JP2002258438A - 熱現像感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カブリが低く、Ｄｍａｘ（最高濃度）が高
く、かつ感光材料を長期間保管したり、高温で短期間保
管したりしてもカブリの上昇が少なく、さらに処理後の
感光材料を長期間保管してもカブリの上昇が少ない熱現
像感光材料を提供すること。 【解決手段】 支持体の一方面上に、非感光性有機銀
塩、感光性ハロゲン化銀、銀イオンのための還元剤、お
よびバインダーを有する熱現像感光材料において、非感
光性有機銀塩上および近傍に現像開始点を形成可能な化
学種をイメージワイズに生成する化合物の少なくとも１
種を含有し、該感光性ハロゲン化銀が７５０〜１４００
ｎｍの範囲で分光増感されていることを特徴とする熱現
像感光材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料に関
するものであり、特に写真製版用に適したスキャナー、
イメージセッター用熱現像感光材料に関し、さらに詳し
くは、カブリが低く、Ｄｍａｘ（最高濃度）が高く、か
つ、感光材料を長期間保管した場合や高温で短期間保管
した場合のカブリの上昇が少なく、さらに処理後の感光
材料を長期間保管することができる熱現像感光材料に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】支持体上に感光性の画像形成層を有し、
画像露光することで画像形成を行う感光材料が、数多く
知られている。その中には、環境保全に寄与し画像形成
手段を簡易化できるシステムとして、熱現像により画像
を形成する技術がある。近年、写真製版分野においては
環境保全や省スペースの観点から処理廃液の減量が強く
望まれるようになっている。そこで、レーザー・スキャ
ナーまたはレーザー・イメージセッターにより効率的に
露光させることができ、かつ高解像度および鮮鋭さを有
する鮮明な黒色画像を形成することができる写真製版用
途の熱現像感光材料に関する技術開発が必要とされてい
る。このような熱現像感光材料によれば、溶液系処理化
学薬品を必要としない、より簡単で環境を損なわない熱
現像処理システムを顧客に対して供給することが可能に
なる。

【０００３】熱現像により画像を形成する方法は、例え
ば米国特許第３，１５２，９０４号明細書、同第３，４
５７，０７５号明細書、およびＤ．クロスタボーア（Kl
osterboer）による「熱によって処理される銀システム
（Thermally Processed Silver Systems）Ａ」（イメー
ジング・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ（Imag
ing Processes and Materials）Neblette 第８版、
Ｊ．スタージ（Sturge）、Ｖ．ウォールワーズ（Walwor
th）、Ａ．シェップ（Shepp）編集、第９章第２７９
頁、１９８９年）に記載されている。このような熱現像
感光材料は、還元可能な非感光性の銀源（例えば有機銀
塩）、触媒活性量の光触媒（例えばハロゲン化銀）、お
よび銀の還元剤を通常有機バインダーマトリックス中に
分散した状態で含有する。感光材料は常温で安定である
が、露光後に高温（例えば、８０℃以上）に加熱したと
きに、還元可能な銀源（酸化剤として機能する）と還元
剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸
化還元反応は露光により形成された潜像の触媒作用によ
って促進される。露光領域中の還元可能な銀塩の反応に
よって生成した銀は黒色になり、非露光領域と対照をな
すことから画像の形成がなされる。

【０００４】従来から知られている熱現像感光材料は、
トルエン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メタノール
などの有機溶剤を溶媒とする塗布液を塗布することによ
り画像形成層を形成しているものが多い。有機溶剤を溶
媒として用いることは、製造工程で人体へ悪影響が及ぶ
だけでなく、溶剤の回収その他の工程が必要になるため
コスト上も不利である。そこで、水を溶媒とする塗布液
を用いて画像形成層を形成する方法が提案されている。
例えば特開昭４９−５２６２６号公報、特開昭５３−１
１６１４４号公報などには、ゼラチンをバインダーとす
る画像形成層が記載されている。また特開昭５０−１５
１１３８号公報には、ポリビニルアルコールをバインダ
ーとする画像形成層が記載されている。さらに特開昭６
０−６１７４７号公報には、ゼラチンとポリビニルアル
コールを併用した画像形成層が記載されている。これ以
外の例として特開昭５８−２８７３７号公報には、水溶
性ポリビニルアセタールをバインダーとする画像形成層
が記載されている。このようなバインダーを用いれば、
水溶媒の塗布液を用いて画像形成層を形成することがで
きるため、環境面およびコスト面のメリットは大きい。

【０００５】しかしながら、ポリビニルアルコール、水
溶性ポリアセタールなどのポリマーをバインダーとして
用いると、現像部の銀色調が本来好ましいとされる黒色
からかけ離れた茶色や黄色になるうえ、露光部の黒化濃
度が低くて未露光部の濃度が高い等の問題があり、商品
価値が著しく損なわれたものしか得られなかった。さら
に、上記の熱現像システムでは従来の化学処理システム
に比べ、感光材料を長期間保存するとカブリが上昇す
る、あるいは、高温の場所に一時的に保管した場合に短
時間でカブリが上昇してしまうという問題があった。加
えて、上記の熱現像システムでは従来の化学処理感光材
料に比べ、熱現像処理後の感光材料を長期間保管するこ
とによりカブリが上昇しやすいという問題があった。こ
のため、前述の水溶媒の塗布液で用いるバインダーで、
カブリが低くＤｍａｘ（最高濃度）が高く、高コントラ
ストな画像を得ることができ、かつ感光材料を長期間保
管したり、高温で短期間保管した場合にもカブリの上昇
が少なく、さらに処理後の感光材料を長期間保管しても
カブリの上昇が少ない熱現像感光材料を提供することが
望まれていた。

【０００６】一方、製版用感光材料は、印刷工程の中で
は中間材料として用いられ刷版を作製するためのマスク
として使用されている。近年、印刷工程全般においてデ
ジタル化、作業の自動化が浸透してきており刷版作製工
程では製版機の導入によりＰＳ版への露光及び現像が自
動化されている。製版機は、自動搬送あるいは自動露光
などのために必要な情報（バーコードあるいはトンボ）
が書き込まれた感光材料を、製版機のセンサーが読み込
むことにより作動するシステムとなっている。これらセ
ンサーには６７０ｎｍ付近のレーザーダイオードが使用
されている。すなわち感光材料に書き込まれた情報が６
７０ｎｍで読み取れることが必須であり、感光材料とし
ては６７０ｎｍ付近のＤｍｉｎ（最低濃度）の低いこ
と、特に可視吸収の小さいハレーション防止染料を使用
することが好ましいことになる。

【０００７】赤外線露光を前提とした感光材料では増感
色素、ハレーション防止染料の可視吸収を大幅に少なく
することができ、実質的に色のない感光材料を容易に作
ることができる。

【０００８】しかし、赤外線を吸収し分光増感する色素
は一般的にＨＯＭＯが高いため強い還元能を有し、感光
材料中の銀イオンを還元し、感光材料のカブリを悪化さ
せる傾向にある。特に、高温、高湿といった条件での保
存や、長期の保存では著しい性能変化が伴う場合があ
る。また保存性の劣化を防ぐためにＨＯＭＯの低い色素
を用いると、相対的にＬＵＭＯも低くなり分光増感効率
が低下し、感度が低くなる。このような感度、保存性、
性能変動に対する問題は、湿式写真感光材料だけでな
く、熱現像感光材料においては更に顕著となる。

【０００９】そこで、カブリが低く、かつ露光前保存時
のカブリの上昇および感度変動の少ない画像を得ること
が可能で、環境面・コスト面で有利な熱現像感光材料、
さらにはＤｍａｘ（最高濃度）が高い写真製版用途に最
適な熱現像感光材料を提供する技術が望まれていた。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明の解決しようと
する第一の課題は、特に写真製版用、中でもスキャナ
ー、イメージセッター用熱現像感光材料において、カブ
リが低く、Ｄｍａｘ（最高濃度）が高く、かつ感光材料
を長期間保管したり、高温で短期間保管したりしてもカ
ブリの上昇が少なく、さらに処理後の感光材料を長期間
保管してもカブリの上昇が少ない熱現像感光材料を提供
することにある。さらに、本発明の解決しようとする第
二の課題は環境面、コスト面で有利な水系塗布可能な熱
現像感光材料を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討を
重ねた結果、支持体の一方面上に、非感光性有機銀塩、
感光性ハロゲン化銀、銀イオンのための還元剤、および
バインダーを有する熱現像感光材料において、非感光性
有機銀塩上および近傍に現像開始点を形成可能な化学種
をイメージワイズに生成する化合物の少なくとも１種を
含有し、該感光性ハロゲン化銀が７５０〜１４００ｎｍ
の範囲で分光増感されていることを特徴とする本発明の
熱現像感光材料によれば、課題を解決しうることを見出
した。

【００１２】本発明の熱現像感光材料においては、非感
光性有機銀塩上および近傍に現像開始点を形成可能な化
学種をイメージワイズに生成する化合物の代わりに、
０．０１ｍｏｌ／銀ｍｏｌで添加することにより現像銀
粒子密度が２００〜５０００％に増加する化合物、また
は、０．０１ｍｏｌ／銀ｍｏｌで添加することによりカ
バリングパワーが１２０〜１０００％に増加する化合物
を用いることによっても、課題を解決することができ
る。

【００１３】本発明の熱現像感光材料は、少なくとも１
種の下記一般式（Ｔ）で表される化合物を含有すること
が好ましい。

【化２】 （式中、Ｒ¹は水素原子、−ＯＭ²、ヘテロ原子を少なく
とも１つ含有する基で少なくとも１つ置換されたアルキ
ル基、またはアルコキシ基、アリールオキシ基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカ
ルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ
基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカ
ルボニルオキシ基、スルホニルアミノ基、スルファモイ
ル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルホ
ニルオキシ基、ウレイド基、シリル基、メルカプト基、
ヒドロキシ基、ニトロソ基、スルホ基、カルボキシル
基、リン酸エステル基、ヘテロ環基、ハロゲノアルキル
基から選ばれる少なくとも１つの基で置換されたアリー
ル基、またはヘテロ環基を表す。Ｌは連結基を表し、Ｍ
¹およびＭ²は水素原子またはカチオンを表す。ｍは０〜
５の整数を表し、ｎは１〜３の整数を表す。但し、ｍが
０の場合、およびｍが１でかつＲ¹が−ＯＨの場合はＬ
はハロゲン原子、アシルオキシ基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、ホルミル基、アリ
ールオキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル
オキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ
基、スルホニル基、スルフィニル基、スルホニルオキシ
基、シリル基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ニトロソ
基、スルホ基、リン酸エステル基、ヘテロ環基から選ば
れる１〜３個の基で置換された連結基を表す。）

【００１４】

【発明の実施の形態】以下において、本発明の熱現像感
光材料について詳細に説明する。なお、本明細書におい
て「〜」はその前後に記載される数値をそれぞれ最小値
および最大値として含む範囲を示す。まず、本発明の熱
現像感光材料に用いられる、非感光性有機銀塩上およ
び近傍に現像開始点を形成可能な化学種をイメージワイ
ズに生成する化合物、０．０１ｍｏｌ／銀ｍｏｌで添
加することにより現像銀粒子密度が２００〜５０００％
に増加する化合物、０．０１ｍｏｌ／銀ｍｏｌで添加
することによりカバリングパワーが１２０〜１０００％
に増加する化合物について説明する。なお、本明細書で
は、これら〜のいずれかに該当する化合物を「本発
明の化合物」という。

【００１５】先ず、非感光性有機銀塩上および近傍に
現像開始点を形成可能な化学種をイメージワイズに生成
する化合物について説明する。の化合物が感光材料中
に存在しない場合は、露光により潜像が形成したハロゲ
ン化銀上でのみ、物理現像が進行する。の化合物が感
光材料中に存在する場合は、露光により潜像が形成した
ハロゲン化銀上で起こる物理現像に伴って生成する化学
種、例えば現像主薬酸化体との化合物が反応し、非感
光性有機銀塩上および近傍に現像開始点を形成可能な化
学種が生成する。その化学種が非感光性銀塩、例えばベ
ヘン酸銀上および近傍に現像開始点を形成し、そこから
物理現像が起こる。すなわち、の化合物が感光材料中
に存在する場合は、露光により潜像が形成したハロゲン
化銀上、およびイメージワイズに現像開始点が形成され
た非感光性有機銀塩上および近傍の両方で物理現像が進
行する。

【００１６】図１は、の化合物が０．０１ｍｏｌ／銀
ｍｏｌで感光材料中に存在する場合（Ａ）、および存在
しない場合（Ｂ）の両方について、現像後の感光材料を
厚さ２μｍに切削し、その薄片の電子顕微鏡写真を撮影
した結果である。撮影対象となった熱現像感光材料は、
特願２０００−３９３９３１号明細書の実施例１におけ
る実験Ｎｏ．１の熱現像感光材料（特願２００１−３９
０７７９号明細書の実施例１における実験Ｎｏ．１の熱
現像感光材料と同一）であり、現像処理は当該実施例１
に記載される通りに行った。本発明の化合物を添加する
ことによりが現像銀粒子の数が、大幅に増加しているこ
とが図１より明らかである。

【００１７】次に、０．０１ｍｏｌ／銀ｍｏｌで添加
することにより現像銀粒子密度が２００〜５０００％に
増加する化合物について説明する。現像銀粒子密度の増
加量は、感光材料中の全ての銀イオンが還元されたサン
プルについて、前記図１に示すような写真を撮影し、単
位面積当たりの現像銀粒子の数を数え、その密度を比較
することにより得ることができる。本発明の化合物が感
光材料中に存在する場合は、該化合物が感光材料中に存
在しない場合に比べ、現像銀粒子密度が２００〜５００
０％に増加する。より好ましい化合物の現像銀粒子密度
増加率は５００〜３０００％である。

【００１８】次に、０．０１ｍｏｌ／銀ｍｏｌで添加
することによりカバリングパワーが１２０〜１０００％
に増加する化合物について説明する。本明細書において
「カバリングパワー」とは、感光材料中の全ての銀イオ
ンが還元されたサンプルについて、可視濃度を現像銀量
（ｇ／ｍ²）で割った値である。本発明の化合物による
カバリングパワーの増加は、前記図１の（Ａ）と（Ｂ）
の比較からわかるように、より小さな現像銀粒子が数多
く形成されることによる。より好ましい化合物のカバリ
ングパワー増加率は１５０〜５００％である。

【００１９】次に，上記〜のいずれかに該当する本
発明の化合物の具体例として、特開２０００−２８４３
９９号公報に記載の式（Ｈ）で表されるヒドラジン誘導
体（具体的には同明細書の表１〜表４に記載のヒドラジ
ン誘導体）、特開平１０−１０６７２号公報、特開平１
０−１６１２７０号公報、特開平１０−６２８９８号公
報、特開平９−３０４８７０号公報、特開平９−３０４
８７２号公報、特開平９−３０４８７１号公報、特開平
１０−３１２８２号公報、米国特許第５，４９６，６９
５号明細書、欧州特許公開ＥＰ７４１，３２０Ａ号公報
に記載のすべてのヒドラジン誘導体、特開２０００−２
８４３９９号公報に記載の式（１）〜（３）で表される
置換アルケン誘導体、置換イソオキサゾール誘導体およ
び特定のアセタール化合物、さらには同明細書に記載の
式（Ａ）または式（Ｂ）で表される環状化合物、具体的
には同明細書の化８〜化１２に記載の化合物１〜７２を
挙げることができる。

【００２０】本発明の化合物としては、特開平１１−１
４９１３６号公報に記載の一般式（１）に示す化合物が
より好ましく用いられる。一般式（１）で示される化合
物の具体例を以下に示す。

【００２１】

【表１】

【００２２】

【表２】

【００２３】

【表３】

【００２４】

【表４】

【００２５】

【表５】

【００２６】

【表６】

【００２７】

【表７】

【００２８】

【表８】

【００２９】

【表９】

【００３０】

【表１０】

【００３１】

【表１１】

【００３２】

【表１２】

【００３３】また、特願２０００−３１３２０７号明細
書に記載の蟻酸プレカーサーも好ましく用いられる。該
化合物の具体例を以下に示す。

【００３４】

【化３】

【００３５】本発明の化合物としては下記一般式（Ｎ
１）、（Ｎ２）、（Ｎ３）、（Ｎ４）、（Ｎ５）、（Ｎ
６）、（Ｍ１）、（Ｍ２）で表される化合物が好ましく
用いられる。

【００３６】一般式（Ｎ１）で表される化合物について
説明する。

【００３７】

【化４】

【００３８】式中、Ｘはシアノ基を除く電子求引性基を
表し、Ｗは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、ア
シル基、チオアシル基、オキサリル基、オキシオキサリ
ル基、−Ｓ−オキサリル基、オキサモイル基、オキシカ
ルボニル基、−Ｓ−カルボニル基、カルバモイル基、チ
オカルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、オ
キシスルホニル基、−Ｓ−スルホニル基、スルファモイ
ル基、オキシスルフィニル基、−Ｓ−スルフィニル基、
スルフィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ
基、Ｎ−カルボニルイミノ基、Ｎ−スルホニルイミノ
基、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム
基、ピリリウム基、インモニウム基を表す。Ｒはハロゲ
ン原子、オキシ基、チオ基、アミノ基、ヘテロ環基を表
すが、但し、アルコキシ基およびアルキルチオ基を除
く。また、Ｒがヒドロキシ基またはヒドロキシ基の塩を
表すとき、ＸとＷは何れもホルミル基を表すことはな
い。また、ＸとＷの組み合わせにおいて、一方が無置換
アルコキシカルボニル基を表すとき、他方が無置換アル
コキシカルボニル基および無置換アルキルスルホニル基
を表すことはない。また、ＸとＷは互いに結合して環状
構造を形成することはない。また、Ｘ、Ｗ、Ｒは何れも
耐拡散性基を含まないものとする。また、Ｘ、Ｗ、Ｒは
何れも連結基を介してチオアミド基、脂肪族メルカプト
基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メルカプト基および
ベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、テトラゾール
基、インダゾール基、ベンズイミダゾール基、イミダゾ
ール基、ベンゾチアゾール基、チアゾール基、ベンゾオ
キサゾール基、オキサゾール基、チアジアゾール基、オ
キサジアゾール基、トリアジン基から選ばれる５〜６員
の含窒素ヘテロ環で表される銀塩への吸着促進基を含ま
ないものとする。尚、ＸとＲはシスの形で表示してある
が、ＸとＲがトランスの形を含む。

【００３９】Ｘの表す電子求引基とは、ハメットの置換
基定数σｐが正の値を取りうる置換基のことであるが、
但しシアノ基は除くものとする。具体的には、置換アル
キル基（ハロゲン置換アルキル基等）、置換アルケニル
基（シアノビニル基等）、置換、無置換のアルキニル基
（トリフルオロメチルアセチレニル基、シアノアセチレ
ニル基、ホルミルアセチレニル基等）、置換アリール基
（シアノフェニル基等）、置換、無置換のヘテロ環基
（ピリジル基、トリアジニル基、ベンゾオキサゾリル基
等）、ハロゲン原子、アシル基、（アセチル基、トリフ
ルオロアセチル基、ホルミル基等）、チオアシル基（チ
オホルミル基、チオアセチル基等）、オキサリル基（メ
チルオキサリル基等）、オキシオキサリル基（エトキサ
リル基等）、−Ｓ−オキサリル基（エチルチオオキサリ
ル基等）、オキサモイル基（メチルオキサモイル基
等）、オキシカルボニル基（エトキシカルボニル基、カ
ルボキシル基等）、−Ｓ−カルボニル基（エチルチオカ
ルボニル基等）、カルバモイル基、チオカルバモイル
基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシスルホニル
基（エトキシスルホニル基等）、−Ｓ−スルホニル基
（エチルチオスルホニル基等）、スルファモイル基、オ
キシスルフィニル基（メトキシスルフィニル基等）、−
Ｓ−スルフィニル基（メチルチオスルフィニル基等）、
スルフィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ
基（イミノ基、Ｎ−メチルイミノ基、Ｎ−フェニルイミ
ノ基、Ｎ−ピリジルイミノ基、Ｎ−シアノイミノ基、Ｎ
−ニトロイミノ基等）、Ｎ−カルボニルイミノ基（Ｎ−
アセチルイミノ基、Ｎ−エトキシカルボニルイミノ基、
Ｎ−エトキサリルイミノ基、Ｎ−ホルミルイミノ基、Ｎ
−トリフルオロアセチルイミノ基、Ｎ−カルバモイルイ
ミノ基等）、Ｎ−スルホニルイミノ基（Ｎ−メタンスル
ホニルイミノ基、Ｎ−トリフルオロメタンスルホニルイ
ミノ基、Ｎ−メトキシスルホニルイミノ基、Ｎ−スルフ
ァモイルイミノ基等）、アンモニウム基、スルホニウム
基、ホスホニウム基、ピリリウム基、インモニウム基等
が挙げられるが、アンモニウム基、スルホニウム基、ホ
スホニウム基、インモニウム基等が環を形成したヘテロ
環状のものも含まれる。σｐ値として０．２以上のもの
が好ましく０．３以上のものがさらに好ましい。

【００４０】Ｗとしては水素原子、アルキル基（メチル
基、エチル基、トリフルオロメチル基等）アルケニル基
（ビニル基、ハロゲン置換ビニル基、シアノビニル基
等）、アルキニル基（アセチレニル基、シアノアセチレ
ニル基等）、アリール基（フェニル基、クロロフェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ペンタフル
オロフェニル基等）、ヘテロ環基（ピリジル基、ピリミ
ジル基、ピラジニル基、キノキサリニル基、トリアジニ
ル基、スクシンイミド基、テトラゾリル基、トリアゾリ
ル基、イミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基等）の他
上記Ｘで説明したようなハロゲン原子、アシル基、チオ
アシル基、オキサリル基、オキシオキサリル基、−Ｓ−
オキサリル基、オキサモイル基、オキシカルボニル基、
−Ｓ−カルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイ
ル基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシスルホニ
ル基、−Ｓ−スルホニル基、スルファモイル基、オキシ
スルフィニル基、−Ｓ−スルフィニル基、スルフィナモ
イル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基、Ｎ−カル
ボニルイミノ基、Ｎ−スルホニルイミノ基、アンモニウ
ム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ピリリウム
基、インモニウム基等が挙げられる。

【００４１】Ｗとしてはハメットの置換基定数σｐが正
の値を取りうる電子求引基の他、上記したようなアリー
ル基およびヘテロ環基も好ましい。但し、本発明におい
て、ＸとＷの組み合わせにおいて、一方が無置換アルコ
キシカルボニル基を表すとき、他方が無置換アルコキシ
カルボニル基および無置換アルキルスルホニル基を表す
ことはない。

【００４２】また、ＸとＷは互いに結合して環状構造を
形成することはない。Ｒとしては、ハロゲン原子、オキ
シ基（ヒドロキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、アシルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニ
ルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アミノカ
ルボニルオキシ基等）、チオ基（メルカプト基、アリー
ルチオ基、ヘテロ環チオ基、アルケニルチオ基、アルキ
ニルチオ基、アシルチオ基、アルコキシカルボニルチオ
基、アミノカルボニルチオ基等）およびヒドロキシ基、
メルカプト基の有機または無機の塩、アミノ基（アミノ
基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミ
ノ基、オキシカルボニルアミノ基、ウレイド基、スルホ
ンアミド基等）、ヘテロ環基（５〜６員の含窒素ヘテロ
環基）等が挙げられる。

【００４３】ヘテロ環基としては５〜６員の含窒素ヘテ
ロ環であり、好ましくは５〜６員の含窒素ヘテロ芳香環
で、環内の窒素原子を通して結合するものがさらに好ま
しく、ピロール環基、ジアゾール環基、トリアゾール環
基、テトラゾール環基等で表されるものであり、具体的
にはイミダゾール環基、ベンゾトリアゾール環基等が好
ましい。オキシ基としてはアルコキシ基を含まないもの
とし、チオ基としてはアルキルチオ基を含まないものと
する。また、Ｒがヒドロキシ基またはヒドロキシ基の塩
を表すとき、ＸとＷはいずれもホルミル基を表すことは
ない。

【００４４】Ｒとして好ましくはヒドロキシ基、メルカ
プト基、ハロゲン原子、ヒドロキシまたはメルカプトの
有機または無機塩、ヘテロ残基等が挙げられる。Ｒとし
てさらに好ましくはヒドロキシ基、ヒドロキシの有機ま
たは無機塩、ヘテロ残基が挙げられ、特にヒドロキシ
基、ヒドロキシの有機または無機塩が好ましい。

【００４５】また、本発明においては、Ｘ、Ｗ、Ｒは何
れも耐拡散性基を含まないものである。耐拡散性基とは
写真用のカプラーなどにおけるバラスト基と呼ばれるも
ので、添加された化合物が感光材料の被膜中を移動しな
いような嵩高い分子量とするものである。

【００４６】また、本発明においては、Ｘ、Ｗ、Ｒは何
れも−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ¹）−（Ｒ¹は水素原子、
アルキル基、アリール基を表す）、−ＣＯ−、−ＣＳ
−、−ＳＯ₂−、−ＳＯ−、−Ｐ（Ｏ）−、アルキレン
基、アリーレン基、ヘテロ環基等の単独またはこれらの
基の組み合わせからなる連結基を介して、チオアミド
基、脂肪族メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ
環メルカプト基およびベンゾトリアゾール、トリアゾー
ル、テトラゾール、インダゾール、ベンズイミダゾー
ル、イミダゾール、ベンゾチアゾール、チアゾール、ベ
ンゾオキサゾール、オキサゾール、チアジアゾール、オ
キサジアゾール、トリアジンから選ばれる５〜６員の含
窒素ヘテロ環で表される銀塩への吸着促進基を含まない
ものである。

【００４７】本発明において、Ｘ、Ｗで表される置換基
中にチオエーテル基（−Ｓ−）を含む化合物が好まし
い。また、ＸおよびＷのうち少くとも一方が次のような
アルケン基を有するものが好ましい。 −Ｃ（Ｒ²）＝Ｃ（Ｙ）（Ｚ） Ｒ²は水素原子および置換基を表し、Ｙ、Ｚは水素原子
および置換基を表すが、Ｙ、Ｚのうち少くとも一方は電
子求引性基を表す。Ｙ、Ｚの表す置換基のうち電子求引
性基の例としてはシアノ基、ホルミル基の他、先述した
ＸおよびＷの電子求引性基として挙げたものが挙げられ
る。上記一般式で表されるＸおよびＷとしては、例えば
次の様な基が挙げられる。

【００４８】

【化５】

【００４９】

【化６】

【００５０】また、ＸおよびＷのうち少くとも一方が次
の様なアルキン基を有するものも好ましい。

【００５１】

【化７】

【００５２】Ｒ³は水素原子および置換基を表し、置換
基としては先述したＸおよびＷの中で挙げたような電子
求引性基が好ましい。上記一般式で表されるＸおよびＷ
としては例えば次のような基が挙げられる。

【００５３】

【化８】

【００５４】また、ＸおよびＷのうち少くとも一方が置
換アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、ア
ルキニルカルボニル基から選ばれるアシル基を有するも
のも好ましく、ＸおよびＷとしては例えば次のような基
が挙げられる。

【００５５】

【化９】

【００５６】

【化１０】

【００５７】また、ＸおよびＷのうち少なくとも一方が
オキサリル基を有するものも好ましく、ＸおよびＷとし
ては例えば次のような基が挙げられる。

【００５８】−ＣＯＣＯＣＨ₃、−ＣＯＣＯＯＣ₂Ｈ₅、
−ＣＯＣＯＮＨＣＨ₃、−ＣＯＣＯＳＣ₂Ｈ₅、−ＣＯＣ
ＯＯＣ₂Ｈ₄ＳＣＨ₃、−ＣＯＣＯＮＨＣ₂Ｈ₄ＳＣＨ₃ま
た、ＸおよびＷのうち少なくとも一方が電子求引性基の
置換したアリール基または含窒素ヘテロ環基を有するも
のも好ましく、ＸおよびＷとしては例えば次のような基
が挙げられる。

【００５９】

【化１１】

【００６０】本発明において、一般式（Ｎ１）で表され
るアルケン化合物は、Ｘ、Ｗ、ＲおよびＨが置換する二
重結合に関して異性体構造を取りうる時は総ての異性体
を含むものとし、またケト−エノールのような互変異性
構造を取りうるときも総ての異性体を含むものとする。

【００６１】一般式（Ｎ１）で表される化合物の具体例
としては、以下の化合物が挙げられる。

【００６２】

【化１２】

【００６３】

【化１３】

【００６４】

【化１４】

【００６５】

【化１５】

【００６６】

【化１６】

【００６７】

【化１７】

【００６８】

【化１８】

【００６９】

【化１９】

【００７０】

【化２０】

【００７１】

【化２１】

【００７２】

【化２２】

【００７３】

【化２３】

【００７４】

【化２４】

【００７５】

【化２５】

【００７６】

【化２６】

【００７７】

【化２７】

【００７８】

【化２８】

【００７９】

【化２９】

【００８０】

【化３０】

【００８１】

【化３１】

【００８２】

【化３２】

【００８３】

【化３３】

【００８４】

【化３４】

【００８５】

【化３５】

【００８６】

【化３６】

【００８７】

【化３７】

【００８８】

【化３８】

【００８９】

【化３９】

【００９０】

【化４０】

【００９１】

【化４１】

【００９２】

【化４２】

【００９３】

【化４３】

【００９４】

【化４４】

【００９５】

【化４５】

【００９６】

【化４６】

【００９７】

【化４７】

【００９８】

【化４８】

【００９９】

【化４９】

【０１００】

【化５０】

【０１０１】

【化５１】

【０１０２】

【化５２】

【０１０３】

【化５３】

【０１０４】

【化５４】

【０１０５】

【化５５】

【０１０６】

【化５６】

【０１０７】

【化５７】

【０１０８】次に、一般式（Ｎ２）で表される化合物に
ついて説明する。

【０１０９】

【化５８】

【０１１０】式中、Ｒ¹¹はアルキル基、アリール基また
はヘテロ環基を表す。Ｒ¹²はヘテロ環基、アルケニル基
またはアミノ基を表す。Ｘは酸素原子または硫黄原子を
表し、Ａ¹、Ａ²はともに水素原子或いは一方が水素原子
で他方がアルキルスルホニル基、オキザリル基またはア
シル基を表す。

【０１１１】Ｒ¹¹はアルキル基、アリール基またはヘテ
ロ環基を表すが、アルキル基として具体的には、例えば
メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−オクチ
ル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、ジフェニルメチ
ル基、トリフェニルメチル基等が挙げられる。アリール
基として具体的には、例えばフェニル、ｐ−メチルフェ
ニル、ナフチルなどが挙げられる。ヘテロ環基として具
体的には、例えばトリアゾール残基、イミダゾール残
基、ピリジン残基、ピリミジン残基、インドール残基、
ベンゾチアゾール残基、ベンズイミダゾール残基、フラ
ン残基、チオフェン残基、ピペリジノ基、ピロリジノ
基、モルホリノ基などが挙げられる。Ｒ¹²はヘテロ環
基、アルケニル基、アミノ基を表すが、ヘテロ環基とし
て具体的には、例えばトリアゾール残基、イミダゾール
残基、ピリジン残基、ピリミジン残基、インドール残
基、ベンゾチアゾール残基、ベンズイミダゾール残基、
フラン残基、チオフェン残基、ピペリジノ基、ピロリジ
ノ基、モルホリノ基などが挙げられる。アルケニル基と
して具体的には、エテニル基、プロぺニル基等が挙げら
れる。アミノ基として具体的には、ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、エチルメチルアミノ基などが挙げら
れる。Ｘは酸素原子または硫黄原子を表し、Ａ¹、Ａ
²は、ともに水素原子、または一方が水素原子で他方は
アシル基（アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイ
ル等）、スルホニル基（メタンスルホニル、トルエンス
ルホニル等）、またはオキザリル基（エトキザリル等）
を表す。

【０１１２】一般式（Ｎ２）で表される化合物の中で
も、特に下記一般式（Ｎ２Ａ）で表される化合物がより
好ましく用いられる。

【０１１３】

【化５９】

【０１１４】式中、Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²およびＲ¹¹³はそれぞ
れ独立に置換もしくは無置換のアリール基またはヘテロ
アリール基を表す。Ｘ、Ｒ¹²、Ａ¹およびＡ²は一般式
（Ｎ２）と同義である。

【０１１５】Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²およびＲ¹¹³はそれぞれ独立
に置換もしくは無置換のアリール基またはヘテロアリー
ル基を表すが、アリール基として具体的には、例えばフ
ェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられ
る。ヘテロアリール基として具体的には、例えばトリア
ゾール残基、イミダゾール残基、ピリジン残基、ピリミ
ジン残基、インドール残基、ベンゾチアゾール残基、ベ
ンズイミダゾール残基、フラン残基、チオフェン残基な
どが挙げられる。

【０１１６】また、Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²およびＲ¹¹³はそれぞ
れ任意の連結基を介して結合しても良い。Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²
およびＲ¹¹³が置換基を有する場合、その置換基として
は例えばアルキル基（Ｒ¹¹で表されるアルキル基と同義
である）、アルケニル基（Ｒ ¹²で表されるアルケニル基
と同義である）、アルキニル基（例えばエチニル基、プ
ロパギル基等を表す）、アリール基（Ｒ¹¹で表されるア
リ−ル基と同じものを表す）、ヘテロ環基（Ｒ¹¹で表さ
れるヘテロ環基と同義である）、４級化された窒素原子
を含むヘテロ環基（例えばピリジニオ基）、ヒドロキシ
基、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、ブ
トキシ基等の基を表し、これらの基の他、エチレンオキ
シ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基
を含む）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基、ｐ
−メチルフェノキシ基、ナフチルオキシ基等の基）、ア
シルオキシ基（例えばアセチルオキシ基、トリフルオロ
アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の基）、ア
シル基（Ａ¹で表されるアシル基と同じものを表す）、
アルコキシカルボニル基（例えばアセチルオキシカルボ
ニル基、トリフルオロアセチルオキシカルボニル基、プ
ロピオニルオキシカルボニル基等の基）、アリールオキ
シカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基、ｐ−
メチルフェノキカルボニルシ基、ナフチルオキシカルボ
ニル基等の基）、カルバモイル基（例えばカルバモイル
基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ブ
チルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、メトキ
シフェニルカルバモイル基等の基）、カルバモイルオキ
シ基（例えばウレタン基、メチルカルバモイルオキシ
基、ジエチルカルバモイルオキシ基、ジブチルカルバモ
イルオキシ基、フェニルカルバモイルオキシ基、ｐ−メ
トキシフェニルカルバモイルオキシ基、ｐ−シアノフェ
ニルカルバモイルオキシ基等の基）、カルボキシル基、
イミド基、アミノ基（Ｒ¹²で表されるアミノ基と同じも
のを表す）、カルボンアミド基（例えばアセトアミド
基、プロピオンアミド基、トリフルオロアセトアミド
基、ベンズアミド基、ｐ−メトキシベンズアミド基、ｐ
−クロロベンズアミド基等の基）、スルホンアミド基
（例えばメタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミ
ド基、トリフルオロメタンスルホンアミド基、ベンゼン
スルホンアミド基、ｐ−トルエンスルホンアミド基、ｐ
−クロロベンゼンスルホンアミド基等の基）、ウレイド
基（例えばウレイド基、メチルウレイド基、ジエチルウ
レイド基、ジブチルウレイド基、フェニルウレイド基、
ｐ−メトキシフェニルウレイド基、ｐ−シアノフェニル
ウレイド基等の基）、チオウレイド基（例えばチオウレ
イド基、メチルチオウレイド基、ジエチルチオウレイド
基、ジブチルチオウレイド基、フェニルチオウレイド
基、ｐ−メトキシフェニルチオウレイド基、ｐ−シアノ
フェニルチオウレイド基等の基）、スルファモイルアミ
ノ基（例えばスルファモイルアミノ基、メチルスルファ
モイルアミノ基、エチルスルファモイルアミノ基、ブチ
ルスルファモイルアミノ基、ジエチルスルファモイルア
ミノ基、ジブチルスルファモイルアミノ基、フェニルス
ルファモイルアミノ基、ｐ−メトキシフェニルチオウレ
イド基、ｐ−シアノフェニルチオウレイド基等の基）、
セミカルバジド基（メチルセミカルバジド基、エチルセ
ミカルバジド基、フェニルセミカルバジド基等の基）、
チオセミカルバジド基（メチルチオセミカルバジド基、
エチルチオセミカルバジド基、フェニルチオセミカルバ
ジド基等の基）、ヒドラジノ基、４級のアンモニオ基
（トリメチルアンモニオ基、ピリジニオ基等の基）、
（アルキル、アリール、またはヘテロ環）チオ基（これ
らのまた以下のアルキル、アリールについてはＲ¹¹にお
けるアルキル基とアリール基と同義である）、メルカプ
ト基、（アルキルまたはアリール）スルホニル基、（ア
ルキルまたはアリール）スルフィニル基、（アルキルも
しくはアリール）スルホニルウレイド基、（アルキルも
しくはアリール）スルホニルカルバモイル基、（アルキ
ルもしくはアリール）スルファモイル基、その他、アシ
ルスルファモイル基（アセチルスルファモイル基、プロ
ピオニルスルファモイル基、ベンゾイルスルファモイル
基等の基）、スルホ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニト
ロ基、リン酸アミド基などが挙げられる。Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²
およびＲ¹¹³として好ましくはいずれもが置換もしくは
無置換のフェニル基であり、より好ましくはＲ¹¹¹、Ｒ
¹¹²およびＲ¹¹³のいずれもが無置換のフェニル基であ
る。Ｘ、Ｒ¹²、Ａ¹およびＡ²は一般式（Ｎ２）と同義で
ある。Ｒ¹²として好ましくはピリジルオキシ基、チエニ
ルオキシ基である。Ａ¹、Ａ²として、好ましくはＡ¹、
Ａ²ともに水素原子の場合である。

【０１１７】次に、一般式（Ｎ３）で表される化合物に
ついて説明する。

【０１１８】

【化６０】

【０１１９】式中、Ｒ²¹は置換もしくは無置換のアルキ
ル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。Ｒ²²
は水素原子、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘ
テロ環アミノ基を表す。Ａ¹、Ａ²はともに水素原子或い
は一方が水素原子で他方がアルキルスルホニル基、オキ
ザリル基またはアシル基を表す。

【０１２０】Ｒ²¹は置換もしくは無置換のアルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基を表すが、アルキル
基として具体的には、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、２−オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジ
ル基、ジフェニルメチル基等が挙げられる。アリール基
およびヘテロアリール基として具体的には、Ｒ¹¹¹、Ｒ
¹¹²およびＲ¹¹³と同様のものが挙げられる。また、Ｒ²¹
が置換基を有する場合の置換基の具体的な例としては、
Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²およびＲ¹¹³の置換基と同様のものが挙げ
られる。Ｒ²¹として好ましくはアリール基またはヘテロ
アリール基であり、特に好ましくは置換もしくは無置換
のフェニル基である。

【０１２１】Ｒ²²は水素、アルキルアミノ基、アリール
アミノ基、ヘテロ環アミノ基を表すが、アルキルアミノ
基として具体的には、メチルアミノ基、エチルアミノ
基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基、エチルメチルアミノ基等が挙
げられる。アリールアミノ基としてはアニリノ基、ヘテ
ロ環アミノ基としてはチアゾリルアミノ基、ベンズイミ
ダゾリルアミノ基、ベンズチアゾリルアミノ基等が挙げ
られる。Ｒ²²として好ましくはジメチルアミノ基または
ジエチルアミノ基である。Ａ¹、Ａ²は一般式（Ｎ２）で
記載したＡ¹、Ａ²と同様である。

【０１２２】次に、一般式（Ｎ４）で表される化合物に
ついて説明する。

【０１２３】

【化６１】

【０１２４】式中、Ｇ³¹、Ｇ³²は−（ＣＯ）ｐ−基、−
Ｃ（＝Ｓ）−、スルホニル基、スルホキシ基、−Ｐ（＝
Ｏ）Ｒ³³−基またはイミノメチレン基を表し、ｐは１ま
たは２の整数を表し、Ｒ³³はアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ
基、アミノ基を表す。Ｒ³¹、Ｒ³²はアルキル基、アルケ
ニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ
基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環
オキシ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロ環チオ基を表す。但し、Ｇ³¹がスルホ
ニル基のとき、Ｇ³²はカルボニル基ではない。Ａ¹、Ａ²
はともに水素原子或いは一方が水素原子で他方がアルキ
ルスルホニル基、オキザリル基またはアシル基を表す。

【０１２５】Ｒ³¹、Ｒ³²はアルキル基（Ｒ¹²で表される
アルキル基と同義である）、アルケニル基（Ｒ¹²で表さ
れるアルケニル基と同義である）、アリール基（Ｒ¹²で
表されるアリール基と同義である）、ヘテロアリール基
（Ｒ¹¹¹で表されるヘテロアリール基と同義である）、
アルコキシ基（Ｒ¹¹¹の置換基として挙げられたアルコ
キシ基と同義である）、アルケニルオキシ基（アルケニ
ルとしてはＲ¹²で表されるものと同義である）、アリー
ルオキシ基（Ｒ¹¹¹の置換基として挙げられたアリール
オキシ基と同義である）、ヘテロ環オキシ基（ここにお
けるヘテロ環基としてはＲ¹¹の置換基として挙げられた
ヘテロ環基と同義である）、アルキルチオ基（ここにお
けるアルキル基としてはＲ¹¹の置換基として挙げられた
アルキル基と同義である）、アルケニルチオ基（ここに
おけるアルケニル基としてはＲ¹²の置換基として挙げら
れたアルケニル基と同義である）、アリールチオ基（こ
こにおけるアリール基としてはＲ¹¹の置換基として挙げ
られたアリール基と同義である）、ヘテロ環チオ基（こ
こにおけるヘテロ環基としてはＲ¹¹の置換基として挙げ
られたヘテロ環基と同義である）を表す。好ましくはア
リール基またはアルコキシ基である。特に好ましいの
は、Ｒ³¹とＲ³²の少なくとも一つがｔｅｒｔ−ブトキシ
基であるものであり、別の好ましい構造は、Ｒ³¹が置換
もしくは無置換のフェニル基のとき、Ｒ³²がｔｅｒｔ−
ブトキシ基である。

【０１２６】Ｇ³¹、Ｇ³²は−（ＣＯ）ｐ−基、−Ｃ（＝
Ｓ）−、スルホニル基、スルホキシ基、−Ｐ（＝Ｏ）Ｒ
³³−基またはイミノメチレン基を表し、ｐは１または２
の整数を表し、Ｒ³³はアルキル基（ここにおけるアルキ
ル基としてはＲ¹¹の置換基として挙げられたアルキル基
と同義である）、アルケニル基（ここにおけるアルケニ
ル基としてはＲ¹²の置換基として挙げられたアルケニル
基と同義である）、アルキニル基（ここにおけるアルキ
ニル基としてはＲ¹¹¹の置換基として挙げられたアルキ
ニル基と同義である）、アリール基（ここにおけるアリ
ール基としてはＲ¹¹の置換基として挙げられたアリール
基と同義である）、アルコキシ基（ここにおけるアルコ
キシ基としてはＲ¹¹¹の置換基として挙げられたアルコ
キシ基と同義である）、アルケニルオキシ基（ここにお
けるアルケニル基としてはＲ¹²の置換基として挙げられ
たアルケニル基と同義である）、アルキニルオキシ基
（ここにおけるアルキニル基としてはＲ¹¹¹の置換基と
して挙げられたアルキニル基と同義である）、アリール
オキシ基（ここにおけるアリールオキシ基としてはＲ
¹¹¹の置換基として挙げられたアリールオキシ基と同義
である）、アミノ基（Ｒ^{1 2}の置換基として挙げられたア
ニノ基と同義である）を表す。但し、Ｇ³¹がスルホニル
基のとき、Ｇ³²はカルボニル基ではない。Ｇ³¹、Ｇ³²と
して好ましくは−ＣＯ−基、−ＣＯＣＯ−基、スルホニ
ル基または−ＣＳ−であり、より好ましくは互いに−Ｃ
Ｏ−基または互いにスルホニル基である。Ａ¹、Ａ²は一
般式（Ｎ２）で記載したＡ¹、Ａ²と同様である。

【０１２７】次に、一般式（Ｎ５）で表される化合物に
ついて説明する。

【０１２８】

【化６２】

【０１２９】式中、Ｒ⁴¹は水素原子または一価の置換基
を表し、Ａ¹、Ａ²はともに水素原子或いは一方が水素原
子で他方がアルキルスルホニル基、オキザリル基または
アシル基を表す。

【０１３０】Ｒ⁴¹は水素原子または一価の置換基を表す
が、一価の置換基としては、Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²およびＲ¹¹³
の置換基として挙げられた基が挙げられるが、好ましく
は、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アル
コキシ基、アミノ基が挙げられる。より好ましくは、Ｒ
⁴¹がアリール基、ヘテロアリール基の時である。Ａ¹、
Ａ²は一般式（Ｎ２）で記載したＡ¹、Ａ²と同様であ
る。

【０１３１】次に、一般式（Ｎ６）で表される化合物に
ついて説明する。

【０１３２】

【化６３】

【０１３３】式中、Ｒ⁵¹、Ｒ⁵²およびＲ⁵³はそれぞれ独
立に置換もしくは無置換のアリール基またはヘテロアリ
ール基を表す。Ｒ⁵⁴、Ｒ⁵⁵は無置換または置換アルキル
基を表す。Ａ¹、Ａ²はともに水素原子或いは一方が水素
原子で他方がアルキルスルホニル基、オキザリル基また
はアシル基を表す。

【０１３４】Ｒ⁵¹、Ｒ⁵²およびＲ⁵³は一般式（Ｎ２Ａ）
におけるＲ¹¹¹、Ｒ¹¹²およびＲ¹¹³と同義である。
Ｒ⁵¹、Ｒ⁵²およびＲ⁵³として好ましくはいずれもが置換
もしくは無置換のフェニル基であり、より好ましくはＲ
⁵¹、Ｒ⁵²およびＲ⁵³のいずれもが無置換のフェニル基で
ある。Ｒ⁵⁴、Ｒ⁵⁵は無置換または置換アルキル基を表す
が、具体的な例としては、メチル基、エチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基、２−オクチル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基、ジフェニルメチル基等が挙げられる。Ｒ ⁵⁴、
Ｒ⁵⁵として好ましくは互いにエチル基である。Ａ¹、Ａ²
は一般式（Ｎ２）で記載したＡ¹、Ａ²と同様である。

【０１３５】一般式（Ｎ２）、（Ｎ３）、（Ｎ４）、
（Ｎ５）、（Ｎ６）で表される化合物の具体例として
は、以下の化合物が挙げられる。

【０１３６】

【化６４】

【０１３７】

【化６５】

【０１３８】

【化６６】

【０１３９】

【化６７】

【０１４０】

【化６８】

【０１４１】

【化６９】

【０１４２】

【化７０】

【０１４３】

【化７１】

【０１４４】

【化７２】

【０１４５】

【化７３】

【０１４６】

【化７４】

【０１４７】さらに、本発明の化合物としては下記一般
式（Ｍ１）、（Ｍ２）で表される化合物が好ましく用い
られる。

【０１４８】一般式（Ｍ１）で表される化合物について
説明する。

【０１４９】

【化７５】

【０１５０】一般式（Ｍ１）中、Ｚはアルキル基［直
鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表
す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０
のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オク
チル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シア
ノエチル基、２―エチルヘキシル基、トリクロロメチル
基、トリフルオロメチル基）、シクロアルキル基（好ま
しくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロア
ルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル
基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロア
ルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは
無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０
のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価
の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン
−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−
イル基）、さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包
含するものである。］、アリール基（好ましくは炭素数
６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフ
ェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェ
ニル基、ｏまたはｍまたはｐ−メタンスルホニルフェニ
ル基、３，５−ビストリフルオロメチル基、ｏ−ヘキサ
デカノイルアミノフェニル基）、ヘテロ環基（好ましく
は５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしく
は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り
除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜
３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例
えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニ
ル基、２−ベンゾチアゾリル基）を表す。

【０１５１】Ｚは好ましくは、アルキル基またはアリー
ル基であり、特に好ましくはアリール基である。

【０１５２】Ｚはさらに他の置換基で置換されていても
良く、置換基としてはハロゲン原子、アルキル基（シク
ロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニ
ル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含
む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ
基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ
環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、
アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボ
ニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルア
ミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボ
ニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ス
ルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホ
ニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ
基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキル
およびアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキ
シカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイ
ル基、アリールおよびヘテロ環アゾ基、イミド基、ホス
フィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホ
スフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
特に好ましい置換基は、アルキル基、アルコキシ基、ア
ルキルアミノ基である。

【０１５３】一般式（Ｍ１）中、Ｗはアリール基または
電子求引性基で置換されたアルキル基を表す。

【０１５４】Ｗで表されるアリール基は上記のＺで説明
したアリール基と同義である。該アリール基は、さらに
他の置換基で置換されていても良く、この置換基とはＺ
の置換基と同義である。Ｗで表されるアリール基には電
子求引性基が少なくとも一つ置換していることが好まし
い。電子求引性基とは、ハメットの置換基定数σｐが正
の値を取りうる置換基のことであり、具体的には、シア
ノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、イミノ基、Ｎ原子で置換した
イミノ基、チオカルボニル基、スルファモイル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、ニトロ基、
ハロゲン原子、パーフルオロアルキル基、パーフルオロ
アルカンアミド基、スルホンアミド基、アシル基、ホル
ミル基、ホスホリル基、カルボキシ基、スルホ基（また
はその塩）、ヘテロ環基、アルケニル基、アルキニル
基、アシルオキシ基、アシルチオ基、スルホニルオキシ
基、またはこれら電子求引性基で置換されたアリール基
等である。

【０１５５】Ｗで表されるアルキル基は上記のＺで説明
したアルキル基と同義であるが、少なくとも一つ以上の
電子求引性基が置換していなければならない。電子求引
性基の定義は前述の通りである。

【０１５６】Ｗは好ましくは、電子求引性基で置換され
たアルキル基であり、さらに好ましくは、フッ素原子で
置換されたアルキル基であり、特に好ましくはトリフル
オロメチル基である。ＷはＺと互いに結合して環状構造
を形成しても良い。

【０１５７】一般式（Ｍ１）において、Ｍは陽イオンを
表わす。例えば水素イオン、金属イオン（例えば、Ｌ
ｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｂ、Ｃｓ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｇ
等）、アンモニウムイオン（例えばＮＨ₄、テトラメチ
ルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、ベンジル
トリメチルアンモニウム等）などが挙げられる。好まし
くは、金属イオン、アンモニウムイオンである。

【０１５８】次に、一般式（Ｍ２）で表される化合物に
ついて説明する。

【０１５９】

【化７６】

【０１６０】一般式（Ｍ２）中、Ｘ、ＹおよびＺはそれ
ぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ、Ｙおよび
Ｚで表される置換基としては、写真性能に悪影響のない
基であればどのようなものでもかまわないが、好ましい
置換基はアルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは
無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好
ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えばメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅ
ｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−
クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキ
シル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜
３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、
シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシ
ルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましく
は、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロア
ルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカン
から水素原子を一個取り去った一価の基である。例え
ば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビ
シクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、さらに
環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものであ
る。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばア
ルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキ
ル基を表す。］、アルケニル基［直鎖、分岐、環状の置
換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、ア
ルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無
置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プ
レニル基、ゲラニル基、オレイル基）、シクロアルケニ
ル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置
換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシ
クロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基であ
る。例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シ
クロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基
（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好まし
くは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロ
アルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアル
ケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例え
ば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イ
ル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−
イル基）を包含するものである。］、アルキニル基（好
ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキ
ニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメ
チルシリルエチニル基）、アリール基（好ましくは炭素
数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えば
フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフ
ェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基）、
ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無
置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から
一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好
ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族の
ヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニ
ル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル
基）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基
（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換の
アルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソ
プロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオ
キシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基
（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換の
アリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチル
フェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３
−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフ
ェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３
〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオ
キシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、
ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換
もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテト
ラゾールー５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオ
キシ基）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１
〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素
数６〜３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例え
ば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ア
ニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ
基）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルホニル基
（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のア
ルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のア
リールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エ
チルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチル
フェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミ
ル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカ
ルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のア
リールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無
置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環
カルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２
−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、
ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２―ピ
リジルカルボニル基、２―フリルカルボニル基）、カル
バモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしく
は無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、
Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ
−（メチルスルホニル）カルバモイル基）を表わす。一
般式（Ｍ２）のＸおよびＹはさらに好ましくは、アルキ
ル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基またはアミノ基であり、特に好ましくはア
ルキル基である。一般式（Ｍ２）のＺはさらに好ましく
は、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基であり、
特に好ましくはアリール基である。

【０１６１】一般式（Ｍ２）においてＸ、ＹおよびＺの
好ましい組み合わせは、ＸおよびＹがアルキル基であ
り、かつＺがアリール基である。

【０１６２】Ｘ、ＹおよびＺはさらに他の置換基で置換
されていても良く、置換基としては写真性能に悪影響を
及ぼさないものであればどのような置換基でもかまわな
い。例えば、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキ
ル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シ
クロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、ア
ルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒド
ロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコ
キシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオ
キシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ
基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル
アミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルフ
ァモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニル
アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、
アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよ
びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、アリールおよびヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフ
ィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホス
フィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。置
換基Ｚには電子求引性基が置換していることが好まし
い。電子求引性基とは、ハメットの置換基定数σｐが正
の値を取りうる置換基のことであり、Ｃｈｅｍ．Ｒｅ
ｖ．１９９１，９１，１６５−１９５に具体例が記載さ
れている。

【０１６３】Ｘ、ＹおよびＺは互いに同じでも異なって
いても良く、また、互いに結合して環構造を形成しても
良い。

【０１６４】一般式（Ｍ２）において、Ｍは一般式
（１）のＭと同義である。

【０１６５】本発明で用いられる一般式（Ｍ１）、一般
式（Ｍ２）で表される化合物は、その部分構造のエノー
レートアニオン部の共役酸のｐＫａ値が３．０〜４．０
であることが好ましく、さらには３．２〜３．７である
ことが特に好ましい。ここでいうｐＫａ値はＴＨＦ／水
＝３／２の混合溶媒系において常法で測定した値であ
る。

【０１６６】本発明で用いられる一般式（Ｍ１）、一般
式（Ｍ２）で表される化合物には、さらに以下に記載さ
れる基が組み込まれていても良い。これらの基は、一般
式（Ｍ１）、一般式（Ｍ２）で表される化合物の置換可
能な部位のいずれかに組み込まれていても良いし、ある
いはＸ、Ｙ、ＺおよびＷの一部として組み込まれていて
も良い。

【０１６７】本発明で用いられる一般式（Ｍ１）、一般
式（Ｍ２）で表される化合物は、ハロゲン化銀に対して
吸着する吸着性の基が組み込まれていてもよい。かかる
吸着基としては、アルキルチオ基、アリールチオ基、チ
オ尿素基、チオアミド基、メルカプト複素環基、トリア
ゾール基などの米国特許第４，３８５，１０８号明細
書、同４，４５９，３４７号明細書、特開昭５９−１９
５２３３号公報、同５９−２００２３１号公報、同５９
−２０１０４５号公報、同５９−２０１０４６号公報、
同５９−２０１０４７号公報、同５９−２０１０４８号
公報、同５９−２０１０４９号公報、特開昭６１−１７
０７３３号公報、同６１−２７０７４４号公報、同６２
−９４８号公報、同６３−２３４２４４号公報、同６３
−２３４２４５号公報、同６３−２３４２４６号公報に
記載された基が挙げられる。またこれらハロゲン化銀へ
の吸着基は、プレカーサー化されていてもよい。その様
なプレカーサーとしては、特開平２ー２８５３４４号公
報に記載された基が挙げられる。

【０１６８】本発明で用いられる一般式（Ｍ１）、一般
式（Ｍ２）で表される化合物は、その中にカプラー等の
不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基
またはポリマーが組み込まれているものでもよい。特に
バラスト基が組み込まれているものは本発明の好ましい
例の１つである。バラスト基は８以上の炭素数を有す
る、写真性に対して比較的不活性な基であり、例えばア
ルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、
アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキ
シ基などの中から選ぶことができる。またポリマーとし
ては、例えば特開平１−１００５３０号公報に記載のも
のが挙げられる。

【０１６９】本発明で用いられる一般式（Ｍ１）、一般
式（Ｍ２）で表される化合物は、その中にカチオン性基
（具体的には、４級のアンモニオ基を含む基、または４
級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基等）、エチ
レンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単
位を含む基、（アルキル，アリール，またはヘテロ環）
チオ基、あるいは塩基により解離しうる解離性基（カル
ボキシ基、スルホ基、アシルスルファモイル基、カルバ
モイルスルファモイル基等）が含まれていてもよい。特
にエチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り
返し単位を含む基、あるいは（アルキル，アリール，ま
たはヘテロ環）チオ基が含まれているものは、本発明の
好ましい例の１つである。これらの基の具体例として
は、例えば特開平７ー２３４４７１号公報、特開平５−
３３３４６６号公報、特開平６−１９０３２号公報、特
開平６−１９０３１号公報、特開平５−４５７６１号公
報、米国特許４９９４３６５号明細書、米国特許４９８
８６０４号明細書、特開平７３−２５９２４０号公報、
特開平７−５６１０号公報、特開平７−２４４３４８号
公報、独特許４００６０３２号明細書等に記載の化合物
が挙げられる。

【０１７０】本発明の一般式（Ｍ１）、一般式（Ｍ２）
で表される化合物の分子量は、好ましくは５０〜１００
００であり、さらに好ましくは１００〜２０００であ
り、特に好ましくは３００〜１０００である。

【０１７１】一般式（Ｍ１）で表される化合物の具体例
としては、以下の化合物が挙げられる。

【０１７２】

【化７７】

【０１７３】一般式（Ｍ２）で表される化合物の具体例
としては、以下の化合物が挙げられる。

【０１７４】

【化７８】

【０１７５】

【化７９】

【０１７６】

【化８０】

【０１７７】本発明の化合物は、水または適当な有機溶
媒、例えばアルコ−ル類（メタノ−ル、エタノ−ル、プ
ロパノ−ル、フッ素化アルコ−ル）、ケトン類（アセト
ン、メチルエチルケトン）、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して
用いることができる。また、既によく知られている乳化
分散法によって、ジブチルフタレ−ト、トリクレジルフ
ォスフェ−ト、グリセリルトリアセテ−トあるいはジエ
チルフタレ−トなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキ
サノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分
散物を作製して用いることができる。あるいは固体分散
法として知られている方法によって、本発明の化合物の
粉末を水等の適当な溶媒中にボ−ルミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散して用いることもでき
る。

【０１７８】本発明の化合物は、１種のみ用いても、２
種以上を併用してもよい。本発明の化合物は、支持体に
対して画像形成層側のいずれの層に添加してもよいが、
該画像形成層あるいはそれに隣接する層に添加すること
が好ましい。本発明の化合物の添加量は銀１ｍｏｌに対
し１×１０^-6〜１ｍｏｌが好ましく、１×１０^-5〜５×
１０^-1ｍｏｌがより好ましく、２×１０^-5〜２×１０^-1
ｍｏｌが最も好ましい。

【０１７９】本発明で用いられる一般式（Ｔ）で表され
る化合物について詳細に説明する。式中、Ｒ¹は水素原
子、−ＯＭ²、ヘテロ原子を少なくとも１つ含有する基
で少なくとも１つ置換されたアルキル基、またはアルコ
キシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ
基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、
アリールオキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボ
ニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、ス
ルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、スル
ホニル基、スルフィニル基、スルホニルオキシ基、ウレ
イド基、シリル基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ニト
ロソ基、スルホ基、カルボキシル基、リン酸エステル
基、ヘテロ環基、ハロゲノアルキル基から選ばれる少な
くとも１つの基で置換されたアリール基、またはヘテロ
環基を表すが、Ｒ¹が−ＯＭ²の場合、Ｍ¹およびＭ²で表
されるカチオンの具体例としては、例えばアルカリ金属
イオン（リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウム
イオン、セシウムイオンなど）、アルカリ土類金属イオ
ン（マグネシウムイオン、カルシウムイオンなど）、ア
ンモニウム（アンモニウム、トリメチルアンモニウム、
トリエチルアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、
テトラエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウ
ム、１，２−エタンジアンモニウムなど）、ピリジニウ
ム、イミダゾリウム、ホスホニウム（テトラブチルホス
ホニウムなど）などが挙げられる。Ｍ¹およびＭ²として
好ましくは水素原子、アルカリ金属イオンであり、より
好ましくは水素原子である。

【０１８０】またＲ¹がヘテロ原子を少なくとも１つ含
有する基で置換されたアルキル基である場合、ヘテロ原
子を少なくとも１つ含有する基の具体例としては、アミ
ノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素
数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例え
ばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエ
チルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられ
る）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より
好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜
８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基
などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭
素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好
ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ
基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル
基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数
１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例え
ばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル
基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ま
しくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１
６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げら
れる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素
数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ま
しくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカ
ルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ま
しくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１
６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセ
トキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、ア
シルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好まし
くは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０で
あり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基な
どが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好
ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１
６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメト
キシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリール
オキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２
０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭
素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニル
アミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好
ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１
６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタ
ンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基な
どが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素
数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ま
しくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル
基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル
基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カ
ルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好まし
くは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２で
あり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、
ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基など
が挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１
〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましく
は炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチル
チオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましく
は炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特
に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチ
オ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭
素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好
ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、トシ
ル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは
炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に
好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフ
ィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられ
る）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好
ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１
２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェ
ニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基
（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１
〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば
ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基など
が挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲ
ン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニト
ロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ
基、ヘテロ環基（例えばイミダゾリル基、ピリジル基、
フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基などが挙げられ
る）などが挙げられる。

【０１８１】Ｒ¹がヘテロ原子を少なくとも１つ含有す
る基で置換されたアルキル基である場合、そのアルキル
基は好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数
１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えば
メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシ
ル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基などが挙げられる。

【０１８２】Ｒ¹がアルコキシ基、アリールオキシ基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコ
キシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルア
ミノ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキ
シカルボニルオキシ基、スルホニルアミノ基、スルファ
モイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、ス
ルホニルオキシ基、ウレイド基、シリル基、メルカプト
基、ヒドロキシ基、ニトロソ基、スルホ基、カルボキシ
ル基、リン酸エステル基、ヘテロ環基、ハロゲノアルキ
ル基から選ばれる少なくとも１つの基で置換されたアリ
ール基である場合、置換基の具体例としてはアルコキシ
基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数
１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えば
メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられ
る）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、
より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数
６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチ
ルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは
炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に
好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル基、
ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げら
れる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２
〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましく
は炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリー
ルオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、よ
り好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７
〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基など
が挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２
〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましく
は炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾ
イルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好
ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１
６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセ
チルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられ
る）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素
数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ま
しくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニ
ルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボ
ニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好まし
くは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２で
あり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが
挙げられる）、アルコキシカルボニルオキシ基（好まし
くは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、
特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばエトキシ
カルボニルオキシ基などが挙げられる）、アリールオキ
シカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７〜２０、よ
り好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７
〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルオキシ
基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましく
は炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特
に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスル
ホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙
げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜
２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは
炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチ
ルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェ
ニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイ
ル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素
数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例
えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチル
カルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げら
れる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、
より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数
１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基な
どが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数
６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好まし
くは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ基など
が挙げられる）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２
０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭
素数０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミ
ノ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは
炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に
好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、ト
シル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましく
は炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特
に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスル
フィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられ
る）、スルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１〜２
０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭
素数１〜１２であり、例えばメシルオキシ基、トシルオ
キシ基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭
素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好
ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド基、メ
チルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられ
る）、シリル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ま
しくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２
であり、トリメチルシリル基などが挙げられる）、りん
酸エステル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好まし
くは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２で
あり、例えばジエチルリン酸エステル基、フェニルリン
酸エステル基などが挙げられる）、ヘテロ環基（例えば
イミダゾリル基、ピリジル基、フリル基、ピペリジル
基、モルホリノ基などが挙げられる）、ハロゲノアルキ
ル基（例えばクロロメチル基、ジブロモメチル基、トリ
フルオロメチル基などが挙げられる）などが挙げられ
る。

【０１８３】Ｒ¹がアルコキシ基、アリールオキシ基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコ
キシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルア
ミノ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキ
シカルボニルオキシ基、スルホニルアミノ基、スルファ
モイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、ス
ルホニルオキシ基、ウレイド基、シリル基、メルカプト
基、ヒドロキシ基、ニトロソ基、スルホ基、カルボキシ
ル基、リン酸エステル基、ヘテロ環基、ハロゲノアルキ
ル基から選ばれる少なくとも１つの基で置換されたアリ
ール基である場合、置換されるアリール基として好まし
くは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、
特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル
基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ
る。

【０１８４】Ｒ¹はアルコキシ基、アリールオキシ基、
アシル基、アシルアミノ基、スルホニル基から選ばれる
少なくとも１つの基で置換されたアリール基であること
が好ましい。Ｒ¹がヘテロ環基である場合、好ましくは
イミダゾリル基、ピリジル基、フリル基、ピペリジル
基、モルホリノ基などが挙げられる。

【０１８５】Ｌは連結基を表すが、好ましくはアルキレ
ン基、アリーレン基、ヘテロ環基であり、より好ましく
はアリーレン基であり、アリーレン基のなかで特に好ま
しいのはオルトフェニレン基である。

【０１８６】ｍは０〜５の整数を表し、中でもｍは０ま
たは１が好ましい。より好ましくはｍは０である。ｎは
１〜３の整数を表し、中でもｎは１が好ましい。ｍが０
の場合、およびｍが１でかつＲ¹が−ＯＨの場合はＬは
ハロゲン原子、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホ
ルミル基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルコ
キシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオ
キシ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アミノ基、スルホニル基、スルフィニル
基、スルホニルオキシ基、ウレイド基、シリル基、メル
カプト基、ヒドロキシ基、ニトロソ基、スルホ基、リン
酸エステル基、ヘテロ環基から選ばれる１〜３個の基で
置換された連結基を表すが、前述の置換基の具体例は上
述のＲ¹がアリール基の場合の置換基と同様である。

【０１８７】ｍおよびｎが１の場合、Ｌはオルトフェニ
レン基または炭素数６〜２０のアルキレン基であること
が好ましい。ｍが０でｎが１の場合、Ｌは好ましくはハ
ロゲン原子、アシルオキシ基、アリールオキシカルボニ
ルアミノ基、アリールオキシカルボニルオキシ基であ
り、さらに好ましくはハロゲン原子、またはスルホニル
オキシで１つ置換されたフェニレン基である。

【０１８８】また、Ｒ¹が−ＯＭ²である場合、Ｌはアル
キレン基、フェニレン基、ヘテロ基であることが好まし
い。

【０１８９】一般式（Ｔ）で表される化合物の具体例と
して以下の化合物を挙げることができるが、本発明で用
いることができる化合物はこれらに限定されるものでは
ない。

【０１９０】

【化８１】

【０１９１】

【化８２】

【０１９２】

【化８３】

【０１９３】

【化８４】

【０１９４】

【化８５】

【０１９５】

【化８６】

【０１９６】

【化８７】

【０１９７】

【化８８】

【０１９８】

【化８９】

【０１９９】

【化９０】

【０２００】本発明の一般式（Ｔ）で示される化合物と
しては、市販の化合物を用いることができ、また例えば
Chem.Pharm. Bulletin, 31(8), 2632(1983)、J. Chem. S
oc.,Section B Physical Organic Chemistry, Part1. p
p.145-148(1971), J. Amer.Chem. Soc. 77, 1909(195
5), Org. Prep. Proced.Int. 28(5),609 (1996), Chem.
Ber. 44, 1236 (1911), J. Amer. Chem. Soc. 60, 250
2 (1938), Bull.Soc.Khim.Fr. 25(3) 173(1901), Chem.
Abstr. 9861 (1960), DE 297018, Justus LiebigsAnn.
Chem. 300 299 (1898)等に記載の方法に準じて合成す
ることもできる。

【０２０１】本発明の一般式（Ｔ）で示される化合物の
添加量には、特に制限はないが、１０^-4ｍｏｌ〜１ｍｏ
ｌ／Ａｇｍｏｌが好ましく、特に１０^-3ｍｏｌ〜０．３
ｍｏｌ／Ａｇｍｏｌが好ましい。

【０２０２】本発明の一般式（Ｔ）で示される化合物
は、感光層でも非感光層でも添加することができ、好ま
しくは感光層である。代表的な態様としては、支持体上
に少なくとも１層の感光層とこれに隣接する層を有する
熱現像感光材料において、感光層に感光性ハロゲン化
銀、有機銀塩、バインダーを含有し、さらに一般式
（Ｔ）で示される化合物の少なくとも１種を含有する態
様、感光層に感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、バイン
ダーを含有し、隣接層に一般式（Ｔ）で示される化合物
の少なくとも１種を含有する態様、感光層に感光性ハ
ロゲン化銀、バインダーを含有し、さらに一般式（Ｔ）
で示される化合物の少なくとも１種を含有し、隣接層に
有機銀塩を含有する態様、感光層に感光性ハロゲン化
銀、バインダーを含有し、隣接層に有機銀塩を含有し、
さらに一般式（Ｔ）で示される化合物の少なくとも１種
を含有する態様が挙げられる。本発明において好ましい
のは、の態様である。

【０２０３】本発明は感光性ハロゲン化銀を７５０〜１
４００ｎｍの範囲で分光増感している。分光増感として
は、シアニン、メロシアニン、スチリル、ヘミシアニ
ン、オキソノール、ヘミオキソノールおよびキサンテン
色素を含む種々の既知の色素により、スペクトル的に有
利に増感させることができる。有用なシアニン色素は、
例えば、チアゾリン核、オキサゾリン核、ピロリン核、
ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾ
ール核およびイミダゾール核などの塩基性核を有するシ
アニン色素である。有用なメロシアニン染料で好ましい
ものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒダントイン
核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン核、チアゾリ
ンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリノン核、マロ
ノニトリル核およびピラゾロン核などの酸性核も含む。
上記のシアニンおよびメロシアニン色素において、イミ
ノ基またはカルボキシル基を有するものが特に効果的で
ある。例えば、米国特許第３，７６１，２７９号明細
書、同３，７１９，４９５号明細書、同３，８７７，９
４３号明細書、英国特許１，４６６，２０１号明細書、
同１，４６９，１１７号明細書、同１，４２２，０５７
号明細書、特公平３−１０３９１号公報、同６−５２３
８７号公報、特開平５−３４１４３２号公報、同６−１
９４７８１号公報、同６−３０１１４１号公報に記載さ
れたような既知の色素から適当に選択してよい。

【０２０４】本発明に用いられる色素の構造として特に
好ましいものは、チオエーテル結合含有置換基を有する
シアニン色素（例としては特開昭６２−５８２３９号公
報、同３−１３８６３８号公報、同３−１３８６４２号
公報、同４−２５５８４０号公報、同５−７２６５９号
公報、同５−７２６６１号公報、同６−２２２４９１号
公報、同２−２３０５０６号公報、同６−２５８７５７
号公報、同６−３１７８６８号公報、同６−３２４４２
５号公報、特表平７−５００９２６号公報、米国特許第
５，５４１，０５４号明細書に記載された色素）、カル
ボン酸基を有する色素（例としては特開平３−１６３４
４０号公報、６−３０１１４１号公報、米国特許第５，
４４１，８９９号明細書に記載された色素）、メロシア
ニン色素、多核メロシアニン色素や多核シアニン色素
（特開昭４７−６３２９号公報、同４９−１０５５２４
号公報、同５１−１２７７１９号公報、同５２−８０８
２９号公報、同５４−６１５１７号公報、同５９−２１
４８４６号公報、同６０−６７５０号公報、同６３−１
５９８４１号公報、特開平６−３５１０９号公報、同６
−５９３８１号公報、同７−１４６５３７号公報、同７
−１４６５３７号公報、特表平５５−５０１１１号公
報、英国特許１，４６７，６３８号明細書、米国特許
５，２８１，５１５号明細書に記載された色素）が挙げ
られる。

【０２０５】また、Ｊ−ｂａｎｄを形成する色素とし
て、米国特許第５，５１０，２３６号明細書、同３，８
７１，８８７号明細書の実施例５に記載の色素、特開平
２−９６１３１号公報、特開昭５９−４８７５３号公報
に開示されている色素があり、これらの色素を本発明に
好ましく用いることができる。

【０２０６】これらの増感色素は単独に用いてもよく、
２種以上組合せて用いてもよい。増感色素の組合せは特
に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素と
ともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは
可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を
示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色素、強
色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質はRe
search Disclosure 176巻17643(1978年12月発行)第23頁
IVのJ項、あるいは特公昭４９−２５５００号公報、同
４３−４９３３号公報、特開昭５９−１９０３２号公
報、同５９−１９２２４２号公報等に記載されている。

【０２０７】これら増感色素の添加については、特開平
１１−１１９３７４号公報の段落番号０１０６に記載さ
れている方法で添加することができるが、特に、この方
法に限定されるものではない。本発明における増感色素
の添加量は、感度やカブリの性能に合わせて所望の量に
することができるが、感光性層のハロゲン化銀１ｍｏｌ
当たり１０^-6〜１ｍｏｌが好ましく、さらに好ましくは
１０^-4〜１０^-1ｍｏｌである。

【０２０８】本発明は分光増感効率を向上させるため、
強色増感剤を用いることができる。本発明に用いる強色
増感剤としては、欧州特許公開ＥＰ第５８７，３３８Ａ
号公報、米国特許第３，８７７，９４３号明細書、同第
４，８７３，１８４号明細書に開示されている化合物、
複素芳香族あるいは脂肪族メルカプト化合物、複素芳香
族ジスルフィド化合物、スチルベン、ヒドラジン、トリ
アジンから選択される化合物などが挙げられる。特に好
ましい強色増感剤は、特開平５−３４１４３２号公報に
開示されている複素芳香族メルカプト化合物、複素芳香
族ジスルフィド化合物、特開平４−１８２６３９号公報
の一般式（Ｉ）あるいは（II）で表される化合物、特開
平１０−１１１５４３号公報の一般式（Ｉ）で表される
スチルベン化合物、特開平１１−１０９５４７号公報の
一般式（Ｉ）で表わされる化合物である。具体的には特
開平５−３４１４３２号公報のＭ−１〜Ｍ−２４の化合
物、特開平４−１８２６３９号公報のｄ−１）〜ｄ−１
４）の化合物、特開平１０−１１１５４３号公報のＳＳ
−０１〜ＳＳ−０７の化合物、特開平１１−１０９５４
７号公報の３１、３２、３７、３８、４１〜４５、５１
〜５３の化合物である。これらの強色増感剤の添加量
は、乳剤層中にハロゲン化銀１ｍｏｌ当たり１０ ^-4〜１
ｍｏｌの範囲が好ましく、ハロゲン化銀１ｍｏｌ当たり
０．００１〜０．３ｍｏｌの範囲がより好ましい。

【０２０９】本発明の熱現像感光材料には五酸化二リン
が水和してできる酸またはその塩を本発明の化合物と併
用して用いることが好ましい。五酸化二リンが水和して
できる酸またはその塩としては、メタリン酸（塩）、ピ
ロリン酸（塩）、オルトリン酸（塩）、三リン酸
（塩）、四リン酸（塩）、ヘキサメタリン酸（塩）など
を挙げることができる。特に好ましく用いられる五酸化
二リンが水和してできる酸またはその塩としては、オル
トリン酸（塩）、ヘキサメタリン酸（塩）を挙げること
ができる。具体的な塩としてはオルトリン酸ナトリウ
ム、オルトリン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸
ナトリウム、ヘキサメタリン酸アンモニウムなどがあ
る。本発明において好ましく用いることができる五酸化
二リンが水和してできる酸またはその塩は、少量で所望
の効果を発現するという点から画像形成層あるいはそれ
に隣接するバインダー層に添加する。五酸化二リンが水
和してできる酸またはその塩の使用量（感光材料１ｍ²
あたりの塗布量）は感度やカブリなどの性能に合わせて
所望の量でよいが、０．１〜５００ｍｇ/ｍ²が好まし
く、０．５〜１００ｍｇ/ｍ²がより好ましい。

【０２１０】本発明に用いることができる有機銀塩は、
光に対して比較的安定であるが、露光された光触媒（感
光性ハロゲン化銀の潜像など）および還元剤の存在下
で、８０℃あるいはそれ以上に加熱された場合に銀画像
を形成する銀塩である。有機銀塩は、還元可能な銀イオ
ン源を含む任意の有機物質であってよい。有機酸の銀
塩、特に長鎖脂肪カルボン酸の銀塩（炭素数は好ましく
は１０〜３０、より好ましくは１５〜２８）が好まし
い。また、配位子が４．０〜１０．０の範囲の錯体安定
度定数を有する有機または無機銀塩の錯体も好ましい。
銀供給物質は、好ましくは画像形成層の約５〜７０質量
％を構成することができる。好ましい有機銀塩として、
カルボキシル基を有する有機化合物の銀塩を挙げること
ができる。具体的には、脂肪族カルボン酸の銀塩および
芳香族カルボン酸の銀塩を挙げることができるが、これ
らに限定されるものではない。脂肪族カルボン酸の銀塩
の好ましい例としては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、
ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロ
ン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、マレイン酸
銀、フマル酸銀、酒石酸銀、リノール酸銀、酪酸銀およ
び樟脳酸銀、これらの混合物などを挙げることができ
る。

【０２１１】本発明においては、上記の有機酸銀ないし
は有機酸銀の混合物の中でも、ベヘン酸銀含有率７５ｍ
ｏｌ％以上の有機酸銀を用いることが好ましく、ベヘン
酸銀含有率８５ｍｏｌ％以上の有機酸銀を用いることが
さらに好ましい。ここでベヘン酸銀含有率とは、使用す
る有機酸銀に対するベヘン酸銀のモル分率を示す。本発
明に用いる有機酸銀中に含まれるベヘン酸銀以外の有機
酸銀としては、上記の例示有機酸銀を好ましく用いるこ
とができる。

【０２１２】本発明に好ましく用いられる有機酸銀は、
上記の有機酸のアルカリ金属塩（Ｎａ塩、Ｋ塩、Ｌｉ塩
等が挙げられる）溶液または懸濁液と硝酸銀を反応させ
ることにより調製される。これらの調製方法について
は、特開２０００−２９２８８２号公報の段落番号００
１９〜００２１に記載の方法を用いることができる。

【０２１３】本発明においては、液体を混合するための
密閉手段の中に硝酸銀水溶液および有機酸アルカリ金属
塩溶液を添加することにより有機酸銀を調製する方法を
好ましく用いることができる。具体的には、特開２００
１−３３９０７号公報に記載されている方法を用いるこ
とができる。本発明においては有機酸銀の調製時に、硝
酸銀水溶液および有機酸アルカリ金属塩溶液、あるいは
反応液には水に可溶な分散剤を添加することができる。
ここで用いる分散剤の種類および使用量については、特
開２０００−３０５２１４号公報の段落番号００５２に
具体例が記載されている。

【０２１４】本発明に用いる有機酸銀は第３アルコール
の存在下で調製することが好ましい。第３アルコールと
しては、総炭素数１５以下の化合物が好ましく、１０以
下の化合物が特に好ましい。好ましい第３アルコールの
例としては、ｔｅｒｔ−ブタノール等が挙げられるが、
本発明で使用することができる第３アルコールはこれに
限定されない。本発明に用いる第３アルコールの添加時
期は有機酸銀調製時のいずれのタイミングでもよいが、
有機酸アルカリ金属塩の調製時に添加して、有機酸アル
カリ金属塩を溶解して用いることが好ましい。また、本
発明で用いる第３アルコールは、有機酸銀調製時の溶媒
としての水に対して重量比で０．０１〜１０の範囲で使
用することができるが、０．０３〜１の範囲で使用する
ことが好ましい。

【０２１５】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状やサイズは特に制限されないが、特開２０００−２９
２８８２号公報の段落番号００２４に記載のものを用い
ることが好ましい。有機銀塩の形状は、有機銀塩分散物
の透過型電子顕微鏡像から求めることができる。単分散
性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均
直径の標準偏差を求める方法があり、体積加重平均直径
で割った値の百分率（変動係数）は好ましくは８０％以
下、より好ましくは５０％以下、さらに好ましくは３０
％以下である。測定方法としては、例えば液中に分散し
た有機銀塩にレーザー光を照射し、その散乱光のゆらぎ
の時間変化に対する自己相関関数を求めることにより得
られた粒子サイズ（体積加重平均直径）から求めること
ができる。この測定法での平均粒子サイズとしては０．
０５μｍ〜１０．０μｍの固体微粒子分散物が好まし
い。より好ましい平均粒子サイズは０．１μｍ〜５．０
μｍ、さらに好ましい平均粒子サイズは０．１μｍ〜
２．０μｍである。

【０２１６】本発明に用いる有機銀塩は、脱塩したもの
であることが好ましい。脱塩法は特に制限されず、公知
の方法を用いることができるが、遠心ろ過、吸引ろ過、
限外ろ過、凝集法によるフロック形成水洗等の公知のろ
過方法を好ましく用いることができる。限外ろ過の方法
については、特開２０００−３０５２１４号公報に記載
の方法を用いることができる。

【０２１７】本発明では、高Ｓ／Ｎで、粒子サイズが小
さく、凝集のない有機銀塩固体分散物を得る目的で、画
像形成媒体である有機銀塩を含み、かつ感光性銀塩を実
質的に含まない水分散液を高速流に変換した後、圧力降
下させる分散法を用いることが好ましい。これらの分散
方法については特開２０００−２９２８８２号公報の段
落番号００２７〜００３８に記載の方法を用いることが
できる。

【０２１８】本発明で用いる有機銀塩固体微粒子分散物
の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。具体
的には、体積荷重平均直径の標準偏差を体積荷重平均直
径で割った値の百分率（変動係数）が８０％以下である
ことが好ましく、５０％以下であることがより好まし
く、３０％以下であることがさらに好ましい。

【０２１９】本発明に用いる有機銀塩固体微粒子分散物
は、少なくとも有機銀塩と水からなるものである。有機
銀塩と水との割合は特に限定されるものではないが、有
機銀塩の全体に占める割合は５〜５０質量％であること
が好ましく、特に１０〜３０質量％の範囲が好ましい。
前述の分散助剤を用いることは好ましいが、粒子サイズ
を最小にするのに適した範囲で最少量使用するのが好ま
しく、有機銀塩に対して０．５〜３０質量％、特に１〜
１５質量％の範囲が好ましい。

【０２２０】本発明で用いる有機銀塩は所望の量で使用
できるが、銀量として０．１〜５ｇ／ｍ²が好ましく、
さらに好ましくは１〜３ｇ／ｍ²である。

【０２２１】本発明にはＣａ、Ｍｇ、ＺｎおよびＡｇか
ら選ばれる金属イオンを非感光性有機銀塩へ添加するこ
とが好ましい。Ｃａ、Ｍｇ、ＺｎおよびＡｇから選ばれ
る金属イオンの非感光性有機銀塩への添加については、
ハロゲン化物でない、水溶性の金属塩の形で添加するこ
とが好ましく、具体的には硝酸塩や硫酸塩などの形で添
加することが好ましい。ハロゲン化物での添加は処理後
の感光材料の光（室内光や太陽光など）による画像保存
性、いわゆるプリントアウト性を悪化させるので好まし
くない。このため、本発明ではハロゲン化物でない、水
溶性の金属塩の形で添加することが好ましい。

【０２２２】本発明に好ましく用いるＣａ、Ｍｇ、Ｚｎ
およびＡｇから選ばれる金属イオンの添加時期として
は、該非感光性有機銀塩の粒子形成後であって、粒子形
成直後、分散前、分散後および塗布液調製前後など塗布
直前までであればいずれの時期でもよく、好ましくは分
散後、塗布液調製前後である。本発明におけるＣａ、Ｍ
ｇ、ＺｎおよびＡｇから選ばれる金属イオンの添加量と
しては、非感光性有機銀１ｍｏｌあたり１０^-3〜１０^-1
ｍｏｌが好ましく、特に５×１０^-3〜５×１０^-2ｍｏｌ
が好ましい。

【０２２３】本発明に用いる感光性ハロゲン化銀は、ハ
ロゲン組成として特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、
臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀を用いることができ
る。感光性ハロゲン化銀乳剤の粒子形成については、特
開平１１−１１９３７４号公報の段落番号０２１７〜０
２２４に記載されている方法で粒子形成することができ
るが、特にこの方法に限定されるものではない。ハロゲ
ン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、十四面体、
平板状、球状、棒状、ジャガイモ状等を挙げることがで
きるが、本発明においては特に立方体状粒子あるいは平
板状粒子が好ましい。粒子のアスペクト比、面指数など
粒子形状の特徴については、特開平１１−１１９３７４
号公報の段落番号０２２５に記載されているものと同じ
である。また、ハロゲン組成の分布はハロゲン化銀粒子
の内部と表面において均一であってもよく、ハロゲン組
成がステップ状に変化したものでもよく、或いは連続的
に変化したものでもよい。また、コア／シェル構造を有
するハロゲン化銀粒子を好ましく用いることができる。
構造としては好ましくは２〜５重構造、より好ましくは
２〜４重構造のコア／シェル粒子を用いることができ
る。また塩化銀または塩臭化銀粒子の表面に臭化銀を局
在させる技術も好ましく用いることができる。

【０２２４】本発明に用いる感光性ハロゲン化銀のハロ
ゲン化銀粒子の粒子サイズは、特に制限されず、０．１
２μｍ以下が好ましく、さらに０．０１〜０．１０μｍ
が好ましい。本発明で用いるハロゲン化銀粒子の粒径分
布は、単分散度の値が３０％以下であることが好まし
く、１〜２０％であることがより好ましく、５〜１５％
であることがさらに好ましい。ここで単分散度は、粒径
の標準偏差を平均粒径で割った値の百分率（％）（変動
係数）として定義されるものである。なおハロゲン化銀
粒子の粒径は、便宜上、立方体粒子の場合は稜長で表
し、その他の粒子（八面体、十四面体、平板状など）は
投影面積円相当直径で算出する。

【０２２５】本発明で用いる感光性ハロゲン化銀粒子
は、周期律表の第ＶII族あるいは第ＶIII族の金属また
は金属錯体を含有する。周期律表の第ＶII族あるいは第
ＶIII族の金属または金属錯体の中心金属として好まし
いのは、ロジウム、レニウム、ルテニウム、オスニウ
ム、イリジウムである。特に好ましい金属錯体は、（Ｎ
Ｈ₄）₃Ｒｈ（Ｈ₂Ｏ）Ｃｌ₅、Ｋ₂Ｒｕ（ＮＯ）Ｃｌ₅、Ｋ
₃ＩｒＣｌ₆、Ｋ₄Ｆｅ（ＣＮ）₆である。これら金属錯体
は１種類でもよいし、同種金属および異種金属の錯体を
２種以上併用してもよい。好ましい含有率は銀１ｍｏｌ
に対し１×１０^-9ｍｏｌ〜１×１０^-3ｍｏｌの範囲が好
ましく、１×１０^-8ｍｏｌ〜１×１０^-4ｍｏｌの範囲が
より好ましい。具体的な金属錯体の構造としては特開平
７−２２５４４９号公報等に記載された構造の金属錯体
を用いることができる。これら重金属の種類、添加方法
に関しては、特開平１１−１１９３７４号公報の段落番
号０２２７〜０２４０に記載されている。

【０２２６】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている水洗法に
より脱塩することができるが、本発明においては脱塩し
てもしなくてもよい。本発明で用いる感光性ハロゲン化
銀乳剤は化学増感することが好ましい。化学増感につい
ては、特開平１１−１１９３７４号公報の段落番号０２
４２〜０２５０に記載されている方法を用いることが好
ましい。本発明で用いるハロゲン化銀乳剤には、欧州特
許公開ＥＰ２９３，９１７Ａ号公報に示される方法によ
り、チオスルホン酸化合物を添加してもよい。

【０２２７】本発明に用いる感光性ハロゲン化銀に含有
するゼラチンとしては、感光性ハロゲン化銀乳剤の有機
銀塩含有塗布液中での分散状態を良好に維持するため
に、低分子量ゼラチンを使用することが好ましい。低分
子量ゼラチンの分子量は、５００〜６０，０００であ
り、好ましくは分子量１，０００〜４０，０００であ
る。これらの低分子量ゼラチンは粒子形成時あるいは脱
塩処理後の分散時に使用してもよいが、脱塩処理後の分
散時に使用することが好ましい。また、粒子形成時は通
常のゼラチン（分子量１００，０００程度）を使用し、
脱塩処理後の分散時に低分子量ゼラチンを使用してもよ
い。

【０２２８】分散媒の濃度は０．０５〜２０質量％にす
ることができるが、取り扱い上５〜１５質量％の濃度域
が好ましい。ゼラチンの種類としては、通常アルカリ処
理ゼラチンが用いられるが、その他に酸処理ゼラチン、
フタル化ゼラチンの如き修飾ゼラチンも用いることがで
きる。

【０２２９】本発明に用いる感光材料中のハロゲン化銀
乳剤は、１種だけを用いてもよいし、２種以上（例え
ば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異な
るもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるも
の）を併用してもよい。

【０２３０】本発明で用いる感光性ハロゲン化銀の使用
量としては有機銀塩１ｍｏｌに対して感光性ハロゲン化
銀０．０１ｍｏｌ〜０．５ｍｏｌが好ましく、０．０２
ｍｏｌ〜０．３ｍｏｌがより好ましく、０．０３ｍｏｌ
〜０．２５ｍｏｌが特に好ましい。別々に調製した感光
性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合方法および混合条件に
ついては、それぞれ調製を終了したハロゲン化銀粒子と
有機銀塩を高速撹拌機やボールミル、サンドミル、コロ
イドミル、振動ミル、ホモジナイザー等で混合する方法
や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれかのタイミング
で調製終了した感光性ハロゲン化銀を混合して有機銀塩
を調製する方法等があるが、本発明の効果が十分に得ら
れる限り特に制限はない。また、混合する際に２種以上
の有機銀塩水分散液と２種以上の感光性銀塩水分散液を
混合することは、写真特性の調節のために好ましい方法
である。

【０２３１】本発明の熱現像感光材料は、有機銀塩のた
めの還元剤を含む。有機銀塩のための還元剤は、銀イオ
ンを金属銀に還元する任意の物質、好ましくは有機物質
である。フェニドン、ハイドロキノンおよびカテコール
などの従来の写真現像剤は有用であるが、ヒンダードフ
ェノール還元剤が好ましい。還元剤は、画像形成層を有
する面の銀１ｍｏｌに対して５〜５０ｍｏｌ％含まれる
ことが好ましく、１０〜４０ｍｏｌ％で含まれることが
さらに好ましい。還元剤の添加層は支持体に対して画像
形成層側のいかなる層でもよい。画像形成層以外の層に
添加する場合は銀１ｍｏｌに対して１０〜５０ｍｏｌ％
と多めに使用することが好ましい。また、還元剤は現像
時のみ有効に機能するように誘導化されたいわゆるプレ
カーサーであってもよい。

【０２３２】有機銀塩を利用した熱現像感光材料におい
ては広範囲の還元剤を使用することができる。例えば、
特開昭４６−６０７４号公報、同４７−１２３８号公
報、同４７−３３６２１号公報、同４９−４６４２７号
公報、同４９−１１５５４０号公報、同５０−１４３３
４号公報、同５０−３６１１０号公報、同５０−１４７
７１１号公報、同５１−３２６３２号公報、同５１−１
０２３７２１号公報、同５１−３２３２４号公報、同５
１−５１９３３号公報、同５２−８４７２７号公報、同
５５−１０８６５４号公報、同５６−１４６１３３号公
報、同５７−８２８２８号公報、同５７−８２８２９号
公報、特開平６−３７９３号公報、米国特許第３，６７
９，４２６号明細書、同第３，７５１，２５２号明細
書、同第３，７５１，２５５号明細書、同第３，７６
１，２７０号明細書、同第３，７８２，９４９号明細
書、同第３，８３９，０４８号明細書、同第３，９２
８，６８６号明細書、同第５，４６４，７３８号明細
書、独国特許第２，３２１，３２８号明細書、欧州特許
公開ＥＰ６９２，７３２Ａ号公報などに開示されている
還元剤を用いることができる。例えば、フェニルアミド
オキシム、２−チエニルアミドオキシムおよびｐ−フェ
ノキシフェニルアミドオキシムなどのアミドオキシム；
例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジメトキシベンズアル
デヒドアジンなどのアジン；２，２’−ビス（ヒドロキ
シメチル）プロピオニル−β−フェニルヒドラジンとア
スコルビン酸との組合せのような脂肪族カルボン酸アリ
ールヒドラジドとアスコルビン酸との組合せ；ポリヒド
ロキシベンゼンと、ヒドロキシルアミン、レダクトンお
よび／またはヒドラジンの組合せ（例えばハイドロキノ
ンと、ビス（エトキシエチル）ヒドロキシルアミン、ピ
ペリジノヘキソースレダクトンまたはホルミル−４−メ
チルフェニルヒドラジンの組合せなど）；フェニルヒド
ロキサム酸、ｐ−ヒドロキシフェニルヒドロキサム酸お
よびβ−アリニンヒドロキサム酸などのヒドロキサム
酸；アジンとスルホンアミドフェノールとの組合せ（例
えば、フェノチアジンと２，６−ジクロロ−４−ベンゼ
ンスルホンアミドフェノールなど）；エチル−α−シア
ノ−２−メチルフェニルアセテート、エチル−α−シア
ノフェニルアセテートなどのα−シアノフェニル酢酸誘
導体；２，２’−ジヒドロキシ−１，１’−ビナフチ
ル、６，６’−ジブロモ−２，２’−ジヒドロキシ−
１，１’−ビナフチルおよびビス（２−ヒドロキシ−１
−ナフチル）メタンに例示されるようなビス−β−ナフ
トール；ビス−β−ナフトールと１，３−ジヒドロキシ
ベンゼン誘導体（例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノンまたは２’，４’−ジヒドロキシアセトフェノ
ンなど）の組合せ；３−メチル−１−フェニル−５−ピ
ラゾロンなどの５−ピラゾロン；ジメチルアミノヘキソ
ースレダクトン、アンヒドロジヒドロアミノヘキソース
レダクトンおよびアンヒドロジヒドロピペリドンヘキソ
ースレダクトンに例示されるようなレダクトン；２，６
−ジクロロ−４−ベンゼンスルホンアミドフェノールお
よびｐ−ベンゼンスルホンアミドフェノールなどのスル
ホンアミドフェノール還元剤；２−フェニルインダン−
１，３−ジオンなど；２，２−ジメチル−７−ｔｅｒｔ
−ブチル−６−ヒドロキシクロマンなどのクロマン；
２，６−ジメトキシ−３，５−ジカルボエトキシ−１，
４−ジヒドロピリジンなどの１，４−ジヒドロピリジ
ン；ビスフェノール（例えば、ビス（２−ヒドロキシ−
３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）メタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）
プロパン、４，４−エチリデン−ビス（２−ｔｅｒｔ−
ブチル−６−メチルフェノール）、１，１，−ビス（２
−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，５，
５−トリメチルヘキサンおよび２，２−ビス（３，５−
ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンなど）；
アスコルビン酸誘導体（例えば、パルミチン酸１−アス
コルビル、ステアリン酸アスコルビルなど）；ならびに
ベンジルおよびビアセチルなどのアルデヒドおよびケト
ン；３−ピラゾリドンおよびある種のインダン−１，３
−ジオン；クロマノール（トコフェロールなど）などが
ある。特に好ましい還元剤は、ビスフェノール、クロマ
ノールである。

【０２３３】本発明において還元剤は、水溶液、有機溶
媒溶液、粉末、固体微粒子分散物、乳化分散物などいか
なる方法で添加してもよい。固体微粒子分散は公知の微
細化手段（例えば、ボールミル、振動ボールミル、サン
ドミル、コロイドミル、ジェットミル、ローラーミルな
ど）で行われる。また、固体微粒子分散する際に分散助
剤を用いてもよい。

【０２３４】画像を向上させる「色調剤」として知られ
る添加剤を含ませると光学濃度が高くなることがある。
また、色調剤は黒色銀画像を形成させるうえでも有利に
なることがある。色調剤は支持体に対して画像形成層側
の層に銀１ｍｏｌあたりの０．１〜５０％ｍｏｌの量含
ませることが好ましく、０．５〜２０％ｍｏｌ含ませる
ことがさらに好ましい。また、色調剤は現像時のみ有効
に機能するように誘導化されたいわゆるプレカーサーで
あってもよい。有機銀塩を利用した熱現像感光材料にお
いては広範囲の色調剤を使用することができる。例え
ば、特開昭４６−６０７７号公報、同４７−１０２８２
号公報、同４９−５０１９号公報、同４９−５０２０号
公報、同４９−９１２１５号公報、同５０−２５２４号
公報、同５０−３２９２７号公報、同５０−６７１３２
号公報、同５０−６７６４１号公報、同５０−１１４２
１７号公報、同５１−３２２３号公報、同５１−２７９
２３号公報、同５２−１４７８８号公報、同５２−９９
８１３号公報、同５３−１０２０号公報、同５３−７６
０２０号公報、同５４−１５６５２４号公報、同５４−
１５６５２５号公報、同６１−１８３６４２号公報、特
開平４−５６８４８号公報、特公昭４９−１０７２７号
公報、同５４−２０３３３号公報、米国特許第３，０８
０，２５４号明細書、同第３，４４６，６４８号明細
書、同第３，７８２，９４１号明細書、同第４，１２
３，２８２号明細書、同第４，５１０，２３６号明細
書、英国特許第１，３８０，７９５号明細書、ベルギー
特許第８４１，９１０号明細書などに開示される色調剤
を用いることができる。色調剤の具体例としては、フタ
ルイミドおよびＮ−ヒドロキシフタルイミド；スクシン
イミド、ピラゾリン−５−オン、ならびにキナゾリノ
ン、３−フェニル−２−ピラゾリン−５−オン、１−フ
ェニルウラゾール、キナゾリンおよび２，４−チアゾリ
ジンジオンのような環状イミド；ナフタルイミド（例え
ば、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタルイミド）；コバ
ルト錯体（例えば、コバルトヘキサミントリフルオロア
セテート）；３−メルカプト−１，２，４−トリアゾー
ル、２，４−ジメルカプトピリミジン、３−メルカプト
−４，５−ジフェニル−１，２，４−トリアゾールおよ
び２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール
に例示されるメルカプタン；Ｎ−（アミノメチル）アリ
ールジカルボキシイミド、（例えば、（Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノメチル）フタルイミドおよびＮ，Ｎ−（ジメチ
ルアミノメチル）−ナフタレン−２，３−ジカルボキシ
イミド）；ならびにブロック化ピラゾール、イソチウロ
ニウム誘導体およびある種の光退色剤（例えば、Ｎ，
Ｎ’−ヘキサメチレンビス（１−カルバモイル−３，５
−ジメチルピラゾール）、１，８−（３，６−ジアザオ
クタン）ビス（イソチウロニウムトリフルオロアセテー
ト）および２−（トリブロモメチルスルホニル）−ベン
ゾチアゾール；ならびに３−エチル−５−［（３−エチ
ル−２−ベンゾチアゾリニリデン）−１−メチルエチリ
デン］−２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオン；フ
タラジノン、フタラジノン誘導体もしくは金属塩、また
は４−（１−ナフチル）フタラジノン、６−クロロフタ
ラジノン、５，７−ジメトキシフタラジノンおよび２，
３−ジヒドロ−１，４−フタラジンジオンなどの誘導
体；フタラジノンとフタル酸誘導体（例えば、フタル
酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸およびテ
トラクロロ無水フタル酸など）との組合せ；フタラジ
ン、フタラジン誘導体（たとえば、４−（１−ナフチ
ル）フタラジン、６−クロロフタラジン、５，７−ジメ
トキシフタラジン、６−イソブチルフタラジン、６−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフタラジン、５，７−ジメチルフタラジ
ン、および２，３−ジヒドロフタラジンなどの誘導体）
もしくは金属塩；フタラジンおよびその誘導体とフタル
酸誘導体（例えば、フタル酸、４−メチルフタル酸、４
−ニトロフタル酸およびテトラクロロ無水フタル酸な
ど）との組合せ；キナゾリンジオン、ベンズオキサジン
またはナフトオキサジン誘導体；色調調節剤としてだけ
でなくその場でハロゲン化銀生成のためのハライドイオ
ンの源としても機能するロジウム錯体、例えばヘキサク
ロロロジウム（III）酸アンモニウム、臭化ロジウム、
硝酸ロジウムおよびヘキサクロロロジウム（III）酸カ
リウムなど；無機過酸化物および過硫酸塩、例えば、過
酸化二硫化アンモニウムおよび過酸化水素；１，３−ベ
ンズオキサジン−２，４−ジオン、８−メチル−１，３
−ベンズオキサジン−２，４−ジオンおよび６−ニトロ
−１，３−ベンズオキサジン−２，４−ジオンなどのベ
ンズオキサジン−２，４−ジオン；ピリミジンおよび不
斉−トリアジン（例えば、２，４−ジヒドロキシピリミ
ジン、２−ヒドロキシ−４−アミノピリミジンなど）、
アザウラシル、およびテトラアザペンタレン誘導体（例
えば、３，６−ジメルカプト−１，４−ジフェニル−１
Ｈ，４Ｈ−２，３ａ，５，６ａ−テトラアザペンタレ
ン、および１，４−ジ（ｏ−クロロフェニル）−３，６
−ジメルカプト−１Ｈ，４Ｈ−２，３ａ，５，６ａ−テ
トラアザペンタレン）などがある。

【０２３５】本発明では色調剤として、特開２０００−
３５６３１号公報に記載の一般式（Ｆ）で表されるフタ
ラジン誘導体が好ましく用いられる。具体的には同公報
に記載のＡ−１〜Ａ−１０が好ましく用いられる。

【０２３６】色調剤は、溶液、粉末、固体微粒子分散物
などいかなる方法で添加してもよい。固体微粒子分散は
公知の微細化手段（例えば、ボールミル、振動ボールミ
ル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミル、ローラ
ーミルなど）で行われる。また、固体微粒子分散する際
に分散助剤を用いてもよい。

【０２３７】本発明の熱現像感光材料の熱現像処理前の
膜面ｐＨは６．０以下であることが好ましく、さらに好
ましくは５．５以下である。その下限には特に制限はな
いが、３程度である。膜面ｐＨの調節はフタル酸誘導体
などの有機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアな
どの揮発性の塩基を用いることが、膜面ｐＨを低減させ
るという観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しや
すく、塗布する工程や熱現像される前に除去できること
から低膜面ｐＨを達成する上で好ましい。なお、膜面ｐ
Ｈの測定方法は、特開２０００−２８４３９９号公報の
段落番号０１２３に記載されている。

【０２３８】本発明の熱現像感光材料において、ハロゲ
ン化銀乳剤および／または有機銀塩は、カブリ防止剤、
安定剤および安定剤前駆体によって、付加的なカブリの
生成に対してさらに保護され、在庫貯蔵中における感度
の低下に対して安定化することができる。単独または組
合せて使用することができる適当なカブリ防止剤、安定
剤および安定剤前駆体は、米国特許第２，１３１，０３
８号明細書および同第２，６９４，７１６号明細書に記
載のチアゾニウム塩、米国特許第２，８８６，４３７号
明細書および同第２，４４４，６０５号明細書に記載の
アザインデン、米国特許第２，７２８，６６３号明細書
に記載の水銀塩、米国特許第３，２８７，１３５号明細
書に記載のウラゾール、米国特許第３，２３５，６５２
号明細書に記載のスルホカテコール、英国特許第６２
３，４４８号明細書に記載のオキシム、ニトロン、ニト
ロインダゾール、米国特許第２，８３９，４０５号明細
書に記載の多価金属塩、米国特許第３，２２０，８３９
号明細書に記載のチウロニウム塩、ならびに米国特許第
２，５６６，２６３号明細書および同第２，５９７，９
１５号明細書に記載のパラジウム、白金および金塩、米
国特許第４，１０８，６６５号明細書および同第４，４
４２，２０２号明細書に記載のハロゲン置換有機化合
物、米国特許第４，１２８，５５７号明細書および同第
４，１３７，０７９号明細書、同第４，１３８，３６５
号明細書および同第４，４５９，３５０号明細書に記載
のトリアジンならびに米国特許第４，４１１，９８５号
明細書に記載のリン化合物などがある。

【０２３９】本発明の熱現像感光材料は、高感度化やカ
ブリ防止を目的として安息香酸類を含有してもよい。本
発明で用いる安息香酸類はいかなる安息香酸誘導体でも
よいが、好ましい例としては、米国特許第４，７８４，
９３９号明細書、同第４，１５２，１６０号明細書、特
開平９−３２９８６３号公報、同９−３２９８６４号公
報、同９−２８１６３７号公報などに記載の化合物が挙
げられる。安息香酸類は熱現像感光材料のいかなる層に
添加してもよいが、支持体に対して画像形成層側の層に
添加することが好ましく、有機銀塩含有層に添加するこ
とがさらに好ましい。安息香酸類の添加は塗布液調製の
いかなる工程で行ってもよく、有機銀塩含有層に添加す
る場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工
程でもよいが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。
安息香酸類の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物
などいかなる方法で行ってもよい。また、増感色素、還
元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加
してもよい。安息香酸類の添加量としてはいかなる量で
もよいが、銀１ｍｏｌ当たり１×１０^-6ｍｏｌ〜２ｍｏ
ｌが好ましく、１×１０^-3ｍｏｌ〜０．５ｍｏｌがさら
に好ましい。

【０２４０】本発明を実施するために必須ではないが、
画像形成層にカブリ防止剤として水銀（II）塩を加える
ことが有利なことがある。この目的のために好ましい水
銀（II）塩は、酢酸水銀および臭化水銀である。本発明
に使用する水銀の添加量としては、塗布された銀１ｍｏ
ｌ当たり好ましくは１×１０^-9ｍｏｌ〜１×１０^-3ｍｏ
ｌ、さらに好ましくは１×１０^-8ｍｏｌ〜１×１０^-4ｍ
ｏｌの範囲である。

【０２４１】本発明で特に好ましく用いられるカブリ防
止剤は有機ハロゲン化物であり、例えば、特開昭５０−
１１９６２４号公報、同５０−１２０３２８号公報、同
５１−１２１３３２号公報、同５４−５８０２２号公
報、同５６−７０５４３号公報、同５６−９９３３５号
公報、同５９−９０８４２号公報、同６１−１２９６４
２号公報、同６２−１２９８４５号公報、特開平６−２
０８１９１号公報、同７−５６２１号公報、同７−２７
８１号公報、同８−１５８０９号公報、米国特許第５，
３４０，７１２号明細書、同第５，３６９，０００号明
細書、同第５，４６４，７３７号明細書に開示されてい
るような化合物が挙げられる。特開２０００−２８４３
９９号公報に記載の式（Ｐ）で表される親水性有機ハロ
ゲン化物がカブリ防止剤として好ましく用いられる。具
体的には、同明細書に記載の（Ｐ−１）〜（Ｐ−１１
８）が好ましく用いられる。有機ハロゲン化物の添加量
は、Ａｇ１ｍｏｌに対するｍｏｌ量（ｍｏｌ／ｍｏｌＡ
ｇ）で示して、好ましくは１×１０^-5〜２ｍｏｌ／ｍｏ
ｌＡｇ、より好ましくは５×１０^-5〜１ｍｏｌ／ｍｏｌ
Ａｇ、さらに好ましくは１×１０^-4〜５×１０^-1ｍｏｌ
／ｍｏｌＡｇである。これらは１種のみを用いても２種
以上を併用してもよい。

【０２４２】また、特開２０００−２８４３９９号公報
に記載の式（Ｚ）で表されるサリチル酸誘導体がカブリ
防止剤として好ましく用いられる。具体的には、同明細
書に記載の（Ａ−１）〜（Ａ−６０）が好ましく用いら
れる。式（Ｚ）で表されるサリチル酸誘導体の添加量
は、Ａｇ１ｍｏｌに対するｍｏｌ量（ｍｏｌ／ｍｏｌＡ
ｇ）で示して、好ましくは１×１０^-5〜５×１０^-1ｍｏ
ｌ／ｍｏｌＡｇ、より好ましくは５×１０^-5〜１×１０
^-1ｍｏｌ／ｍｏｌＡｇ、さらに好ましくは１×１０^-4〜
５×１０^-2ｍｏｌ／ｍｏｌＡｇである。これらは１種の
みを用いても２種以上を併用してもよい。

【０２４３】本発明に好ましく用いられるカブリ防止剤
として、ホルマリンスカベンジャーが有効であり、例え
ば、特開２０００−２２１６３４号公報に記載の式
（Ｓ）で表される化合物およびその例示化合物（Ｓ−
１）〜（Ｓ−２４）が挙げられる。

【０２４４】本発明に用いるカブリ防止剤は、水あるい
は適当な有機溶媒、例えばアルコール類（メタノール、
エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール）、ケ
トン類（アセトン、メチルエチルケトン）、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブ
などに溶解して用いることができる。また、既によく知
られている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、
トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテー
トあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチ
ルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、
機械的に乳化分散物を作製して用いることができる。あ
るいは固体分散法として知られている方法によって、粉
末を水の中にボールミル、コロイドミル、サンドグライ
ンダーミル、マントンゴーリン、マイクロフルイダイザ
ーあるいは超音波によって分散し用いることもできる。

【０２４５】本発明に用いるカブリ防止剤は、支持体に
対して画像形成層側の層、即ち画像形成層あるいはこの
層側の他のどの層に添加してもよいが、画像形成層ある
いはそれに隣接する層に添加することが好ましい。画像
形成層は還元可能な銀塩（有機銀塩）を含有する層であ
り、好ましくはさらに感光性ハロゲン化銀を含有する画
像形成層であることが好ましい。

【０２４６】本発明の熱現像感光材料には現像を抑制あ
るいは促進させ現像を制御することや、現像前後の保存
性を向上させることなどを目的としてメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができる。本発明にメルカプト化合物を使用する場
合、いかなる構造のものでもよいが、Ａｒ−ＳＭ、Ａｒ
−Ｓ−Ｓ−Ａｒで表されるものが好ましい。式中、Ｍは
水素原子またはアルカリ金属原子であり、Ａｒは１個以
上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたはテルリウム
原子を有する芳香環または縮合芳香環である。好ましく
は、複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフスイミダゾ
ール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオ
キサゾール、ナフスオキサゾール、ベンゾセレナゾー
ル、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾー
ル、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、テト
ラゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラ
ジン、ピリジン、プリン、キノリンまたはキナゾリノン
である。この複素芳香環は、例えば、ハロゲン（例え
ば、ＢｒおよびＣｌ）、ヒドロキシ、アミノ、カルボキ
シ、アルキル（例えば、１個以上の炭素原子、好ましく
は１〜４個の炭素原子を有するもの）、アルコキシ（例
えば、１個以上の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素
原子を有するもの）およびアリール（置換基を有してい
てもよい）からなる置換基群から選択されるものを有し
てもよい。メルカプト置換複素芳香族化合物をとして
は、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプ
トベンズオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾー
ル、２−メルカプト−５−メチルベンズイミダゾール、
６−エトキシ−２−メルカプトベンゾチアゾール、２，
２’−ジチオビス−（ベンゾチアゾール）、３−メルカ
プト−１，２，４−トリアゾール、４，５−ジフェニル
−２−イミダゾールチオール、２−メルカプトイミダゾ
ール、１−エチル−２−メルカプトベンズイミダゾー
ル、２−メルカプトキノリン、８−メルカプトプリン、
２−メルカプト−４（３Ｈ）−キナゾリノン、７−トリ
フルオロメチル−４−キノリンチオール、２，３，５，
６−テトラクロロ−４−ピリジンチオール、４−アミノ
−６−ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジンモノヒド
レート、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チ
アジアゾール、３−アミノ−５−メルカプト−１，２，
４−トリアゾール、４−ヒドキロシ−２−メルカプトピ
リミジン、２−メルカプトピリミジン、４，６−ジアミ
ノ−２−メルカプトピリミジン、２−メルカプト−４−
メチルピリミジンヒドロクロリド、３−メルカプト−５
−フェニル−１，２，４−トリアゾール、１−フェニル
−５−メルカプトテトラゾール、３−（５−メルカプト
テトラゾール）−ベンゼンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−
メチル−Ｎ’−｛３−（５−メルカプトテトラゾリル）
フェニル｝ウレア、２−メルカプト−４−フェニルオキ
サゾールなどが挙げられるが、本発明はこれらに限定さ
れない。これらのメルカプト化合物の添加量としては画
像形成層中に銀１ｍｏｌ当たり０．０００１〜１．０ｍ
ｏｌの範囲が好ましく、さらに好ましくは、銀の１ｍｏ
ｌ当たり０．００１〜０．３ｍｏｌの量である。

【０２４７】本発明の熱現像感光材料は、支持体上に、
有機銀塩、還元剤および感光性ハロゲン化銀を含む画像
形成層を有し、画像形成層上には少なくとも１層の保護
層が設けられていることが好ましい。また、本発明の熱
現像感光材料は支持体に対して画像形成層と反対側（バ
ック面）に少なくとも１層のバック層を有することが好
ましく、画像形成層、保護層、そしてバック層のバイン
ダーとしてポリマーラテックスが用いられる。これらの
層にポリマーラテックスを用いることによって、水を主
成分とする溶媒（分散媒）を用いた水系塗布が可能にな
り、環境面、コスト面で有利になるとともに、熱現像時
にシワの発生がない熱現像感光材料が得られるようにな
る。また、所定の熱処理をした支持体を使用することに
より、熱現像の前後で寸法変化の少ない熱現像感光材料
が得られる。

【０２４８】本発明においては、良好な写真性能が得ら
れ、かつ水系塗布を可能にするバインダーを用いること
が好ましい。画像形成層側の主バインダーとしては、具
体的にはポリマーラテックスもしくはゼラチンを用いる
ことが好ましく、以下に述べるポリマーラテックスを用
いることが特に好ましい。さらに、感光性ハロゲン化銀
を含有する画像形成層のうち少なくとも１層は以下に述
べるポリマーラテックスを全バインダーの５０質量％以
上、さらに好ましくは７０重量％以上含有する画像形成
層であることが好ましい。また、ポリマーラテックスは
画像形成層だけではなく、保護層やバック層に用いても
よく、特に寸法変化が問題となる印刷用途に本発明の熱
現像感光材料を用いる場合には、保護層やバック層にも
ポリマーラテックスを用いることが好ましい。これらの
層にポリマーラテックスを用いることによって、水を主
成分とする溶媒（分散媒）を用いた水系塗布が可能にな
り、環境面、コスト面で有利になるとともに、熱現像時
にシワの発生がない熱現像感光材料が得られる。また、
所定の熱処理をした支持体を使用することにより、熱現
像の前後で寸法変化の少ない熱現像感光材料が得られ
る。

【０２４９】本明細書でいう「ポリマーラテックス」と
は水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の
分散媒中に分散されたものである。分散状態としてはポ
リマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合され
たもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子
中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分
散されたものなどいずれでもよい。なお本発明で用いる
ポリマーラテックスについては「合成樹脂エマルジョン
（奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行（１９７
８））」、「合成ラテックスの応用（杉村孝明、片岡靖
男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行（１９
９３））」、「合成ラテックスの化学（室井宗一著、高
分子刊行会発行（１９７０））」などに記載されてい
る。分散粒子の平均粒径は１〜５００００ｎｍが好まし
く、５〜１０００ｎｍがより好ましい。分散粒子の粒径
分布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つも
のでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。

【０２５０】本発明で用いるポリマーラテックスは、通
常の均一構造のポリマーラテックスであってもよいし、
いわゆるコア／シェル型のラテックスであってもよい。
コア／シェル型の場合、コアとシェルのガラス転移温度
は異なっている方が好ましい場合がある。特に、コアの
ＴｇがシェルのＴｇより高いコア／シェル型ラテックス
は、良好な造膜性が得られる。

【０２５１】本発明で用いるバインダーに好ましく用い
るポリマーラテックスのガラス転移温度（Ｔｇ）は保護
層、バック層と画像形成層とでは好ましい範囲が異な
る。画像形成層にあっては熱現像時に写真有用素材の拡
散を促すため、−３０〜４０℃であることが好ましい。
保護層やバック層に用いる場合には種々の機器と接触す
るために２５〜１００℃であることが好ましい。ポリマ
ーのＴｇは、例えば「J.Brandrup,E.H.Immergut共著Pol
ymer Handbook,2nd Edition, III-139〜III-192(197
5)」に記載の方法で求められる。

【０２５２】本発明で用いるポリマーラテックスの最低
造膜温度（ＭＦＴ）は−３０℃〜９０℃であることが好
ましく、０℃〜７０℃程度であることがより好ましい。
最低造膜温度をコントロールするために造膜助剤を添加
してもよい。造膜助剤は可塑剤ともよばれポリマーラテ
ックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物（通常有
機溶剤）で、例えば前述の「合成ラテックスの化学（室
井宗一著、高分子刊行会発行（１９７０））」に記載さ
れている。

【０２５３】本発明の画像形成層、保護層およびバック
層のポリマーラテックスに用いられるポリマー種として
はアクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、
ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化
ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂、またはこれらの
共重合体などが挙げられる。ポリマーとしては直鎖のポ
リマーでも枝分かれしたポリマーでも、また架橋された
ポリマーでもよい。またポリマーとしては単一のモノマ
ーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、２種以
上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマ
ーの場合はランダムコポリマーでもブロックコポリマー
でもよい。ポリマーの分子量は数平均分子量で５，００
０〜１，０００，０００、好ましくは１０，０００〜１
００，０００程度が好ましい。分子量が小さすぎるもの
は画像形成層の力学強度が不十分であり、大きすぎるも
のは成膜性が悪く、好ましくない。

【０２５４】本発明の熱現像感光材料の画像形成層のバ
インダーとして用いられるポリマーラテックスの具体例
としては、メチルメタクリレート／エチルアクリレート
／メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタク
リレート／ブタジエン／イタコン酸コポリマーのラテッ
クス、エチルアクリレート／メタクリル酸のコポリマー
のラテックス、メチルメタクリレート／２−エチルヘキ
シルアクリレート／スチレン／アクリル酸コポリマーの
ラテックス、スチレン／ブタジエン／アクリル酸コポリ
マーのラテックス、スチレン／ブタジエン／ジビニルベ
ンゼン／メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチル
メタクリレート／塩化ビニル／アクリル酸コポリマーの
ラテックス、塩化ビニリデン／エチルアクリレート／ア
クリロニトリル／メタクリル酸コポリマーのラテックス
などが挙げられる。さらに具体的には、メチルメタクリ
レート／エチルアクリレート／メタクリル酸＝３３．５
／５０／１６．５（質量％）のコポリマーラテックス、
メチルメタクリレート／ブタジエン／イタコン酸＝４
７．５／４７．５／５（質量％）のコポリマーラテック
ス、エチルアクリレート／メタクリル酸＝９５／５（質
量％）のコポリマーラテックスなどが挙げられる。ま
た、このようなポリマーは市販もされていて、例えばア
クリル樹脂の例として、セビアンＡ−４６３５，４６５
８３、４６０１（以上ダイセル化学工業（株）製）、Ｎ
ｉｐｏｌ ＬＸ８１１、８１４、８２１、８２０、８５
７（以上日本ゼオン（株）製）、ＶＯＮＣＯＲＴ−Ｒ３
３４０、Ｒ３３６０、Ｒ３３７０、４２８０（以上大日
本インキ化学（株）製）など、ポリエステル樹脂として
は、ＦＩＮＥＴＥＸ ＥＳ６５０、６１１、６７５、８
５０（以上大日本インキ化学（株）製）、ＷＤ−ｓｉｚ
ｅ、ＷＭＳ（以上イーストマンケミカル製）など、ポリ
ウレタン樹脂としてはＨＹＤＲＡＮ ＡＰ１０、２０、
３０、４０（以上大日本インキ化学（株）製）など、ゴ
ム系樹脂としてはＬＡＣＳＴＡＲ ７３１０Ｋ、３３０
７Ｂ、４７００Ｈ、７１３２Ｃ（以上大日本インキ化学
（株）製）、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４１０、４３０，４３
５、４３８Ｃ（以上日本ゼオン（株）製）など、塩化ビ
ニル樹脂としてはＧ３５１、Ｇ５７６（以上日本ゼオン
（株）製）など、塩化ビニリデン樹脂としてはＬ５０
２、Ｌ５１３（以上旭化成工業（株）製）、アロンＤ７
０２０、Ｄ５０４、Ｄ５０７１（以上三井東圧（株）
製）など、オレフィン樹脂としてはケミパールＳ１２
０、ＳＡ１００（以上三井石油化学（株）製）などを挙
げることができる。これらのポリマーは単独で用いても
よいし、必要に応じて２種以上ブレンドして用いてもよ
い。

【０２５５】画像形成層には必要に応じて全バインダー
の５０質量％以下の範囲でゼラチン、ポリビニルアルコ
ール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピル
メチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよ
い。これらの親水性ポリマーの添加量は画像形成層の全
バインダーの３０質量％以下であることが好ましく、１
５質量％以下であることがより好ましい。

【０２５６】画像形成層は水系の塗布液を塗布後乾燥し
て調製することが好ましい。ただし、本明細書で言う
「水系」とは塗布液の溶媒（分散媒）の６０質量％以上
が水であることをいう。塗布液の水以外の成分はメチル
アルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコー
ル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ジメチルホ
ルムアミド、酢酸エチルなどの水混和性の有機溶媒を用
いることができる。具体的な溶媒組成の例としては以下
のようなものがある。水／メタノール＝９０／１０、水
／メタノール＝７０／３０、水／エタノール＝９０／１
０、水／イソプロパノール＝９０／１０、水／ジメチル
ホルムアミド＝９５／５、水／メタノール／ジメチルホ
ルムアミド＝８０／１５／５、水／メタノール／ジメチ
ルホルムアミド＝９０／５／５（ただし数字は質量％を
表す。）

【０２５７】さらに、保護層用のバインダーとして、特
開２０００−２６７２２６号公報の段落番号００２５〜
００２９に記載の有機概念図に基づく無機性値を有機性
値で割ったＩ／Ｏ値の異なるポリマーラテックスの組み
合わせを好ましく用いることができる。

【０２５８】本発明においては必要に応じて、特開２０
００−２６７２２６号公報の段落番号００２１〜００２
５に記載の可塑剤（例えば、ベンジルアルコール、２，
２，４−トリメチルペンタンジオール−１，３−モノイ
ソブチレートなど）を添加して、造膜温度をコントロー
ルすることができる。また、特開２０００−２６７２２
６号公報の段落番号００２７〜００２８に記載されるよ
うに、ポリマーバインダー中に親水性ポリマーを、塗布
液中に水混和性の有機溶媒を添加してもよい。

【０２５９】それぞれの層には、特開２０００−１９６
７８号公報の段落番号００２３〜００４１に記載の官能
基を導入した第一のポリマーラテックスとこの第一のポ
リマーラテックスと反応しうる官能基を有する架橋剤お
よび／または第二のポリマーラテックスを用いることも
できる。上記の官能基は、カルボキシル基、ヒドロキシ
ル基、イソシアネート基、エポキシ基、Ｎ−メチロール
基、オキサゾリニル基など、架橋剤としては、エポキシ
化合物、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネー
ト化合物、メチロ−ル化合物、ヒドロキシ化合物、カル
ボキシル化合物、アミノ化合物、エチレンイミン化合
物、アルデヒド化合物、ハロゲン化合物などから選ばれ
る。架橋剤の具体例として、イソシアネート化合物とし
てヘキサメチレンイソシアネート、デュラネートＷＢ４
０−８０Ｄ、ＷＸ−１７４１（旭化成工業（株）製）、
バイヒジュール３１００（住友バイエルウレタン（株）
製）、タケネートＷＤ７２５（武田薬品工業（株）
製）、アクアネート１００、２００（日本ポリウレタン
（株）製）、特開平９−１６０１７２号公報記載の水分
散型ポリイソシアネート；アミノ化合物としてスミテッ
クスレジンＭ−３（住友化学工業（株）製）；エポキシ
化合物としてデナコールＥＸ−６１４Ｂ（ナガセ化成工
業（株）製）；ハロゲン化合物として２，４−ジクロロ
−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム
などが挙げられる。

【０２６０】画像形成層用の全バインダー量は０．２〜
３０ｇ／ｍ²が好ましく、１．０〜１５ｇ／ｍ²がより好
ましい。画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布性改
良のための界面活性剤などを添加してもよい。保護層用
の全バインダー量は、保護層の膜厚を３μｍ以上にする
ことができる量であることが好ましく、具体的には１〜
１０．０ｇ／ｍ²が好ましく、２〜６．０ｇ／ｍ²がより
好ましい。本発明では、保護層の膜厚は３μｍ以上であ
ることが好ましく、４μｍ以上であることがさらに好ま
しい。保護層膜厚の上限としては特に制限はないが、塗
布乾燥のことを考慮し、１０μｍ以下であることが好ま
しく、８μｍ以下であることがより好ましい。バック層
用の全バインダー量は０．０１〜１０．０ｇ／ｍ²が好
ましく、０．０５〜５．０ｇ／ｍ²がより好ましい。

【０２６１】本発明では、これらの各層は２層以上設け
られる場合がある。画像形成層が２層以上である場合
は、すべての層のバインダーとしてポリマーラテックス
を用いることが好ましい。また、保護層は画像形成層上
に設けられる層であり２層以上存在する場合もあるが、
少なくとも１層、特に最外層の保護層にポリマーラテッ
クスが用いられることが好ましい。また、バック層は支
持体バック面の下塗り層の上部に設けられる層であり２
層以上存在する場合もあるが、少なくとも１層、特に最
外層のバック層にポリマーラテックスを用いることが好
ましい。

【０２６２】本発明では滑り剤を用いることができる。
本明細書における「滑り剤」とは、物体表面に存在させ
た時に、存在させない場合に比べて物体表面の摩擦係数
を減少させることができる化合物を意味する。その種類
は特に制限されない。

【０２６３】本発明に用いる滑り剤としては、特開平１
１−８４５７３号公報の段落番号００６１〜００６４、
特開２００１−８３６７９号公報の段落番号００４９〜
００６２に記載の化合物を挙げることができる。好まし
い滑り剤の具体例としては、セロゾール５２４（主成分
カルナバワックス）、ポリロンＡ，３９３，Ｈ−４８１
（主成分ポリエチレンワックス）、ハイミクロンＧ−１
１０（主成分エチレンビスステアリン酸アマイド）、ハ
イミクロンＧ−２７０（主成分ステアリン酸アマイド）
（以上、中京油脂（株）製）、 Ｗ−１ Ｃ₁₆Ｈ₃₃−Ｏ−ＳＯ₃Ｎａ Ｗ−２ Ｃ₁₈Ｈ₃₇−Ｏ−ＳＯ₃Ｎａ などが挙げられる。滑り剤の使用量は添加層のバインダ
ー量の０．１〜５０質量％であり、好ましくは０．５〜
３０質量％である。

【０２６４】本発明の熱現像感光材料を熱現像する際
に、特開２０００−１７１９３５号公報、特開２００１
−８３６７９号公報に記載のように予備加熱部を対向ロ
ーラーで搬送し、熱現像処理部は画像形成層を有する側
をローラーの駆動により、その反対側のバック面を平滑
面に滑らせて搬送する熱現像機を用いる場合、熱現像感
光材料の画像形成層を有する側の最表面層とバック面の
最表面層との熱現像処理温度における摩擦係数の比は
１．５以上であることが好ましい。その摩擦係数の比の
上限は特に制限されないが、３０程度であることが好ま
しい。摩擦係数の比は以下の式により求めることができ
る。 摩擦係数の比＝熱現像機のローラー部材と画像形成層を
有する面との動摩擦係数（μｅ）／熱現像機の平滑面部
材とバック面との動摩擦係数（μｂ） μｂは１．０以下であることが好ましく、０．０５〜
０．８であることがより好ましい。本発明において熱現
像処理温度での熱現像処理機部材と画像形成層を有する
面および／またはその反対面の最表面層の滑り性は、最
表面層に滑り剤を含有させ、その添加量を変えることに
より調整することができる。

【０２６５】支持体の両面には、特開昭６４−２０５４
４号公報、特開平１−１８０５３７号公報、特開平１−
２０９４４３号公報、特開平１−２８５９３９号公報、
特開平１−２９６２４３号公報、特開平２−２４６４９
号公報、特開平２−２４６４８号公報、特開平２−１８
４８４４号公報、特開平３−１０９５４５号公報、特開
平３−１３７６３７号公報、特開平３−１４１３４６号
公報、特開平３−１４１３４７号公報、特開平４−９６
０５５号公報、米国特許第４，６４５，７３１号明細
書、特開平４−６８３４４号公報、特許第２，５５７，
６４１号公報の２頁右欄２０行目〜３頁右欄３０行目、
特開２０００−３９６８４号公報の段落番号００２０〜
００３７、特開２００１−８３６７９号公報の段落番号
００６３〜００８０に記載の塩化ビニリデン単量体の繰
り返し単位を７０質量％以上含有する塩化ビニリデン共
重合体を含む下塗り層を設けることが好ましい。

【０２６６】塩化ビニリデン単量体が７０質量％未満の
場合は、十分な防湿性が得られず、熱現像後の時間経過
における寸法変化が大きくなってしまう傾向がある。ま
た、塩化ビニリデン共重合体は、塩化ビニリデン単量体
のほかの構成繰り返し単位としてカルボキシル基含有ビ
ニル単量体の繰り返し単位を含むことが好ましい。この
ような繰り返し単位を含ませるのは、塩化ビニル単量体
のみでは、重合体（ポリマー）が結晶化してしまい、防
湿層を塗設する際に均一な膜を作り難くなり、また重合
体（ポリマー）の安定化のためにはカルボキシル基含有
ビニル単量体が不可欠であるからである。本発明で用い
る塩化ビニリデン共重合体の重量平均分子量は４５，０
００以下であることが好ましく、１０，０００〜４５，
０００であることがより好ましい。分子量が大きくなる
と塩化ビニリデン共重合体層とポリエステル等の支持体
層との接着性が悪化してしまう傾向がある。

【０２６７】本発明で用いる塩化ビニリデン共重合体の
含有量は、塩化ビニリデン共重合体を含有する下塗り層
の片面当りの合計膜厚として０．３μｍ以上であること
が好ましく、０．３μｍ〜４μｍであることがより好ま
しい。

【０２６８】なお、下塗り層としての塩化ビニリデン共
重合体層は、支持体に直接設層される下塗り層第１層と
して設けることが好ましく、通常は片面ごとに１層ずつ
設けられるが、場合によっては２層以上設けてもよい。
２層以上の多層構成とするときは、塩化ビニリデン共重
合体量が合計で上記の範囲であることがより好ましい。
これらの層には塩化ビニリデン共重合体のほか、架橋剤
やマット剤などを含有させてもよい。

【０２６９】支持体には必要に応じて塩化ビニリデン共
重合体層のほか、ＳＢＲ、ポリエステル、ゼラチン等を
バインダーとする下塗り層を塗布してもよい。これらの
下塗り層は多層構成としてもよく、また支持体に対して
片面または両面に設けてもよい。下塗り層の厚み（１層
当たり）は一般に０．０１〜５μｍであり、より好まし
くは０．０５〜１μｍである。

【０２７０】本発明の熱現像感光材料には、種々の支持
体を用いることができる。典型的な支持体としては、ポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナ
フタレートなどのポリエステル、硝酸セルロース、セル
ロースエステル、ポリビニルアセタール、シンジオタク
チックポリスチレン、ポリカーボネート、両面がポリエ
チレンで被覆された紙支持体などが挙げられる。このう
ち二軸延伸したポリエステル、特にポリエチレンテレフ
タレートが強度、寸法安定性、耐薬品性などの点から好
ましい。支持体の厚みは下塗り層を除いたベース厚みで
９０〜１８０μｍであることが好ましい。

【０２７１】本発明の熱現像感光材料に用いる支持体と
しては、特開平１０−４８７７２号公報、特開平１０−
１０６７６号公報、特開平１０−１０６７７号公報、特
開平１１−６５０２５号公報、特開平１１−１３８６４
８号公報に記載の二軸延伸時にフィルム中に残存する内
部歪みを緩和させ、熱現像処理中に発生する熱収縮歪み
をなくすために、１３０〜１８５℃の温度範囲で熱処理
を施したポリエステル、特にポリエチレンテレフタレー
トが好ましく用いられる。

【０２７２】このような熱処理後における支持体の１２
０℃、３０秒加熱による寸法変化率は縦方向（ＭＤ）が
−０．０３％〜＋０．０１％、横方向（ＴＤ）が０〜
０．０４％であることが好ましい。

【０２７３】本発明の熱現像感光材料には、ゴミ付着の
減少、スタチックマーク発生防止、自動搬送工程での搬
送不良防止などの目的で、特開平１１−８４５７３号公
報の段落番号００４０〜００５１に記載の導電性金属酸
化物および／またはフッ素系界面活性剤を用いて帯電防
止することができる。導電性金属酸化物としては、米国
特許第５，５７５，９５７号明細書、特開平１１−２２
３９０１号公報の段落番号００１２〜００２０に記載の
アンチモンでドーピングされた針状導電性酸化錫、特開
平４−２９１３４号公報に記載のアンチモンでドーピン
グされた繊維状酸化錫が好ましく用いられる。

【０２７４】金属酸化物含有層の表面比抵抗（表面抵抗
率）は２５℃、相対湿度２０％の雰囲気下で１０¹²Ω以
下であることが好ましく、１０¹¹Ω以下であることがよ
り好ましい。これにより良好な帯電防止性が得られる。
このときの表面抵抗率の下限は特に制限されないが、通
常１０⁷Ω程度である。

【０２７５】本発明の熱現像感光材料の画像形成層を有
する面およびその反対面の最外層表面の少なくとも一
方、好ましくは両方のベック平滑度は、５０００秒以下
であり、より好ましくは１０秒〜２０００秒である。本
発明におけるベック平滑度は、日本工業規格（ＪＩＳ）
Ｐ８１１９「紙および板紙のベック試験器による平滑度
試験方法」およびＴＡＰＰＩ標準法Ｔ４７９により容易
に求めることができる。熱現像感光材料の画像形成層を
有する面の最外層およびその反対面の最外層のベック平
滑度は、特開平１１−８４５７３号公報の段落番号００
５２〜００５９に記載されるように、前記両面の層に含
有させるマット剤の粒径および添加量を適宜変化させる
ことによってコントロールすることができる。

【０２７６】本発明では、塗布性付与のための増粘剤と
して水溶性ポリマーを好ましく用いることができる。本
発明で用いる水溶性ポリマーは、天然物でも合成ポリマ
ーでもよく、その種類は特に限定されない。具体的に
は、天然物としてはデンプン類（コーンスターチ、デン
プンなど）、海藻（寒天、アルギン酸ナトリウムな
ど）、植物性粘着物（アラビアゴムなど）、動物性タン
パク（にかわ、カゼイン、ゼラチン、卵白など）、発酵
粘着物（プルラン、デキストリンなど）などが挙げられ
る。また、半合成ポリマーであるデンプン質（可溶性デ
ンプン、カルボキシルデンプン、デキストランなど）、
セルロース類（ビスコース、メチルセルロース、エチル
セルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒ
ドロキシプロピルメチルセルロースなど）も用いること
ができる。さらに合成ポリマーとして、ポリビニルアル
コール、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、
ポリビニルエーテル、ポリエチレンイミン、ポリスチレ
ンスルホン酸またはその共重合体、ポリビニルスルフィ
ン酸またはその共重合体、ポリアクリル酸またはその共
重合体、アクリル酸またはその共重合体等、マレイン酸
共重合体、マレイン酸モノエステル共重合体、アクリロ
イルメチルプロパンスルホン酸またはその共重合体など
を挙げることができる。

【０２７７】これらの中でも好ましく用いられる水溶性
ポリマーは、アルギン酸ナトリウム、ゼラチン、デキス
トラン、デキストリン、メチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリスチレ
ンスルホン酸またはその共重合体、ポリアクリル酸また
はその共重合体、マレイン酸モノエステル共重合体、ア
クリロイルメチルプロパンスルホン酸またはその共重合
体などである。これらは、特に増粘剤として好ましく利
用される。

【０２７８】これらの中でも特に好ましい増粘剤は、ゼ
ラチン、デキストラン、メチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリ
ビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリビニルピ
ロリドン、ポリスチレンスルホン酸またはその共重合
体、ポリアクリル酸またはその共重合体、マレイン酸モ
ノエステル共重合体などである。これらの化合物は、
「新・水溶性ポリマーの応用と市場」（株式会社シーエ
ムシー発行、長友新治編集、１９８８年１１月４日発
行）に詳細に記載されている。

【０２７９】増粘剤としての水溶性ポリマーの使用量
は、塗布液に添加した時に粘度が上昇すれば特に限定さ
れない。一般に液中の濃度は好ましくは０．０１〜３０
質量％、より好ましくは０．０５〜２０質量％、特に好
ましくは０．１〜１０重量％である。これらによって得
られる粘度は、初期の粘度からの上昇分として１〜２０
０ｍＰａ・ｓが好ましく、より好ましくは５〜１００ｍ
Ｐａ・ｓである。なお、粘度はＢ型回転粘度計で２５℃
で測定した値を示す。塗布液などへの添加に当たって
は、一般に増粘剤はできるだけ希薄溶液で添加すること
が望ましい。また添加時には十分な攪拌を行うことが好
ましい。

【０２８０】本発明で用いる界面活性剤について以下に
説明する。本発明で用いる界面活性剤はその使用目的に
よって、分散剤、塗布剤、濡れ剤、帯電防止剤、写真性
コントロール剤などに分類されるが、以下に述べる界面
活性剤を、適宜選択して使用することによってそれらの
目的は達成することができる。本発明では、ノニオン
性、イオン性（アニオン、カチオン、ベタイン）のいず
れの界面活性剤も使用することができる。さらにフッ素
系界面活性剤も好ましく用いられる。

【０２８１】好ましいノニオン系界面活性剤としては、
ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキ
シブチレン、ポリグリシジルやソルビタンをノニオン性
親水性基とする界面活性剤を挙げることができ、具体的
には、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキ
シエチレンアルキルフェニールエーテル、ポリオキシエ
チレン−ポリオキシプロピレングリコール、多価アルコ
ール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン多価アル
コール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸
エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ジエ
タノールアミド、トリエタノールアミン脂肪酸部分エス
テルを挙げることができる。

【０２８２】アニオン系界面活性剤としては、カルボン
酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、リン酸エステル塩を挙げ
ることができ、代表的なものとしては脂肪酸塩、アルキ
ルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン
酸塩、アルキルスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン
酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、α−スルホン化脂
肪酸塩、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリン、石油スル
ホン酸塩、アルキル硫酸塩、硫酸化油脂、ポリオキシエ
チレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレン
スチレン化フェニールエーテル硫酸塩、アルキルリン酸
塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ナ
フタレンスルホン酸塩ホルムアルデヒド縮合物などを挙
げることができる。

【０２８３】カチオン系界面活性剤としてはアミン塩、
４級アンモニウム塩、ピリジウム塩などを挙げることが
でき、より具体的には第１〜第３級脂肪アミン塩、第４
級アンモニウム塩（テトラアルキルアンモニウム塩、ト
リアルキルベンジルアンモニウム塩、アルキルピリジウ
ム塩、アルキルイミダゾリウム塩など）を挙げることが
できる。

【０２８４】ベタイン系界面活性剤としてはカルボキシ
ベタイン、スルホベタインなどを挙げることができ、Ｎ
−トリアルキル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウムベ
タイン、Ｎ−トリアルキル−Ｎ−スルホアルキレンアン
モニウムベタインなどを挙げることができる。

【０２８５】これらの界面活性剤は、「界面活性剤の応
用」（幸書房、刈米孝夫著、昭和５５年９月１日発行）
に記載されている。本発明における好ましい界面活性剤
の使用量は特に限定されず、目的とする界面活性特性が
得られる量であればよい。なお、フッ素含有界面活性剤
の塗布量は、１ｍ²当り０．０１ｍｇ〜２５０ｍｇが好
ましい。

【０２８６】以下に界面活性剤の具体例を記すが、本発
明で用いることができる界面活性剤はこれらに限定され
るものではない（ここで、−Ｃ₆Ｈ₄−はフェニレン基を
表わす）。 ＷＡ−１ ：C₁₆H₃₃(OCH₂CH₂)₁₀OH ＷＡ−２ ：C₉H₁₉-C₆H₄-(OCH₂CH₂)₁₂OH ＷＡ−３ ：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ＷＡ−４ ：トリ（イソプロピル）ナフタレンスルホン
酸ナトリウム ＷＡ−５ ：トリ（イソブチル）ナフタレンスルホン酸
ナトリウム ＷＡ−６ ：ドデシル硫酸ナトリウム ＷＡ−７ ：α−スルファコハク酸ジ（２−エチルヘキ
シル）エステル ナトリウム塩 ＷＡ−８ ：C₈H₁₇-C₆H₄-(CH₂CH₂O)₃(CH₂)₂SO₃K ＷＡ−１０ ：セチルトリメチルアンモニウム クロラ
イド ＷＡ−１１ ：C₁₁H₂₃CONHCH₂CH₂N⁽⁺⁾(CH₃)₂-CH₂COO^(-) ＷＡ−１２ ：C₈F₁₇SO₂N(C₃H₇)(CH₂CH₂O)₁₆H ＷＡ−１３ ：C₈F₁₇SO₂N(C₃H₇)CH₂COOK ＷＡ−１４ ：C₈F₁₇SO₃K ＷＡ−１５ ：C₈F₁₇SO₂N(C₃H₇)(CH₂CH₂O)₄(CH₂)₄SO₃Na ＷＡ−１６ ：C₈F₁₇SO₂N(C₃H₇)(CH₂)₃OCH₂CH₂N⁽⁺⁾(C
H₃)₃-CH₃・C₆H₄-SO₃ ^(-) ＷＡ−１７ ：C₈F₁₇SO₂N(C₃H₇)CH₂CH₂CH₂N⁽⁺⁾(CH₃)₂-C
H₂COO^(-)

【０２８７】本発明の好ましい態様においては、画像形
成層および保護層に加えて、必要に応じて中間層を設け
てもよい。生産性の向上などを目的として、これらの複
数の層は水系において同時重層塗布することが好まし
い。塗布方式はエクストルージョン塗布、スライドビー
ド塗布、カーテン塗布などがあるが、特開２０００−２
９６４号公報の図１に示されるスライドビード塗布方式
が特に好ましい。

【０２８８】ゼラチンを主バインダーとして用いるハロ
ゲン化銀写真感光材料の場合は、コーティングダイの下
流に設けられている第一乾燥ゾーンで急冷され、その結
果、ゼラチンのゲル化が起こり、塗布膜は冷却固化され
る。冷却固化されて流動の止まった塗布膜は続く第二乾
燥ゾーンに導かれ、これ以降の乾燥ゾーンで塗布液中の
溶媒が揮発され、成膜される。第二乾燥ゾーン以降の乾
燥方式としては、Ｕ字型のダクトからローラー支持され
た支持体に噴流を吹き付けるエアーループ方式や円筒状
のダクトに支持体をつるまき状に巻き付けて搬送乾燥す
る、つるまき方式（エアーフローティング方式）などが
挙げられる。

【０２８９】バインダーの主成分がポリマーラテックス
である塗布液を用いて層形成を行うときには、急冷では
塗布液の流動を停止させることができないため、第一乾
燥ゾーンのみでは予備乾燥が不十分である場合もある。
この場合は、ハロゲン化銀写真感光材料で用いられてい
る様な乾燥方式では流れムラや乾燥ムラが生じ、塗布面
状に重大な欠陥を生じやすい。

【０２９０】本発明における好ましい乾燥方式は、特開
２０００−２９６４号公報に記載されているような第一
乾燥ゾーン、第二乾燥ゾーンを問わず、少なくとも恒率
乾燥が終了するまでの間は水平乾燥ゾーンで乾燥させる
方式である。塗布直後から水平乾燥ゾーンに導かれるま
での支持体の搬送は、水平搬送であってもなくてもどち
らでもよく、塗布機の水平方向に対する立ち上がり角度
は０〜７０°の間にあればよい。また、本発明における
水平乾燥ゾーンとは、支持体が塗布機の水平方向に対し
て上下に±１５°以内に搬送されればよく、水平搬送を
意味するものではない。

【０２９１】本明細書において「恒率乾燥」とは、液膜
温度が一定で流入する熱量全てが溶媒の蒸発に使用され
る乾燥過程を意味する。また、本明細書において「減率
乾燥」とは、乾燥末期における種々の要因（水分移動の
材料内部拡散が律速になる、蒸発表面の後退など）によ
り乾燥速度が低下し、与えられた熱が液膜温度上昇にも
使用される乾燥過程を意味する。恒率過程から減率過程
に移行する限界含水率は２００〜３００％である。恒率
乾燥が終了する時には、流動が停止するまで十分に乾燥
が進むため、ハロゲン化銀写真感光材料の様な乾燥方式
も採用することができるが、本発明においては恒率乾燥
後も最終的な乾燥点まで水平乾燥ゾーンで乾燥させるこ
とが好ましい。

【０２９２】画像形成層および／または保護層を形成す
る際、恒率乾燥時の液膜表面温度はポリマーラテックス
の最低造膜温度（ＭＴＦ；通常ポリマーのガラス転移温
度Ｔｇより３〜５℃高い）以上にすることが好ましい。
通常は製造設備の制限より２５℃〜４０℃にすることが
多い。また、減率乾燥時の乾球温度は支持体のＴｇ未満
の温度（ＰＥＴの場合通常８０℃以下）であることが好
ましい。本明細書における「液膜表面温度」とは、支持
体に塗布された塗布液膜の溶媒液膜表面温度を言い、
「乾球温度」とは乾燥ゾーンの乾燥風の温度を意味す
る。

【０２９３】恒率乾燥時の液膜表面温度が低くなる条件
で乾燥した場合、乾燥が不十分になりやすい。このため
特に保護層の造膜性が著しく低下し、膜表面に亀裂が生
じやすくなる。また、膜強度も弱くなり、露光機や熱現
像機での搬送中に傷がつきやすくなるなどの重大な問題
が生じやすくなる。

【０２９４】一方、液膜表面温度が高くなる条件で乾燥
した場合は、主としてポリマーラテックスから構成され
る保護層は速やかに皮膜を形成するが、その一方で画像
形成層などの下層は流動性が停止していないので、表面
に凹凸が発生しやすくなる。また、支持体（ベース）に
Ｔｇよりも高い過剰の熱がかかると、感光材料の寸度安
定性、耐巻き癖性も悪くなる傾向にある。

【０２９５】下層を塗布乾燥してから上層を塗布する逐
次塗布においても同様であるが、特に、下層の乾燥前に
上層を塗布して、両層を同時に乾燥する同時重層塗布を
行うための塗布液物性としては、画像形成層の塗布液と
保護層の塗布液とのｐＨ差が２．５以下であることが好
ましく、このｐＨ差は小さい程好ましい。塗布液のｐＨ
差が大きくなると塗布液界面でミクロな凝集が生じやす
くなり、長尺連続塗布時に塗布筋などの重大な面状故障
が発生しやすくなる。

【０２９６】画像形成層の塗布液粘度は２５℃で１５〜
１００ｍＰａ・ｓが好ましく、さらに好ましくは４０〜
７０ｍＰａ・ｓである。一方、保護層の塗布液粘度は２
５℃で５〜７５ｍＰａ・ｓが好ましく、さらに好ましく
は３０〜６０ｍＰａ・ｓである。これらの粘度はＢ型粘
度計によって測定される。

【０２９７】乾燥後の巻取りは温度２０〜３０℃、相対
湿度４５±２０％の条件下で行うことが好ましく、巻き
姿はその後の加工形態に合わせ画像形成層側の面を外側
にしてもよいし、内側にしてもよい。また、加工形態が
ロール品の場合は巻き姿で発生したカールを除去するた
めに加工時に巻き姿とは反対側に巻いたロール形態にす
ることも好ましい。なお、熱現像感光材料の相対湿度は
２０〜５５％（２５℃測定）の範囲で制御されることが
好ましい。

【０２９８】ハロゲン化銀を含みゼラチンを基体とする
粘性液である従来の写真乳剤塗布液は、通常加圧送液す
るだけで気泡が液中に溶解、消滅してしまい、塗布時に
大気圧下に戻されても気泡が析出するようなことはほと
んどない。ところが、本発明で好ましく用いられる有機
銀塩分散物とポリマーラテックスなどを含む画像形成層
塗布液の場合は、加圧送液だけでは脱泡が不十分になり
やすいため、気液界面が生じないようにして送液しなが
ら超音波振動を与え脱泡することが好ましい。

【０２９９】本発明における塗布液の脱泡は、塗布液を
塗布される前に減圧脱気し、さらに１．５ｋｇ／ｃｍ²
以上の加圧状態に保ち、かつ気液界面が生じないように
して連続的に送液しながら超音波振動を与える方式が好
ましい。具体的には、特公昭５５−６４０５号公報４頁
２０行〜７頁１１行に記載されている方式が好ましい。
このような脱泡を行う装置として、特開２０００−９８
５３４号公報の実施例と図２に示される装置を好ましく
用いることができる。

【０３００】加圧条件としては、１．５ｋｇ／ｃｍ²以
上が好ましく、１．８ｋｇ／ｃｍ²以上がより好まし
い。その上限に特に制限はないが、通常５ｋｇ／ｃｍ²
程度である。与えられる超音波の音圧は０．２Ｖ以上、
好ましくは０．５Ｖ〜３．０Ｖであり、一般的に音圧は
高い方が好ましいが、音圧が高すぎるとキャピテーショ
ンにより部分的に高温状態になりカブリの発生原因とな
る。周波数は特に制約はないが、通常１０ｋＨｚ以上、
好ましくは２０ｋＨｚ〜２００ｋＨｚである。なお、減
圧脱気は、タンク内（通常、調液タンクもしくは貯蔵タ
ンク）を密閉減圧し、塗布液中の気泡径を増大させ、浮
力をかせぎ脱気させることを指し、減圧脱気の際の減圧
条件は−２００ｍｍＨｇないしそれより低い圧力条件、
好ましくは−２５０ｍｍＨｇないしそれより低い圧力条
件とし、その最も低い圧力条件は特に制限はないが通常
−８００ｍｍＨｇ程度である。減圧時間は好ましくは３
０分以上、より好ましくは４５分以上であり、その上限
は特に制限されない。

【０３０１】本発明において、画像形成層、画像形成層
の保護層、下塗層およびバック層には特開平１１−８４
５７３号公報の段落番号０２０４〜０２０８、特開２０
０１−８３６７９号公報の段落番号０２４０〜０２４１
に記載されるようにハレーション防止などの目的で、染
料を含有させることができる。

【０３０２】画像形成層には色調改良、イラジエーショ
ン防止の観点から各種染料や顔料を用いることができ
る。画像形成層に用いる染料および顔料はいかなるもの
でもよいが、例えば特開平１１−１１９３７４号公報の
段落番号０２９７に記載されている化合物を用いること
ができる。これらの染料の添加法としては、溶液、乳化
物、固体微粒子分散物、高分子媒染剤に媒染された状態
などいかなる方法でもよい。これらの化合物の使用量は
目的の吸収量によって決められるが、一般的に１ｍ²当
たり１×１０^-6ｇ〜１ｇの範囲で用いることが好まし
い。

【０３０３】本発明でハレーション防止染料を使用する
場合、該染料は所望の範囲で目的の吸収を有し、処理後
に可視領域での吸収が充分少なく、上記バック層の好ま
しい吸光度スペクトルの形状が得られればいかなる化合
物でもよい。例えば特開平１１−１１９３７４号公報の
段落番号０３００に記載されている化合物を用いること
ができる。また、ベルギー特許第７３３，７０６号明細
書に記載されるように染料による濃度を加熱による消色
で低下させる方法、特開昭５４−１７８３３号公報に記
載されるように光照射による消色で濃度を低下させる方
法等を用いることもできる。

【０３０４】本発明の熱現像感光材料が熱現像後におい
て、ＰＳ版により刷版を作製する際にマスクとして用い
られる場合、熱現像後の熱現像感光材料は、製版機にお
いてＰＳ版に対する露光条件を設定するための情報や、
マスク原稿およびＰＳ版の搬送条件等の製版条件を設定
するための情報を画像情報として担持している。従っ
て、前記のイラジエーション染料、ハレーション染料、
フィルター染料の濃度（使用量）は、これらを読み取る
ために制限される。これら情報はＬＥＤあるいはレーザ
ーによって読み取られるため、センサーの波長域のＤｍ
ｉｎ（最低濃度）が低い必要があり吸光度が０．３以下
である必要がある。例えば、富士写真フイルム（株）社
製、製版機Ｓ−ＦＮＲIIIはトンボ検出のための検出器
およびバーコードリーダーとして６７０ｎｍの波長の光
源を使用している。また、清水製作社製、製版機ＡＰＭ
Ｌシリーズのバーコードリーダーとして６７０ｎｍの光
源を使用している。すなわち６７０ｎｍ付近のＤｍｉｎ
（最低濃度）が高い場合にはフィルム上の情報が正確に
検出できず搬送不良、露光不良など製版機で作業エラー
が発生する。従って、６７０ｎｍの光源で情報を読み取
るためには６７０ｎｍ付近のＤｍｉｎが低い必要があ
り、熱現像後の６６０〜６８０ｎｍの吸光度が０．３以
下である必要がある。より好ましくは０．２５以下であ
る。その下限に特に制限はないが、通常は０．１０程度
である。

【０３０５】本発明において、像様露光に用いられる露
光装置は露光時間が１０^-7秒以下の露光が可能な装置で
あればいずれでもよいが、一般的にはレーザーダイオー
ド（ＬＤ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）を光源に使用し
た露光装置が好ましく用いられる。特に、ＬＤは高出
力、高解像度の点でより好ましい。これらの光源は目的
波長範囲の電磁波スペクトルの光を発生することができ
るものであればいずれでもよい。例えばＬＤであれば、
色素レーザー、ガスレーザー、固体レーザー、半導体レ
ーザーなどを用いることができる。

【０３０６】本発明の熱現像感光材料は、光源の光ビー
ムをオーバーラップさせて露光する。オーバーラップと
は副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オ
ーバーラップは、例えばビーム径をビーム強度の半値幅
（ＦＷＨＭ）で表わしたとき、ＦＷＨＭ／副走査ピッチ
幅（オーバーラップ係数）で定量的に表現することがで
きる。本発明ではこのオーバーラップ係数が０．２以上
であることが好ましい。

【０３０７】本発明に使用する露光装置の光源の走査方
式は特に限定されず、円筒外面走査方式、円筒内面走査
方式、平面走査方式などを用いることができる。また、
光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネル
でもよいが、高出力が得られ、書き込み時間が短くなる
という点でレーザーヘッドを２機以上搭載するマルチチ
ャンネルが好ましい。特に、円筒外面方式の場合にはレ
ーザーヘッドを数機から数十機以上搭載するマルチチャ
ンネルが好ましく用いられる。

【０３０８】本発明の熱現像感光材料は露光時のヘイズ
が低く、干渉縞が発生しやすい傾向にある。この干渉縞
の発生防止技術としては、特開平５−１１３５４８号公
報などに開示されているレーザー光を感光材料に対して
斜めに入光させる技術や、国際公開ＷＯ９５／３１７５
４号公報などに開示されているマルチモードレーザーを
利用する方法が知られており、これらの技術を用いるこ
とが好ましい。

【０３０９】本発明の熱現像感光材料に画像形成する際
の加熱現像工程はいかなる方法によるものであってもよ
いが、通常はイメージワイズに露光した熱現像感光材料
を昇温して現像する。用いられる熱現像機の好ましい態
様としては、熱現像感光材料をヒートローラーやヒート
ドラムなどの熱源に接触させるタイプとして特公平５−
５６４９９号公報、特開平９−２９２６９５号公報、特
開平９−２９７３８５号公報および国際公開ＷＯ９５／
３０９３４号公報に記載の熱現像機、非接触型のタイプ
として特開平７−１３２９４号公報、国際公開ＷＯ９７
／２８４８９号公報、同９７／２８４８８号公報および
同９７／２８４８７号公報に記載の熱現像機がある。特
に好ましいのは非接触型の熱現像機である。好ましい現
像温度は８０〜２５０℃であり、さらに好ましくは１０
０〜１４０℃である。現像時間は１〜１８０秒が好まし
く、５〜９０秒がさらに好ましい。ラインスピードは１
４０ｃｍ／ｍｉｎ以上、さらには１５０ｃｍ／ｍｉｎ以
上が好ましい。

【０３１０】熱現像時における熱現像感光材料の寸法変
化による処理ムラを防止する方法として、８０℃以上１
１５℃未満の温度で画像が出ないようにして、５秒以上
加熱した後、１１０℃〜１４０℃で熱現像して画像形成
させる方法（いわゆる多段階加熱方法）を採用すること
が有効である。

【０３１１】本発明の熱現像感光材料を熱現像処理する
とき、１１０℃以上の高温にさらされるため、該材料中
に含まれている成分の一部、あるいは熱現像による分解
成分の一部が揮発してくる。これらの揮発成分は現像ム
ラの原因になったり、熱現像機の構成部材を腐食させた
り、温度の低い場所で析出し異物として画面の変形を引
起こしたり、画面に付着して汚れとなったりする等の種
々の悪い影響を及ぼすことが知られている。これらの影
響を除くための方法として、熱現像機にフィルターを設
置し、また熱現像機内の空気の流れを最適に調整するこ
とが知られている。これらの方法は有効に組み合わせて
利用することができる。例えば、国際公開ＷＯ９５／３
０９３３号公報、同９７／２１１５０号公報、特表平１
０−５００４９６号公報には、結合吸収粒子を有し揮発
分を導入する第一の開口部と排出する第二の開口部とを
有するフィルターカートリッジを、フィルムと接触して
加熱する加熱装置に用いることが記載されている。ま
た、国際公開ＷＯ９６／１２２１３号公報、特表平１０
−５０７４０３号公報には、熱伝導性の凝縮捕集器とガ
ス吸収性微粒子フィルターを組合せたフィルターを用い
ることが記載されている。本発明ではこれらを好ましく
用いることができる。また、米国特許第４，５１８，８
４５号明細書、特公平３−５４３３１号公報には、フィ
ルムからの蒸気を除去する装置とフィルムを伝熱部材へ
押圧する加圧装置と伝熱部材を加熱する装置とを有する
構成が記載されている。また、国際公開ＷＯ９８／２７
４５８号には、フィルムから揮発するカブリを増加させ
る成分をフィルム表面から取り除くことが記載されてい
る。これらについても本発明では好ましく用いることが
できる。

【０３１２】本発明の熱現像感光材料の熱現像処理に用
いられる熱現像機の一構成例を図２に示す。図２は熱現
像機の側面図を示したものである。図２の熱現像機は熱
現像感光材料１０を平面状に矯正および予備加熱しなが
ら加熱部に搬入する搬入ローラー対１１（上部ローラー
はシリコンゴムローラーで、下部ローラーがアルミ製の
ヒートローラー）と熱現像後の熱現像感光材料１０を平
面状に矯正しながら加熱部から搬出する搬出ローラー対
１２を有する。熱現像感光材料１０は搬入ローラー対１
１から搬出ローラー対１２へと搬送される間に熱現像さ
れる。この熱現像中の熱現像感光材料１０を搬送する搬
送手段は画像形成層を有する面が接触する側に複数のロ
ーラー１３が設置され、その反対側のバック面が接触す
る側には不織布（例えば芳香族ポリアミドやテフロン
(登録商標）から成る）等が貼り合わされた平滑面１４
が設置される。熱現像感光材料１０は画像形成層を有す
る面に接触する複数のローラー１３の駆動により、バッ
ク面を平滑面１４の上に滑らせながら搬送される。ロー
ラー１３の上部および平滑面１４の下部には、熱現像感
光材料１０の両面から加熱されるように加熱ヒーター１
５が設置される。この場合の加熱手段としては板状ヒー
ター等が挙げられる。ローラー１３と平滑面１４とのク
リアランスは平滑面の部材により異なるが、熱現像感光
材料１０が搬送できるクリアランスに適宜調整される。
好ましくは０〜１ｍｍである。

【０３１３】ローラー１３の表面の材質および平滑面１
４の部材は、高温耐久性があり、熱現像感光材料１０の
搬送に支障がなければ何でもよいが、ローラー表面の材
質はシリコンゴム、平滑面の部材は芳香族ポリアミドま
たはテフロン（ＰＴＦＥ）製の不織布が好ましい。加熱
手段としては複数のヒーターを用い、それぞれ加熱温度
を自由に設定することが好ましい。

【０３１４】なお、加熱部は、搬入ローラー対１１を有
する予備加熱部Ａと、加熱ヒーター１５を備えた熱現像
加熱部Ｂとで構成されるが、熱現像処理部Ｂの上流の予
備加熱部Ａは、熱現像温度よりも低く（例えば１０〜３
０℃程度低く）、熱現像感光材料１０中の水分量を蒸発
させるのに十分な温度および時間に設定することが望ま
しく、熱現像感光材料１０の支持体のガラス転移温度
（Ｔｇ）よりも高い温度で、現像ムラが出ないように設
定することが好ましい。予備加熱部と熱現像処理部の温
度分布としては±１℃以下が好ましく、さらには±０．
５℃以下が好ましい。また、熱現像処理部Ｂの下流には
ガイド板１６が設置され、搬出ローラー対１２とガイド
板１６とを有する徐冷部Ｃが設置される。ガイド板１６
は熱伝導率の低い素材が好ましく、熱現像感光材料１０
に変形が起こらないようにするために冷却は徐々に行う
のが好ましく、冷却速度としては、０．５〜１０℃／秒
が好ましい。

【０３１５】以上、図示例に従って説明したが、これに
限らず、例えば特開平７−１３２９４号公報に記載のも
のなど、本発明に用いる熱現像機は種々の構成のもので
あってもよい。また、本発明において好ましく用いられ
る多段加熱方法の場合は、上述のような装置において、
加熱温度の異なる熱源を２個以上設置し、連続的に異な
る温度で加熱するようにすればよい。

【０３１６】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、
処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限
り適宜変更することができる。したがって、本発明の範
囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきも
のではない。

【０３１７】＜実施例１＞ 《ハロゲン化銀乳剤Ａの調製》水７００ｍｌにアルカリ
処理ゼラチン（カルシウム含有量として２７００ｐｐｍ
以下）１１ｇ、臭化カリウム３０ｍｇ、および４−メチ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム１．３ｇを溶解して、
４５℃にてｐＨを６．５に調整した。その後、硝酸銀１
８．６ｇを含む水溶液１５９ｍｌと臭化カリウムを１ｍ
ｏｌ／Ｌ、（ＮＨ₄）₂ＲｈＣｌ₅（Ｈ₂Ｏ）を５×１０^-6
ｍｏｌ／ＬおよびＫ₃ＩｒＣｌ₆を２×１０^-5ｍｏｌ／Ｌ
で含む水溶液を、ｐＡｇ７．７に保ちながらコントロー
ルダブルジェット法で６分３０秒間かけて添加した。つ
いで、硝酸銀５５．５ｇを含む水溶液４７６ｍｌと臭化
カリウムを１ｍｏｌ／ＬおよびＫ₃ＩｒＣｌ₆を２×１０
^-5ｍｏｌ／Ｌで含むハロゲン塩水溶液を、ｐＡｇ７．７
に保ちながらコントロールダブルジェット法で２８分３
０秒間かけて添加した。その後ｐＨを下げて凝集沈降さ
せて脱塩処理をし、平均分子量１５，０００の低分子量
ゼラチン（カルシウム含有量として２０ｐｐｍ以下）５
１．１ｇ加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ８．０に調整した。
得られた粒子は平均粒子サイズ０．１１μｍ、投影面積
変動係数９％、（１００）面比率９０％の立方体粒子で
あった。得られたハロゲン化銀粒子を６０℃に昇温して
銀１ｍｏｌ当たりベンゼンチオスルホン酸ナトリウム７
６μｍｏｌを添加し、３分後にトリエチルチオ尿素７１
μｍｏｌを添加した後、１００分間熟成し、４−ヒドロ
キシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデ
ンを５×１０^-4ｍｏｌ、化合物Ａを０．１７ｇ加えた
後、４０℃に降温させた。その後、温度を４０℃に保
ち、ハロゲン化銀１ｍｏｌに対して４．７×１０^-2ｍｏ
ｌの臭化カリウム（水溶液として添加）、１２．８×１
０^-4ｍｏｌの下記増感色素Ａ、ＢあるいはＣ（エタノー
ル溶液として添加；種類は表１３に記載のとおり）、
６．４×１０^-3ｍｏｌの化合物Ｂ（メタノール溶液とし
て添加）を攪拌しながら添加し、２０分後に３０℃に急
冷してハロゲン化銀乳剤Ａの調製を終了した。調製した
ハロゲン化銀乳剤Ａは、下記の塗布液の調製に用いた。

【０３１８】

【化９１】

【０３１９】《ベヘン酸銀分散物Ａの調製》ベヘン酸
（ヘンケル社製、ＥｄｅｎｏｒＣ２２−８５Ｒ）８７．
６ｋｇ、蒸留水４２３Ｌ、５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶
液４９．２Ｌ、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール１２０Ｌを
混合し、７５℃にて１時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナ
トリウム溶液を得た。これとは別に、硝酸銀４０．４ｋ
ｇの水溶液２０６．２Ｌを用意し、１０℃にて保温し
た。６３５Ｌの蒸留水と３０Ｌのｔｅｒｔ−ブチルアル
コールを入れた反応容器を３０℃に保温し、攪拌しなが
ら先のベヘン酸ナトリウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の
全量を流量一定でそれぞれ６２分１０秒と６０分かけて
添加した。この時、硝酸銀水溶液添加開始後７分２０秒
間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあと
ベヘン酸ナトリウム溶液を添加開始し、硝酸銀水溶液添
加終了後９分３０秒間はベヘン酸ナトリウム溶液のみが
添加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は
３０℃とし、液温度が上がらないようにコントロールし
た。また、ベヘン酸ナトリウム溶液の添加系の配管は、
スチームトレースにより保温し、添加ノズル先端の出口
の液温度が７５℃になるようにスチーム量をコントロー
ルした。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、２重管
の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン
酸ナトリウム溶液の添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置
は攪拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に
接触しないような高さに調節した。ベヘン酸ナトリウム
溶液を添加終了後、そのままの温度で２０分間攪拌放置
し、２５℃に降温した。その後、遠心ろ過で固形分を濾
別し、固形分を濾水の伝導度が３０μＳ／ｃｍになるま
で水洗した。こうして得られた固形分は、乾燥させない
でウエットケーキとして保管した。得られたベヘン酸銀
の粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、
平均投影面積径０．５２μｍ、平均粒子厚み０．１４μ
ｍ、平均球相当径の変動係数１５％の鱗片状の結晶であ
った。

【０３２０】次に、以下の方法でベヘン酸銀の分散物を
作製した。乾燥固形分１００ｇ相当のウエットケーキに
対し、ポリビニルアルコール（クラレ(株)製、ＰＶＡ−
２１７，平均重合度：約１７００）７．４ｇおよび水を
添加し、全体量を３８５ｇとしてからホモミキサーにて
予備分散した。次に予備分散済みの原液を分散機（マイ
クロフルイデックス・インターナショナル・コーポレー
ション製、マイクロフルイダイザーＭ−１１０Ｓ−Ｅ
Ｈ、Ｇ１０Ｚインタラクションチャンバー使用）の圧力
を１７５０ｋｇ／ｃｍ²に調節して、３回処理し、ベヘ
ン酸銀分散物Ａを得た。このとき、蛇管式熱交換器をイ
ンタラクションチャンバーの前後に各々装着して冷媒の
温度を調節することにより、所望の分散温度に設定し
た。得られたベヘン酸銀分散物Ａに含まれるベヘン酸銀
粒子は、体積加重平均直径０．５２μｍ、変動係数１５
％の粒子であった。粒子サイズの測定は、MalvernInstr
uments Ltd.製MasterSizerXにて行った。また電子顕微
鏡撮影により評価したところ、長辺と短辺の比は１．
５、粒子厚みは０．１４μｍ、平均アスペクト比（粒子
の投影面積の円相当径と粒子厚みの比）が５．１であっ
た。得られたベヘン酸銀分散物Ａは、下記の塗布液の調
製に用いた。

【０３２１】《還元剤の固体微粒子分散物の調製》還元
剤［１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）−３，５，５−トリメチルヘキサン］１０ｋ
ｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバ
ールＭＰ２０３）の２０質量％水溶液１０ｋｇに、サー
フィノール１０４Ｅ（日信化学（株）製）４００ｇ、メ
タノール６４０ｇ、および水１６ｋｇを添加して、よく
混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラム
ポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビー
ズを充填した横型ビーズミル（アイメックス(株)製、Ｕ
ＶＭ−２）にて３時間３０分分散したのち、ベンゾイソ
チアゾリノンナトリウム塩４ｇと水を加えて還元剤の濃
度が２５質量％になるように調整し、還元剤の固体微粒
子分散物を得た。こうして得られた分散物に含まれる還
元剤粒子は、メジアン径が０．４４μｍ、最大粒子径が
２．０μｍ以下、平均粒子径の変動係数が１９％であっ
た。得られた分散物は、孔径３．０μｍのポリプロピレ
ン製フィルターにてろ過を行いゴミ等の異物を除去した
うえで、下記の塗布液の調製に用いた。

【０３２２】《有機ポリハロゲン化合物Ａの固体微粒子
分散物の調製》有機ポリハロゲン化合物Ａ［トリブロモ
メチル（４−（２，４，６−トリメチルフェニルスルホ
ニル）フェニル）スルホン］１０ｋｇと、変性ポリビニ
ルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ２０３）
の２０質量％水溶液１０ｋｇと、トリイソプロピルナフ
タレンスルホン酸ナトリウムの２０質量％水溶液６３９
ｇ、サーフィノール１０４Ｅ（日信化学（株）製）４０
０ｇ、メタノール６４０ｇ、および水１６ｋｇを添加し
て、よく混合してスラリーとした。このスラリーをダイ
アフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコ
ニアビーズを充填した横型ビーズミル（アイメックス
(株)製、ＵＶＭ−２）にて５時間分散したのち水を加え
て有機ポリハロゲン化合物Ａの濃度が２５質量％になる
ように調製し、有機ポリハロゲン化合物Ａの固体微粒子
分散物を得た。こうして得られた分散物に含まれる有機
ポリハロゲン化合物粒子は、メジアン径が０．３６μ
ｍ、最大粒子径が２．０μｍ以下、平均粒子径の変動係
数が１８％であった。得られた分散物は、孔径３．０μ
ｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行いゴミ等
の異物を除去したうえで、下記の塗布液の調製に用い
た。

【０３２３】《有機ポリハロゲン化合物Ｂの固体微粒子
分散物の調製》有機ポリハロゲン化合物Ｂ［トリブロモ
メチルナフチルスルホン］５ｋｇと変性ポリビニルアル
コール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ２０３）の２０
質量％水溶液２．５ｋｇ、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸ナトリウムの２０質量％水溶液２１３ｇ、お
よび水１０ｋｇを添加して、よく混合してスラリーとし
た。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均
直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型ビー
ズミル（アイメックス(株)製、ＵＶＭ−２）にて５時間
分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩
２．５ｇと水を加えての有機ポリハロゲン化合物Ｂの濃
度が２３．５質量％になるように調製し、有機ポリハロ
ゲン化合物Ｂの固体微粒子分散物を得た。得られた分散
物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子は、メジアン
径が０．３８μｍ、最大粒子径が２．０μｍ以下、平均
粒子径の変動係数が２０％であった。得られた分散物は
孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過
を行いゴミ等の異物を除去したうえで、下記の塗布液の
調製に用いた。

【０３２４】《有機ポリハロゲン化合物Ｃ水溶液の調
製》室温で攪拌しながら、水７５．０ｍｌ、トリプロピ
ルナフタレンスルホン酸ナトリウム（２０％水溶液）
８．６ｍｌ、オルトリン酸二水素ナトリウム・２水和物
（５％水溶液）６．８ｍｌ、および水酸化カリウムの１
ｍｏｌ／Ｌ水溶液９．５ｍｌを順次添加し、添加終了後
５分間攪拌混合した。さらに、攪拌しながら有機ポリハ
ロゲン化合物Ｃ（３−トリブロモメタンスルホニルベン
ゾイルアミノ酢酸）４．０ｇの粉末を添加し、溶液が透
明になるまで均一に溶解して水溶液１００ｍｌを得た。
得られた水溶液は、２００メッシュのポリエステル製ス
クリーンにてろ過を行いゴミ等の異物を除去したうえ
で、下記の塗布液の調製に用いた。

【０３２５】《化合物Ｚの乳化分散物の調製》化合物Ｚ
を８５質量％含有する三光（株）製Ｒ−０５４を１０ｋ
ｇとＭＩＢＫ１１．６６ｋｇを混合した後、窒素置換し
て８０℃１時間溶解した。この液に水２５．５２ｋｇと
クラレ（株）製ＭＰポリマー（クラレ(株)製、ＭＰ−２
０３）の２０質量％水溶液１２．７６ｋｇとトリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの２０質量％水
溶液０．４４ｋｇを添加して、２０〜４０℃、３６００
ｒｐｍで６０分間乳化分散した。さらに、この液にサー
フィノール１０４Ｅ（日信化学（株）製）０．０８ｋｇ
と水４７．９４ｋｇを添加して減圧蒸留しＭＩＢＫを除
去したのち、化合物Ｚの濃度が１０質量％になるように
調製した。こうして得た分散物に含まれる化合物Ｚの粒
子はメジアン径０．１９μｍ、最大粒子径１．５μｍ以
下、粒子径の変動係数１７％であった。得られた分散物
は、孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにて
ろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。

【０３２６】《６−イソプロピルフタラジン化合物の分
散液の調製》室温で水６２．３５ｇを攪拌しながら変性
ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ
２０３）２．０ｇが塊状にならない様に添加し１０分間
攪拌混合した。その後加熱し、内温が５０℃になるまで
昇温した後、内温５０〜６０℃の範囲で９０分間攪拌し
均一に溶解させた。内温を４０℃以下に降温し、ポリビ
ニルアルコール（クラレ（株）製、ＰＶＡ−２１７、１
０質量％水溶液）２５．５ｇ、トリプロピルナフタレン
スルホン酸ナトリウム（２０質量％水溶液）３．０ｇ、
および６−イソプロピルフタラジン（７０質量％水溶
液）７．１５ｇを添加し、３０分攪拌し透明分散液１０
０ｇを得た。得られた分散物は、孔径３．０μｍのポリ
プロピレン製フィルターにてろ過を行いゴミ等の異物を
除去したうえで、下記の塗布液の調製に用いた。

【０３２７】《本発明の化合物の固体微粒子分散物の調
製》表１３に記載される本発明の化合物４ｋｇに対し
て、ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバール
ＰＶＡ−２１７）１ｋｇと水３６ｋｇを添加し、よく混
合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポ
ンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ
を充填した横型ビーズミル（アイメックス(株)製、ＵＶ
Ｍ−２）にて１２時間分散したのち、ベンゾイソチアゾ
リノンナトリウム塩０．０４ｇと水を加えて本発明の化
合物の濃度が１０質量％になるように調整し、本発明の
化合物の固体微粒子分散物を得た。得られた分散物に含
まれる本発明の化合物の粒子は、メジアン径が０．３４
μｍ、最大粒子径が３．０μｍ以下、粒子径の変動係数
が１９％であった。得られた分散物は、孔径３．０μｍ
のポリプロピレン製フィルターにてろ過を行いゴミ等の
異物を除去したうえで、下記の塗布液の調製に用いた。

【０３２８】《現像促進剤Ｗの固体微粒子分散物の調
製》現像促進剤Ｗ１０ｋｇ、変性ポリビニルアルコール
（クラレ（株）製、ポバールＭＰ２０３）の２０質量％
水溶液１０ｋｇ、および水２０ｋｇを添加して、よく混
合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポ
ンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ
を充填した横型ビーズミル（アイメックス(株)製、ＵＶ
Ｍ−２）にて５時間分散したのち水を加えて現像促進剤
Ｗの濃度が２０質量％になるように調整し、現像促進剤
Ｗの固体微粒子分散物を得た。得られた分散物に含まれ
る有機ポリハロゲン化合物粒子は、メジアン径が０．５
μｍ、最大粒子径が２．０μｍ以下、平均粒子径の変動
係数が１８％であった。得られた分散物は、孔径３．０
μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行いゴミ
等の異物を除去したうえで、下記の塗布液の調製に用い
た。

【０３２９】《画像形成層塗布液の調製》上記で作製し
たベヘン酸銀分散物Ａの銀１ｍｏｌに対して、以下のバ
インダー、素材、およびハロゲン化銀乳剤Ａを添加し
て、水を加えて、画像形成層塗布液とした。調製後、圧
力０．５４ａｔｍで減圧脱気を４５分間行った。塗布液
のｐＨは７．７、粘度は２５℃で５０ｍＰａ・ｓであっ
た。

【０３３０】 バインダー；ＳＢＲラテックス 固形分として ３９７ｇ （Ｓｔ／Ｂｕ／ＡＡ＝６８／２９／３（質量％）、 重合開始剤としてＮａ₂Ｓ₂Ｏ₈を使用） 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5- トリメチルヘキサン 固形分として １４９．５ｇ 有機ポリハロゲン化合物Ｂ 固形分として ３６．３ｇ 有機ポリハロゲン化合物Ｃ 固形分として ２．３４ｇ エチルチオスルホン酸ナトリウム ０．４７ｇ ベンゾトリアゾール １．０２ｇ ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ＰＶＡ−２３５） １０．８ｇ ６−イソプロピルフタラジン １５．０ｇ 化合物Ｚ 固形分として ９．７ｇ 本発明の化合物ＸあるいはＮｏ．５５ ７．７ｇ 染料Ａ（平均分子量15,000の低分子量ゼラチンとの混合液として添加） ７８３ｎｍの光学濃度が０．３になる塗布量 （目安として固形分０．４０ｇ） ハロゲン化銀乳剤Ａ Ａｇ量として０．０６ｍｏｌ 防腐剤として化合物Ａ 塗布液中に４０ｐｐｍ （塗布量として２．５ｍｇ／ｍ²） メタノールの塗布液中総溶媒量として １質量％ エタノールの塗布液中総溶媒量として ２質量％ ｐＨ調整剤として、ＮａＯＨを用いて調整した。 （なお、塗布膜のガラス転移温度は１７℃であった。）

【０３３１】《保護層塗布液の調製》メチルメタクリレ
ート／スチレン／２−エチルヘキシルアクリレート／２
−ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸＝５
８．９／８．６／２５．４／５．１／２（質量％）のポ
リマーラテックス溶液（共重合体のガラス転移温度４６
℃（計算値）、固形分濃度２１．５質量％、化合物Ａを
１００ｐｐｍ含有させ、さらに造膜助剤として化合物Ｄ
をラテックスの固形分に対して１５質量％含有させ塗布
液のガラス転移温度を２４℃として溶液とした；平均粒
子径１１６ｎｍ）９４３ｇに水を加え、有機ポリハロゲ
ン化合物Ｃ水溶液を１１４．８ｇ、有機ポリハロゲン化
合物Ａを固形分として１７．０ｇ、オルトリン酸二水素
ナトリウム・二水和物を固形分として０．６９ｇ、現像
促進剤Ｗを固形分として１１．５５ｇ、マット剤（ポリ
スチレン粒子、平均粒径７μｍ、平均粒径の変動係数８
％）１．５８ｇおよびポリビニルアルコール（クラレ
（株）製、ＰＶＡ−２３５）２９．３ｇ、化合物Ｅを
１．６２ｇ加え、さらに水を加えて塗布液（メタノール
溶媒を０．８質量％含有）を調製した。調製後、圧力
０．４７ａｔｍで減圧脱気を６０分間行った。得られた
保護層塗布液のｐＨは５．５、粘度は２５℃で４５ｍＰ
ａ・ｓであった。

【０３３２】

【化９２】

【０３３３】《下層オーバーコート層塗布液の調製》メ
チルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルア
クリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ア
クリル酸＝５８．９／８．６／２５．４／５．１／２
（質量％）のポリマーラテックス溶液（共重合体のガラ
ス転移温度４６℃（計算値）、固形分濃度２１．５質量
％、化合物Ａを１００ｐｐｍ含有させ、さらに造膜助剤
として化合物Ｄをラテックスの固形分に対して１５質量
％含有させ、塗布液のガラス転移温度を２４℃として容
器とした；平均粒子径７４ｎｍ）６２５ｇに水を加え、
化合物Ｃを０．２３ｇ、化合物Ｅを０．１３ｇ、化合物
Ｆを１１．７ｇ、化合物Ｈを２．７ｇおよびポリビニル
アルコール（クラレ（株）製、ＰＶＡ−２３５）１１．
５ｇを加え、さらに水を加えて塗布液（メタノール溶媒
を０．１質量％含有）を調製した。調製後、圧力０．４
７ａｔｍで減圧脱気を６０分間行った。塗布液のｐＨは
２．６、粘度は２５℃で３０ｍＰａ・ｓであった。

【０３３４】《上層オーバーコート層塗布液の調製》メ
チルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルア
クリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ア
クリル酸＝５８．９／８．６／２５．４／５．１／２
（質量％）のポリマーラテックス溶液（共重合体のガラ
ス転移温度４６℃（計算値）、固形分濃度２１．５質量
％、化合物Ａを１００ｐｐｍ含有させ、さらに造膜助剤
として化合物Ｄをラテックスの固形分に対して１５質量
％含有させ、塗布液のガラス転移温度を２４℃として溶
液とした；平均粒子径１１６ｎｍ）６４９ｇに水を加
え、カルナヴァワックス（中京油脂（株）製、セロゾー
ル５２４、シリコーン含有量５ｐｐｍ未満）の３０質量
％溶液１８．４ｇ、化合物Ｃを０．２３ｇ、化合物Ｅを
１．８５ｇ、化合物Ｇを１．０ｇ、マット剤（ポリスチ
レン粒子、平均粒径７μｍ、平均粒径の変動係数８％）
３．４５ｇおよびポリビニルアルコール（クラレ（株）
製、ＰＶＡ−２３５）を２６．５ｇ加え、さらに水を加
えて塗布液（メタノール溶媒を１．１質量％含有）を調
製した。調製後、圧力０．４７ａｔｍで減圧脱気を６０
分間行った。塗布液のｐＨは５．３、粘度は２５℃で２
５ｍＰａ・ｓであった。

【０３３５】

【化９３】

【０３３６】《バック／下塗り層のついたポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）支持体の作製》 （１）ＰＥＴ支持体の作製 テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従
い、固有粘度ＩＶ＝０．６６（フェノール／テトラクロ
ロエタン＝６／４（質量比）中２５℃で測定）のＰＥＴ
を得た。これをペレット化して、１３０℃で４時間乾燥
した後、３００℃で溶融後Ｔ型ダイから押し出した。そ
の後急冷し、熱固定後の膜厚が１２０μｍになるような
厚みの未延伸フィルムを作製した。これを周速の異なる
ロールを用い、１１０℃で３．３倍に縦延伸し、ついで
テンターを用いて１３０℃で４．５倍に横延伸した。こ
の後、２４０℃で２０秒間熱固定した後、同じ温度で横
方向に４％緩和した。この後、テンターのチャック部を
スリットした後、両端にナール加工を行い、４．８ｋｇ
／ｃｍ²で巻きとった。このようにして、幅２．４ｍ、
長さ３５００ｍ、厚み１２０μｍのロール状のＰＥＴ支
持体を得た。

【０３３７】（２）下塗り層およびバック層の作製 下塗り第一層 上記ＰＥＴ支持体に０．３７５ｋＶ・Ａ・分／ｍ²のコ
ロナ放電処理を施した後、以下に示す組成の塗布液を
６．２ｍｌ／ｍ²となる様に支持体上に塗布し、１２５
℃で３０秒、次いで１５０℃で３０秒、さらに１８５℃
で３０秒乾燥した。

【０３３８】 ラテックス−Ａ ２８０ｇ ＫＯＨ ０．５ｇ ポリスチレン微粒子（平均粒径２μｍ、平均粒径の変動係数７％） ０．０３ｇ ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン １．８ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｃ ０．０９７ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０３３９】下塗り第二層 以下に示す組成の塗布液を５．５ｍｌ／ｍ²となる様に
下塗り第一層の上に塗布し、１２５℃で３０秒、次いで
１５０℃で３０秒、さらに１７０℃で３０秒乾燥した。

【０３４０】 脱イオン処理ゼラチン（Ｃａ²⁺含量０．６ｐｐｍ、ゼリー強度２３０ｇ） １０ｇ 酢酸（２０質量％水溶液） １０ｇ 化合物−Ｂｃ−Ａ ０．０４ｇ メチルセルロース（２質量％水溶液） ２５ｇ ポリエチレンオキシ化合物 ０．３ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０３４１】バック第一層 前記下塗り層塗布面とは反対側の面に０．３７５ｋＶ・
Ａ・分／ｍ²のコロナ放電処理を施し、その面に以下に
示す組成の塗布液を１３．８ｍｌ／ｍ²となる様に塗布
し、１２５℃で３０秒、次いで１５０℃で３０秒、さら
に１８５℃で３０秒乾燥した。

【０３４２】 ジュリマーＥＴ４１０（３０質量％水分散物、日本純薬（株）製） ２３ｇ アルカリ処理ゼラチン（分子量約１００００、 Ｃａ²⁺含量３０ｐｐｍ） ４．４４ｇ 脱イオン処理ゼラチン（Ｃａ²⁺含量０．６ｐｐｍ） ０．８４ｇ 化合物−Ｂｃ−Ａ ０．０２ｇ 染料−Ｂｃ−Ａ （７８３ｎｍの光学濃度として１．３〜１．４になるように調整） 目安として０．８８ｇ ポリオキシエチレンフェニルエーテル １．７ｇ 水溶性メラミン化合物（住友化学工業（株）製、 スミテックスレジンＭ−３、８質量％水溶液） １５ｇ ＳｂドープＳｎＯ₂の針状粒子の水分散物 （石原産業（株）製、ＦＳ−１０Ｄ） ２４ｇ ポリスチレン微粒子（平均粒径２μｍ、平均粒径の変動係数７％） ０．０３ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０３４３】バック第二層 以下に示す組成の塗布液を５．５ｍｌ／ｍ²となる様に
バック第一層上に塗布し、１２５℃で３０秒、次いで１
５０℃で３０秒、さらに１７０℃で３０秒乾燥した。

【０３４４】 ジュリマーＥＴ４１０（３０質量％水分散物、日本純薬（株）製） ５７．５ｇ ポリオキシエチレンフェニルエーテル １．７ｇ 水溶性メラミン化合物（住友化学工業（株）製、 スミテックスレジンＭ−３、８質量％水溶液） １５ｇ セロゾール５２４（３０質量％水溶液、中京油脂（株）製） ６．６ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０３４５】バック第三層 下塗り第一層と同じ塗布液を６．２ｍｌ／ｍ²となる様
にバック第二層上に塗布し、１２５℃で３０秒、次いで
１５０℃で３０秒、さらに１８５℃で３０秒乾燥した。

【０３４６】バック第四層 以下に示す組成の塗布液を１３．８ｍｌ／ｍ²となる様
にバック第三層上に塗布し、１２５℃で３０秒、次いで
１５０℃で３０秒、さらに１７０℃で３０秒乾燥した。

【０３４７】 ラテックス−Ｂ ２８６ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｂ ２．７ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｃ ０．６ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｄ ０．５ｇ ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシーｓ−トリアジン ２．５ｇ ポリメチルメタクリレート（１０質量％水分散物、 平均粒子径５μｍ、平均粒子の変動係数７％） ７．７ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０３４８】

【化９４】

【０３４９】ラテックス−Ａ： コア部９０質量％、シェル部１０質量％のコアシェルタ
イプのラテックス コア部 塩化ビニリデン／メチルアクリレート／メチル
メタクリレート／アクリロニトリル／アクリル酸＝９３
／３／３／０．９／０．１（質量％） シェル部 塩化ビニリデン／メチルアクリレート／メチ
ルメタクリレート／アクリロニトリル／アクリル酸＝８
８／３／３／３／３（質量％） 質量平均分子量３８，０００ ラテックス−Ｂ： メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシル
アクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／
アクリル酸＝５９／９／２６／５／１（質量％）の共重
合体

【０３５０】（３）搬送熱処理 （３−１）熱処理 このようにして作製したバック／下塗り層のついたＰＥ
Ｔ支持体を、１６０℃に設定した全長２００ｍ熱処理ゾ
ーンに入れ、張力２ｋｇ／ｃｍ²、搬送速度２０ｍ／分
で搬送した。 （３−２）後熱処理 上記熱処理に引き続き、４０℃のゾーンに１５秒間通し
て後熱処理を行い、巻き取った。この時の巻き取り張力
は１０ｋｇ／ｃｍ²であった。

【０３５１】《熱現像感光材料の作製》ＰＥＴ支持体の
下塗り第二層の上に、特開２０００−２９６４号公報の
図１に示されているスライドビート塗布方式を用いて、
前記の画像形成層塗布液を表１３のように、塗布銀量
１．５ｇ／ｍ²になるように塗布した。さらにその上
に、前記保護層塗布液をポリマーラテックスの固形分塗
布量が１．２９ｇ／ｍ²になるように画像形成層塗布液
と共に同時重層塗布した。その後、保護層の上に前記下
層オーバーコート層塗布液をポリマーラテックスの固形
分塗布量が１．９７ｇ／ｍ²および前記上層オーバーコ
ート層塗布液をポリマーラテックスの固形分塗布量が
１．０７ｇ／ｍ²になるように下層オーバーコート塗布
液と共に同時重層塗布し、熱現像感光材料を作製した。
塗布時の乾燥は、恒率過程、減率過程とも乾球温度７０
〜７５℃、露点８〜２５℃、液膜表面温度３５〜６０℃
の範囲で、塗布液の流動がほぼなくなる乾燥点近傍まで
は水平乾燥ゾーン（塗布機の水平方向に対し支持体が
１．５°〜３°の角度）で行った。乾燥後の巻取りは温
度２５±５℃、相対湿度４５±５％の条件下で行い、巻
き姿はその後の加工形態（画像形成層面側外巻）に合わ
せ、画像形成層面側を外にした。なお、熱現像感光材料
の包袋相対湿度は２０〜４０％（２５℃測定）で、得ら
れた熱現像感光材料の画像形成側の膜面ｐＨは５．０、
ベック平滑度は７５０秒であり、反対側の膜面ｐＨは
５．９、ベック平滑度は６００秒であった。

【０３５２】《写真性能の評価》 （露光処理）得られた熱現像感光材料を、ビーム径（ビ
ーム強度の１／２のＦＷＨＭ）１２．５６μｍ、レーザ
ー出力５０ｍＷ、出力波長７８３ｎｍの半導体レーザー
を搭載した単チャンネル円筒内面方式のレーザー露光装
置を使用し、ミラー回転数６００００ｒｐｍ、露光時間
１．２×１０^-8秒の露光を実施した。この時のオーバー
ラップ係数は０．４４９にし、熱現像感光材料面上のレ
ーザーエネルギー密度は７５μＪ／ｃｍ²とした。 （熱現像処理）露光済みの熱現像感光材料に対して、図
２に示した熱現像機を用いて熱現像処理を行った。熱現
像処理部のローラー表面材質はシリコンゴム、平滑面は
テフロン不織布とし、搬送のラインスピードは１５０ｃ
ｍ／ｍｉｎに設定した。熱現像処理は、予備加熱部で１
２．２秒（予備加熱部と熱現像処理部の駆動系は独立し
ており、熱現像部との速度差は−０．５％〜−１％に設
定、各予熱部の金属ローラーの温度設定、時間は第１ロ
ーラー温度６７℃、２．０秒、第２ローラー温度８２
℃、２．０秒、第３ローラー温度９８℃、２．０秒、第
４ローラー温度温度１０７℃、２．０秒、第５ローラー
温度１１５℃、２．０秒、第６ローラー温度１２０℃、
２．０秒にした）、熱現像処理部（熱現像感光材料面温
度１２０℃）で１７．２秒、徐冷部で１３．６秒行っ
た。なお、幅方向の温度精度は±０．５℃であった。各
ローラー温度の設定は熱現像感光材料の幅（例えば幅６
１ｃｍ）よりも両側それぞれ５ｃｍ長くして、その部分
にも温度をかけて、温度精度が出るようにした。なお、
各ローラーの両端部分は温度低下が激しいので、熱現像
感光材料の幅よりも５ｃｍ長くした部分はローラー中央
部よりも１〜３℃温度が高くなるように設定し、熱現像
感光材料（例えば幅６１ｃｍの中で）の画像濃度が均質
な仕上がりになるように留意した。

【０３５３】（写真性能の評価）画像のＤｍｉｎ（カブ
リ）、Ｄｍａｘ（最高濃度）については、マクベスＴＤ
９０４濃度計（可視濃度）により測定を行った。感光材
料を保存した際のカブリ変化に対するシミュレーション
テストとしては、２５℃相対湿度４０％の雰囲気下で１
６時間調湿後、同条件でヒートシールを行い、４０℃で
３０日間、および、６０℃で１日間放置したサンプルに
ついて、Ｄｍｉｎ（カブリ）を測定した（現像前の保存
性）。処理後の感光材料を保管した際のカブリの変化に
ついては、処理後の感光材料を遮光した状態で６０℃相
対湿度５０％の条件下で５日間放置した後でカブリ濃度
を測定することにより行った（暗熱保存性）。現像銀粒
子密度は、発明の実施の形態中に記載した方法と同様
に、写真を撮影し、単位面積当たりの現像銀粒子の数を
数え、その密度を比較した。カバリングパワーについて
も、発明の実施の形態中に記載した方法と同様に、感材
中の全ての銀イオンが還元されたサンプルについて、可
視濃度を現像銀量（ｇ／ｍ²）で割った値で比較した。
上記評価を実施した結果を表１３に示す。表１３より明
らかなように、本発明の構成の試料が、現像銀粒子密
度、カバーリングパワーが高く、カブリ、Ｄｍａｘの点
ですぐれており、さらに、感光材料を保存した場合のカ
ブリの上昇が小さく、加えて、処理後保管によるカブリ
の上昇が少なく、良好な性能を示していることがわか
る。

【０３５４】

【表１３】

【０３５５】＜実施例２＞ 《画像形成層塗布液の調製》実施例１で作製したベヘン
酸銀分散物Ａの銀１ｍｏｌに対して、以下のバインダ
ー、素材、およびハロゲン化銀乳剤Ａを添加して、水を
加えて、画像形成層塗布液とした。調製後、圧力０．５
４ａｔｍで減圧脱気を４５分間行った。塗布液のｐＨは
７．３〜７．７、粘度は２５℃で４０〜５０ｍＰａ・ｓ
であった。

【０３５６】 バインダー；ＳＢＲラテックス 固形分として ３９７ｇ （Ｓｔ／Ｂｕ／ＡＡ＝６８／２９／３（質量％）、 重合開始剤としてＮａ₂Ｓ₂Ｏ₈を使用） 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5- トリメチルヘキサン 固形分として １４８．０ｇ 有機ポリハロゲン化合物Ａ 固形分として ４０．０ｇ 有機ポリハロゲン化合物Ｂ 固形分として １２．０ｇ 有機ポリハロゲン化合物Ｃ 固形分として ２．０ｇ 現像促進剤Ｗ 固形分として ５．５ｇ エチルチオスルホン酸ナトリウム ０．３ｇ ベンゾトリアゾール １．２ｇ ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ＰＶＡ−２３５） １０．８ｇ ６−イソプロピルフタラジン １３．０ｇ 化合物Ｚ 固形分として ９．６ｇ 化合物Ｃ ０．２ｇ 本発明の化合物 ８．５ｇ 染料Ａ（平均分子量15,000の低分子量ゼラチンとの混合液として添加） ７８３ｎｍの光学濃度が０．３になる塗布量 （目安として固形分０．４０ｇ） ハロゲン化銀乳剤Ａ Ａｇ量として０．０６ｍｏｌ 防腐剤として化合物Ａ 塗布液中に４０ｐｐｍ （塗布量として２．５ｍｇ／ｍ²） メタノールの塗布液中総溶媒量として １質量％ エタノールの塗布液中総溶媒量として ２質量％ ｐＨ調整剤としては、ＮａＯＨを用いた。 （なお、塗布膜のガラス転移温度は１７℃であった。）

【０３５７】《下層保護層塗布液の調製》メチルアクリ
レート／メチルメタアクリレート＝７０／３０（質量
比、平均粒径１１０ｎｍ、質量平均分子量８００，００
０）のポリマーラテックス溶液（共重合体のガラス転移
温度３０℃、固形分濃度２８．０％、化合物Ａを１００
ｐｐｍ含有）９００ｇに水を加え、化合物Ｅを０．２
ｇ、ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ＰＶＡ−
２３５）を３５．０ｇ加え、さらに水を加えて塗布液
（メタノール溶媒を０．５質量％含有）を調製した。調
製後、圧力０．４７ａｔｍで減圧脱気を６０分間行っ
た。塗布液のｐＨは５．２、粘度は２５℃で３５ｍＰａ
・ｓであった。

【０３５８】《上層保護層塗布液の調製》メチルアクリ
レート／メチルメタアクリレート＝７０／３０（質量
比、平均粒径１１０ｎｍ、質量平均分子量８００，００
０）のポリマーラテックス溶液（共重合体でガラス転移
温度３０℃、固形分濃度として２８．０％、化合物Ａを
１００ｐｐｍ含有）９００ｇに、カルナヴァワックス
（中京油脂（株）製、セロゾール５２４、シリコーン含
有量として５ｐｐｍ未満）３０質量％溶液を１０．０
ｇ、化合物Ｃを０．３ｇ、化合物Ｅを１．２ｇ、化合物
Ｆを２５．０ｇ、化合物Ｈを６．０ｇ、マット剤（ポリ
スチレン粒子、平均粒径７μｍ、平均粒径の変動係数８
％）５．０ｇおよびポリビニルアルコール（クラレ
（株）製、ＰＶＡ−２３５）４０．０ｇを加え、さらに
水を加えて塗布液（メタノール溶媒を１．５質量％含
有）を調製した。調製後、圧力０．４７ａｔｍで６０分
間行った。塗布液のｐＨは２．４、粘度は２５℃で３５
ｍＰａ・ｓであった。

【０３５９】《熱現像感光材料の作製》実施例１に記載
したように下塗り層を塗布したＰＥＴ支持体の下塗り層
の上に、特開２０００−２９６４号公報の図１に示され
ているスライドビ-ド塗布方式を用いて、前記の画像形
成層塗布液を塗布銀量１．５ｇ／ｍ²になる様に、その
上に、前記の保護層下層塗布液をポリマーラテックスの
固形分塗布量が１．０ｇ／ｍ²になる様に、さらにその
上に前記の保護層上層塗布液をポリマーラテックスの固
形分塗布量が１．３ｇ／ｍ²になる様に、画像形成層と
保護層下層および上層の３層を同時に重層塗布した。塗
布時の乾燥条件は、第一乾燥ゾーン（低速風乾燥域）が
乾球温度７０〜７５℃、露点９〜２３℃、支持体面上で
の風速８〜１０ｍ／ｓ、液膜表面温度３５〜４０℃の範
囲で乾燥し、第二乾燥ゾーン（高速風乾燥域）が、乾球
温度６５〜７０℃、露点２０〜２３℃、そして支持体面
上での風速２０〜２５ｍ／ｓで乾燥した。第一乾燥ゾー
ンの滞在時間は、このゾーンでの恒率乾燥期の２／３の
時間で、第二乾燥ゾーンに移行させ、乾燥した。第一乾
燥ゾーンは、水平乾燥ゾーン（塗布機の水平方向に対し
支持体が１．５°〜３°の角度）である。塗布速度は、
６０ｍ／ｍｉｎで行った。乾燥後の巻取りは温度２５±
５℃、相対湿度４５±１０％の条件下で行った。巻き姿
はその後の加工形態（画像形成層面側外巻）に合わせ、
画像形成層面側を外にした。なお、感光材料の包袋湿度
は相対湿度２０〜４０％（２５℃測定）で、得られた熱
現像感光材料の画像形成側の膜面ｐＨは５．０、ベック
平滑度は５０００秒であり、反対側の膜面ｐＨは５．
９、ベック平滑度は５００秒であった。

【０３６０】塗布方法を変更し、本発明の化合物として
Ｐ−３を使用する以外は、実施例１と同様にハロゲン化
銀乳剤、本発明の化合物を使用して試料を作製し評価を
実施したところ、実施例１と同様に本発明の条件を満た
す試料が良好な性能を示した。

【０３６１】＜実施例３＞実施例２の保護層下層および
上層のポリマーラテックスを、ＭＡ／ＭＭＡ＝３０／７
０（質量％比、平均粒径１１０ｎｍ、質量平均分子量８
００,０００）ポリマーラテックスに換えて、さらに実
施例２と同様の粘度になるようにポリビニルアルコール
（クラレ（株）製，ＰＶＡ−２３５）水溶液の添加量を
変えて塗布液を調製し、実施例２と同様に評価を行っ
た。その結果、実施例１、２と同様に本発明の条件を満
たす試料が良好な性能を示していることがわかった。

【０３６２】＜実施例４＞実施例１〜３の試料を富士写
真フイルム（株）製の熱現像機：ＤＲＹ ＳＹＳＴＥＭ
ＰＲＯＣＥＳＳＯＲ ＦＤＳ−６１００Ｘを使用して
Ａ２出力時のコンベア入り口からフィルム排出完了まで
８５秒の時間で処理を実施した。これらのサンプルを実
施例１と同様に評価を行った。その結果、実施例１、２
と同様に本発明の条件を満たす試料が良好な性能を示し
ていることがわかった。

【０３６３】＜実施例５＞実施例１のバック／下塗り層
のついたポリエチレンテレフタレ−ト（ＰＥＴ）支持体
の作製方法を以下の手順に変更して、実施例１と同様の
熱現像感光材料を製造した。 《バック／下塗り層のついたポリエチレンテレフタレ−
ト（ＰＥＴ）支持体の作製》 （１）ＰＥＴ支持体の作製 実施例１と同じ手順により幅２．４ｍ、長さ３５００
ｍ、厚み１２０μｍのロ−ル状のＰＥＴ支持体を得た。
ＰＥＴ支持体の表面には、両面とも０．３７５ｋＶ・Ａ
・分／ｍ²のコロナ放電処理を施した。

【０３６４】（２）下塗り層及びバック層の作成 下記の塗布液Ｓ−Ａ、Ｓ−Ｂ、Ｓ−Ｃを調製した。支持
体の画像形成層を形成する側に、Ｓ−Ｂを１３．８ｍｌ
／ｍ²塗布し、さらにその上にＳ−Ａを６．２ｍｌ／ｍ²
塗布した。次に、支持体のバック面に、Ｓ−Ａを６．２
ｍｌ／ｍ²塗布し、さらにその上にＳ−Ｃを１３．８ｍ
ｌ／ｍ²塗布した。乾燥は、１２５℃で３０秒、次いで
１５０℃で３０秒、さらに１８５℃で３０秒行った。 塗布液Ｓ−Ａ ラテックス−Ａ ２８０ｇ ＫＯＨ ０．５ｇ ポリスチレン微粒子（平均粒径：２μｍ、平均粒径の変動係数７％） ０．０３ｇ ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン １．８ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｃ ０．０６ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０３６５】 塗布液Ｓ−Ｂ ケミパールＳ１２０（２７％水分散物、三井化学（株）製） ７３．１ｇ ペスレジンＡ６１５Ｇ（２５％水分散物、高松油脂（株）製） ７８．９ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｂ ２．７ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｃ ０．３ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｄ ０．２５ｇ 水溶性エポキシ化合物 （ナガセ化成工業（株）製、デナコールＥＸ５２１） ３．４ｇ ポリメチルメタクリレ−ト（１０％水分散物、 平均粒子径５μｍ、平均粒子の変動係数７％） ７．７ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０３６６】 塗布液Ｓ−Ｃ ペスレジンＡ５２０（３０％水分散物、高松油脂（株）製） ４６ｇ アルカリ処理ゼラチン（分子量約１００００、Ｃａ²⁺含量３０ｐｐｍ） ４．４４ｇ 脱イオン処理ゼラチン（Ｃａ²⁺含量０．６ｐｐｍ） ０．８４ｇ 化合物−Ｂｃ−Ａ ０．０２ｇ 染料−Ｂｃ−Ａ （７８３ｎｍの光学濃度として１．３の濃度になるように調整） ポリオキシエチレンフェニルエ−テル １．７ｇ スミテックスレジンＭ−３（８％水溶液） １５ｇ （水溶性メラミン化合物、住友化学工業（株）製） ＦＳ−１０Ｄ（ＳｂドープＳｎＯ₂ ２０％水分散物，石原産業（株）製） ８１．５ｇ ポリスチレン微粒子（平均粒径：２μｍ， 平均粒径の変動係数７％） ０．０３ｇ 蒸留水 計量が１０００ｇとなる量

【０３６７】（３）搬送熱処理 実施例１と同じ方法で熱処理と後熱処理を施して、バッ
ク／下塗り層のついたポリエチレンテレフタレ−ト（Ｐ
ＥＴ）支持体とした。この支持体を用いて、実施例１と
同じ熱現像感光材料の試料を調製した。実施例１と同じ
試験を行ったところ、本発明の条件を満たす試料が、同
様に優れた効果を示すことが確認された。

【０３６８】＜実施例６＞実施例１と同様の方法で、本
発明の化合物として化合物２−２、化合物１０−２、化
合物１８−１、化合物２１８−２、化合物Ｈ−１−１
５、化合物Ｈ−２−２、化合物Ｈ−２−２、化合物Ｈ−
３−１、化合物Ｈ−４−１、化合物Ｈ−５−１、化合物
Ａ’−６、化合物Ａ−３をそれぞれ用いて１２種類の熱
現像感光材料を作製した。これらの熱現像感光材料を、
実施例１と同じ方法で評価した。その結果、実施例１と
同様の効果を得ることができた。

【０３６９】＜実施例７＞ １）下引済み支持体の作製 《ＰＥＴ支持体の作製》ＰＥＴペレットを１３０℃で４
時間乾燥した後、３００℃で溶融後Ｔ型ダイから押し出
した後急冷し、未延伸のフィルムを作製した。これを周
速の異なるロールを用い３．０倍に縦延伸、ついでテン
ターで４．５倍に横延伸を実施した。この時の温度はそ
れぞれ１１０℃、１３０℃であった。この後、２４０℃
で２０秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に４％緩和
した。この後２００℃のゾーンを巻き取り張力３．５ｋ
ｇ／ｃｍ²で２０ｍ／ｍｉｎの速度で１０分間熱処理し
た。

【０３７０】この後テンターのチャック部をスリッター
した後、両端にナール加工を行い、４０Ｎの力で巻き取
った。このようにして巾２．４ｍ、長さ８００ｍ、厚み
１２５μｍのＰＥＴフィルムのロールを得た。ガラス転
移点は７９℃であった。

【０３７１】上記のようにして作製した２軸延伸熱固定
済みの厚さ１２５μｍの厚みをもったＰＥＴフィルム支
持体の両面にそれぞれ８Ｗ／ｍ²・分のコロナ放電処理
を施し、一方の面に下記下引塗布液ａ−１を乾燥膜厚
０．８μｍになるように塗設し乾燥させて下引層Ａ−１
とし、また反対側の面に下記帯電防止加工した下引塗布
液ｂ−１を乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設し乾燥
させて帯電防止加工下引層Ｂ−１とした。

【０３７２】 《下引塗布液ａ−１》 ブチルアクリレート（３０質量％）、ｔ−ブチルアクリレート （２０質量％）、スチレン（２５質量％）、２−ヒドロキシエ チルアクリレート（２５質量％）の共重合体ラテックス液 （固形分３０％） ２７０ｇ （Ｃ−１） ０．６ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ ポリスチレン微粒子（平均粒径３μｍ） ０．０５ｇ コロイダルシリカ（平均粒径９０μｍ） ０．１ｇ 水 総量が１０００ｍｌになる量

【０３７３】 《下引塗布液ｂ−１》 ＳｎＯ₂／Ｓｂ（９／１質量比、平均粒径０．１８μｍ） ２００ｍｇ／ｍ²になる量 ブチルアクリレート（３０質量％）、スチレン（２０質量％） グリシジルアクリレート（４０質量％）の共重合体ラテッ クス液（固形分３０％） ２７０ｇ （Ｃ−１） ０．６ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水 総量が１０００ｍｌになる量

【０３７４】上記下引層Ａ−１および下引層Ｂ−１の上
表面に、８ｗ／ｍ²・分のコロナ放電を施し、下引層Ａ
−１の上には、下記下引上層塗布液ａ−２を乾燥膜厚
０．１μｍになる様に塗布して下引上層Ａ−２とし、下
引層Ｂ−１の上には下記下引上層塗布液ｂ−２を乾燥膜
厚０．８μｍになる様に塗布して帯電防止機能をもつ下
引上層Ｂ−２とした。

【０３７５】 《下引上層塗布液ａ−２》 ゼラチン ０．４ｇ／ｍ²になる質量 （Ｃ−１） ０．２ｇ （Ｃ−２） ０．２ｇ （Ｃ−３） ０．１ｇ シリカ粒子（平均粒径３μｍ） ０．１ｇ 水 総量が１０００ｍｌになる量

【０３７６】 《下引上層塗布液ｂ−２》 （Ｃ−４） ６０ｇ （Ｃ−５）を成分とするラテックス液（固形分２０％） ８０ｇ 硫酸アンモニウム ０．５ｇ （Ｃ−６） １２ｇ ポリエチレングリコール（重量平均分子量６００） ６ｇ 水 総量が１０００ｍｌになる量

【０３７７】

【化９５】

【０３７８】

【化９６】

【０３７９】《支持体の熱処理》上記の下引済み支持体
を、１６０℃に設定した全長２００ｍの熱処理ゾーンに
入れ、張力２ｋｇ／ｃｍ²、搬送速度２０ｍ／分で搬送
した。その後で、４０℃のゾーンに１５秒間通し、１０
ｋｇ／ｃｍ²の巻き取り張力で巻き取った。

【０３８０】２）乳剤および溶液の調製 《ハロゲン化銀乳剤の調製》水９００ｍｌ中にイナート
ゼラチン７．５ｇおよび臭化カリウム１０ｍｇを溶解し
て温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた後、硝酸銀７４
ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（６０／３８／２）のｍｏ
ｌ比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃化カリウムお
よび〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕塩を銀１ｍｏｌ当たり１×
１０^-6ｍｏｌおよび塩化ロジウム塩を銀１ｍｏｌ当たり
１×１０^-6ｍｏｌ含む水溶液３７０ｍｌを、ｐＡｇ７．
７に保ちながらコントロールドダブルジェット法で添加
した。その後４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３
ａ，７−テトラザインデンを添加しＮａＯＨでｐＨを
８、ｐＡｇ６．５に調整することで還元増感を行い平均
粒子サイズ０．０６μｍ、単分散度１０％の投影直径面
積の変動係数８％、〔１００〕面比率８７％の立方体沃
臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて
凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシエタノール０．１ｇ
を加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ７．５に調整して、ハロゲ
ン化銀乳剤を得た。

【０３８１】《ベヘン酸ナトリウム溶液の調製》９４５
ｍｌの純水にベヘン酸３２．４ｇ、アラキジン酸９．９
ｇ、ステアリン酸５．６ｇを９０℃で溶解した。次に高
速で攪拌しながら１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム
水溶液９８ｍｌを添加した。次に濃硝酸０．９３ｍｌを
加えた後、５５℃に冷却して３０分攪拌させてベヘン酸
ナトリウム溶液を得た。

【０３８２】《ベヘン酸銀とハロゲン化銀乳剤のプレフ
ォーム乳剤の調製》上記のベヘン酸ナトリウム溶液に、
前記ハロゲン化銀乳剤を添加し、水酸化ナトリウム溶液
でｐＨ８．１に調整した後に、１ｍｏｌ／Ｌの硝酸銀溶
液１４７ｍｌを７分間かけて加え、さらに２０分攪拌し
限外濾過により水溶性塩類を除去した。生成したベヘン
酸銀は平均粒子サイズ０．８μｍ、単分散度８％の粒子
であった。分散物のフロックを形成後、水を取り除き、
更に６回の水洗と水の除去を行った後乾燥させた。

【０３８３】《感光性乳剤の調製》前記プレフォーム乳
剤を分割し、それにポリビニルブチラール（平均分子量
３０００）のメチルエチルケトン溶液（１７質量％）５
４４ｇとトルエン１０７ｇを徐々に添加して混合した後
に、０．５ｍｍサイズＺｒＯ₂のビーズミルを用いたメ
ディア分散機で４０００ｐｓｉで３０℃、１０分間の分
散を行った。

【０３８４】前記の支持体上にそれぞれ以下の各層を両
面同時塗布し、試料を作製した。なお、乾燥は６０℃、
１５分間で行った。

【０３８５】３）バック面側塗布 支持体の下引層Ｂ−２の上に、以下の組成のバック層塗
布液を塗布してバック層を形成した。 《バック層塗布液》 セルロースアセテートブチレート（１０％メチルエチルケトン溶液） １５ｍｌ／ｍ² 染料−Ａ ６０ｍｇ／ｍ² マット剤：単分散度１５％平均粒子サイズ８μｍ単分散シリカ ９０ｍｇ／ｍ² Ｃ₈Ｆ₁₇（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₂Ｃ₈Ｆ₁₇ ５０ｍｇ／ｍ² Ｃ₉Ｆ₁₉−Ｃ₆Ｈ₄−ＳＯ₃Ｎａ １０ｍｇ／ｍ²

【０３８６】

【化９７】

【０３８７】４）画像形成層面側塗布 支持体の下引層Ａ−２の上に、以下の組成を有する画像
形成層塗布液を塗布銀量が１．５ｇ／ｍ²になる様に塗
布した。 《画像形成層塗布液》 前記感光性乳剤 ２４０ｇ 増感色素（０．１％メタノール溶液） １．７ｍｌ ピリジニウムプロミドペルブロミド（６％メタノール溶液） ３ｍｌ 臭化カルシウム（０．１％メタノール溶液） １．７ｍｌ 酸化剤（１０％メタノール溶液） １．２ｍｌ 化合物（Ｔ−４４） ９．２ｍｌ ２−メルカプトベンズイミダゾール（１％メタノール溶液） １１ｍｌ 化合物Ｐ（５％メタノール溶液） １７ｍｌ 化合物２−１ ５ｘ１０^-3ｍｏｌ／Ａｇ−ｍｏｌ フタラジン ０．６ｇ ４−メチルフタル酸 ０．２５ｇ テトラクロロフタル酸 ０．２ｇ 平均粒径３μｍの炭酸カルシウム ０．１ｇ １，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル） −２−メチルプロパン（２０％メタノール溶液） ５．５ｍｌ １，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル） −３，５，５−トリメチルヘキサン（２０％メタノール溶液） １５．０ｍｌ イソシアネート化合物（モーベイ社製、 Ｄｅｓｍｏｄｕｒ Ｎ３３００） ０．５ｇ

【０３８８】

【化９８】

【０３８９】

【化９９】

【０３９０】以下の組成を有する表面保護層塗布液を、
画像形成層の上になるように画像形成層塗布液と同時塗
布した。このとき、表面保護層の厚さが２．５μｍにな
るように、セルロースアセテートブチレートの添加量を
制御した。 《表面保護層塗布液》 アセトン ５ｍｌ／ｍ² メチルエチルケトン ２１ｍｌ／ｍ² セルロースアセテートブチレート ２．３ｇ／ｍ² メタノール ７ｍｌ／ｍ² フタラジン ２５０ｍｇ／ｍ² マット剤：単分散度１０％平均粒子サイズ４μｍ単分散シリカ ５ｍｇ／ｍ² CH₂＝CHSO₂CH₂CONHCH₂CH₂NHCOCH₂SO₂CH＝CH₂ ３５ｍｇ／ｍ² フッ素系界面活性剤 Ｃ₁₂Ｆ₂₅（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀Ｃ₁₂Ｆ₂₅ １０ｍｇ／ｍ² Ｃ₈Ｆ₁₇−Ｃ₆Ｈ₄−ＳＯ₃Ｎａ １０ｍｇ／ｍ² 塗膜形成した後の試料を用い、バインダーを除去した後
に、レプリカ法で電子顕微鏡観察して測定したところ、
有機銀塩粒子は長軸径０．５±０．０５μｍ、短軸径
０．４±０．０５μｍ、厚み０．０１μｍの平板状粒子
が全有機銀塩粒子の９０％である単分散度５％の粒子で
あった。

【０３９１】５）露光処理 得られた熱現像感光材料を、ビーム径（ビーム強度の１
／２のＦＷＨＭ）１２．５６μｍ、レーザー出力５０ｍ
Ｗ、出力波長７８３ｎｍの半導体レーザーを搭載した単
チャンネル円筒内面方式のレーザープロッターを使用
し、ミラー回転数６００００ｒｐｍ、露光時間１．２×
１０^-8秒の露光を実施した。この時のオーバーラップ係
数は０．４４９にし、熱現像感光材料面上のレーザーエ
ネルギー密度は７５μＪ／ｃｍ²とした。

【０３９２】６）熱現像処理 熱現像感光材料は、オンラインで、上記プロッターから
オートキャリアを経て、図２に示した熱現像機で、熱現
像処理を行った。熱現像部のローラー表面材質はシリコ
ンゴム、平滑面はテフロン不織布にして、熱現像部での
搬送のラインスピードは２５ｍｍ／秒に設定した。予備
加熱部１２．２秒（予備加熱部と熱現像部の駆動系は独
立しており、熱現像部との速度差は−０．５％〜−１％
に設定、オートキャリアの予備加熱部との速度差は０％
〜−１．０％に設定、各予熱部の金属ローラーの温度設
定、時間は第１ローラー温度６７℃、２．０秒、第２ロ
ーラー温度８２℃、２．０秒、第３ローラー温度９８
℃、２．０秒、第４ローラー温度温度１０７℃、２．０
秒、第５ローラー温度１１５℃、２．０秒、第６ローラ
ー温度１２０℃、２．０秒にした）、熱現像部１２０℃
（熱現像感光材料面温度）で１７．２秒、徐冷部１３．
６秒で熱現像処理を行った。なお、幅方向の温度精度は
±０．５℃であった。各ローラー温度の設定は熱現像感
光材料の幅（例えば幅６１ｃｍ）よりも両側それぞれ５
ｃｍ長くして、その部分にも温度をかけて、温度精度が
出るようにした。なお、各ローラーの両端部分は温度低
下が激しいので、熱現像感光材料の幅よりも５ｃｍ長く
した部分はローラー中央部よりも１〜３℃温度が高くな
るように設定し、熱現像感光材料（例えば幅６１ｃｍの
中で）の画像濃度が均質な仕上がりになるように留意し
た。

【０３９３】７）評価 実施例１と同じ評価を行ったところ、実施例１と同様に
優れた効果が確認された。

【０３９４】画像形成層塗布液に用いた化合物２−１の
代わりに、化合物２−２、化合物１０−２、化合物１８
−１、化合物２１８−２、化合物Ｈ−１−１５、化合物
Ｈ−２−２、化合物Ｈ−２−２、化合物Ｈ−３−１、化
合物Ｈ−４−１、化合物Ｈ−５−１、化合物Ａ’−６、
化合物Ａ−３をそれぞれ用いてさらに１２種類の熱現像
感光材料を作製した。これらの熱現像感光材料を、上記
方法により評価したところ、同様に優れた効果が確認さ
れた。

【０３９５】

【発明の効果】本発明によれば、カブリが低く、Ｄｍａ
ｘ（最高濃度）が高く、処理後の感光材料を長期間保管
してもカブリの上昇の少ない写真製版用途に適した写真
特性を得ることができる熱現像感光材料を得ることがで
きる。また、環境面、コスト面で有利な水系塗布が可能
である。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の化合物が熱現像感光材料に存在する
場合（Ａ）と存在しない場合（Ｂ）の断面電子顕微鏡写
真である。

【図２】 本発明の熱現像感光材料の熱現像処理に用い
られる熱現像機の一構成例を示す側面図である。

【符号の説明】

１０ 熱現像画像形成材料 １１ 搬入ローラー対 １２ 搬出ローラー対 １３ ローラー １４ 平滑面 １５ 加熱ヒーター １６ ガイド板 Ａ 予備加熱部 Ｂ 熱現像処理部 Ｃ 徐冷部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 克之 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H123 AB00 AB01 AB03 AB23 AB25 BA00 BA14 BB00 BB27 BB39 CB00 CB03

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体の一方面上に、非感光性有機銀
   塩、感光性ハロゲン化銀、銀イオンのための還元剤、お
   よびバインダーを有する熱現像感光材料において、非感
   光性有機銀塩上および近傍に現像開始点を形成可能な化
   学種をイメージワイズに生成する化合物の少なくとも１
   種を含有し、該感光性ハロゲン化銀が７５０〜１４００
   ｎｍの範囲で分光増感されていることを特徴とする熱現
   像感光材料。
2. 【請求項２】 支持体の一方面上に、非感光性有機銀
   塩、感光性ハロゲン化銀、銀イオンのための還元剤、お
   よびバインダーを有する熱現像感光材料において、０．
   ０１ｍｏｌ／銀ｍｏｌで添加することにより現像銀粒子
   密度が２００〜５０００％に増加する化合物の少なくと
   も１種を含有し、該感光性ハロゲン化銀が７５０〜１４
   ００ｎｍの範囲で分光増感されていることを特徴とする
   熱現像感光材料。
3. 【請求項３】 支持体の一方面上に、非感光性有機銀
   塩、感光性ハロゲン化銀、銀イオンのための還元剤、お
   よびバインダーを有する熱現像感光材料において、０．
   ０１ｍｏｌ／銀ｍｏｌで添加することによりカバリング
   パワーが１２０〜１０００％に増加する化合物の少なく
   とも１種を含有し、該感光性ハロゲン化銀が７５０〜１
   ４００ｎｍの範囲で分光増感されていることを特徴とす
   る熱現像感光材料。
4. 【請求項４】 少なくとも１種の下記一般式（Ｔ）で表
   される化合物を含有することを特徴とする請求項１〜３
   のいずれかに記載の熱現像感光材料。 【化１】 （式中、Ｒ¹は水素原子、−ＯＭ²、ヘテロ原子を少なく
   とも１つ含有する基で少なくとも１つ置換されたアルキ
   ル基、またはアルコキシ基、アリールオキシ基、アシル
   基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
   ル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカ
   ルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ
   基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカ
   ルボニルオキシ基、スルホニルアミノ基、スルファモイ
   ル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ
   基、アミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルホ
   ニルオキシ基、ウレイド基、シリル基、メルカプト基、
   ヒドロキシ基、ニトロソ基、スルホ基、カルボキシル
   基、リン酸エステル基、ヘテロ環基、ハロゲノアルキル
   基から選ばれる少なくとも１つの基で置換されたアリー
   ル基、またはヘテロ環基を表す。Ｌは連結基を表し、Ｍ
   ¹およびＭ²は水素原子またはカチオンを表す。ｍは０〜
   ５の整数を表し、ｎは１〜３の整数を表す。但し、ｍが
   ０の場合、およびｍが１でかつＲ¹が−ＯＨの場合はＬ
   はハロゲン原子、アシルオキシ基、アルコキシカルボニ
   ル基、アリールオキシカルボニル基、ホルミル基、アリ
   ールオキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル
   オキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ
   基、スルホニル基、スルフィニル基、スルホニルオキシ
   基、シリル基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ニトロソ
   基、スルホ基、リン酸エステル基、ヘテロ環基から選ば
   れる１〜３個の基で置換された連結基を表す。）