JP2003098630A - 熱現像写真感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱現像機内での搬送性に優れる熱現像写真感
光材料を提供する。 【解決手段】 バック層に無機微粒子を含む層を少なく
とも１層以上含有し、バック表面をカレンダリング処理
してなる熱現像写真感光材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像機内での搬送
性に優れる熱現像写真感光材料に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】熱現像感光材料は露光し潜像を形成した
後、通常、８０〜１５０℃の加熱して現像するが、熱現
像処理後の、寸度安定性あるいはシワを改善することが
ＷＯ９５／３０９３４号パンフレットや特開平８−２１
１５４７号公報に記載されている。しかし、これらの熱
現像感光材料の多くはポリエチレンテレフタレート（Ｐ
ＥＴ）を支持体に用いており、熱現像温度はＰＥＴのガ
ラス転位温度(Ｔg＝７０℃）を上回っている。このため
熱現像感光材料の弾性が低下し腰が弱くなるため、熱現
像機搬送中に多くのトラブルを発生し、改善が望まれて
いた。例えば、搬送中に駆動ロールや駆動ベルトの搬送
力を十分受け留めることができず、熱現像機内の搬送時
間が送れたり、搬送中に弛みが発生し、これが熱現像機
内のロールに巻き付きジャミングを発生したり、搬送力
が左右均等に付与されず熱現像感光材料に皺が発生する
ようなトラブルが発生し、改善が望まれていた。このよ
うな搬送トラブルは、非接触型熱現像機に於いて特に顕
著に発生した。また大判の感光材料(例えば４５cm角以
上)に於いてとくに顕著に発生した。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、熱現
像機内で搬送トラブルの発生しにくく、熱現像後の寸度
安定性およびシワの改善された熱現像写真感光材料を提
供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】この課題は、以下の特徴
を持つ熱現像感光材料により達成された。すなわち、本
発明は（１）バック層に無機微粒子を含む層を少なくと
も１層以上含有し、バック表面をカレンダリング処理し
てなることを特徴とする熱現像写真感光材料、（２）前
記バック層の熱現像温度８０℃以上１５０℃以下に於け
る表面弾性率を１ＧＰａ以上５ＧＰａ以下とし、前記バ
ック層の前記熱現像温度に於ける押し込み深さを０．４
μm以上２μm以下とし、前記バック層の前記熱現像温度
に於ける塑性変形エネルギーを０．０１ｎＪ以上１ｎＪ
以下としたことを特徴とする（１）項に記載の熱現像写
真感光材料、（３）前記バック層の動摩擦係数が０．０
５以上０．５以下であることを特徴とする（１）又は
（２）項に記載の熱現像写真感光材料、（４）１２０℃
３０秒処理に伴うＭＤ（長手方向）、ＴＤ（幅方向）の
熱寸法変化が幅方向全領域にわたって−０．０５％以上
０．０５％以下であることを特徴とする（１）〜（３）
項のいずれか１項に記載の熱現像写真感光材料、（５）
熱現像後の２５℃７５％ＲＨにおける吸水速度が０％／
時間以上０．１６％／時間以下である支持体を用いたこ
とを特徴とする（１）〜（４）項のいずれか１項に記載
の熱現像写真感光材料、および（６）熱現像が８０℃以
上１５０℃以下で１０秒以上５分以下実施されることを
特徴とする（１）〜（５）のいずれか１項に記載の熱現
像写真感光材料を提供するものである。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明において、バック層の熱現
像温度に於ける表面弾性率とは、熱現像温度に昇温した
感光材料のバック面にビッカース圧子を２mＮの加重で
押込んだ後、加重を除去し圧子の受ける応力を測定した
ものである。この表面弾性率は、通常１ＧＰａ以上５Ｇ
Ｐａ以下、好ましくは２ＧＰａ以上５ＧＰａ以下、より
好ましくは２ＧＰａ以上４．５ＧＰａ以下である。この
表面弾性率が１ＧＰａ未満では、感光材料の熱現像機内
での滑り性が低下し、通過時間の遅れが発生し易く、５
ＧＰａを越えると、熱現像機内のロールとスリップし易
く、通過時間の遅れが出易い。さらに、バック層の熱現
像温度に於ける押込み深さが０．４μm以上２μm以下で
あることが好ましい。より好ましくは０．５μm以上
１．７μm以下、さらに好ましくは０．５μm以上１．４
μm以下である。さらに、バック層の熱現像温度に於け
る塑性変形エネルギーが０．０１nＪ以上１nＪ以下にす
ることが好ましい。より好ましくは０．０２nＪ以上
０．６nＪ以下、さらに好ましくは０．０３nＪ以上０．
５nＪ以下である。このような表面弾性率を有し、さら
に好ましくは上記のような押込み深さ、塑性変形エネル
ギーを有するバック層にすることにより、熱現像機内の
バック層に接触する駆動ロールや駆動ベルトに張り付い
てジャミングを発生したり、駆動ロールや駆動ベルトと
バック層がスリップし正確な時間で搬送しない等のトラ
ブルの発生を防止し、安定した搬送を行なうことができ
る。

【０００６】このような特性のバック層は、次のように
して実現できる。 イ）バック層中に無機微粒子を含む層を少なくとも１層
以上有する。無機微粒子は特に限定されないが、シリ
カ、アルミナ、雲母、タルク、スズ酸化物、インジウム
酸化物、酸化チタン、酸価亜鉛等が挙げられる。好まし
い粒径は０．０１〜０．７μｍ、より好ましくは、０．
０２〜０．５μｍである。好ましい添加量は５０ｍｇ／
ｍ^２以上５００ｍｇ／ｍ^２以下、より好ましくは１００
ｍｇ／ｍ^２以上４００ｍｇ／ｍ^２以下、さらに好ましく
は１５０ｍｇ／ｍ^２以上３５０ｍｇ／ｍ^２以下である。
これらの微粒子の形状は特に問わないが、アスペクト比
が３以上の針状のもの、あるいは平板状のものがより好
ましい。これらの無機微粒子はポリマーバインダーに分
散させて塗設するのが好ましい。好ましいポリマーは、
アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リウレタン樹脂、酢酸セルロース樹脂、ポリエステル樹
脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹
脂、ポリオレフィン樹脂が好ましく、より具体的にはメ
チルメタクリレート／エチルメタクリレート／メタクリ
ル酸コポリマー、メチルメタクリレート／２−エチルヘ
キシルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート
／スチレン／アクリル酸コポリマー、スチレン／ブタジ
エン／アクリル酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／
ジビニルベンゼン／メタクリル酸コポリマー、メチルメ
タクリレート／塩化ビニル／アクリル酸コポリマー、塩
化ビニリデン／エチルアクリレート／アクリロニトリル
／メタクリル酸コポリマーが挙げられる。これらの重量
平均分子量で５０００〜１００００００、好ましくは１
００００〜１０００００程度が好ましい。このポリマー
バインダーの塗布量は、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ
^２、より好ましくは１０〜８０ｍｇ／ｍ^２、特に好まし
くは２０〜５０ｍｇ／ｍ^２である。

【０００７】ロ）バック表面をカレンダリング処理す
る。バック面の接触圧を式１に従って、より好ましくは
式２に従ってカレンダリングする。好ましい温度はいず
れも、８０℃以上１８０℃以下、より好ましくは１１０
℃以上１７０℃以下、さらに好ましくは１２０℃以上１
７０℃以下で５秒以上２４０秒以下、より好ましくは１
０秒以上２００秒以下、さらに好ましくは２０秒以上１
８０秒、式１を満足する接触圧で、より好ましくは式２
を満足する接触圧で実施する。 １００００／(熱処理温度(℃)−７９)≧接触圧(ｇ／ｃｍ^２)≧ ５０／(熱処理温度(℃)−７９) 式１ ５０００／(熱処理温度(℃)−７９)≧接触圧(ｇ／ｃｍ^２)≧ １００／(熱処理温度(℃)−７９) 式２ このような接触圧の調整は、搬送張力とエッジ持ちロー
ルにより達成できる。搬送張力は５g/ｍｍ^２以上１００
g/ｍｍ^２以下が好ましく、より好ましくは８g/ｍｍ^２以
上８０g/ｍｍ^２以下、さらに好ましくは１０g/ｍｍ^２以
上６０g/ｍｍ^２以下である。この時、さらに搬送ロール
の端部を高くしたロール(エッジ持ちロール)を用いベー
スを浮かせて搬送させることで接触圧を下げることがよ
り好ましい。高くしたエッジ部の高さは０．０５mm以上
１０mm以下が好ましく、より好ましくは０．１mm以上５
mm以下、さらに好ましくは０．１５mm以上３mm以下であ
る。エッジ部の好ましい幅は５mm以上２００mm以下であ
り、より好ましくは８mm以上１００mm以下であり、さら
に好ましくは１０mm以上８０mm以下である。エッジ部は
搬送するベースの端に位置するように設け、両端に設け
るのがより好ましい。このようなエッジ部はロール作成
時に予め所定に部分が高くなるよう加工しても良く、既
存のロールに耐熱テープ等を巻き付け高くすることも好
ましい。さらにこのエッジ部にあたる部分の支持体に厚
みだし加工(ナール加工)を行なうのもより好ましい。ナ
ール加工は片面から押出しても良く、両側から押出して
もよい。好ましい幅は３〜５０mm、より好ましくは５〜
３０mmである。厚み出し加工の高さ(両側から厚み出し
を行った場合は、両面の平均を云う)は５μm以上１５０
μm以下が好ましく、より好ましくは１０μm以上８０μ
m以下がより好ましい。

【０００８】さらに、熱現像機内での搬送トラブルを軽
減するために、１２０℃３０秒処理に伴うＭＤ（長手方
向）、ＴＤ（幅方向）の熱寸法変化が幅方向全領域にわ
たって−０．０５％以上０．０５％以下、より好ましく
は−０．０４％以上０．０４％以下、さらに好ましくは
−０．０３％以上０．０３％以下にすることが好まし
い。これにより前後左右の熱収縮の不均一性に由来する
感光材料の熱現像機内搬送時の蛇行を抑制できる。これ
には、左右端の配向角の差が０〜３０度、より好ましく
は０〜２０度、さらに好ましくは０〜１０度の支持体
を、１４０〜２００℃、より好ましくは１５０〜１９０
℃、さらに好ましくは１５０〜１８０℃で０．３〜５kg
/m、より好ましくは０．５〜４kg/m、さらに好ましくは
１〜４kg/mで、２０〜４００秒、より好ましくは３０〜
３００秒、さらに好ましくは４０〜２５０秒熱処理する
ことで達成できる。このような配向角の支持体は、延伸
製膜における２．５〜３．５倍に縦延伸、３〜４．５倍
に横延伸、２２０〜２５０℃で３〜６０秒熱固定の後に
２２０〜２５０℃で１〜１０％、より好ましくは１〜８
％、さらに好ましくは２〜６％横方向に延伸することで
達成される。さらに、配向角のおおきな端部の少なくと
も一方をスリットで落とすとさらに好ましい。好ましい
スリット落としの幅は(片端あたり)、全幅の３〜３０
％、より好ましくは５〜２５％、さらに好ましくは７〜
２０％である。

【０００９】さらに、熱現像後の支持体の２５℃７５％
ＲＨにおける吸水速度が０％／時間以上０．１６％／時
間以下、より好ましくは０％／時間以上０．１４％／時
間以下、さらに好ましくは０％／時間以上０．１３％／
時間以下にすることでも熱現像機内の搬送性をさらに改
良できる。これは熱現機入口、出口での急激な脱湿、吸
湿に伴う支持体の縮み、伸びに伴う感光材料の変形が搬
送性を低下させることを抑制するためである。このよう
な防水層は、無機物、有機物いずれでも良く、無機物の
場合、特開平８−２２４７９５号に記載のようなシリカ
蒸着層、あるいはアルミナ、酸化スズ、酸化インジウム
等の金属酸化物を蒸着しても良い。また雲母等の無機微
粒子をポリマーバインダー中に分散し塗布しても良い。
有機物の場合、ポリ塩化ビニリデン系樹脂（PVdC）、ポ
リビニルアルコール(PVA)、高密度ポリエチレン、ポリ
弗化エチレン等の層を塗工するのが好ましい。これらの
中で好ましいのがPVdCとPVAであり、さらに好ましいの
がポリ塩化ビニリデン系樹脂である。ポリ塩化ビニリデ
ン系樹脂は共重合体を用いるのが好ましく、含有される
塩化ビニリデン残基の量は７０〜９９．９wt％が好まし
く、より好ましくは８５〜９９wt％、さらに好ましくは
９０〜９９wt％である。塩化ビニリデン以外の共重合成
分としてメタクリル酸、アクリル酸、メチルメタクリル
酸、イタコン酸、シトラコン酸およびこれらのエステ
ル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メチルア
クリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、２−ヒドロキシエチル
メタクリレート、ビニルアセテート、アクリルアミド、
スチレン等を挙げることができる。これらの共重合体の
重量平均分子量は５０００以上１０万以下が好ましく８
０００以上８万以下がより好ましく、１万以上４．５万
以下がさらに好ましい。

【００１０】ポリ塩化ビニリデン系樹脂の支持体上への
塗工は、これを有機溶剤に溶解し塗布する方法でも水分
散ラテックスを塗布する方法いずれも用いることができ
るが、後者がより好ましい。水分散ラテックスの水分散
物の場合、均一構造のポリマー粒子のラテックスであっ
てもコア部とシェル部で組成の異なったいわゆるコア−
シェル構造のポリマー粒子のラテックスでもよい。

【００１１】塩化ビニリデン共重合体の具体例として以
下のものを挙げることができる。ただし（ ）内の数字
は重量比を表す。またMwは重量平均分子量を表す。 (A)塩化ビニリデン:メチルアクリレート：アクリル酸(9
0:9:1)のラテックス(Mw=42000) (B)塩化ビニリデン:メチルアクリレート：メチルメタク
リレート：アクリロニトリル：メタクリル酸(87:4:4:4:
1)のラテックス(Mw=40000) (C)塩化ビニリデン：メチルメタクリレート：グリシジ
ルメタクリレート：メタクリル酸(90:6:2:2)のラテック
ス(Mw=38000) (D)塩化ビニリデン：エチルメタクリレート：２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート：アクリル酸(90:8:1.5:0.
5)のラテックス(Mw=44000) (E)コアシェルタイプのラテックス(コア部90重量%、シェ
ル部10重量%) コア部 塩化ビニリデン：メチルアクリレート：メチル
メタクリレート:アクリロニトリル：アクリル酸(93:3:
3:0.9:0.1) シェル部 塩化ビニリデン:メチルアクリレート：メチ
ルメタクリレート：アクリロニトリル：アクリル酸(88:
3:3:3:3)(Mw=38000) (F)コアシェルタイプのラテックス(コア部70重量%、シェ
ル部30重量%) コア部 塩化ビニリデン：メチルアクリレート：メチル
メタクリレート：アクリロニトリル：メタクリル酸(92.
5:3:3:1:0.5) シェル部 塩化ビニリデン：メチルアクリレート：メチ
ルメタクリレート：アクリロニトリル：メタクリル酸(9
0:3:3:1:3)(Mw=20000) これらの防水層の厚みは支持体の少なくとも片側に０．
５μm以上１０μm以下設けるのが好ましく、より好まし
くは支持体両側に各々０．８μm以上５μm以下、さらに
好ましくは両側に各々１．０μm以上３μm以下設けるの
が好ましい。さらに、本発明においては、次の（１）又
は／及び（２）の手段をさらに組合わせることにより、
その発明の効果をより高めることができる。

【００１２】(1)感光層の熱現像温度に於ける表面弾性
率を０．０５ＧＰａ以上０．８ＧＰａ以下とする。感光
層の熱現像温度に於ける表面弾性率とは、熱現像温度に
加熱した感光層表面にビッカース圧子を一定荷重で挿入
し、荷重を除去したときに圧子が感光材料表面から受け
る反発力を指す。この表面弾性率は好ましくは、０．０
５ＧＰａ以上０．８ＧＰａ以下、より好ましくは０．１
ＧＰａ以上０．６ＧＰａ以下、さらに好ましくは０．１
ＧＰａ以上０．４ＧＰａ以下である。なお、熱現像温度
とは、感光層の組成により異なるが好ましくは８０℃以
上１５０℃以下、より好ましくは９０℃以上１４０℃以
下、さらに好ましくは１００℃以上１３０℃以下を指
す。さらに、感光層の熱現像温度に於ける押込み深さが
１μm以上１０μm以下であることが好ましい。これは熱
現像温度に昇温した感光材料にビッカース圧子を２mＮ
で押込んだ後、この圧子の挿入深さを測定したものであ
る。より好ましくは２μm以上９μm以下、さらに好まし
くは４μm以上８μm以下である。さらに、感光層の熱現
像温度に於ける塑性変形エネルギ−が１nＪ以上１０nＪ
以下にすることが好ましい。より好ましくは１nＪ以上
８nＪ以下、さらに好ましくは１．５nＪ以上６nＪ以下
である。塑性変形エネルギ−とは、ビッカース圧子を２
mNで押し込んだ後、これを取り去った後に塑性変形(窪
みの形成)に消費されたエネルギーを指す。このような
表面弾性率、押込み深さ、塑性変形エネルギーにするこ
とにより、熱現像機内の駆動ロールや駆動ベルトに張り
付いてジャミングを発生したり、駆動ロールや駆動ベル
トが感光層の上でスリップし正確な時間で搬送しない等
のトラブルの発生を防止し、安定した搬送を行なうこと
ができる。

【００１３】このような感光層は下記、イ）、ロ）又は
ハ）により達成される。 イ）感光層をラテックス系ポリマーを用いて形成する。
感光層はポリマー層で形成されるが有機溶剤に溶解して
塗布するより、水に分散したラテックス系ポリマーを用
いて形成するのが好ましい。これは本発明のような熱現
像感光材料ではバインダーのポリマーとほぼ同量のカル
ボン酸銀塩を画像形成剤として用いるが、有機溶剤系塗
布ではこれらが均一に分散され可塑剤として作用するた
め、感光層が柔らかく成りやすいためである。一方、ポ
リマーラテックス系では、これらは個別に分散されるた
め、カルボン酸銀塩が可塑化効果を発現しにくい。好ま
しいラテックスの例として、アクリル樹脂、酢酸ビニル
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹
脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフ
ィン樹脂が好ましく、より具体的にはメチルメタクリレ
ート／エチルメタクリレート／メタクリル酸コポリマ
ー、メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリ
レート／ヒドロキシエチルメタクリレート／スチレン／
アクリル酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／アクリ
ル酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／ジビニルベン
ゼン／メタクリル酸コポリマー、メチルメタクリレート
／塩化ビニル／アクリル酸コポリマー、塩化ビニリデン
／エチルアクリレート／アクリロニトリル／メタクリル
酸コポリマーが挙げられ、さらに好ましくはスチレン／
ブタジエン系のポリマーラテックス（LACSTAR3307B、Ni
pol Lx430、435、いずれも商品名）が挙げられる。これ
らの重量平均分子量で５０００〜１００００００、好ま
しくは１００００〜１０００００程度が好ましい。ラテ
ックスバインダー塗布量は０．２〜３０g／ｍ^２、より
好ましくは１．０〜１５g／ｍ^２の範囲が好ましい。

【００１４】ロ）感光層塗布後の乾燥中の温度を感光層
下部(支持体側)を感光層上部(空気側)より高くして不均
一に行なう。感光層下面の温度をより高くすることで、
感光層の厚み方向に不均一な構造を形成することができ
る。即ちよりポリマーラテックスの多い層を下側に、よ
りカルボン酸銀塩の多い層を上側に形成させることで、
本発明の表面硬度、押込み深さ、塑性変形エネルギーを
有する感光層を形成することができる。さらにこの乾燥
方法は、ポリマーラッテクス表面に薄皮が形成されるの
を防ぐ。この結果薄皮は内部に水分等の揮発分が残留す
ることなく、本発明の表面硬度を達成できる。具体的に
は３５〜９０℃、より好ましくは４０〜８５℃、さらに
好ましくは４５〜８０℃で乾燥を行なうが、下面(バッ
ク層側)の温度を上面(感光層側)より１〜２０℃、より
好ましくは２〜１５℃、さらに好ましくは３〜１０℃高
くして乾燥させる。これは、感光材料を上下から挟むよ
うに設置した吹き出し口から、個別に調整した温度の風
を吹き出すことで容易に達成できる。

【００１５】ハ）感光層下部側の乾燥風の風量を感光層
上部より大きくする。感光層下面側の乾燥風の風量を感
光層上面より１％以上３０％以下、より好ましくは２％
以上２５％以下、さらに好ましくは３％以上２０％以下
大きくすることで、上記ロ)同様に加工層厚み方向に不均
一な構造を達成しやすい。これは、感光材料を上下から
挟むように設置した吹き出し口のダンパーを調整するこ
とで容易に達成できる。ここで云う風量の差とは、以下
のように定めたものである。 風量の差(%)＝200×(Ｓl×Ｖl−Ｓu×Ｖu)／(Ｓl×Ｖl
＋Ｓu×Ｖu) 但し Ｓu＝上側に設置した吹き出し口の総面積 Ｖu＝上側に設置した吹き出し口の平均風速 Ｓl＝下側に設置した吹き出し口の総面積 Ｖl＝下側に設置した吹き出し口の平均風速

【００１６】(3)２５℃５０％ＲＨ調湿後のバック層を
ＸＰＳ測定した２８４．６ｅＶのシグナルと２８８．４
ｅＶのシグナルの強度比（Ｉ_{２８４．６}／Ｉ_{２８８．４}
(50%RH)）が５以上１８以下であることを特徴とする熱
現像写真感光材料 バック層を２５℃５０％ＲＨ調湿後、バック層を下記方
法で光電子分光測定(ＸＰＳ)行ない、２８４．６ｅＶの
シグナルと２８８．４ｅＶのシグナルの強度比（Ｉ
_{２８４．６}／Ｉ_{２８８．４}(50%RH)）を求める。これら
はＣ1s電子に起因するシグナルであり、前者がＣ−Ｃ炭
素に由来し、滑り剤として作用する長鎖炭化水素の量を
示す。ＸＰＳは極表面(５ｎｍ)のみを測定するため、こ
のシグナルが強いことは、表面の滑り性を高くできる。
一方後者の２８８．４ｅＶのシグナルは、Ｃ＝Ｏ結合に
由来し、表面の滑り性を低下させやすい。従ってこれら
の比（Ｉ_{２８４．６}／Ｉ_{２８８．４}(50%RH)）が高いほ
ど滑り性が低下しやすい。好ましい（Ｉ_{２８４．６}／Ｉ
_{２８８．４}(50%RH)）は５以上１８以下であり、より好
ましくは６以上１６以下、さらに好ましくは７以上１５
以下である。

【００１７】さらに、２５℃７５％ＲＨ調湿後のバック
層をＸＰＳ測定した２８４．６ｅＶのシグナルと２８
８．４ｅＶのシグナルの強度比(Ｉ_{２８４．６}／Ｉ
_{２８８．４}(75%RH)）を、(Ｉ_{２８４．６}／Ｉ_{２８８．４}
(50%RH)）で割った値が０．６以上１以下、より好まし
くは０．６５以上０．９５以下、さらに好ましくは０．
７以上０．９０以下にすることがより望ましい。これ
は、長鎖炭化水素からなる滑り剤が疎水性のため高湿下
でバック層中に潜り込み滑り性が低下するのを防ぐため
である。このＸＰＳ強度比は、調湿を７５%RHに変更す
る以外は上と同様に測定される。さらに２５℃５０％Ｒ
Ｈ調湿後のバック層の表面フッ素量（Ｆs）と表面炭素
量（Ｃs）の比(Ｆs／Ｃs)が０．２５以上０．５以下、
より好ましくは０．３以上０．４５以下、より好ましく
は０．３以上、０．４以下である。これは長鎖炭素系滑
り剤を安定して塗布するためにフッ素系界面活性剤を添
加するが、これらが競争的に表面に出ようとするため、
この範囲内にするのが好ましい。

【００１８】さらに、バック層の動摩擦係数が０．０５
以上０．５以下であることが好ましく、より好ましくは
０．０５以上０．４以下、さらに０．０５以上０．３以
下である。この動摩擦係数は２５℃６０％rh下に於い
て、直径０．５mmのステンレス球を用いて測定した値で
ある。このような特性にすることで、熱現像感光材料と
熱現像機との間の摩擦を低減させ、摩擦抵抗によるジャ
ミングをさらに低減させることができる。さらに広い環
境条件に於いて、信頼性の高い搬送性を確保できる。こ
のような特性は、非接触式の熱現像機に於いて特に有効
であり、中でもバック層を不織布に接触させながら搬送
するような方式（例えば特開平１１−１３３５７２号、
特願平１０−２４９９４０号に記載の熱現像機）におい
て有効である。

【００１９】このような特性を有するバック層を達成す
る上でのポイントは下記３点である。 イ）バック最外層へのフッ素系界面活性剤と長鎖炭化水
素系滑り剤の混用。 滑り性を得るために炭素数１０以上５０以下、より好ま
しくは炭素数１０以上４０以下、さらに好ましくは炭素
数１０以上３０以下の長鎖炭化水素系滑り剤を用いる。
具体的には以下のような構造の化合物を挙げることがで
きるが、より好ましくは長鎖アルキルスルホン酸、長鎖
アルキルベンゼンスルホン酸、カルナバワックス（セロ
ゾール５２４）や変成ポリエチレンラテックス(ケミパ
ール)である。

【００２０】好ましい長鎖炭化水素系滑り剤 n-Ｃ_１６Ｈ_３３−Ｏ−ＳＯ_３Ｎａ n-Ｃ_１２Ｈ_２５−Ｏ−ＳＯ_３Ｌi n-Ｃ_２０Ｈ_４１−Ｏ−ＳＯ_３Ｎａ n-Ｃ_１２Ｈ_２５−Ｃ_６Ｈ_４−ＯＳＯ_３Ｎａ n-Ｃ_１６Ｈ_３３ＣＯＯＫ n-Ｃ_２０Ｈ_４１ＣＯＯＮａ カルナバワックス（例えば、中京油脂製セロゾール５２
４（商品名）） 変成ポリエチレンラテックス(例えば、三井東圧製ケミ
パール（商品名）) ステアリルアミド n-Ｃ_１５Ｈ_３１ＣＯＯＣ_３０Ｈ_６１-n n-Ｃ_１５Ｈ_３１ＣＯＯＣ_４０Ｈ_８１‐n n-Ｃ_２７Ｈ_５５ＣＯＯＣ_２８Ｈ_５７-n n-Ｃ_２１Ｈ_４３ＣＯＯ-(ＣＨ_２)_７ＣＨ-(ＣＨ_３)-Ｃ_９
Ｈ_１９-n n-Ｃ_１５Ｈ_３１ＣＯＯＣ_２４Ｈ_４９-iso n-Ｃ_２９Ｈ_５９ＯＣＯ(ＣＨ_２)_２ＣＯＯ-Ｃ_２４Ｈ_４９-
n n-Ｃ_４０Ｈ_８１ＯＣＯ(ＣＨ_２)_２ＣＯＯ-Ｃ_５０Ｈ
_１０１‐n n-Ｃ_１７Ｈ_３５ＣＯＯ(ＣＨ_２)_６ＯＣＯ-Ｃ_１７Ｈ_３５-
n iso-Ｃ_２３Ｈ_４７ＣＯＯ(ＣＨ_２)_２ＯＣＯ-Ｃ_２３Ｈ
_４７-n n-Ｃ_４０Ｈ_８１Ｏ(ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ)_１５Ｈ n-Ｃ_５０Ｈ_１０１Ｏ(ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ)_３０Ｈ n-Ｃ_４０Ｈ_８１ＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＯ-(ＣＨ_２ＣＨ
_２Ｏ)_１６Ｈ n-Ｃ_５０Ｈ_１０１ＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＯ-(ＣＨ_２Ｃ
Ｈ_２(ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ)_３(ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ)_１５Ｈ

【００２１】さらにこの滑り剤の塗布安定性付与(ハジ
キ故障対策)としてフッ素系界面活性剤を添加する。こ
れにより全面に均一な滑り性を付与できる。好ましい含
フッ素界面活性剤としては、炭素数４以上（通常１５以
下）のフルオロアルキル基、フルオロアルケニル基、ま
たはフルオロアリール基を有し、イオン性基としてアニ
オン基（スルホン酸（塩）、硫酸（塩）、カルボン酸
（塩）、リン酸（塩））、カチオン基（アミン塩、アン
モニウム塩、芳香族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホ
ニウム塩）、ベタイン基（カルボキシアミン塩、カルボ
キシアンモニウム塩、スルホアミン塩、スルホアンモニ
ウム塩、ホスホアンモニウム塩、）またはノニオン基
（置換、無置換のポリオキシアルキレン基、ポリグリセ
リル基またはソルビタン残基）を有する界面活性剤が挙
げられる。これらの含フッ素界面活性剤は特開昭49-107
22号、英国特許第1,330,356号、米国特許第4,335,201
号、同4,347,308号、英国特許第1,417,915号、特開昭55
-149938号、同58-196544号、英国特許第1,439,402号な
どに記載されている。これらの含フッ素界面活性剤は、
２種以上混合してもよい。

【００２２】

【化１】

【００２３】これらのフッ素系界面活性剤(Ｆ系界面活
性剤)と長鎖炭化水素系滑り剤の添加量比は１：１０〜
１：１であり、より好ましくは１：８〜１：１であり、
さらに好ましくは１：４〜１：１である。好ましい長鎖
炭化水素系滑り剤の塗布量は５〜１００mg/ｍ^２であ
り、より好ましくは８〜８０ｍｇ／ｍ^２、さらに好まし
くは１０〜６０ｍｇ／ｍ^２である。好ましいＦ系界面活
性剤の塗布量は０．５〜１００ｍｇ／ｍ^２であり、より
好ましくは１〜８０ｍｇ／ｍ^２、さらに好ましくは２．
５〜６０ｍｇ／ｍ^２である。

【００２４】ロ）フッ素系樹脂をライニングしたロール
を用いた熱処理 １００〜２００℃、より好ましくは１２０〜１９０℃、
さらに好ましくは１４０〜１８０℃で、表面にフッ素樹
脂をコートしたロールに接触させることで、上記特性を
有するバック表面を達成できる。即ち接触させる部材に
よりバック表面の析出量を制御するものである。好まし
いフッ素系樹脂として、テフロン（登録商標）(ポリテ
トラフルオロエチレン：ＰＴＦＥ)、ポリフッ化ビニリ
デン(ＰＶｄＦ)、ポリビニルフルオライド(ＰＶＦ)、ポ
リクロロトリフルオロエチレン(ＰＣＴＦＥ)、ポリフル
オロアルキルビニルエーテル(ＰＦＡＶＥ)等が挙げられ
るが、より好ましくはテフロンである。これらのライニ
ング厚は１０〜１００００μmが好ましい。ライニング
に用いるロールはアルミ製、鉄製、ステンレス製等を用
いることができる。好ましいロールの直径は１０〜１０
００mmである。フッ素系樹脂をライニングしたロールに
接触させる時間によりバック特性を制御でき、好ましく
は１〜３００秒、より好ましくは２〜２００秒、さらに
好ましくは３〜６０秒である。

【００２５】ハ）塗布乾燥後の低湿度巻取り バック層塗布後、あるいは低張力熱処理後のベース吸水
率を０〜０．２wt％、より好ましくは０〜０．１wt％、
さらに好ましくは０〜０．０５wt％にして巻き取る。こ
れにより湿度依存性を抑えるために特に有効である。こ
れは、巻取り部の湿度を０〜６０％rh、より好ましくは
１０〜５０％rh、さらに好ましくは１０〜３０％rhにし
て巻取り、さらに巻取り時の支持体温度を３５〜７０
℃、より好ましくは４０〜６０℃で巻き取るのがより好
ましい。

【００２６】以下に本発明を用いた熱現像感光材料の調
製方法について述べる。 (1)支持体の調製 本発明の感光材料に用いる支持体は特に限定されない
が、１２０℃での弾性率（Ｅ120）が１００kg/ｍｍ^２以
上６００kg/ｍｍ^２以下であることが好ましく、より好
ましくは１２０kg/ｍｍ^２以上５００kg/ｍｍ^２以下であ
る。具体的にはポリエチレンナフタレート（Ｅ120=４１
０kg/ｍｍ^２）、ポリエチレンテレフタレート（Ｅ120=
１５０kg/ｍｍ^２）、ポリブチレナフタレート（Ｅ120=
１６０kg/ｍｍ^２）、ポリカーボネイト（Ｅ120=１７０k
g/ｍｍ^２）、シンジオタクチックポリスチレン（Ｅ120=
２２０kg/ｍｍ^２）、ポリエーテルイミド（Ｅ120=１９
０kg/ｍｍ^２）、ポリアリレート（Ｅ120=１７０kg/ｍｍ
^２）、ポリスルホン（Ｅ120=１８０kg/ｍｍ^２）、ポリ
エーテルスルホン（Ｅ120=１７０kg/ｍｍ^２）等が挙げ
られる。これらは単独で用いても良く積層あるいは混合
して用いても良い。好ましいのがポリエチレンナフタレ
ート、ポリエチレンテレフタレート、シンジオタクチッ
クポリスチレンである。特に好ましいのがポリエチレン
テレフタレートである。これらの支持体中にはハンドリ
ング性向上のため０．０１μm〜１０μmの微粒子を１pp
m〜１０００ppm添加するのも好ましい。支持体の厚みは
特に制限はないが、好ましくは８０〜２５０μｍ、より
好ましくは９０〜２００μｍ、特に好ましくは９５〜１
５０μｍである。

【００２７】さらに本発明の感光材料を調製するために
は支持体上に下記下塗層、バック層を設けるのが好まし
い。

【００２８】下塗層 支持体の少なくとも片面に下塗層を塗設するが、これに
先立ちこれらの層と支持体を強固に固定するため表面処
理を行っても良い。例えば、グロー放電処理（特開平８
−１９４２８６等）、コロナ処理（例えば特公昭４８−
５０４３号、同４７−５１９０５号、特開昭４７−２８
０６７号、同４９−８３７６７号、同５１−４１７７０
号、同５１−１３１５７６号等）、紫外線処理（例えば
特公昭４３−２６０３号、特公昭４３−２６０４号、特
公昭４５−３８２８号）や火炎処理を行なうのが好まし
い。下塗り層としては、第１層として支持体によく接着
する層（以下、下塗り第１層と略す）を設け、その上に
第２層として下塗り第１層と写真層をよく接着する層
（以下、下塗り第２層と略す）を塗布するいわゆる重層
法と、支持体と写真層をよく接着する層を一層のみ塗布
する単層法とがある。単層法においては、多くは支持体
を膨潤させ、下塗りポリマーと界面混合させる事によっ
て良好な接着性を得る方法が多く用いられる。この下塗
りポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、カゼ
イン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニル
アルコール、ポリアクリル酸共重合体、無水マレイン酸
共重合体などの水溶性ポリマー、カルボキシメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロースエ
ステル、塩化ビニル含有共重合体、塩化ビニリデン含有
共重合体、アクリル酸エステル含有共重合体、酢酸ビニ
ル含有共重合体、酢酸ビニル含有共重合体等のラテック
スポリマー、などが用いられる。これらのうち好ましい
のはゼラチンである。ゼラチンとしては、いわゆる石灰
処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素処理ゼラチン、ゼ
ラチン誘導体及び変性ゼラチン等当業界で一般に用いら
れているものはいずれも用いることができる。これらの
ゼラチンのうち、最も好ましく用いられるのは石灰処理
ゼラチン、酸処理ゼラチンである。

【００２９】重層法における下塗り第１層では、例え
ば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエン、酢酸ビ
ニル、スチレン、アクリロニトリル、メタクリル酸エス
テル、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マ
レイン酸等の中から選ばれた単量体を出発原料とする共
重合体、エポキシ樹脂、ゼラチン、ニトロセルロース、
ポリ酢酸ビニルなどが用いられる。また必要に応じて、
トリアジン系、エポキシ系、メラミン系、ブロックイソ
シアネートを含むイソシアネート系、アジリジン系、オ
キサザリン系等の架橋剤、コロイダルシリカ等の無機粒
子、界面活性剤、増粘剤、染料、防腐剤などを添加して
もよい。ポリ塩化ビニリデン系樹脂を用いる場合、上記
防水層と兼用することができる。下塗第２層では主にゼ
ラチンが用いられる。

【００３０】バック層 画像形成層（感光層）の反対側にバック層（バッキング
層）を設ける。バック層塗設に先立ち、支持体との密着
性を改善するためグロー放電処理、コロナ処理、紫外線
処理や火炎処理を行なっても良い。本発明のバック層
は、所望の波長範囲での最大吸収が0.3以上2以下である
ことが好ましく、さらに好ましくは0.5以上2以下の吸収
であり、かつ処理後の可視領域においての吸収が0.001
以上0.5未満であることが好ましく、さらに好ましくは
0.001以上0.3未満の光学濃度を有する層であることが好
ましい。また、バック層に用いるハレーション防止染料
を塗布することも好ましい。

【００３１】バック層には帯電調整剤として導電性の結
晶性金酸化物又はその複合酸化物微粒子を添加して表面
抵抗率を１０^１２以下にすることも好ましい。導電性の
結晶性酸化物又はその複合酸化物の微粒子としては体積
抵抗率が１０^７Ωcm以下、より好ましくは１０^５Ωcm以
下のものが望ましい。またその粒子サイズは０．０１〜
０．７μｍ、特に０．０２〜０．５μｍであることが望
ましい。これらの導電性の結晶性金属酸化物あるいは複
合酸化物の微粒子の製造方法については特開昭５６−１
４３４３０号公報の明細書に詳細に記載されている。即
ち、第１に金属酸化物微粒子で焼成により作製し、導電
性を向上させる異種原子の存在下で熱処理する方法、第
２に焼成により金属酸化物微粒子を製造するときに導電
性を向上させる為の異種原子を共存させる方法、第３に
焼成により金属微粒子を製造する際に雰囲気中の酸素濃
度を下げて、酸素欠陥を導入する方法等が容易である。
金属原子を含む例としてはＺｎＯに対してＡｌ、Ｉｎ
等、ＴｉＯ_２に対してはＮｂ、Ｔａ等、ＳｎＯ_２に対し
てはＳｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等があげられる。異種原
子の添加量は０．０１〜３０ｍｏｌ％の範囲が好ましい
が０．１〜１０ｍｏｌ％であれば特に好ましい。これら
のうちＳｂを添加したＳｎＯ_２複合金属酸化物微粒子が
最も好ましい。

【００３２】バック面マット化のために微粒子を添加す
るのも好ましい。微粒子は無機微粒子（シリカ、アルミ
ナ、炭酸カルシウム、チタニア、ジルコニアなど）、有
機微粒子（ＰＭＭＡ、ＰＳｔおよびこれらの架橋体な
ど）が挙げられる。本発明では、特開平3-109542号公報
２頁左下欄８行目〜３頁右上欄４行目に記載された多孔
性のマット剤、特開平4-127142号公報３頁右上欄７行目
〜５頁右下欄４行に記載されたアルカリで表面修飾した
マット剤、特開平6-118542号公報の段落番号「０００
５」から「００２６」に記載された有機重合体のマット
剤を用いることがより好ましい。好ましい粒径は０．３
μm以上１０μm以下、より好ましくは１μm以上８μm以
下、さらに好ましくは３μm以上７μm以下である。好ま
しい添加量は１〜５０mg／ｍ^２、より好ましくは２〜３
０mg／ｍ^２、さらに好ましくは３〜１５mg／ｍ^２であ
る。これにより達成される好ましいベック平滑度（ＪＩ
Ｓ Ｐ８１１９）は、２０００秒以下であり、より好ま
しくは１０秒〜２０００秒である。

【００３３】これらのバック層は親水性コロイドをバイ
ンダ−としてもよく、疎水性ポリマーをバインダーとし
てもよい。親水性ポリマーとして最も好ましいものはゼ
ラチンである。親水性ポリマ−を用いる場合、より強固
な密着性を付与するために、感光層と同じ下塗を行った
上にバック層を塗設することも好ましい。疎水性ポリマ
ー層のバインダーとしてはポリメチルメタクリレート、
エチルアクリレート等の（メタ）アクリル酸エステルポ
リマー、ポリエチレン等のオレフィン系ポリマー、スチ
レン系ポリマー、ウレタン系ポリマー、ブタジエン等の
ゴム系ポリマーなどが用いられる。この層は１層でも２
層以上でもよい。さらにバック層には硬膜剤を用いても
良い。硬膜剤の例としては、米国特許第4,281,060号、
特開平6-208193号などに記載されているポリイソシアネ
ート類、米国特許第4,791,042号などに記載されている
エポキシ化合物類、特開昭62-89048号などに記載されて
いるビニルスルホン系化合物類などが用いられる。

【００３４】バック層の最外層に保護層を設けても良
い。保護層用の全バインダー量は０．２〜５．０g／ｍ
^２、より好ましくは０．５〜３．０g／ｍ^２の範囲が好
ましい。バック層用のバインダーとしては、アクリル
系、オレフィン系、塩化ビニリデン系のポリマーラテッ
クスが用いられ、具体的にはアクリル樹脂系のジュリマ
ーET-410、セビアンA-4635、ポリゾールF410など、オレ
フィン樹脂系のケミパールS120、塩化ビニリデン系のL5
02、アロンD7020など（いずれも商品名）が好ましい。
このようなバック層は、１層でも多層でもよく、各層の
厚みは０．０２〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜７
μｍの範囲が好ましく、これらの層の全厚みは０〜５μ
ｍが好ましい。これらのバック層、下塗層の塗工は、デ
ィップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコー
ト法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラ
ビアコート法、等により塗布することができる。これら
は単層ずつ塗布しても２層以上同時塗布しても良い。

【００３５】(２)感光層の調製 本発明の熱現像感光材料は支持体上に有機銀塩、還元剤
および感光性ハロゲン化銀を含む画像形成層（感光層）
を有し、画像形成層上には少なくとも１層の保護層が設
けられている。感光層はバインダー中にハロゲン化銀、
化学増感剤、有機銀塩、還元剤、超硬調化剤、増感色
素、カブリ防止剤、可塑剤等を分散させたものである。
バインダーとして用いられるのは、アクリル樹脂、酢酸
ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴ
ム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリ
オレフィン樹脂が好ましく、より具体的にはメチルメタ
クリレート／エチルメタクリレート／メタクリル酸コポ
リマー、メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルア
クリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／スチレ
ン／アクリル酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／ア
クリル酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／ジビニル
ベンゼン／メタクリル酸コポリマー、メチルメタクリレ
ート／塩化ビニル／アクリル酸コポリマー、塩化ビニリ
デン／エチルアクリレート／アクリロニトリル／メタク
リル酸コポリマーが挙げられ、さらに好ましくはスチレ
ン／ブタジエン系のポリマーラテックス（LACSTAR3307
B、Nipol Lx430、435）が好ましく用いられる。これら
の重量平均分子量で５０００〜１００００００、好まし
くは１００００〜１０００００程度が好ましい。さらに
バインダー中に、全バインダーの２０wt%以下の範囲で
ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシ
プロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒ
ドロキシプロピルメチルセルロースなどの親水性ポリマ
ーを添加してもよい。バインダーの塗布量は０．２〜３
０g／ｍ^２、より好ましくは１．０〜１５g／ｍ^２の範囲
が好ましい。

【００３６】また、本発明は超硬調画像形成のために、
前記の超硬調化剤とともに硬調化促進剤を併用すること
ができる。例えば、米国特許第5,545,505号に記載のア
ミン化合物、同第5,545,507号に記載のヒドロキサム酸
類、同第5,545,507号に記載のアクリロニトリル類、同
第5,558,983号に記載のヒドラジン化合物、日本特許特
開平9-297368号に記載のオニュ−ム塩類などを用いるこ
とができる。

【００３７】本発明における増感色素としてはシアニン
色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色
素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロポーラーシ
アニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソ
ノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることがで
きる。赤色光への分光増感の例としては、He-Neレーザ
ー、赤色半導体レーザーやLEDなど赤色光源に対しては
特開昭54-18726号、特開平6-75322号、特開平7-287338
号、特公昭55-39818号、特開昭62-284343号、特開平7-2
87338号に記載の化合物を用いることができる。750〜14
00ｎｍの波長領域の半導体レーザー光源に対しては、シ
アニン、メロシアニン、スチリル、ヘミシアニン、オキ
ソノール、ヘミオキソノールおよびキサンテン色素を含
む種々の既知の色素により有利に増感させることができ
る。また、J-bandを形成する色素として米国特許第5,51
0,236号、同第3,871,887号、特開平2-96131号、特開昭5
9-48753号が好ましく用いることができる。本発明にお
ける増感色素の使用量としては、感光性層のハロゲン化
銀1モル当たり10^−６〜1モルが好ましく、10^−４〜10
^−１モルがさらに好ましい。

【００３８】カブリ防止剤、安定剤および安定剤前駆体
は、米国特許第2,131,038号および同第2,694,716号に記
載のチアゾニウム塩、米国特許第2,886,437号および同
第2,444,605号に記載のアザインデン、米国特許第2,72
8,663号に記載の水銀塩、米国特許第3,287,135号に記載
のウラゾール、米国特許第3,235,652号に記載のスルホ
カテコール、英国特許第623,448号に記載のオキシム、
ニトロン、ニトロインダゾール、米国特許第2,839,405
号に記載の多価金属塩、米国特許第3,220,839号に記載
のチウロニウム塩、ならびに米国特許第2,566,263号お
よび同第2,597,915号に記載のパラジウム、白金および
金塩、米国特許第4,108,665号および同第4,442,202号に
記載のハロゲン置換有機化合物、米国特許第4,128,557
号および同第4,137,079号、第4,138,365号および同第4,
459,350号に記載のトリアジンならびに米国特許第4,41
1,985号に記載のリン化合物などがある。また、カブリ
防止や高感度化を目的として安息香酸類を含有しても良
い。好ましい安息香酸類の構造の例としては、米国特許
第4,784,939号、同第4,152,160号、特開平9-329865号、
同9-329864号、同9-281637号などに記載の化合物が挙げ
られれ、有機銀塩含有層に添加することが好ましい。こ
の添加量は、銀1モル当たり1μモル以上2モル以下が好
ましく、1mモル以上0.5モル以下がさらに好ましい。

【００３９】本発明には現像を抑制あるいは促進させ現
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができる。メルカプト化合物はメルカプト置換複素芳
香族化合物が好ましく、この具体例としては、2-メルカ
プトベンズイミダゾール、2-メルカプトベンズオキサゾ
ール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプト-5
-メチルベンズイミダゾール、6-エトキシ-2-メルカプト
ベンゾチアゾール、2,2'-ジチオビス-ベンゾチアゾー
ル、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、4,5-ジフェニ
ル-2-イミダゾールチオール、2-メルカプトイミダゾー
ル、1-エチル-2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メ
ルカプトキノリン、8-メルカプトプリン、2-メルカプト
-4(3H)-キナゾリノン、7-トリフルオロメチル-4-キノリ
ンチオール、2,3,5,6-テトラクロロ-4-ピリジンチオー
ル、4-アミノ-6-ヒドロキシ-2-メルカプトピリミジンモ
ノヒドレート、2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジア
ゾール、3-アミノ-5-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、
4-ヒドロキシ-2-メルカプトピリミジン、2-メルカプト
ピリミジン、4,6-ジアミノ-2-メルカプトピリミジン、2
-メルカプト-4-メチルピリミジンヒドロクロリド、3-メ
ルカプト-5-フェニル-1,2,4-トリアゾール、2-メルカプ
ト-4-フェニルオキサゾールなどが挙げられる。これら
のメルカプト化合物の添加量は乳剤層中に銀1モル当た
り0.0001〜1.0モルが好ましく、さらに好ましくは0.001
〜0.3モルの量である。

【００４０】画像形成層には、可塑剤および潤滑剤とし
て多価アルコール(例えば、米国特許第2,960,404号に記
載された種類のグリセリンおよびジオール)、米国特許
第2,588,765号および同第3,121,060号に記載の脂肪酸ま
たはエステル、英国特許第955,061号に記載のシリコー
ン樹脂などを用いることができる。画像形成層である感
光性層には色調改良、イラジエーション防止の観点から
各種染料や顔料を用いることができるが、好ましい染料
としてはアントラキノン染料(特開平5-341441号、特開
平5-165147号記載の化合物など)、アゾメチン染料(特開
平5-341441号記載の化合物)、インドアニリン染料(特開
平5-289227号、特開平5-341441号、特開平5-165147号記
載の化合物など)およびアゾ染料(特開平5-341441号記載
の化合物など)が挙げられる。これらの化合物の使用量
は感光材料１ｍ^２当たり1μg以上1g以下の範囲で用いる
ことが好ましい。

【００４１】アンチハレーション層を感光性層に対して
光源から遠い側に設けることができる。アンチハレーシ
ョン層は所望の波長範囲での最大吸収が0.3以上2以下で
あることが好ましく、さらに好ましくは0.5以上2以下の
露光波長の吸収であり、かつ処理後の可視領域において
の吸収が0.001以上0.5未満であることが好ましく、さら
に好ましくは0.001以上0.3未満の光学濃度を有する層で
あることが好ましい。単独の染料としては特開昭59-564
58号、特開平2-216140、同7-13295、同7-11432、米国特
許第5,380,635号、特開平2-68539号、同3-24539号など
を用いることができる。処理で消色する染料として特開
昭52-139136号、同53-132334号、同56-501480号、同57-
16060号、同57-68831号、同57-101835号、同59-182436
号、特開平7-36145号、同7-199409号、特公昭48-33692
号、同50-16648号、特公平2-41734号、米国特許4,088,4
97号、同4,283,487号、同4,548,896号、同5,187,049号
に記載のものを好ましく用いることができる。

【００４２】感光層の最外層に保護層を設けることも好
ましい。保護層用のバインダーとしてはアクリル系、ス
チレン系、アクリル／スチレン系、塩化ビニル系、塩化
ビニリデン系のポリマーラテックスが好ましく用いら
れ、具体的にはアクリル樹脂系のVONCORT R3370、428
0、Nipol Lx857（いずれも商品名）、メチルメタクリレ
ート／２−エチルヘキシルアクリレート／ヒドロキシエ
チルメタクリレート／スチレン／アクリル酸コポリマ
ー、塩化ビニル樹脂のNipol G576（商品名）、塩化ビニ
リデン樹脂のアロンD5071（商品名）が好ましく用いら
れる。これらの層の中にイソシアネート等の架橋剤を添
加するのもより好ましい。保護層の好ましい塗布量は
０．５〜１０g/ｍ^２、より好ましくは１〜７g/ｍ^２、さ
らに好ましくは１．５〜５g/ｍ^２である。さらに保護層
中にマット剤を添加するのがより好ましい。無機系のマ
ット剤としては、二酸化ケイ素、チタンおよびアルミニ
ウムの酸化物、亜鉛およびカルシウムの炭酸塩、バリウ
ムおよびカルシウムの硫酸塩、カルシウムおよびアルミ
ニウムのケイ酸塩など、有機系のマット剤としては、セ
ルロースエステル類、ポリメチルメタクリレート、ポリ
スチレンまたはポリジビニルベンゼンおよびこれらのコ
ポリマーなどの有機重合体のマット剤が挙げられる。こ
れらのマット剤を２種以上併用してもよい。好ましいマ
ット剤の平均粒径は、１〜１０μｍ、好ましい添加量
は、５〜４００mg／ｍ^２、特に１０〜２００mg／ｍ^２の
範囲である。

【００４３】このようにして調製した熱現像感光材料は
使用する際に裁断するが、ロール状で使用しても良く、
シート状で使用しても良い。いずれの場合も好ましい幅
（熱現像機を通過させるときに処理方向と直交する方
向）は４０cm以上１５０cm以下、より好ましくは４５cm
以上１００cm以下、さらに好ましくは５０cm以上８０cm
以下である。これらの感光材料は２０％RH以上８０％RH
以下、より好ましくは３０％RH以上７０％RH以下で袋詰
めされ出荷される。

【００４４】本発明の熱現像画像記録材料はいかなる方
法で露光されても良いが、露光光源としてレーザー光が
好ましい。本発明によるレーザー光としては、ガスレー
ザー、YAGレーザー、色素レーザー、半導体レーザーな
どが好ましい。また、半導体レーザーと第２高調波発生
素子などを用いることもできる。本発明の熱現像画像記
録材料は露光時のヘイズが低く、干渉縞が発生しやすい
傾向にある。この干渉縞発生防止技術としては、特開平
5-113548号などに開示されているレーザー光を画像記録
材料に対して斜めに入光させる技術や、WO95/31754号な
どに開示されているマルチモードレーザーを利用する方
法が知られており、これらの技術を用いることが好まし
い。本発明の熱現像画像記録材料を露光するにはSPIE v
ol.169 Laser Printing 116-128頁(1979)、特開平4-510
43号、WO95/31754号などに開示されているようにレーザ
ー光が重なるように露光し、走査線が見えないようにす
ることが好ましい。

【００４５】本発明の画像形成方法の加熱現像工程はい
かなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズ
に露光した感光材料を昇温して現像される。用いられる
熱現像機の好ましい態様としては、熱現像感光材料をヒ
ートローラーやヒートドラムなどの熱源に接触させるタ
イプとして特公平5-56499号、特許公報第684453号、特
開平9-292695号、特開平9-297385号および国際特許ＷＯ
95/30934号に記載の熱現像機、非接触型のタイプとして
特開平7-13294号、国際特許ＷＯ97/28489号、同97/2848
8号および同97/28487号に記載の熱現像機がある。特に
好ましい態様としては非接触型の熱現像機である。好ま
しい現像温度としては80〜150℃であり、より好ましく
は９０〜140℃、さらに好ましくは100〜130℃である。
本発明は熱現像温度が、熱現像感光材料の支持体のガラ
ス転移温度を上回るような場合に特に好ましい。現像時
間は１０秒〜５分が好ましく、より好ましくは１５秒〜
３分、さらに好ましくは２０秒〜１分である。さらに、
80℃以上115℃未満の温度で画像が出ないようにして5秒
以上予熱した後、上記熱現像を行なう多段階熱現像方法
が特に好ましい。

【００４６】以下に本発明で用いた測定法について述べ
る。 (1)感光層、バック層の表面弾性率、押込み深さ、塑性
変形エネルギー サンプルをスライドガラス板上に瞬間接着剤で張り付け
た後、加熱ステージ上に置き所定の温度にまで昇温す
る。これを微小硬度計（フィッシャースコープH-100：F
ischer社製)を用い下記方法で測定する。イ )表面弾性率 熱現像温度に昇温した感光材料にビッカース圧子を２m
Ｎで押込み５秒間保持した後、加重を除去し圧子の受け
る応力を測定する。ロ )押込み深さ 熱現像温度に昇温した感光材料にビッカース圧子を２m
Ｎで押込んだ時の圧子の到達深さを測定したする。ハ )塑性変形エネルギ− 熱現像温度下でビッカース圧子を２mＮで押込む時に
ビッカース圧子の受ける応力(Ｆi)と挿入深さ(Ｄi)を測
定する。Ｆiを縦軸にＤiを横軸にプロットし、この間に
形成される面積を挿入エネルギー(Ｅi)とする。 上記条件で挿入し５秒間保持した後、ビッカース圧子
に加えた力を取り除くとビッカース圧子はサンプルの弾
性力で押し戻される。この時ビッカース圧子の受ける応
力(Ｆo)と深さ(Ｄo)を測定し、Ｆoを縦軸にＤoを横軸に
プロットし、この間に形成される面積を弾性エネルギー
(Ｅo)とする。 Ｅi−Ｅ0を塑性変形エネルギーとする。

【００４７】(2)２５℃５０％ＲＨ調湿後、２５℃７５
％ＲＨ調湿後のバック層をＸＰＳ測定した２８４．６ｅ
Ｖのシグナルと２８８．４ｅＶのシグナルの強度比（Ｉ
_{２８４ ．６}／Ｉ_{２８８．４}(50%RH)）、(Ｉ_{２８４．６}／
Ｉ_{２８８．４}(75%RH)） バック層を２５℃５０％ＲＨあるいは２５℃７５％Ｒ
Ｈで１２時間調湿後、２９５ｅＶ〜２８０ｅＶ(結合エ
ネルギー)の範囲をＸＰＳ測定する。 得られたスペクトルの中で最も低結合エネルギー側に
現れるピークを２８４．６ｅＶとしてチャージ補正(平
行移動)する。 ２９３〜２９１ｅＶの中の最も低い点と、２８４〜２
８２ｅＶの中の最も低い点を結びベースラインとする。
ここから２８４．６ｅＶのシグナルと２８８．４ｅＶの
シグナルの強度(ピーク高さ)を計測し、比を求める。

【００４８】(3)２５℃５０％ＲＨ調湿後のバック層の
表面フッ素量（Ｆs）と表面炭素量（Ｃs）の比(Ｆs／Ｃ
s) バック層を２５℃５０％ＲＨで１２時間調湿後、７０
０ｅＶ〜６８０ｅＶ(結合エネルギー)の範囲をＸＰＳ測
定する。 ６９８ｅＶ〜６９６ｅＶの中の最も低い点と、６８４
ｅＶ〜６８２ｅＶの中の最も低い点を結びベースライン
とする。ベースラインの上の面積を積算した後、イオン
化断面積(４．３)で割った値をＦsとする。 引き続き、２９５ｅＶ〜２８０ｅＶ(結合エネルギー)
の範囲をＸＰＳ測定する。２９３ｅＶ〜２９１ｅＶの中
の最も低い点と、２８２ｅＶ〜２８４ｅＶの中の最も低
い点を結びベースラインとする。ベースラインの上の面
積を積算した後、イオン化断面積(１)で割った値をＣs
とする。 ＦsをＣsで割り、Ｆs／Ｃs値とする。

【００４９】(4)バック層の動摩擦係数 ２５℃６０％rh下に於いて、直径０．５mmのステンレス
球を用いて測定する。 (5)１２０℃３０秒のＭＤ、ＴＤの熱寸法変化 感光層塗布後裁断前の熱現像感光材料から、幅方向３
点（両端と中央）で、ＭＤサンプル（ＭＤ２５cm×ＴＤ
５cm）、ＴＤサンプル（ＭＤ５cm×ＴＤ２５cm）を切り
出す。 ２５℃６０％rh下に２４時間調湿後２０cm間隔の一対
の孔を空け、この間隔をピンゲージを用いて測長する
(Ｌ１とする)。 １２０℃に加熱した熱板に３０秒間サンプルを接触さ
せる。 ２５℃６０％rh下に２４時間調湿後、ピンゲージを用
いて測長する(Ｌ2とする)。 100×(Ｌ1−Ｌ2)／Ｌ1を１２０℃３０秒処理に伴う熱
寸法変化率(%)とする。

【００５０】(6)熱現像後の支持体の吸水速度 下塗、バック層まで塗工した支持体を２５℃４０％ＲＨ
に１２時間調湿する。これを１２０℃３０秒熱現像し、
２５℃７５％ＲＨ下に置く。この３分後に計測した水分
量と１時間後に計測した水分量の差を熱現像後の吸水速
度（％／時間）とする。なお、水分量の計測は以下の方
法で実施した。 サンプルを２５℃７５％ＲＨ下で１ｃｍ×３ｃｍに切
り抜き、重量（Ｆ）をガラス管に封入する。 これを加熱装置の付いたカールフィッシャー水分計
（三菱化成工業製 微量水分測定装置ＣＡ−０３型＋水
分気化装置ＶＡ−０５型）を用いて１５０℃にサンプル
を加熱しながら水分の重量（Ｗ）を求める。１００×Ｗ
(g)／Ｆ(g)を水分量（％）とした。

【００５１】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれに限定されない。 実施例−１ （１）支持体（ベース）の作成 テレフタル酸とエチレングリコ−ルを用い、常法に従い
ＩＶ（固有粘度）＝０．６６（フェノ−ル／テトラクロ
ルエタン＝６／４(重量比)中２５℃で測定）のＰＥＴを
得た。これをペレット化した後１３０℃で４時間乾燥
し、３００℃で溶融後Ｔ型ダイから押し出し、５０℃の
冷却ドラム上で急冷し未延伸フィルムを作成した。これ
を周速の異なるロ−ルを用い３．３倍に１０５℃で縦延
伸した。ついでテンターで１２５℃で４．３倍に横延伸
した。この後、テンター幅を変化させずに表１に示した
温度、時間熱処理した後、２４０℃で２０秒間熱固定後
これと同じ温度で横方向に表１に示した比率だけ延伸し
た。この後テンターのチャック部を各１５cmスリットし
た後、両端にナール加工を行い、４０℃に冷却後４．８
kg/mで巻き取った。このようにして、厚み１００μm、
幅２．５ｍの延伸ＰＥＴ支持体を得た。これを表１に示
した割合だけ両端をスリットした。この後両端に幅１cm
のナール加工を厚み２５μmで実施した。この後、上記
方法に従い両端の分子配向角を測定し表２に示した。

【００５２】（２）感光層側 防水・下塗層 上記支持体（ベース）の片面に、表２に示すように下記
組成の防水層を設けた。 PVdC系防水層、SBR系防水層は表２に示した乾燥厚
みになるよう塗布後、１８０℃、４分間乾燥した。PV
A系防水層は支持体の熔融押出し時にマルトマニホール
ドダイを用いて二軸延伸後に表２の厚みになるように共
押出しして形成した。これらの防水層の上に下記下塗り
層を塗設し１８０℃、４分間乾燥した。

【００５３】 (2-1)防水層 PVdC系防水層 PVdCポリマーラテックス コア部９０重量％、シェル部１０重量％のコアシェルタイプのラテックスで コア部：塩化ビニリデン／メチルアクリレート／メチルメタクリレート／ アクリロニトリル／アクリル酸＝９３／３／３／０．９／０．１（重量％） シェル部：塩化ビニリデン／メチルアクリレート／メチルメタクリレート ／アクリロニトリル／アクリル酸＝８８／３／３／３／３（重量％） 重量平均分子量３８０００ ３０００重量部 ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン ２３重量部 マット剤（ポリスチレン，平均粒径２．４μｍ） １．５重量部 SBR系防水層 SBRポリマーラテックス スチレン／ブタジエン／ヒドロキシエチルメタクリレート／ジビニルベンゼ ン＝６７／３０／２．５／０．５（重量％） １６０重量部 ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン ４重量部 マット剤（ポリスチレン，平均粒径２．４μｍ） ３重量部 PVA系防水層 ポリビニルアルコ−ルポリマーラテックス エバールEP-F101（クラレ（株）製） ３０００重量部 マット剤（球形シリカ，平均粒径２．４μｍ） １．５重量部 (2-2)下塗り層 アルカリ処理ゼラチン （Ｃａ++含量３０ppm、ゼリー強度２３０ｇ） ５０ｍｇ／ｍ^２

【００５４】(３)バック層 上記下塗り層の反対側に下記塗設を行った。 (3-1)無機微粒子層 下記〜の中から１つを選択し(表１に記載)、１８０
℃、４分間乾燥した後、表１に示す温度、接触圧でカレ
ンダリング処理を行った。カレンダリングは張力４５ｇ
／ｍｍ^２で搬送させながら、支持体のナール部に接触す
る部分(両端)を７５μmずつ高くしたエッジロールを用
いることで実施した。 酸価スズ層 ジュリマーET-410（日本純薬（株）製、商品名）：Tg＝５２℃ ３８ｍｇ／ｍ ^２ ＳｎＯ_２／Ｓｂ（９／１重量比、平均粒子径０．２５μm アスペクト比５の針状） 表１に記載 マット剤（ポリメチルメタクリレート、平均粒子径５μｍ） ７ｍｇ／ｍ^２ デナコールEX-614B（ナガセ化成工業（株）製、商品名） １３ｍｇ／ｍ^２ シリカ層 ジュリマーET-410（日本純薬（株）製）：Tg＝５２℃ ３８ｍｇ／ｍ^２ 球状シリカ粒子（平均粒子径０．１５μｍ） 表１に記載 マット剤（ポリメチルメタクリレート、平均粒子径５μｍ） ７ｍｇ／ｍ^２ デナコールＥＸ−６１４Ｂ（ナガセ化成工業（株）製） １３ｍｇ／ｍ^２ 雲母層 ジュリマーET-410（日本純薬（株）製）：Tg＝５２℃ ３８ｍｇ／ｍ^２ 雲母（平均粒子径０．３５μｍ：平板状） 表１に記載 マット剤（ポリメチルメタクリレート、平均粒子径５μｍ） ７ｍｇ／ｍ^２ デナコールＥＸ−６１４Ｂ（ナガセ化成工業（株）製） １３ｍｇ／ｍ^２

【００５５】(3-2)中間層 無機微粒子層の上に下記塗布液を塗設し、１８０℃、４
分間乾燥した。ジュリマーET-410（日本純薬（株）
製）：Tg＝５２℃ ３８ｍｇ／ｍ^２

【００５６】(3-3)バック側防水層 PVdC系防水層、SBR系防水層は上記無機微粒子層と
中間層の上に表２に示した乾燥厚みになるよう塗布後、
１８０℃、４分間乾燥した。PVA系防水層は上記無機
微粒子層と中間層塗布前に、支持体の熔融押出し時にマ
ルトマニホールドダイを用いて二軸延伸後に表１の厚み
になるように共押出しして形成した。 PVdC系防水層 コア部９０重量％、シェル部１０重量％のコアシェルタイプのラテックスで コア部：塩化ビニリデン／メチルアクリレート／メチルメタクリレート／ アクリロニトリル／アクリル酸＝９３／３／３／０．９／０．１ （重量％） シェル部：塩化ビニリデン／メチルアクリレート／メチルメタクリレート ／アクリロニトリル／アクリル酸＝８８／３／３／３／３（重量％） 重量平均分子量３８０００ ３０００重量部 ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン ２３重量部 マット剤（ポリスチレン，平均粒径２．４μｍ） １．５重量部 SBR系防水層 スチレン／ブタジエン／ヒドロキシエチルメタクリレート／ジビニルベンゼン ＝６７／３０／２．５／０．５（重量％） １６０重量部 ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン ４重量部 マット剤（ポリスチレン，平均粒径２．４μｍ） ３重量部 PVA系防水層 ポリビニルアルコールポリマーラテックス エバールEP-F101（クラレ（株）製、商品名） ３０００重量部 マット剤（球形シリカ，平均粒径２．４μｍ） １．５重量部

【００５７】(3-4)バック最外層 無機微粒子層、中間層、防水層の上に下記組成のバック
最外層を塗設し１８０℃、３分間乾燥した。 ジュリマーET-410（日本純薬（株）製）：Tg＝５２℃ １０００ｍｇ／ｍ^２ マット剤（ポリスチレン，平均粒径５μm） １０ｍｇ／ｍ^２ 直鎖アルキル(Ｃ20)スルホン酸ナトリウム ３０ｍｇ／ｍ^２ 炭化水素系滑り剤(下記A,B,C,Dの中から一つを選択：表１に記載) A.カルナウバワックス 塗布量は表１に記載 B.ケミパール(変成ポリエチレンラテックス) 〃 C.ステアリルアミド 〃 D.Ｃ_１６Ｈ_３３-Ｏ-ＳＯ_３Ｎａ 〃 Ｆ系界面活性剤(下記イ、ロ、ハ、ニの中から一つを選択：表１に記載) イ.Ｃ_８Ｆ_１７-Ｃ_６Ｈ_４-ＯＳＯ_３Ｎａ 塗布量は表１に記載 ロ.Ｃ_８Ｆ_１７-ＳＯ_３Ｎａ 〃 ハ.Ｃ_８Ｆ_１７-Ｎ(Ｃ_３Ｈ_７)-(ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ)_８-Ｃ_４Ｈ_８-ＳＯ_３Ｎａ 〃 ニ.Ｃ_８Ｆ_１７-Ｎ(Ｃ_３Ｈ_７)-ＣＨ_２ＣＯＯＫ 〃

【００５８】（４）熱処理 バック層／下塗り層のついた支持体を一旦巻き取った
後、表２に記載の条件で加熱ゾーン内を搬送しながら熱
処理を実施した。この後、表１に記載の材質のフッ素系
樹脂をライニングしたロール上を表１記載の温度、時間
だけ搬送させ熱処理し、表１に記載の湿度に巻取り部を
調整し支持体温度５０℃で巻き取ることで、表１に記載
のベース吸水率を達成し低湿巻取りを行った。このよう
に低張力熱処理まで終了した支持体の吸水速度を上記方
法に従って測定し、表２に記載した。

【００５９】（５）画像形成層（感光層） 上記方法で下塗、バック層を塗設し熱処理まで終了した
支持体の、下塗り層（バック層の反対側）の上に下記画
像形成層および保護層を順次塗布し、表２に記載の条件
で乾燥した。この時、表２に示すように感光材料の上面
・下面間の温度差を設けるように乾燥するが、水平に搬
送させた乾燥ゾーンの上下に設けた温風吹き出し装置の
設定温度を調製して実施した。さらに感光材料上面、下
面の乾燥風量も表２に示す様に差を与えるが、これは上
下に設けた吹き出し口に取り付けたダンパーの調整で達
成した。

【００６０】(5-1)ハロゲン化銀粒子の調製 水７００mlにフタル化ゼラチン１１gおよび臭化カリウ
ム３０mg、チオスルホン酸ナトリウム１０mgを溶解して
温度３５℃にてｐＨを５．０に合わせた後、硝酸銀１
８．６gを含む水溶液１５９mlと臭化カリウムを１モル
／リットルで含む水溶液をpAg７.７に保ちながらコント
ロールドダブルジェット法で６．５分間かけて添加し
た。ついで、硝酸銀５５．４ｇを含む水溶液４７６mlと
臭化カリウムを１モル／リットルで含むハロゲン塩水溶
液pAg７．７に保ちながらコントロールダブルジェット
法で３０分間かけて添加した後、４−ヒドロキシ−６−
メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン１ｇを添
加し、さらにｐＨを下げて凝集沈降させ脱塩処理をし
た。その後、フェノキシエタノール０.１ｇを加え、ｐ
Ｈ５.９、pAg８．２に調整し臭化銀粒子（平均サイズ
０．１２μｍ、投影面積直径変動係数８％、（100）面
比率８８％の立方体粒子）の調製を終えた。

【００６１】こうして得たハロゲン化銀粒子を６０℃に
昇温して銀１モル当たりチオスルホン酸ナトリウム８．
５×１０^−４モルを添加し、１２０分間熟成した後４０
℃に急冷したのち、１×１０^−５モルの色素Ｓ−１、５
×１０^−５モルの２-メルカプト−５−メチルベンゾイ
ミダゾールおよび５×１０^−５モルのＮ−メチル−Ｎ’
−｛３−（メルカプトテトラゾリル）フェニル｝ウレア
を添加し３０℃に急冷してハロゲン化銀乳剤を得た。

【００６２】

【化２】

【００６３】(5-2)有機酸銀分散物の調製 ステアリン酸４．４g、ベヘン酸３９．４g、蒸留水７７
０mlを９０℃で撹拌しながら1N-NaOH水溶液１０３mlを
添加し２４０分反応させ、７５℃に降温した。次いで、
硝酸銀１９．２gの水溶液１１２．５mlを４５秒かけて
添加し、そのまま２０分間放置し、３０℃に降温した。
その後、吸引濾過で固形分を濾別し、固形分を濾水の伝
導度が３０μS/cmになるまで水洗した。こうして得た固
形分にヒドロキシプロピルメチルセルロース１０wt％水
溶液１００gを添加し、さらに総重量２７０gとなるよう
に水を加えたのち、自動乳鉢にて素分散し有機酸銀粗分
散物を得た。この有機酸銀粗分散物をナノマイザー（ナ
ノマイザ（株）製、商品名）を用い衝突時の圧力１００
０ｋｇ／ｃｍ^３で分散し有機酸銀分散物を得た。こうし
て得た有機酸銀分散物に含まれる有機酸銀粒子は平均短
径０.０４μm、平均長径０．８μm、変動係数３０％の
針状粒子であった。

【００６４】(5-3)還元剤分散物の調製 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-
トリメチルヘキサン１００gとヒドロキシプロピルセル
ロース５０gに水８５０gを添加し良く混合してスラリー
とした。平均直径０.５mmのジルコニアビーズ８４０ｇ
を用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機
（１／４Ｇサンドグラインダーミル：アイメックス
（株）製）にて５時間分散し還元剤分散物を得た。

【００６５】(5-4)有機ポリハロゲン化物分散物の調製 トリブロモメチルフェニルスルホン５０gとヒドロキシ
プロピルメチルセルロース１０gに水９４０gを添加し良
く混合してスラリーとした。平均直径０.５nmのジルコ
ニアビーズ８４０ｇを用意してスラリーと一緒にベッセ
ルに入れ、分散機（１／４Ｇサンドグラインダーミル：
アイメックス（株）製）にて５時間分散し有機ポリハロ
ゲン化物分散物を得た。

【００６６】 (5-5)画像形成層塗布液の調製 下記組成の画像形成層塗布液を調製した。 上記有機酸銀分散物 １００g 上記還元剤分散物 ２０g 上記有機ポリハロゲン化物分散物 １５g ポリマーラテックス素材(下記〜の中から一つを選択) ＬＡＣＳＴＡＲ3307B(大日本インキ化学工業（株）製SBRラテックス、 商品名；Ｔｇ１３℃）４９wt％ ４０ｇ メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルアクリレート ／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／メタアクリル酸＝５９／９ ／２６／５／１の共重合体；Ｔｇ４７℃） ４０ｇ ジュリマーET-410（日本純薬（株）製）：Tg＝５２℃ ４０ｇ スチレン／ブタジエン／ヒドロキシエチルメタクリレート ＝６７／３０／２．５／０．５（重量％） ４０ｇ ＭＰ−２０３（クラレ（株）製、商品名；ポリビニルアルコール）１０wt％ 水溶液 ２０ｇ 上記ハロゲン化乳剤 ２０ｇ ヒドラジン誘導体（化合物例３７ａ）１wt%メタノール溶液 ８ml 水 １００ｇ この塗布液を塗布銀量１．５g/ｍ^２、ポリマーラテック
スの固形分の塗布量が５．７g/ｍ^２になるように塗布し
た。

【００６７】（６）保護層 (6-1)保護層塗布液の調製 下記塗布液をポリマーラテックスの固形分が２g/ｍ^２に
なるように、上記感光層の上に塗布した。４０wt%のポ
リマーラテックス（メチルメタクリレート／スチレン／
２−エチルヘキシルアクリレート／２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート／メタアクリル酸＝５９／９／２６／
５／１の共重合体；Ｔｇ４７℃）５００ｇに、Ｈ_２Ｏ
２６２ｇを加え、造膜助剤として、ベンジルアルコール
１４ｇ、下記化合物−２２．５ｇ、セロゾール５２４
（中京油脂（株）製、商品名）３．６ｇ、下記化合物−
３ １２ｇ、下記化合物−４ １ｇ、下記化合物−５
２ｇ、下記化合物−６ ７．５ｇ、マット剤として、平
均粒径３μｍのポリメチルメタクリレート微粒子３．４
ｇを順次加えて、さらにＨ_２Ｏを加えて、１０００ｇと
し、粘度５ｃｐ（２５℃）、ｐＨ＝３．４（２５℃）の
塗布液を調製した。

【００６８】

【化３】

【００６９】

【表１】

【００７０】

【表２】

【００７１】（７）感光材料の評価 上記方法で調製した感光材料の、感光層力学強度(表面
弾性率、押込み深さ、塑性変形エネルギー)、バック層
表面の力学強度(表面弾性率、押込み深さ、塑性変形エ
ネルギー)、バック層のＸＰＳ測定、バック層の動摩擦
係数を、上述の方法に従って測定し、結果を表３に示し
た。さらに、感光材料の幅方向の中央、両端から５cmの
所をＭＤ、ＴＤ方向にサンプリングし、上記方法に従っ
て寸度変化率を測定し、表４に示した。

【００７２】（８）感光材料の熱現像の評価 得られた熱現像感光材料を長手方向（ＭＤ）、幅方向
（ＴＤ）に沿って各６０cmの正方形に切り出した。これ
を、下記３方式の熱現像機を用いて処理し、評価を行っ
た。

【００７３】(8-1)熱現像 上記熱現像感光材料（６０cm×６０cm）に平網露光した
後、４隅に５０cm間隔で「トンボ（十字状の目印）」を露
光した後、下記３方式の熱現像機を用いて熱現像した。
予熱、熱現像条件(温度、時間)は表４に示した。 非接触型熱現像機 図１に示した熱現像機を用いて処理する。この方式の特
徴は、感光材料を直接熱源に接触させることなく、一定
温度に保持された恒温槽中を、不織布の上を搬送するも
のである。この結果、感光層側は、熱源と非接触で搬送
される。図１の熱現像機の側面図を用いて詳細を説明す
る。図１の熱現像機は熱現像感光材料１０を平面状に矯
正及び予備加熱しながら加熱部に搬入する搬入ローラー
対１１（下部ローラーがヒートローラー）と熱現像後の
熱現像後の熱現像感光材料１０を平面状に矯正しながら
加熱部から搬出する搬出ローラー対１２を有する。熱現
像感光材料１０は搬入ローラー対１１から搬出ローラー
対１２へと搬送される間に熱現像される。この熱現像中
の熱現像感光材料１０を搬送する搬送手段は画像形成層
を有する面が接触する側に複数のローラー１３が設置さ
れ、その反対側のバック面が接触する側には不織布（た
とえばポリフェニレンサルファイトやテフロンから成
る）等が貼り合わされた平滑面１４が設置される。熱現
像感光材料１０は画像形成層を有する面に接触する複数
のローラー１３の駆動により、バック面は平滑面１４の
上を滑って搬送される。加熱手段はローラー１３の上部
及び平滑面１４の下部に熱現像感光材料１０の両面から
加熱されるように加熱ヒーター１５が設置される。この
場合の加熱手段としては板状ヒーター等が挙げられる。
ローラー１３と平滑面１４とのクリアランスは平滑面の
部材により異なるが、熱現像感光材料１０が搬送できる
クリアランスに適宜調整される。好ましくは０〜１ｍｍ
である。

【００７４】ローラー１３の表面の材質及び平滑面１４
の部材は、高温耐久性があり、熱現像感光材料１０の搬
送に支障がなければ何でも良いが、ローラー表面の材質
はシリコンゴム、平滑面の部材は芳香族ポリアミドまた
はテフロン（ＰＴＦＥ）製の不織布が好ましい。加熱手
段としては複数のヒーターを用い、それぞれ加熱温度を
自由に設定することが好ましい。なお、熱現像処理部の
上流の予備加熱部は、熱現像温度よりも低く（例えば１
０〜２０℃程度低く）、熱現像感光材料中の水分量を蒸
発させるのに十分な温度および時間に設定することが望
ましく、熱現像感光材料１０の支持体のガラス転移温度
（Ｔｇ）よりも高い温度で、現像ムラが出ないように設
定することが好ましい。また、熱現像処理部の下流には
ガイド板１６が設置され、さらに、徐冷部が設置され
る。ガイド板は熱伝導率の低い素材が好ましく、冷却は
徐々に行うのが好ましい。

【００７５】ロール接触型熱現像機 ＷＯ９５／３０９３４の実施例１に記載の方式の熱現像
機を使用した。 熱板接触型熱現像機 特表平７−５０５４８８号の実施例１に記載の方式の熱
現像機を使用した。(8-2)熱現像機の搬送性、熱現像後
の感光材料の評価 通過時間 感光材料が搬出されるのに要した時間を計測し(Ｔ1
秒)、設定時間(Ｔ0秒)に対する遅れた割合(100×(Ｔ1−
Ｔ0)／Ｔ0)を表４に示した。許容されるのは６％以下で
ある。なお、∞は熱現像機から排出されなかったことを
示す（ジャミングの発生（ロールに感光材料が巻きつ
き、からまってしまった。））。 現像ムラ 熱現像後の平網の画像を目視で評価した。搬送不良に起
因する横方向(搬送方向に直角方向)に３〜１５cmピッチ
で現れるしま状の現像ムラ(濃度ムラ)が発生したものを
×、発生しないものを○とし表４に示した。○は許容、
×は許容外である。 ジャミング 熱現像中に搬送ロールに巻き付き、出てこなかったもの
を×、問題無く搬送されたものを○とし表４に示した。
○は許容、×は許容外である。 トンボのズレ 同一感光材料を２版続けて熱現像し、これを重ね合わせ
て四辺のトンボのズレを５０倍のルーペで観察した。ズ
レの発生したものを×、発生しないものを○で表４に示
した。○は許容、×は許容外である。

【００７６】

【表３】

【００７７】

【表４】

【００７８】表３及び４の結果から明らかなように、バ
ック層の熱現像温度における表面弾性率が１〜５ＧＰａ
の範囲にある本発明の試料は、優れた熱現像機搬送性を
示すのに対し、それが０．３ＧＰａである比較例１は、
熱現像機搬送性を全く示さない。

【００７９】

【発明の効果】本発明の熱現像写真感光材料は、熱現像
機内での搬送性に優れ、熱現像後の寸度安定性およびシ
ワの改善を行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】非接触型熱現像機の一構成例を示す側面図であ
る。

【符号の説明】

１０ 熱現像材料 １１ 搬入ローラー対 １２ 搬出ローラー対 １３ ローラー １４ 平滑面 １５ 加熱ヒーター １６ ガイド板 Ａ 予備加熱部 Ｂ 熱現像処理部 Ｃ 徐冷部

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 バック層に無機微粒子を含む層を少なく
   とも１層以上含有し、バック表面をカレンダリング処理
   してなることを特徴とする熱現像写真感光材料。
2. 【請求項２】 前記バック層の熱現像温度８０℃以上１
   ５０℃以下に於ける表面弾性率を１ＧＰａ以上５ＧＰａ
   以下とし、前記バック層の前記熱現像温度に於ける押し
   込み深さを０．４μm以上２μm以下とし、前記バック層
   の前記熱現像温度に於ける塑性変形エネルギーを０．０
   １ｎＪ以上１ｎＪ以下としたことを特徴とする請求項１
   記載の熱現像写真感光材料。
3. 【請求項３】 前記バック層の動摩擦係数が０．０５以
   上０．５以下であることを特徴とする請求項１又は２に
   記載の熱現像写真感光材料。
4. 【請求項４】 １２０℃３０秒処理に伴うＭＤ（長手方
   向）、ＴＤ（幅方向）の熱寸法変化が幅方向全領域にわ
   たって−０．０５％以上０．０５％以下であることを特
   徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の熱現像写
   真感光材料。
5. 【請求項５】 熱現像後の２５℃７５％ＲＨにおける吸
   水速度が０％／時間以上０．１６％／時間以下である支
   持体を用いたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか
   １項に記載の熱現像写真感光材料。
6. 【請求項６】 熱現像が８０℃以上１５０℃以下で１０
   秒以上５分以下実施されることを特徴とする請求項１〜
   ５のいずれか１項に記載の熱現像写真感光材料。