１９VII−Ｋ項に記載されているフィルタ
ー層や中間層等の補助層を設けることができる。

【００７５】本発明に用いられる写真構成層は、前述Ｒ
Ｄ３０８１１９VII−Ｋ項に記載されている順層、逆
層、ユニット構成等の様々な層構成をとることができ
る。

【００７６】本発明に用いられる写真構成層を現像処理
するには、例えばＴ．Ｈ．ジェームズ著、ザ セオリイ
オブ ザ ホトグラフィック プロセス第４版（Ｔｈ
ｅＴｈｅｏｒｙ ｏｆ Ｔｈｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈ
ｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｆｏｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）
第２９１頁〜第３３４頁及びジャーナル オブ ザアメ
リカン ケミカル ソサエティ（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ
ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏ
ｃｉｅｔｙ）第７３巻、第３，１００頁（１９５１）に
記載されている、それ自体公知の現像剤を使用すること
ができる。また、カラー写真構成層は前述のＲＤ１７６
４３ ２８〜２９頁，ＲＤ１８７１６ ６１５頁及びＲ
Ｄ３０８１１９XIXに記載された通常の方法によって、
現像処理することができる。

【００７７】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００７８】実施例１ 磁気記録媒体の作製 《支持体の作製》２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメ
チル１００重量部、エチレングリコール６０重量部にエ
ステル交換触媒として酢酸カルシウム水和物０．１重量
部を添加し、常法に従ってエステル交換反応を行った。
得られた生成物に、三酸化アンチモン０．０５重量部、
リン酸トリメチルエステル０．０３重量部を添加した。
次いで徐々に昇温、減圧にし、２９０℃、０．０５ｍｍ
Ｈｇの条件で重合を行ない固有粘度０．６０のポリエチ
レン−２，６−ナフタレートを得た。

【００７９】これを、１５０℃で８時間真空乾燥した
後、３００℃でＴダイから層状に溶融押出し、５０℃の
冷却ドラム上に静電印加しながら密着させ、冷却固化さ
せ、未延伸シートを得た。この未延伸シートをロール式
縦延伸機を用いて、１３５℃で縦方向に３．３倍延伸し
た。

【００８０】得られた一軸延伸フィルムをテンター式横
延伸機を用いて、第一延伸ゾーン１４５℃で総横延伸倍
率の５０％延伸し、更に第二延伸ゾーン１５５℃で総横
延伸倍率３．３倍となるように延伸した。次いで、１０
０℃で２秒間熱処理し、更に第一熱固定ゾーン２００℃
で５秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン２４０℃で１５秒
間熱固定した。次いで、横方向に５％弛緩処理しながら
室温まで３０秒かけて徐冷して、厚さ８５μｍのポリエ
チレンナフタレートフィルムを得た。

【００８１】これをステンレス製のコアに巻き付け、１
１０℃で４８時間熱処理（アニール処理）して支持体を
作製した。

【００８２】この支持体の両面に１２Ｗ／ｍ²／ｍｉｎ
のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引塗布液Ｂ
−１を乾燥膜厚０．４μｍになるように塗布し、その上
に１２Ｗ／ｍ²／ｍｉｎのコロナ放電処理を施し、下記
下引塗布液Ｂ−２を乾燥膜厚０．０６μｍになるように
塗布した。

【００８３】１２Ｗ／ｍ²／ｍｉｎのコロナ放電処理を
施した他方の面には、下記下引塗布液Ｂ−３を乾燥膜厚
０．２μｍになるように塗布し、その上に１２Ｗ／ｍ²
／ｍｉｎのコロナ放電処理を施し、下記塗布液Ｂ−４を
乾燥膜厚０．２μｍになるように塗布した。

【００８４】各層はそれぞれ塗布後９０℃で１０秒間乾
燥し、４層塗布後引き続いて１１０℃で２分間熱処理を
行った後、５０℃で３０秒間冷却処理を行った。

【００８５】 〈下引塗布液Ｂ−１〉 ブチルアクリレート３０重量％，ｔ−ブチルアクリレート２０重量％， スチレン２５重量％及び２−ヒドロキシエチルアクリレート２５重量％ の共重合体ラテックス液（固形分３０％） １２５ｇ 化合物（ＵＬ−１） ０．４ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレン尿素） ０．０５ｇ 水で仕上げる １０００ｍｌ 〈下引塗布液Ｂ−２〉 スチレン−無水マレイン酸共重合体の水酸化ナトリウム水溶液 （固形分６％） ５０ｇ 化合物（ＵＬ−１） ０．６ｇ 化合物（ＵＬ−２） ０．０９ｇ シリカ粒子（平均粒径３μ） ０．２ｇ 水で仕上げる １０００ｍｌ 〈塗布液Ｂ−３〉 ブチルアクリレート３０重量％、ｔ−ブチルアクリレート２０重量％、 スチレン２５重量％及び２−ヒドロキシアクリレート２５重量％ の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ５０ｇ 化合物（ＵＬ−１） ０．３ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレン尿素） １．１ｇ 水で仕上げる １０００ｍｌ

【００８６】

【化１】

【００８７】〈塗布液Ｂ−４〉ジカルボン酸成分として
テレフタル酸ジメチル６０モル％、イソフタル酸ジメチ
ル３０モル％、５−スルホイソフタル酸ジメチルのナト
リム塩１０モル％、グリコール成分としてエチレングリ
コール５０モル％、ジエチレングリコール５０モル％を
常法により共重合した。この共重合体を９５℃の熱水中
で３時間撹拌し、１５重量％の水分散液Ａとした。

【００８８】 酸化スズ−酸化アンチモン複合微粒子（平均粒径０．２μ）の 水分散液（固形分４０重量％） １０９ｇ 水分散液Ａ ６７ｇ 水で仕上げる １０００ｍｌ となるよう調整 《磁気記録層の塗設》前記下引処理支持体の下引層Ｂ−
４塗布液を塗設した表面に下記組成の研磨剤層塗布液及
び磁気記録層塗布液を調製し、塗設した。

【００８９】Ａ．磁気記録層塗布液及び研磨剤層塗布液
の調製及び塗設 １．磁性体分散物１の調製及び磁気記録層塗布液の調製 下記に記載の磁性体、バインダー、溶剤をサンドグライ
ンダーに投入し、４時間分散して磁性体分散物１を作製
した。

【００９０】 磁性体分散物１（Ｂ／Ｍ（バインダーと磁性体の比率）＝１６重量％、固形分 濃度＝４０重量％） １）磁性体（Ｃｏ−γ酸化鉄） 石原産業（株）製ＶＳ−９９２７ １００重量部 ２）バインダー １６重量部 飽和共重合ポリエステルウレタン（重量平均分子量２．５万） ３）溶剤 シクロヘキサノン ８７重量部 メチルエチルケトン ８７重量部 さらに下記に記載のように、磁気記録層塗布液Ｍ−１の
攪拌中の溶剤にバインダーを徐々に添加しバインダーを
溶解してバインダー溶解液を調製する。その中に下記に
記載したように磁性体分散物１を添加しサンドグライン
ダーで１時間分散し硬化剤を添加後十分攪拌混合して磁
気記録層塗布液Ｍ−１を得た。

【００９１】 磁気記録層塗布液Ｍ−１ １）バインダー １００重量部 ジアセチルセルロース（重量平均分子量１８．５万、酢化度２．５５） ２）溶剤 シクロヘキサノン ２１８．４重量部 メチルエチルケトン ９０５．２重量部 ３）磁性体分散物１ ２０．３重量部 ４）硬化剤（イソシアネート） ２０重量部 日本ポリウレタン工業（株）製 コロネートＬ ２．研磨剤分散物１の調製及び研磨剤層塗布液１の調製 下記に記載の研磨剤、バインダー、溶剤をサンドグライ
ンダーに投入し、４時間分散して研磨剤分散物１を作製
した。

【００９２】 研磨剤分散物１（Ｂ／Ａ（バインダーと研磨剤の比率）＝２２重量％、固形分 濃度＝４０重量％） １）研磨剤（Ａｌ₂Ｏ₃） １００重量部 住友化学（株）製 ＡＫＰ−３３ ２）バインダー ２２重量部 ジアセチルセルロース（重量平均分子量１０．４万、酢化度２．６１） ３）溶剤 シクロヘキサノン ９１．５重量部 メチルエチルケトン ９１．５重量部 さらに下記に記載のように、研磨剤層塗布液Ａ−１の攪
拌中の溶剤にバインダーを徐々に添加しバインダーを溶
解してバインダー溶解液を調製する。その中に下記に記
載したように研磨剤分散物１を添加しサンドグラインダ
ーで１時間分散し硬化剤を添加後十分攪拌混合して研磨
剤層塗布液Ａ−１を得た。

【００９３】 研磨剤層塗布液Ａ−１ １）バインダー １００重量部 ジアセチルセルロース（重量平均分子量１８．５万、酢化度２．５５） ２）溶剤 シクロヘキサノン ２１８．４重量部 メチルエチルケトン ９０５．２重量部 ４）研磨剤分散物１ ８重量部 ５）硬化剤（イソシアネート） ２０重量部 日本ポリウレタン工業（株）製 コロネートＬ ３．研磨剤層塗布液Ａ−２，Ａ−３の調製 研磨剤分散物２，３を下記表４のように研磨剤種を変化
させ、研磨剤濃度は研磨剤分散物１と同じＢ／Ａ＝２２
重量％、固形分濃度＝４０重量％になるように作製し
た。更に研磨剤層塗布液は、下記表４に示す通りに研磨
剤層塗布液Ａ−２，Ａ−３を調製した。

【００９４】

【表４】

【００９５】４．磁気記録層塗布液Ｍ−２の調製 下記に記載のように、磁気記録層塗布液Ｍ−２の攪拌中
の溶剤にバインダーを徐々に添加しバインダーを溶解し
てバインダー溶解液を調製する。その中に下記に記載し
たように磁性体分散物１及び研磨剤分散物１を添加し、
サンドグラインダーで１時間分散し硬化剤を添加後十分
攪拌混合して磁気記録層塗布液Ｍ−２を得た。

【００９６】 磁気記録層塗布液Ｍ−２ １）バインダー １００重量部 ジアセチルセルロース（重量平均分子量１８．５万、酢化度２．５５） ２）溶剤 シクロヘキサノン ２１８．４重量部 メチルエチルケトン ９０５．２重量部 ３）磁性体分散物１ ２０．３重量部 ４）研磨剤分散物１ １４．６重量部 ５）硬化剤（イソシアネート） ２０重量部 日本ポリウレタン工業（株）製 コロネートＬ ５．磁気記録層塗布液Ｍ−３，Ｍ−４の調製 下記表５に示すように磁性体分散物１を添加した。更に
研磨剤分散物２，３を添加して、磁気記録層塗布液Ｍ−
３，Ｍ−４を調製した。

【００９７】

【表５】

【００９８】６．研磨剤層及び磁気記録層の塗設 下記表７に記載の水準通りになるように塗布した。なお
塗布はウエット・オン・ドライ塗布方式については図２
４に示す方式で、ウエット・オン・ウエット塗布方式に
ついては図２６または図２８に示す方式によって同時重
層塗布を行った。水準１０１〜１１４及び１２２の磁気
記録層のバインダーの乾燥膜厚は０．４μｍとした。ま
た、水準１０１〜１１４の研磨剤層のバインダーの乾燥
膜厚は、それぞれ０．３μｍとし、水準１２２は０．６
μｍとした。水準１３０〜１３２の様な磁気記録層のみ
のものは、バインダーの乾燥膜厚が０．８μｍとなるよ
うに塗布した。乾燥と同時に塗膜が未乾の内に配向磁場
中で塗布方向へ磁性体を配向させ、磁気記録再生時の高
出力化を図った。

【００９９】《潤滑剤層の塗布液の調製及び塗設》 １．潤滑剤層塗布液の調製 下記に記載のように潤滑剤層の混合溶剤を７０℃に加温
し、撹拌しつつカルナバワックスを溶解したのちに、４
０℃に降温し潤滑剤層塗布液を得た。

【０１００】 潤滑剤層塗布液 １）溶剤 トルエン ７００重量部 メチルエチルケトン ３００重量部 ２）潤滑剤 カルナバワックス １重量部 ２．潤滑剤層の塗設 研磨剤層及び磁気記録層を塗布・乾燥させた後、精密エ
クストルージョンコーターを用い塗布した。潤滑剤層の
乾燥膜厚はいずれの水準も１０ｎｍとなるようにした。

【０１０１】《熱処理》潤滑層の塗布後、６０℃に加温
したオーブンにて３日間熱処理を実施した。

【０１０２】《写真構成層の塗設》前記磁気記録媒体
の、磁気記録側とは反対側に前記下引塗布液Ｂ−１及び
Ｂ−２を同一条件で塗設した下引層を設けてある上に、
以下に示す組成の写真構成層を設けた。添加量は１ｍ²
当りのグラム数で表す。但し、ハロゲン化銀とコロイド
銀は銀の量に換算し、増感色素（ＳＤで示す）は銀１モ
ル当りのモル数で示した。

【０１０３】 第１層（ハレーション防止層） 黒色コロイド銀 ０．１６ ＵＶ−１ ０．３ ＣＭ−１ ０．０４４ ＯＩＬ−１ ０．０４４ ゼラチン １．３３ 第２層（中間層） ＡＳ−１ ０．１６ ＯＩＬ−１ ０．２０ ゼラチン １．４０ 第３層（低感度赤感色性層） 沃臭化銀ａ ０．１２ 沃臭化銀ｂ ０．５０ ＳＤ−１ ３．０×１０^-5 ＳＤ−４ １．５×１０^-4 ＳＤ−３ ３．０×１０^-4 ＳＤ−６ ３．０×１０^-6 Ｃ−１ ０．５１ ＣＣ−１ ０．０４７ ＯＩＬ−２ ０．４５ ＡＳ−２ ０．００５ ゼラチン １．４０ 第４層（中感度赤感色性層） 沃臭化銀ｃ ０．６４ ＳＤ−１ ３．０×１０^-5 ＳＤ−２ １．５×１０^-4 ＳＤ−３ ３．０×１０^-4 Ｃ−２ ０．２２ ＣＣ−１ ０．０２８ ＤＩ−１ ０．００２ ＯＩＬ−２ ０．２１ ＡＳ−３ ０．００６ ゼラチン ０．８７ 第５層（高感度赤感色性層） 沃臭化銀ｃ ０．１３ 沃臭化銀ｄ １．１４ ＳＤ−１ ３．０×１０^-5 ＳＤ−２ １．５×１０^-4 ＳＤ−３ ３．０×１０^-4 Ｃ−２ ０．０８５ Ｃ−３ ０．０８４ ＣＣ−１ ０．０２９ ＤＩ−１ ０．０２７ ＯＩＬ−２ ０．２３ ＡＳ−３ ０．０１３ ゼラチン １．２３ 第６層（中間層） ＯＩＬ−１ ０．２９ ＡＳ−１ ０．２３ ゼラチン １．００ 第７層（低感度緑感色性層） 沃臭化銀ａ ０．２４５ 沃臭化銀ｂ ０．１０５ ＳＤ−６ ５．０×１０^-4 ＳＤ−５ ５．０×１０^-4 Ｍ−１ ０．２１ ＣＭ−２ ０．０３９ ＯＩＬ−１ ０．２５ ＡＳ−２ ０．００３ ＡＳ−４ ０．０６３ ゼラチン ０．９８ 第８層（中間層） Ｍ−１ ０．０３ ＣＭ−２ ０．００５ ＯＩＬ−１ ０．１６ ＡＳ−１ ０．１１ ゼラチン ０．８０ 第９層（中感度緑感色性層） 沃臭化銀ｅ ０．８７ ＳＤ−７ ３．０×１０^-4 ＳＤ−８ ６．０×１０^-5 ＳＤ−９ ４．０×１０^-5 Ｍ−１ ０．１７ ＣＭ−２ ０．０４８ ＣＭ−３ ０．０５９ ＤＩ−２ ０．０１２ ＯＩＬ−１ ０．２９ ＡＳ−４ ０．０５ ＡＳ−２ ０．００５ ゼラチン １．４３ 第１０層（高感度緑感色性層） 沃臭化銀ｆ １．１９ ＳＤ−７ ４．０×１０^-4 ＳＤ−８ ８．０×１０^-5 ＳＤ−９ ５．０×１０^-5 Ｍ−１ ０．０９ ＣＭ−３ ０．０２０ ＤＩ−３ ０．００５ ＯＩＬ−１ ０．１１ ＡＳ−４ ０．０２６ ＡＳ−５ ０．０１４ ＡＳ−６ ０．００６ ゼラチン ０．７８ 第１１層（イエローフィルター層） 黄色コロイド銀 ０．０５ ＯＩＬ−１ ０．１８ ＡＳ−７ ０．１６ ゼラチン １．００ 第１２層（低感度青感色性層） 沃臭化銀ｇ ０．２９ 沃臭化銀ｈ ０．１９ ＳＤ−１０ ８．０×１０^-4 ＳＤ−１１ ３．１×１０^-4 Ｙ−１ ０．９１ ＤＩ−４ ０．０２２ ＯＩＬ−１ ０．３７ ＡＳ−２ ０．００２ ゼラチン １．２９ 第１３層（高感度青感色性層） 沃臭化銀ｈ ０．１３ 沃臭化銀ｉ １．００ ＳＤ−１０ ４．４×１０^-4 ＳＤ−１１ １．５×１０^-4 Ｙ−１ ０．４８ ＤＩ−４ ０．０１９ ＯＩＬ−１ ０．２１ ＡＳ−２ ０．００４ ゼラチン １．５５ 第１４層（第１保護層） 沃臭化銀ｊ ０．３０ ＵＶ−１ ０．０５５ ＵＶ−２ ０．１１０ ＯＩＬ−２ ０．６３ ゼラチン １．３２ 第１５層（第２保護層） ＰＭ−１ ０．１５ ＰＭ−２ ０．０４ ＷＡＸ−１ ０．０２ Ｄ−１ ０．００１ ゼラチン ０．５５ 尚、上記の組成物の他に、塗布助剤ＳＵ−１、ＳＵ−
２、ＳＵ−３、分散助剤ＳＵ−４、粘度調整剤Ｖ−１、
安定剤ＳＴ−１、ＳＴ−２、カブリ防止剤ＡＦ−１、重
量平均分子量：１０，０００及び重量平均分子量：１，
１００，０００の２種のポリビニルピロリドン（ＡＦ−
２）、抑制剤ＡＦ−３、ＡＦ−４、ＡＦ−５、硬膜剤Ｈ
−１、Ｈ−２及び防腐剤Ａｓｅ−１を添加した。

【０１０４】上記試料に用いた化合物の構造を以下に示
す。

【０１０５】上記沃臭化銀の特徴を表６に示す。

【０１０６】

【表６】

【０１０７】

【化２】

【０１０８】

【化３】

【０１０９】

【化４】

【０１１０】

【化５】

【０１１１】

【化６】

【０１１２】

【化７】

【０１１３】

【化８】

【０１１４】

【化９】

【０１１５】

【化１０】

【０１１６】尚、本発明の好ましいハロゲン化銀粒子の
形成例として、沃臭化銀ｄ，ｆの製造例を以下に示す。

【０１１７】種晶乳剤−１の調製 以下のようにして種晶乳剤を調製した。

【０１１８】特公昭５８−５８２８８号、同５８−５８
２８９号に示される混合撹拌機を用いて、３５℃に調整
した下記溶液Ａ１に硝酸銀水溶液（１．１６１モル）
と、臭化カリウムと沃化カリウムの混合水溶液（沃化カ
リウム２モル％）を、銀電位（飽和銀−塩化銀電極を比
較電極として銀イオン選択電極で測定）を０ｍＶに保ち
ながら同時混合法により２分を要して添加し、核形成を
行った。続いて、６０分の時間を要して液温を６０℃に
上昇させ、炭酸ナトリウム水溶液でｐＨを５．０に調整
した後、硝酸銀水溶液（５．９０２モル）と、臭化カリ
ウムと沃化カリウムの混合水溶液（沃化カリウム２モル
％）を、銀電位を９ｍＶに保ちながら同時混合法によ
り、４２分を要して添加した。添加終了後４０℃に降温
しながら、通常のフロキュレーション法を用いて直ちに
脱塩、水洗を行った。

【０１１９】得られた種晶乳剤は、平均球換算直径が
０．２４μｍ、平均アスペクト比が４．８、ハロゲン化
銀粒子の全投影面積の９０％以上が最大辺比率が１．０
〜２．０の六角状の平板状粒子からなる乳剤であった。
この乳剤を種晶乳剤−１と称する。

【０１２０】 〔溶液Ａ１〕 オセインゼラチン ２４．２ｇ 臭化カリウム １０．８ｇ ＨＯ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_m（ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂Ｏ）_19.8（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_nＨ （ｍ＋ｎ＝９．７７）（１０％エタノール溶液） ６．７８ｍｌ １０％硝酸 １１４ｍｌ Ｈ₂Ｏ ９６５７ｍｌ 沃化銀微粒子乳剤ＳＭＣ−１の調製 ０．０６モルの沃化カリウムを含む６．０重量％のゼラ
チン水溶液５リットルを激しく撹拌しながら、７．０６
モルの硝酸銀水溶液と７．０６モルの沃化カリウム水溶
液、各々２リットルを１０分を要して添加した。この間
ｐＨは硝酸を用いて２．０に、温度は４０℃に制御し
た。粒子調製後に、炭酸ナトリウム水溶液を用いてｐＨ
を５．０に調整した。得られた沃化銀微粒子の平均粒径
は０．０５μｍであった。この乳剤をＳＭＣ−１とす
る。

【０１２１】沃臭化銀ｄの調製 ０．１７８モル相当の種晶乳剤−１とＨＯ（ＣＨ₂ＣＨ₂
Ｏ）_m（ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂Ｏ）_19.8（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_n
Ｈ（ｍ＋ｎ＝９．７７）の１０％エタノール溶液０．５
ｍｌを含む、４．５重量％の不活性ゼラチン水溶液７０
０ｍｌを７５℃に保ち、ｐＡｇを８．４、ｐＨを５．０
に調整した後、激しく撹拌しながら同時混合法により以
下の手順で粒子形成を行った。

【０１２２】１）２．１モルの硝酸銀水溶液と０．１９
５モルのＳＭＣ−１、及び臭化カリウム水溶液を、ｐＡ
ｇを８．４、ｐＨを５．０に保ちながら添加した。

【０１２３】２）続いて溶液を６０℃に降温し、ｐＡｇ
を９．８に調整した。その後、０．０７１モルのＳＭＣ
−１を添加し、２分間熟成を行った（転位線の導入）。

【０１２４】３）０．９５９モルの硝酸銀水溶液と０．
０３モルのＳＭＣ−１、及び臭化カリウム水溶液を、ｐ
Ａｇを９．８、ｐＨを５．０に保ちながら添加した。

【０１２５】尚、粒子形成を通して各溶液は、新核の生
成や粒子間のオストワルド熟成が進まないように最適な
速度で添加した。上記添加終了後に４０℃で通常のフロ
キュレーション法を用いて水洗処理を施した後、ゼラチ
ンを加えて再分散し、ｐＡｇを８．１、ｐＨを５．８に
調整した。

【０１２６】得られた乳剤は、粒径（同体積の立方体１
辺長）０．７５μｍ、平均アスペクト比５．０、粒子内
部から２／８．５／Ｘ／３モル％（Ｘは転位線導入位
置）のハロゲン組成を有する平板状粒子からなる乳剤で
あった。この乳剤を電子顕微鏡で観察したところ乳剤中
の粒子の全投影面積の６０％以上の粒子にフリンジ部と
粒子内部双方に５本以上の転位線が観察された。表面沃
化銀含有率は、６．７モル％であった。

【０１２７】沃臭化銀ｆの調製 沃臭化銀ｄの調製において、１）の工程でｐＡｇを８．
８とし、３）の工程で添加する硝酸銀量を０．９２モ
ル、ＳＭＣ−１の量を０．０６９モルとした以外は沃臭
化銀ｄと全く同様にして沃臭化銀ｆを調製した。

【０１２８】得られた乳剤は、粒径（同体積の立方体１
辺長）０．６５μｍ、平均アスペクト比６．５、粒子内
部から２／８．５／Ｘ／７モル％（Ｘは転位線導入位
置）のハロゲン組成を有する平板状粒子からなる乳剤で
あった。この乳剤を電子顕微鏡で観察したところ乳剤中
の粒子の全投影面積の６０％以上の粒子にフリンジ部と
粒子内部双方に５本以上の転位線が観察された。表面沃
化銀含有率は、１１．９モル％であった。

【０１２９】上記各乳剤に前述の増感色素を添加、熟成
した後、トリフォスフィンセレナイド、チオ硫酸ナトリ
ウム、塩化金酸、チオシアン酸カリウムを添加し、常法
に従い、かぶり、感度関係が最適になるように化学増感
を施した。

【０１３０】沃臭化銀ａ，ｂ，ｃ，ｅ，ｇ，ｈ，ｉ，ｊ
についても、上記ｄ，ｆに準じ分光増感、化学増感を施
した。

【０１３１】表７記載の各試料について、下記磁気ヘッ
ドの目づまり評価テスト（未現像）を行なった。また写
真構成層に対して画像露光を与え、下記現像処理したも
のについても同様の磁気ヘッドの目づまりテスト（現像
済み）を行なった。

【０１３２】 （処理工程） 処理工程 処理時間 処理温度 補充量＊ 発色現像 ３分１５秒 ３８±０．３℃ ７８０ｍｌ 漂 白 ４５秒 ３８±２．０℃ １５０ｍｌ 定 着 １分３０秒 ３８±２．０℃ ８３０ｍｌ 安 定 ６０秒 ３８±５．０℃ ８３０ｍｌ 乾 燥 １分 ５５±５．０℃ − ＊補充量は感光材料１ｍ²当たりの値である。

【０１３３】発色現像液、漂白液、定着液、安定液及び
その補充液は、以下のものを使用した。

【０１３４】発色現像液及び発色現像補充液 現像液 補充液 水 ８００ｍｌ ８００ｍｌ 炭酸カリウム ３０ｇ ３５ｇ 炭酸水素ナトリウム ２．５ｇ ３．０ｇ 亜硫酸カリウム ３．０ｇ ５．０ｇ 臭化ナトリウム １．３ｇ ０．４ｇ 沃化カリウム １．２ｍｇ − ヒドロキシルアミン硫酸塩 ２．５ｇ ３．１ｇ 塩化ナトリウム ０．６ｇ − ４−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−（β−ヒドロキシルエチル） アニリン硫酸塩 ４．５ｇ ６．３ｇ ジエチレントリアミン五酢酸 ３．０ｇ ３．０ｇ 水酸化カリウム １．２ｇ ２．０ｇ 水を加えて１リットルとし、水酸化カリウム又は２０％硫酸を用いて発色現像 液はｐＨ１０．０６に、補充液はｐＨ１０．１８に調整する。

【０１３５】漂白液及び漂白補充液 漂白液 補充液 水 ７００ｍｌ ７００ｍｌ １，３−ジアミノプロパン四酢酸鉄（III）アンモニウム １２５ｇ １７５ｇ エチレンジアミン四酢酸 ２ｇ ２ｇ 硝酸ナトリウム ４０ｇ ５０ｇ 臭化アンモニウム １５０ｇ ２００ｇ 氷酢酸 ４０ｇ ５６ｇ 水を加えて１リットルとし、アンモニア水又は氷酢酸を用いて漂白液はｐＨ４ ．４に、補充液はｐＨ４．０に調整する。

【０１３６】定着液及び定着補充液 定着液 補充液 水 ８００ｍｌ ８００ｍｌ チオシアン酸アンモニウム １２０ｇ １５０ｇ チオ硫酸アンモニウム １５０ｇ １８０ｇ 亜硫酸ナトリウム １５ｇ ２０ｇ エチレンジアミン四酢酸 ２ｇ ２ｇ アンモニア水又は氷酢酸を用いて定着液はｐＨ６．２に、補充液はｐＨ６．５ に調整後、水を加えて１リットルとする。

【０１３７】安定液及び安定補充液 水 ９００ｍｌ ｐ−オクチルフェノールのエチレンオキシド１０モル付加物 ２．０ｇ ジメチロール尿素 ０．５ｇ ヘキサメチレンテトラミン ０．２ｇ １，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン ０．１ｇ シロキサン（ＵＣＣ製Ｌ−７７） ０．１ｇ アンモニア水 ０．５ｍｌ 水を加えて１リットルとした後、アンモニア水又は５０％硫酸を用いてｐＨ８ ．５に調整する。

【０１３８】得られたサンプルは以下の水準となった。

【０１３９】

【表７】

【０１４０】得られた磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記
録層の層構成の概略断面図を図１〜１３に示す。

【０１４１】図１〜図９はそれぞれ本発明の試料１０１
〜１１４の研磨剤層と磁気記録層の層構成の概略を示
し、図１０〜図１３は比較例試料１１２，１３０〜１３
２の磁気記録層の層構成の概略を示す図である。図の下
側が支持体側を示す。図１中、７０は研磨剤粒子を表
し、７１の如く斜線を施した層は磁性体含有層を表す。
斜線を施さない層７２及び７３は磁性体を含有しない研
磨剤含有層を表す。以下、図２以降も同様であり、符号
を省略する。

【０１４２】《評価方法》 １．層間接着性 前記に記載の各層を重層塗布した磁気記録媒体のサンプ
ルを、２３℃・５５％ＲＨ雰囲気下で２４時間以上なじ
ませた。サンプルの塗布面に対し垂直方向に、カミソリ
の刃で縦・横ともに５ｍｍ間隔となるように碁盤目状に
切れ目を入れ、その上からニチバン（株）製セロテープ
を１ｋｇ／ｃｍ²の圧力で貼り付けた。そのセロテープ
を５ｍ／秒の速度でサンプルから引き剥がし、サンプル
から剥離せずに残った磁気記録層の残存面積を観察し
た。

【０１４３】２．磁気記録媒体表面の耐久性測定（写真
構成層無し） 前記に記載の各層を重層塗布した磁気記録媒体のサンプ
ルを、１インチ幅、長さ５０ｍに断裁し芯に巻き付けロ
ール状にした。

【０１４４】このロールフィルムをくり出してもう一方
の芯に巻きとる装置を作製し、フィルムがくり出し側か
ら巻き取り側へ搬送される間に、不織布（ＫＺ ５０１
１三菱レーヨン（株）製）を巻き付けた回転しないクリ
ーニングロールと自由に回転するロールからなるニップ
ロールの間を通過するようにした。ニップロールは不織
布のある側が磁気記録層側と接するようにし、１ｋｇの
圧力でサンプルを挟んだ。

【０１４５】図３１は磁気記録媒体表面の耐久性測定装
置の概略を示すものである。

【０１４６】同図中、６１はフィルムくり出し側、６２
はフィルム巻き取り側、６３はクリーニングロール、６
４は不織布、６５は荷重負荷ロール、６６は荷重を表
す。

【０１４７】前記装置を使い、毎秒１ｍのフィルム搬送
速度でサンプルの磁気記録側面をクリーニングした。不
織布についた汚れ中の磁性体及び研磨剤の量をＦｅ元
素、Ａｌ元素の定量で行った。磁気記録側面からの素材
の脱落の大小の測定で、磁気記録層及び研磨剤層の耐久
性を評価した。各元素のＸ線強度の数値が大きいほど媒
体からの素材の脱落が多く、耐久性が劣ることとなる。
各元素の定量は蛍光Ｘ線分析装置（３０８０型 理学電
機工業（株）製）を使用した。測定条件は下記に示す通
りである。

【０１４８】 《蛍光Ｘ線分析条件》 ・波長分散型、Ｒｈ管球使用 Ｆｅ Ａｌ 分析線 ： Ｋα Ｋα 分析結晶： ＰＥＴ ＬｉＦ 検出器 ： 比例計数管 シンチレーション計数管 管球出力： 共に ５０ｋＶ−５０ｍＡ ３．磁気記録媒体による磁気ヘッドのクリーニング効果
測定（写真構成層無し） 前記に記載の各層を重層塗布した磁気記録媒体のサンプ
ルを、１インチ幅、長さ５０ｍに裁断した。トラック幅
１．５ｍｍ、ヘッドギャップ７μｍ、ターン数１０００
の磁気信号入出力可能な磁気ヘッド上を、ＰＩＬＯＴ社
製なまえペン（油性・細 黒）で塗りつぶした。上記サ
ンプルを１００ｍｍ／ｓの搬送速度で走行させたのち、
磁気ヘッド表面の状態を観察した。

【０１４９】 磁気ヘッド表面の状態 ヘッド上のマジックのインクが完全に落ちた ： ○ インクが半分程度落ちた ： ○△ ヘッドギャップ付近のみインクが落ちた ： △ （インクは半分以上残っている） ヘッドギャップにもインクが残っている ： △× 殆どインクが残っている ： × ４．磁気ヘッドの目詰りテスト（写真構成層塗設後） 前記に記載の各層を重層塗布した磁気記録媒体のサンプ
ルを、１インチ幅、長さ５０ｍに裁断し、トラック幅
１．５ｍｍ、ヘッドギャップ７μｍ、ターン数１０００
の磁気信号入出力可能な磁気ヘッドを用いて６ＫＨｚの
方形波信号を１００ｍｍ／ｓの搬送速度で記録した。

【０１５０】次に上記サンプルについて、上記の現像処
理を行った。各工程に用いた処理液組成は上記の通り。

【０１５１】次に磁気読取りヘッドにて記録時と同一の
速度で方形波信号を読みとっていき、出力が入力時の３
５％以下になったときの再生ミスの数を評価した。ここ
で、再生ミスはパルスの出力が初期値の３５％以下にな
った現象。１００パルス以下の同一の現象は１つとカウ
ントした。

【０１５２】更に読みとり後の磁気ヘッド表面の状態を
観察した。

【０１５３】 磁気ヘッド表面の状態 ヘッド上汚れ全くなし ： ○ わずかに汚れ発生 ： ○△ ヘッドギャップの周りに汚れ発生 ： △ ヘッドギャップ上にも汚れ発生 ： △× ヘッド全面に汚れ発生 ： × 実施例１の評価結果を表８に示す。

【０１５４】

【表８】

【０１５５】実施例２ 《支持体の作製》支持体の製膜、アニール処理、下引・
帯電防止層の塗布は実施例１と同様に行った。

【０１５６】《磁気記録層の塗設》 １．磁気記録層塗布液のＭ−１及びＭ−５調製 実施例１と同様に、磁性体分散物１を得て磁気記録層塗
布液Ｍ−１を得た。また下記に記載の研磨剤、バインダ
ー、溶剤をサンドグラインダーに投入し、実施例１と同
様に４時間分散して研磨剤分散物４を作成した。

【０１５７】 研磨剤分散物４（Ｂ／Ａ（バインダーと研磨剤の比率）＝２２重量％、固形分 濃度＝４０重量％） １）研磨剤（Ａｌ₂Ｏ₃） １００重量部 住友化学（株）製 ＡＫＰ−１０ ２）バインダー ２２重量部 ジアセチルセルロース（重量平均分子量１０．４万、酢化度２．６１） ３）溶剤 シクロヘキサノン ９１．５重量部 メチルエチルケトン ９１．５重量部 さらに下記に記載のように、磁気記録層塗布液Ｍ−５の
撹拌中の溶剤にバインダーを徐々に添加しバインダーを
溶解した後に、磁性体分散物１及び研磨剤分散物４を添
加し、サンドグラインダーで１時間分散した後に硬化剤
を添加して充分な撹拌混合をして磁気記録層塗布液Ｍ−
５を得た。

【０１５８】 磁気記録層塗布液Ｍ−５ １）バインダー １００重量部 ジアセチルセルロース（重量平均分子量１８．５万、酢化度２．５５） ２）溶剤 シクロヘキサノン ２１８．４重量部 メチルエチルケトン ９０５．２重量部 ３）磁性体分散物１ １０．２重量部 ４）研磨剤分散物４ ４．４重量部 ５）硬化剤（イソシアネート） ２０重量部 日本ポリウレタン工業（株）製 コロネートＬ ２．磁気記録層塗布液Ｍ−６〜Ｍ−１１の調製 下記表９に示すように磁性体分散物１を添加した。更に
研磨剤分散物を表９のように研磨剤種を変化させ、研磨
剤濃度は研磨剤分散物４と同じＢ／Ａ＝２２重量％、固
形分濃度＝４０重量％になるように作製した。この研磨
剤分散物を添加して、磁気記録層塗布液Ｍ−６〜Ｍ−１
１を調製した。

【０１５９】

【表９】

【０１６０】３．磁気記録層塗布液Ｍ−１２及びＭ−１
３の調製 さらに下記に記載のように、磁気記録層塗布液Ｍ−１２
の撹拌中の溶剤にバインダーを徐々に添加しバインダー
を溶解した後に、研磨剤分散物４、研磨剤分散物７及び
磁性体分散物１を添加し、サンドグラインダーで１時間
分散した後に硬化剤を添加して充分な撹拌混合をして磁
気記録層塗布液Ｍ−１２を得た。同様にして、磁気記録
層塗布液Ｍ−１３は、研磨剤分散物７を研磨剤分散物５
に替えて調製した。

【０１６１】 磁気記録層塗布液Ｍ−１２ １）バインダー １００重量部 ジアセチルセルロース（重量平均分子量１８．５万、酢化度２．５５） ２）溶剤 シクロヘキサノン ２１８．４重量部 メチルエチルケトン ９０５．２重量部 ３）磁性体分散物１ ２０．３重量部 ４）研磨剤分散物４ ７．３重量部 ５）研磨剤分散物７ ７．３重量部 ５）硬化剤（イソシアネート） ２０重量部 日本ポリウレタン工業（株）製 コロネートＬ

【０１６２】

【表１０】

【０１６３】４．研磨剤層塗布液Ａ−３、Ａ−４及びＡ
−５の調整 実施例１と同様に、研磨剤塗布液Ａ−３を調製した。ま
た、下記に記載のように、研磨剤塗布液Ａ−４の撹拌中
の溶剤にバインダーを徐々に添加し、バインダーを溶解
する。その中に下記に記載したように、研磨剤分散物４
を添加しサンドグラインダーで１時間分散し硬化剤を添
加後充分撹拌混合して研磨剤塗布液Ａ−４を得た。

【０１６４】 研磨剤層塗布液Ａ−４ １）バインダー １００重量部 ジアセチルセルロース（重量平均分子量１８．５万、酢化度２．５５） ２）溶剤 シクロヘキサノン ２１８．４重量部 メチルエチルケトン ９０５．２重量部 ４）研磨剤分散物４ ８重量部 ５）硬化剤（イソシアネート） ２０重量部 日本ポリウレタン工業（株）製 コロネートＬ また、研磨剤分散物５を下記表１１のように研磨剤種を
変化させ、研磨剤濃度は研磨剤分散物１と同じＢ／Ａ＝
２２重量％、固形分濃度＝４０重量％になるように作成
した。さらに研磨剤層塗布液は、表１１に示す通り研磨
剤層塗布液Ａ−５を調製した。

【０１６５】

【表１１】

【０１６６】４．研磨剤層及び磁気記録層の塗設 下記表１２記載の水準及び乾燥膜厚になるように塗布し
た。なお塗布は図２９及び図３０に示す塗布方式よって
同時重層塗布を行った。さらに乾燥と同時に塗膜が未乾
の内に配向磁場中で塗布方向へ磁性体を配向させ、磁気
記録再生時の高出力化を図った。

【０１６７】《潤滑剤層の塗布液の調製及び塗設》実施
例１と同様に潤滑剤層塗布液を調製した。研磨剤層及び
磁気記録層を塗布・乾燥させた後、乾燥膜厚が１０ｎｍ
となるように精密エクストルージョンコーターを用い塗
布した。

【０１６８】《熱処理》潤滑層の塗布後、６０℃に加温
したオーブンにて３日間熱処理を実施した。

【０１６９】《写真構成層の塗設》実施例１と同様に感
光層を重層塗布した。

【０１７０】得られたサンプルは以下の水準となった。

【０１７１】

【表１２】

【０１７２】図１４〜図２０にはそれぞれ本発明試料１
１５〜１２１の研磨剤層と磁気記録層の層構成の概略を
示し、図２１〜図２３は比較例試料１２３，１３３及び
１３４の磁気記録層の層構成の概略を示す図である。図
中の表示は前記図１と同様である。

【０１７３】下記表１３に示すように実施例１と同様な
試験を行った。

【０１７４】

【表１３】

【０１７５】本発明の磁気記録媒体は、実施例１と同様
に表面の耐久性・磁気ヘッドクリーニング効果・磁気ヘ
ッド目詰まりに対して非常に優れた効果を発揮している
ことがわかる。

【０１７６】

【発明の効果】表８及び表１３から明らかなように、２
層の研磨剤含有層を設けたサンプルは単層の磁気記録層
中に研磨剤を含有させた比較試料もしくは磁気記録層の
外側に１層の研磨剤層を設けた試料と比較して磨耗に対
する耐久性、磁気ヘッドのクリーニング効果、磁気ヘッ
ドの目詰まりの点で優れている。本発明により、磁気記
録層の耐久性を向上し、磁気ヘッドのクリーニング性を
向上させることにより磁気情報の入出力を迅速且つ確実
に行える磁気記録媒体を提供することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図２】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図３】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図４】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図５】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図６】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図７】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図８】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図９】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図１０】比較の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図１１】比較の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図１２】比較の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図１３】比較の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図１４】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録
層の層構成の概略断面図である。

【図１５】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録
層の層構成の概略断面図である。

【図１６】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録
層の層構成の概略断面図である。

【図１７】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録
層の層構成の概略断面図である。

【図１８】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録
層の層構成の概略断面図である。

【図１９】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録
層の層構成の概略断面図である。

【図２０】本発明の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録
層の層構成の概略断面図である。

【図２１】比較の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図２２】比較の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図２３】比較の磁気記録媒体の研磨剤層と磁気記録層
の層構成の概略断面図である。

【図２４】磁気記録媒体の研磨剤層又は磁気記録層を設
けるのに用いられるウエット・オン・ドライ塗布方式を
示す図である。

【図２５】磁気記録媒体の研磨剤層又は磁気記録層を設
けるのに用いられるウエット・オン・ドライ塗布方式を
示す図である。

【図２６】磁気記録媒体の研磨剤層又は磁気記録層を設
けるのに用いられるウエット・オン・ウエット塗布方式
を示す図である。

【図２７】磁気記録媒体の研磨剤層又は磁気記録層を設
けるのに用いられるウエット・オン・ウエット塗布方式
を示す図である。

【図２８】磁気記録媒体の研磨剤層又は磁気記録層を設
けるのに用いられるウエット・オン・ウエット塗布方式
を示す図である。

【図２９】磁気記録媒体の研磨剤層又は磁気記録層を設
けるのに用いられるウエット・オン・ウエット塗布方式
を示す図である。

【図３０】磁気記録媒体の研磨剤層又は磁気記録層を設
けるのに用いられるウエット・オン・ウエット塗布方式
を示す図である。

【図３１】磁気記録媒体表面の耐久性測定装置の概略を
示す図である。

【符号の説明】

１，２，３，４，５，６，７ 支持体 ８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，
１７，１８，１９，２０，２１ 塗布液 ３，４ 磁性体を含有しない研磨剤含有層 ２２，２３，２４，２５，２６，２７，２８，２９，３
０ 注液器 ４０，４１，４２，４３，４４，４５，４６，４７，４
８，４９，５０，５１，５２，５３ ロール ６１ フィルムくり出し側 ６２ フィルム巻き取り側 ６３ クリーニングロール ６４ 不織布 ６５ 荷重負荷ロール ６６ 荷重 ７０ 研磨剤粒子 ７１ 磁性体含有層 ７２，７３ 磁性体を含まない研磨剤含有層

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上の一方の側に、少なくとも２層
   の研磨剤含有層を有することを特徴とする磁気記録媒
   体。
2. 【請求項２】 前記少なくとも２層の研磨剤含有層中の
   研磨剤の平均粒径が、層ごとにそれぞれ異なることを特
   徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 前記少なくとも２層の研磨剤含有層を有
   する磁気記録媒体において、支持体から遠い側に平均粒
   径がより小さい研磨剤を含有する層を設け、支持体に近
   い側に平均粒径がより大きい研磨剤を設けることを特徴
   とする請求項１または２記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 前記少なくとも２層の研磨剤含有層を有
   する磁気記録媒体において、該研磨剤含有層の少なくと
   も１層中に磁性粉を含有することを特徴とする請求項
   １，２または３記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 前記少なくとも２層の研磨剤含有層を有
   する磁気記録媒体において、平均粒径が最も小さい研磨
   剤の平均粒径が０．０１〜０．６μｍであり、平均粒径
   が最も大きい研磨剤の平均粒径が０．４〜２．５μｍで
   あることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項記載の
   磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 前記少なくとも２層の研磨剤含有層をい
   わゆるウエット・オン・ウエットによる多層同時塗布方
   式にて塗布することを特徴とする請求項１〜５の何れか
   １項記載の磁気記録媒体。