JPH11138628A - ポリエステル支持体 - Google Patents

ポリエステル支持体

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JPH11138628A
JPH11138628A JP9308918A JP30891897A JPH11138628A JP H11138628 A JPH11138628 A JP H11138628A JP 9308918 A JP9308918 A JP 9308918A JP 30891897 A JP30891897 A JP 30891897A JP H11138628 A JPH11138628 A JP H11138628A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 平面性が良好であり熱寸法安定性にすぐれた
ポリエステル支持体を提供する。 【解決手段】 平面性指数が0.01以上0.07以下
のポリエステル支持体。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は平面性、熱寸法安定
性に優れたポリエステル支持体に関する。
【0002】
【従来の技術】従来写真感光材料は、撮影後現像液を用
いて湿式現像を行っている。しかし、この方法では、下
記のような不具合がありこの点の改善が望まれていた。 現像、漂白、定着、乾燥を行なうため、現像処理に時
間を要する。 現像液を入れたタンクを複数個必要とするため、現像
機を小型軽量化できない。 現像液の補充、廃棄および現像タンクの洗浄等の手間
を要する。 これを改善するために、米国特許第3152904号明
細書、米国特許第3457075号明細書、特公昭43
−4921号公報、特公昭43−4924号公報等に記
載されているような80〜150℃の熱による現像方法
(以下熱現像と略することがある)で処理する写真感材
が提唱されている。この一つの例として感光層中にあら
かじめ現像薬の前駆体を含ませておき、これを熱により
分解し現像薬とし、現像する方法等が挙げられる。この
ような熱現像方式では、現像処理は熱を与えるだけでよ
く短時間で処理が可能であり、現像機も小型化できる。
さらに現像液の補充や廃棄の心配が無い。しかし印刷用
感材にこの方式の感材を用いた場合、熱現像中に発生す
る寸法変化のために、4版(青、緑、赤、墨版)を重ね
た場合、色ずれが発生するという難点がある。これを解
決するために、従来低張力下で熱処理する方法が知られ
ている(例えば、特開昭60−22616号公報、特開
昭64−64883号公報、特開昭54−158470
号公報、米国特許第2779684号明細書)。これら
の低張力熱処理を支持体に施すことで熱現像前後の寸法
変化は小さくすることはできたが、これに伴い平面性不
良(中タルミ、波打ち)が発生し、高い平面性が必要と
される写真用支持体にとって大きな問題であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は平面性が良好
であり熱寸法安定性にすぐれたポリエステル支持体を提
供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】これらの課題は次のポリ
エステル支持体及びそれを用いたハロゲン化銀写真感光
材料で解決された。すなわち本発明は(1)下記式で定
義される平面性指数が0.01以上0.07以下である
ことを特徴とするポリエステル支持体、 平面性指数=(ΔLの幅方向平均値)×(ΔLレンジ(r
ange)) 但し、ΔL(%)=100×{(150℃における長手
方向寸法)−(30℃における長手方向寸法)}/(3
0℃における長手方向寸法) ΔLレンジ(%)={(ΔLの幅方向最大値)−(ΔL
の幅方向最小値)} (2)下記式で定義されるΔLが0.1%以上0.6%
以下であることを特徴とする(1)項に記載のポリエス
テル支持体、 ΔL(%)=100×{(150℃における長手方向寸
法)−(30℃における長手方向寸法)}/(30℃に
おける長手方向寸法) (3)波打ち高さが0mm以上25mm以下であること
を特徴とする(1)又は(2)項に記載の支持体、
(4)中たるみ量が0mm以上50mm以下であること
を特徴とする(1)又は(2)項に記載の支持体、
(5)120℃における熱寸法変化率が長手方向、幅方
向とも−0.05%以上0.05%であることを特徴と
する(1)〜(4)項のいずれか1つに記載のポリエス
テル支持体、(6)120℃における長手方向および幅
方向熱寸法変化率を、幅方向にわたって測定した場合の
最大値と最小値の差(レンジ)が長手方向、幅方向いず
れも0%以上0.03%以下であることを特徴とする
(1)〜(5)項のいずれか1つに記載のポリエステル
支持体、(7)該ポリエステル支持体がポリエチレンテ
レフタレートであることを特徴とする(1)〜(6)項
のいずれか1つに記載の支持体、及び(8)(1)〜
(7)項のいずれか1つに記載のポリエステル支持体を
用いたハロゲン化銀写真感光材料を提供するものであ
る。本発明は中たるみや波打ちという平面性不良がポリ
エステル支持体内の寸法変化の不均一性に起因すること
を見いだし達成されたものである。即ち中たるみとはポ
リエステル支持体の幅方向中央部の長さが端部に比べ長
い状態を指す。この結果中央部にたるみが発生し、水平
に広げるとその部分が凹になる。一方波打ちは端部の長
さが中央部に比べ長い状態を指す。この結果端部の伸び
を吸収するため波打ち状になる。これらの中たるみや波
打ち故障は、熱寸法変化を小さくするために実施する低
張力熱処理の後に発生し易い。これは熱処理中に発生す
る収縮により寸法の不均一が発生するためである。張力
が強いと張力によりこれらを均等に伸ばし平面性不良は
発生しにくいが、この伸張分は熱現像時に収縮し寸法変
化(熱寸法変化)が大きくなる。一方低張力で熱処理す
ると熱寸法変化は小さいが、寸法の不均一を平均化でき
ないため平面性が悪化しやすい。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明において上記のように定義
した平面性指数を0.01以上0.07以下にすること
によりこれらの平面性不良を解決できる。平面性指数が
本発明の範囲に入るには、150℃において収縮しない
ことがまず必要である。ポリエステル支持体は通常多軸
延伸されているため、延伸温度を上回る150℃では延
伸歪みを回復するために収縮が始まる。収縮時に平面性
が低下するため、収縮はなるべく小さいほうが好まし
い。一方ポリエステル支持体は温度の上昇に伴い熱膨張
(線膨張)しようとする。このため150℃でのポリエ
ステル支持体の寸法は熱膨張による伸びと熱収縮による
縮みの差で決定される。従って熱収縮が大きな支持体は
140℃で収縮>伸張となり、ΔLは負の値になる。こ
のような熱収縮が大きなポリエステル支持体は熱寸法変
化が大きく好ましくない。従ってΔLの大きな支持体ほ
ど好ましいが、収縮量=0の場合はポリエステル支持体
の熱膨張のみとなり上限が存在する。従って好ましいΔ
Lは0.10〜0.60%、より好ましくは0.15〜
0.55%、さらに好ましくは0.25〜0.50%で
ある。一方ΔLの幅方向分布(ΔLレンジ)は大きいよ
り小さいほうが全幅にわたって均等に熱処理されている
ことを示し、幅方向の寸法の不均一性に起因する平面性
故障は良化する。このように150℃における寸法変化
率の不均一性(レンジの大きさ)が平面性を反映するこ
とを新たに見いだしたことが本発明の特徴である。しか
しこのような支持体は熱処理を十分に行いボーイング等
の構造分布を平均化することで達成されるため、ΔLレ
ンジが小さすぎるポリエステル支持体は熱処理に伴う弊
害(オリゴマーの析出、支持体の黄変による透明性の低
下)が発生し好ましくない。従ってΔLレンジにも最適
範囲が存在する。従って(ΔLの幅方向平均値)と{Δ
L(レンジ)}の積、即ち平面性指数が一定の範囲には
いるものの平面性が良好となる。本発明の平面性指数は
通常0.01以上0.07以下であり、0.015以上
0.06以下が好ましく、0.02以上0.05以下が
さらに好ましい。この範囲外では平面性の低下や透明性
の低下が発生し好ましくない。
【0006】このような本発明の平面性指数を有する支
持体の波打ち高さは好ましくは0mm以上25mm以下
であり、より好ましくは0mm以上10mm以下であ
り、さらに好ましくは0mm以上2mm以下である。中
たるみは0mm以上50mm以下が好ましく、0mm以
上40mm以下がより好ましく、0mm以上30mm以
下がさらに好ましい。このように幅方向の寸法均一性を
有するポリエステル支持体は、熱寸法変化率およびその
最大値と最小値の差平均値(レンジ)も十分小さく、前
者は長手方向(MD)、幅方向(TD)とも−0.05
%〜0.05%であり、より好ましくは−0.04%〜
0.045%であり、さらに好ましくは−0.03%〜
0.04%である。後者のレンジはMD、TDとも0%
〜0.03%が好ましく、0%〜0.02%がより好ま
しく、0〜0.015%がさらに好ましい。
【0007】このような平面性指数を有する支持体は、
製膜時の原反の中央(製膜中央)をオフセットしてスリ
ットした、すなわちオフセット裁断した(製膜中央に対
して左右非対称にスリットした)支持体を低張力熱処理
することによって達成される。即ち製膜時の中央と熱処
理時の中央(熱処理中央)をずらせることで達成でき
る。これは以下の理由による。即ち製膜時の熱固定〜緩
和工程においてチャックで固定されている両端部は十分
緩和できず熱収縮しやすく、これが熱処理中に収縮す
る。一方製膜中央は製膜時に十分緩和しているため熱処
理中の収縮が小さい。このように熱収縮性が幅方向で異
なる(ボーイング)。このような支持体は熱処理中に製
膜中央が両端に比べたるみ易い傾向を有する。このよう
なたるみは熱処理中の張力や温度のかかり方等に不均一
性を発生する。これを防止するために製膜中央と熱処理
中央をずらすことが有効である。即ちもっともたるみの
大きい製膜中央が熱処理中央になるともっともたるみが
大きいが、これが中央からずらすことでたるみを小さく
でき、熱処理の不均一性を小さくすることができる。こ
のようなたるみは本発明のように低張力で熱処理する場
合に特に顕著である。
【0008】好ましい製膜中央と熱処理中央との差{オ
フセット量(%)=100×(製膜中央と熱処理中央の
距離)/(製膜原反幅)}は好ましくは3〜45%であ
り、5〜40%がより好ましく、8〜35%がさらに好
ましい。このような熱処理は製膜後の原反をスリットす
ることで容易に達成できる。本発明のポリエステル支持
体はポリエステルを形成するジカルボン酸のうち50モ
ル%以上が芳香族ジカルボン酸から成る芳香族ポリエス
テルが好ましく、より具体的にはポリエチレンテレフタ
レート系ポリマー、ポリエチレンナフタレート系ポリマ
ー、ポリブチレンテレフタレート系ポリマー、ポリブチ
レンナフタレート系ポリマーが挙げられる。さらに好ま
しくはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレートが挙げられる。これらの平均分子量(Mw )は
5千以上100万以下が好ましく、1万以上30万以下
がより好ましい。
【0009】これらのポリエステル支持体は2軸以上に
製膜されることが望ましい。たとえば融点(Tm )〜T
m +50℃の間で熔融した後、ガラス転位温度(Tg
−50℃〜Tg +20℃の冷却ドラムに押し出し未延伸
シートを形成する。このとき冷却ドラムに静電印加する
ことも好ましい。この未延伸シートをTg 〜Tg +60
℃の間で2倍〜4倍に縦に延伸し、さらにTg 〜Tg
60℃の間で2倍〜5倍に横に延伸する。これをTm
60℃〜Tm で5秒〜1分熱固定する。この後にTm
60℃〜Tm で横/縦の少なくとも一方に0〜10%緩
和することも好ましい。この後さらに縦/横に再度延伸
することも好ましい。このようにして得られたポリエス
テル支持体の厚みは50〜500μmが好ましく、より
好ましくは70〜300μm、さらに好ましくは90〜
200μmである。好ましい製膜幅は0.6m以上10
m以下であり、より好ましくは0.8m以上8m以下で
あり、さらに好ましくは1.0m以上7m以下である。
このようにして製膜した支持体を低熱収縮処理用にスリ
ットする。好ましいスリットの幅は0.5m以上8m以
下であり、より好ましくは0.7m以上6m以下であ
り、さらに好ましくは0.9m以上5m以下である。ス
リット後に両端にナーリング(エンボス加工)を施すこ
とも好ましい。
【0010】本発明のポリエステル支持体を製造するに
当り低張力熱処理は支持体を熱処理ゾーン内を搬送しな
がら実施する。熱処理温度は120℃以上220℃以下
が好ましく、135℃以上200℃以上がより好まし
く、145℃以上180℃以下がさらに好ましい。この
温度範囲を越えると熱可塑性フィルム中に含まれるオリ
ゴマーが表面に析出しヘイズが上昇しやすく好ましくな
い。この温度範囲を下回ると熱収縮が大きくなりやすく
好ましくない。このような温度制御は断熱材を用いた熱
処理ゾーン内に熱風を吹き込んで達成してもよく、ヒー
トロールのような高温の熱媒体に接触させて伝熱で可塑
性フィルム昇温してもよく、赤外線ヒーターのようなも
のを用いて輻射熱で昇温してもよい。いずれの方法でも
よいが、幅方向の温度分布を小さくすることが熱収縮の
幅方向分布を小さくするために好ましい。これには熱風
の吹き出し口にフィンを設置し風の向きを調整すること
で吹き溜まりを無くしたり、温度の低くなりやすい両端
部の温度が高くなるようにヒートロールや赤外線ヒータ
ーを分割制御することで達成できる。搬送張力(張力を
支持体の断面積で割った値)は0.001kg/mm2
以上0.05kg/mm2 以下が好ましく、より好まし
くは0.003kg/mm2以上0.03kg/mm2
以下、さらに好ましくは0.007kg/mm2 以上
0.02kg/mm2 以下である。このような張力は巻
き取り側、送り出し側の少なくとも一方に設置したモー
ターを調整することで達成できる。このときテンション
ピックアップを設置し、張力をモニターしながら調整す
るのが好ましい。
【0011】このような搬送しながらの熱処理は、ロー
ル搬送でも良く、非接触搬送(空気浮上搬送)でも良い
が、より高い平面性の得やすい前者が好ましい。熱処理
後の支持体は急冷すると皺が発生しやすいため、冷却速
度5℃/分以下で冷却するのが好ましく、より好ましく
は3℃/分以下で冷却する。さらに巻き取りは巻崩れ防
止のため、テンションカットした後、高い張力で巻き取
るのが好ましい。これらの低張力熱処理は、上述の製膜
後のポリエステル支持体をそのまま用いることも好まし
く、表面処理(グロー処理、コロナ処理、火炎処理、紫
外線処理)を施したもの、あるいはさらに塗布層、たと
えば水溶性ポリマー塗工層(ゼラチン、水溶性ポリエス
テル等)やラテックス層(たとえばスチレン−ブタジエ
ンゴム、塩化ビニリデン、アクリレート樹脂、ウレタン
樹脂、ポリオレフィンなど)、有機溶剤塗工層(セルロ
ースエステル、ニトロセルロース、ウレタン、アクリレ
ート、ポリオレフィン等)を付与した後低張力熱処理す
ることも好ましい。これらの塗布層は乾燥工程を含むた
め、乾燥中の熱により熱収縮率を小さくすることができ
るためである。さらにこれらの層の中に、静電防止剤
(酸化スズ、五酸化バナジウム、カチオンポリマー等)
や、反射防止染料、マット剤(シリカ、アルミナ、架橋
ポリスチレン、架橋PMMA等)を含んでいてもかまわ
ない。このようにして得た支持体上に写真感光層を塗設
することで本発明の写真感光材料を形成することができ
る。好ましい写真感光材料は、特願平9−226699
や特願平8−158652等に記載のものを用いること
ができる。
【0012】以下に本発明で用いた測定法について述べ
る。 (1)ΔL、ΔLレンジ TMA(Thermal Mechanical Analysis)分析を下記
条件で実施する。低張力熱処理後の支持体を幅方向に5
等分した点において、長手方向(縦方向;MD)35m
m、幅方向(TD)4mmにサンプリングする。これを
チャック間距離が25mmになるようセットした後、
5.4gの加重を掛け、窒素気流中で25℃から200
℃まで2℃/分で昇温しながら寸法変化を測定する。測
定にはTMA分析装置(たとえばTA insturument 社
製 2200型)。全測定点について30℃の寸法と1
50℃の寸法を測定し、下記式に従ってΔL(%)を求
める。平均値をΔL(%)として表示し、最大値と最小
値の差をΔLレンジ(%)として表示した。 ΔL(%)=100×{(150℃における長手方向寸
法)−(30℃における長手方向寸法)}/(30℃に
おける長手方向寸法)
【0013】(2)中たるみ量 図1に示すように低張力熱処理後の支持体を全幅でMD
方向に5mサンプリングし、これを5m離れた2本の平
行ロール(Aロール、Bロール)に両端を固定する。A
ロールを固定し、自由に回転できるBロールに一定荷重
(5kg/1m幅)をかけ、支持体に張力を掛ける。平
行ロールを結ぶ平面から、下に弛んだ長さを測り、その
最大長さ(A)を測定した。低張力熱処理前の支持体も
同様に測定した(B)。この差(A−B)の絶対値を中
たるみ量とした。なお、図中、1、2は平行ロールA、
Bを示し、3は荷重、4はサンプル支持体を示す。 (3)波打ち高さ 低張力熱処理後の支持体を、この幅より広い幅を有し、
2m以上の長さを有する水平で平滑な台の上に広げる。
両端の波打ち高さ(波打ちと台の距離)を長さ2mにわ
たってノギスを用いて測定する。この中の最高値を波打
ち高さとする。
【0014】(4)120℃熱収縮率 MD方向 低張力熱処理後の支持体を、縦方向(MD)25cm×
幅方向(TD)5cmに裁断する。これに20cm間隔
に孔を2点開け、25℃60%RHで12時間以上調湿
後ピンゲージを用いて測定する(この長さをL1 とす
る)。この後120℃に加熱した厚み10mmの平滑な
ステンレス板に30秒間押しつける。この後25℃60
%RHで12時間以上調湿後再びピンゲージを用いて測
長する(この長さをL2 とする)。下記式に基づき熱寸
法変化率を求める。 120℃熱収縮率(%)={100×(L2 −L1 )/
1 } これを支持体の幅方向に5等分した点において測定す
る。この平均値をMD方向の120℃熱収縮率とし、5
点の最大値と最小値の差の絶対値を120℃熱収縮量率
のレンジとする。 TD方向 低張力熱処理後の支持体を、幅方向(TD)25cm×
縦方向(MD)5cmに裁断する。これ以外はMD方向
と同様に測定する。 (5)張力 熱処理ゾ−ンの直前、直後のロ−ルに差動トランス式張
力試験機(例えば三菱電気製 LX−TC−100)を
設置し、25℃下での張力を測定し、これの平均値を求
めた。
【0015】
【実施例】以下に本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されない。 実施例−1 (1)支持体の作製 (1−1)ポリエチレンテレフタレート(PET)支持
体の作成 テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従い
固有粘度0.66(フェノール/テトラクロルエタン=
6/4(重量比) 中25℃で測定)のPETを得た。こ
れをペレット化した後130℃で4時間乾燥した後、3
00℃で溶融後T型ダイから、静電印加した50℃のキ
ャスティングドラム上に押し出し、熱固定後の膜厚が1
20μmになるような厚みの未延伸フィルムを作成し
た。これを、周速の異なるロールを用い3.3倍に縦延
伸、ついでテンターで4.5倍に横延伸を実施した、こ
の時の温度はそれぞれ、110℃、130℃であった。
この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で
横方向に4%緩和した。この後テンターのチャック部を
スリットした後、両端に厚み10μmのナーリングを幅
1cmで施した。このようにして幅(製膜幅)1.5
m、2.5m、6.0mのPET支持体を得た。
【0016】(1−2)ポリエチレン−2,6−ナフタ
レート(PEN)支持体の作成 ナフタレン−2,6−ジカルボン酸ジメチルとエチレン
グリコールを用い、常法に従いIV=0.58(フェノ
ール/テトラクロルエタン=6/4(重量比)中25℃
で測定)のPENを得た。これをペレット化した後15
0℃で4時間乾燥した後、320℃で溶融後T型ダイか
ら、静電印加した50℃のキャスティングドラム上に押
し出し、熱固定後の膜厚が120μmになるような厚み
の未延伸フィルムを作成した。これを、周速の異なるロ
ールを用い2.8倍に縦延伸、ついでテンターで3.7
倍に横延伸を実施した、この時の温度はそれぞれ、14
0℃、150℃であった。この後、250℃で20秒間
熱固定後これと同じ温度で横方向に4%緩和した。この
後テンターのチャック部をスリットした後、両端に厚み
10μmのナーリングを幅1cmで施した。このように
して得たPEN支持体の幅(製膜幅)は2.5mであっ
た。
【0017】(2)塗工層の作成 上記支持体上に表面処理後片面に下塗第1、2層を塗設
し、その反対側にバック第1、2層を設けた。 (2−1)コロナ処理 塗布に先立ち両面にコロナ処理(ピラー社製ソリッドス
テートコロナ処理機6KVAモデルを用い、支持体の両
面を室温下において20m/分で処理)を実施した。こ
の時の電流、電圧の読み取り値から、支持体には0.3
75kV・A・分/m2 の処理がなされている。この時
の処理周波数は9.6kHz、電極と誘電体ロールのギ
ャップクリアランスは1.6mmであった。この上に下
記層を塗設した。 (2−2)下塗第1層 下記組成の水分散ラテックスをワイヤーバーを用いて乾
燥膜厚が0.3μmとなるよう塗布し120℃で2分間
乾燥した。 ブタジエン−スチレン共重合ラテックス 13ml (固形分43%、ブタジエン/スチレン重量比=32/68) 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリアジンナトリウ 7ml ム塩 8%水溶液 ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウム 1%水溶液 1.6ml 蒸留水 80ml
【0018】(2−3)下塗第2層 下記組成の水溶液をワイヤーバーを用いて乾燥膜厚が
0.14μmとなるように塗布した。塗布の有無および
乾燥条件は表1に示した。 ゼラチン 0.9g メチルセルロース(メトローズSM15 置換度1.79〜 0.1g 1.83) 酢酸(濃度99%) 0.02ml 蒸留水 99ml (2−4)バック第1層(導電性層) 下記組成の導電性素材を含むアクリルラテックス水分散
液を、乾燥膜厚が0.2μmになるように塗布し180
℃で30秒乾燥し、表面電気抵抗が106 Ωの支持体を
作成した。 アクリル樹脂水分散液 2.0重量部 (ジュリマ−ET410、固形分20重量%、日本純薬(株) 製) 酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 18.1重量部 (平均粒径0.1μm、17重量%) ポリオキシエチレンフェニルエーテル 0.1重量部 シリカ粒子(平均粒径3μm) 0.2重量部 これに蒸留水を加えて100重量部となるように調製し
た。
【0019】(2−5)バック第2層(ポリオレフィン
すべり層) 下記組成のポリオレフィンラテックス水分散液を、乾燥
膜厚が0.1μmになるように塗布し、180℃で30
秒乾燥した。 ポリオレフィン 3.0重量部 (ケミパールS−120、27重量%、三井石油化学(株) 製) コロイダルシリカ 2.0重量部 (スノーテックスC、日産化学(株) 製) エポキシ化合物 0.3重量部 (デナコールEX−614B、ナガセ化成(株) 製) 蒸留水を加えて合計が100重量部になるように調製
【0020】(3)スリット オフセット量および幅が表1に示した値になるよう、下
塗、バック層塗設後の支持体をスリットした。スリット
後の両端に幅10mm、高さ10μmのナーリングを付
与した。
【0021】
【表1】
【0022】(4)低張力熱処理 スリット後の支持体に対し、表1に示した条件で低張力
熱処理を実施した。 (5)評価 低張力熱処理後に下記評価を実施し、結果を表2に示し
た。本発明の支持体は平面性、寸度安定性、光線透過性
とも良好な値を示した。 平面性指数 上記の方法に従って求めたΔL、ΔLレンジを用いて算
出した。 120℃熱収縮率、レンジ 上記方法に従って求めた。 中たるみ量、波打ち高さ 上記方法に従って求めた。 光線透過増加率 熱処理前と後の支持体の400nmの光線透過率を測定
し、光線透過率(%)の増加率を示した。
【0023】
【表2】
【0024】(6)感材の作成 上記下塗、バック層を塗設し低張力熱処理を施した支持
体の下塗側に下記SBR系感光層を塗設した。
【0025】(ハロゲン化銀粒子Aの調製)水700m
lにフタル化ゼラチン22gおよび臭化カリウム30m
gを溶解して、温度40℃にてpHを5.0に合わせた
後、硝酸銀18.6gを含む水溶液159mlと臭化カ
リウムを含む水溶液をpAgを7.7に保ちながらコン
トロールダブルジェット法で10分間かけて添加した。
3 [IrCl63-を8×10-6モル/リットルと臭
化カリウムを1モル/リットルで含む水溶液をpAgを
7.7に保ちながらコントロールダブルジェット法で3
0分間かけて添加した。その後pH5.9、pAg8.
0に調製した。得られた粒子は、平均粒子サイズ0.0
7μm、投影面積直径の変動係数8%、(100)面積
率86%の立方体粒子であった。上記のハロゲン化銀粒
子Cを温度60℃に昇温して、銀1モル当り8.5×1
-5モルのチオ硫酸ナトリウム、1.1×10-5モルの
2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニルジフェニ
ルスルフィンセレニド、2×10-6モルのテルル化合物
−1、3.3×10-6モルの塩化金酸、2.3×10-4
モルのチオシアン酸を添加して、120分間熟成した。
その後、温度を50℃にして8×10-4モルの増感色素
−Cを撹拌しながら添加し、更に3.5×10-2モルの
沃化カリウムを添加して30分間撹拌し、30℃に急冷
却してハロゲン化銀の調製を完了した。
【0026】
【化1】
【0027】(有機酸銀微結晶分散物の調製)ベヘン酸
40g、ステアリン酸7.3g、蒸留水500mlを9
0℃で15分間混合し、激しく撹拌しながら1N−Na
OH水溶液187mlを15分間かけて添加し、1N−
硝酸水溶液61mlを添加して50℃に降温した。次
に、1N−硝酸水溶液124mlを添加してそのまま3
0分間撹拌した。その後、吸引濾過で固形分を濾過し、
濾水の伝導度が30μS/cmになるまで固形分を水洗
した。こうして得られた固形分は、乾燥させないでウェ
ットケーキとして取扱い、乾燥固形分34.8g相当の
ウェットケーキに対して、ポリビニルアルコール12g
及び水150mlを添加し、良く混合してスラリーとし
た。平均直径0.5mmのジルコニアビーズ840gを
用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1
/4G−サンドグラインダーミル:アイメックス(株)
社製)にて5時間分散し、体積加重平均1.5μmの有
機酸銀微結晶分散物を得た。粒子サイズの測定は、Ma
lvern Insutruments Ltd.製
Master SaizerXにて行った。
【0028】(素材固体微粒子分散物の調製)テトラク
ロロフタル酸、4−メチルフタル酸、1,1−ビス(2
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,
5−トリメチルヘキサン、フタラジン、トリブロモメチ
ルスルフォニルベンゼンについて固体微粒子分散物を調
製した。テトラクロロフタル酸に対して、ヒドロキシプ
ロピルセルロース0.81gと水94.2mlとを添加
して良く撹拌してスラリーとして10時間放置した。そ
の後、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを100
mlとスラリーとを一緒にベッセルに入れて有機酸銀微
結晶分散物の調製に用いたものと同じ型の分散機で5時
間分散してテトラクロロフタル酸の固体微結晶分散物を
得た。固体微粒子の粒子サイズは70wt%が1.0μ
mであった。
【0029】(乳剤層塗布液の調製)先に調製した有機
酸銀微結晶分散物に対して下記の組成物を添加して、乳
剤塗布液を調製した。 有機酸微結晶分散物 1モル ハロゲン粒子 A 0.05モル バインダー、SBRラテックス (LACSTAR 3307B 大日本インキ化学工業(株)) 430g 現像用素材: テトラクロロフタル酸 5g 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル) −3,5,5−トリメチルヘキサン 98g フタラジン 9.2g トリブロモメチルフェノルスルホン 12g 4−メチルフタル酸 7g ヒドラジン造核剤 5.0×10-3mol/Ag 1mol
【0030】(乳剤保護層塗布液の調製)イナートゼラ
チンに対して、下記の各組成物を添加して乳化保護層塗
布液を調製した。 イナートゼラチン 10g 界面活性剤 A 0.26g 界面活性剤 B 0.09g 1,2−(ビスビニルスルホンアセトアミド)エタン 0.3g 水 64g
【0031】
【化2】
【0032】(感光層塗布)上記のように調製した乳剤
層塗布液をポリエチレンテレフタレート支持体上に銀が
1.6g/m2 になるように塗布した。その上に乳剤層
保護層塗布液をゼラチンの塗布量が1.8g/m2 にな
るように塗布した。
【0033】このようにして作成した感材の平面性(波
打ち高さ、中タルミ量)、120℃熱収縮(平均値、レ
ンジ)を上記の方法で測定した。これをA2サイズに裁
断し、発光時間10-4 秒のキセノンフラッシュ光で網
点のテストパターンを焼き付けた後、特表平7−505
488号に記載の熱現像機を用いて120℃で30秒現
像を行った。これをPS版に焼き付け、取り扱い性の評
価を実施した。 "焼付ボケ" とは、ベースが浮き上がる
ため密着露光できず、ピント不良が発生するものであ
り、この結果、網点がぼやけて、くっついてしまう現象
である。これは、ルーペでのぞくことで肉眼で発生の有
無を確認する。"焼付ズレ" は、A2サイズ原版の長辺
側両端に付けた印が、重ね焼きした時にズレているかど
うかを、ルーペをのぞいて目視で確認するものである。
本発明では良好な平面性と寸法安定性を達成し良好な焼
き付けを実現し焼き付け感度の低下も発生しなかった。
また一方比較例では平面性が悪化し焼き付け時にボケと
寸法変化に起因する焼き付けズレ、焼き付け感度の低下
を発生した。
【0034】
【表3】
【0035】
【発明の効果】本発明により平面性が良好であり熱寸法
安定性に優れたポリエステル支持体を提供できた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明における中たるみ量の測定法を示す図で
ある。
【符号の説明】
1 平行ロール(Aロール) 2 平行ロール(Bロール) 3 荷重 4 サンプル支持体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B29K 67:00 C08L 67:00

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記式で定義される平面性指数が0.0
    1以上0.07以下であることを特徴とするポリエステ
    ル支持体。 平面性指数=(ΔLの幅方向平均値)×(ΔLレンジ) 但し、ΔL(%)=100×{(150℃における長手
    方向寸法)−(30℃における長手方向寸法)}/(3
    0℃における長手方向寸法) ΔLレンジ(%)={(ΔLの幅方向最大値)−(ΔL
    の幅方向最小値)}
  2. 【請求項2】 下記式で定義されるΔLが0.1%以上
    0.6%以下であることを特徴とする請求項1に記載の
    ポリエステル支持体。 ΔL(%)=100×{(150℃における長手方向寸
    法)−(30℃における長手方向寸法)}/(30℃に
    おける長手方向寸法)
  3. 【請求項3】 波打ち高さが0mm以上25mm以下で
    あることを特徴とする請求項1又は2に記載の支持体。
  4. 【請求項4】 中たるみ量が0mm以上50mm以下で
    あることを特徴とする請求項1又は2に記載の支持体。
  5. 【請求項5】 120℃における熱寸法変化率が長手方
    向、幅方向とも−0.05%以上0.05%であること
    を特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載のポリ
    エステル支持体。
  6. 【請求項6】 120℃における長手方向および幅方向
    熱寸法変化率を、幅方向にわたって測定した場合の最大
    値と最小値の差(レンジ)が長手方向、幅方向いずれも
    0%以上0.03%以下であることを特徴とする請求項
    1〜5のいずれか1つに記載のポリエステル支持体。
  7. 【請求項7】 該ポリエステル支持体がポリエチレンテ
    レフタレートであることを特徴とする請求項1〜6のい
    ずれか1つに記載の支持体。
  8. 【請求項8】 請求項1〜7のいずれか1つに記載のポ
    リエステル支持体を用いたハロゲン化銀写真感光材料。
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