JPH11126319A

JPH11126319A - 磁気ヘッドおよび磁気ヘッド装置

Info

Publication number: JPH11126319A
Application number: JP29093697A
Authority: JP
Inventors: Hirofumi Kondo; 洋文近藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-10-23
Filing date: 1997-10-23
Publication date: 1999-05-11

Abstract

(57)【要約】【課題】長時間のヘッドシークおよび回転停止後に、
磁気ヘッド装置がハードディスクに吸着されるフライス
ティクションの現象を防止する。【解決手段】アルコキシシラノ基を有するパーフルオ
ロポリエーテル化合物を含む被膜を、磁気ヘッド６およ
びスライダ７の摺動面に形成する。【効果】被膜の形成により、ハードディスク表面の潤
滑剤が磁気ヘッド摺動面に移行する現象が低減する。こ
れにより、フライスティクションは効果的に防止され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ヘッドおよび磁
気ヘッド装置に関し、さらに詳しくは、磁気記録媒体表
面に塗布された潤滑剤層が磁気ヘッド等の摺動面に移行
する現象を抑制し、信頼性や耐久性を高めた磁気ヘッド
および磁気ヘッド装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】コンピュータ装置あるいはビデオ装置、
オーディオ装置等に付随する磁気記録装置は、近年ます
ます高密度記録化が要望されるようになっている。この
要望に応えるため、磁気記録媒体や磁気ヘッドの磁気特
性の向上とともに、両者の接触表面の平滑性を向上し、
記録再生時におけるスペーシングロスを極力低減する方
法が採用される。

【０００３】磁気記録装置の一例として、ＨＤＤ (Hard
Disc Drive)装置においては、高密度記録を達成するた
めに、磁気ヘッドおよびスライダを含む磁気ヘッド装置
の浮上量を、ニアコンタクトと呼ばれる数十ｎｍの領域
まで減少させてきている。このため、従来から問題視さ
れてきたＣＳＳ (Contact Start and Stop) 時の磁気デ
ィスクおよび磁気ヘッド装置間の摩擦の増大や、スティ
クション (Sticktion)の増加のみならず、フライスティ
クション (Flysticktion) と呼ばれる問題が新たに発生
してきた。フライスティクションとは、長時間のヘッド
シーク動作の後に停止したときに、磁気ディスクと磁気
ヘッド装置間のスティクションが増加する現象のことで
ある。

【０００４】フライスティクションの現象は、ヘッドシ
ーク中に磁気ディスク表面の潤滑剤が磁気ヘッド装置に
移行し、回転停止後にその潤滑剤により磁気ヘッド装置
が磁気ディスクに吸着することが原因の一つであること
が明らかにされている（日本トライボロジ学会講演予稿
集、講演番号１Ｅ−９、ｐ２０９、１９９７年春）。ま
たその報告の中で、磁気ヘッド装置表面を表面処理する
ことで潤滑剤の移行を抑制することが可能であり、フラ
イスティクションを低減できる可能性を示唆している。
具体的には、ラウリン酸、パルミチン酸、ベヘン酸等の
長鎖脂肪酸あるいは含フッ素系化合物を磁気ヘッド装置
に塗布するものである。ただしこの報告では含フッ素系
化合物の分子構造は特定されていない。

【０００５】含フッ素系化合物は、主に薄膜型の磁気記
録媒体のトップコート用潤滑剤としても、現在最もよく
使用されている潤滑剤である。この中でも、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物は、他の含フッ素系化合物に比
較して潤滑性能や表面保護性能に優れる。この理由は、
-ＣＦ₂-Ｏ- ＣＦ₂-のエーテル結合がフレキシブルであ
るために、分子量が同じ他の含フッ素系化合物に比べる
と粘度が小さいことと、幅広い温度領域でその粘度変化
が小さいことが挙げられる。これに加えて、化学的に不
活性であること、蒸気圧が小さいこと、熱的あるいは化
学的安定性が高いこと、表面エネルギが小さいこと、境
界潤滑特性がよいこと、そして撥水性に優れること等が
列挙される。

【０００６】パーフルオロポリエーテル系化合物の特性
は、その分子構造に強く依存する。何種類かのパーフル
オロポリエーテル系化合物が市販されており、それらは
分子量、主鎖の繰り返し単位、末端基がそれぞれ異な
る。例えば、Ｆｏｍｂｌｉｎ−Ｙ（商品名）タイプは−
ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ−と−ＣＦ₂Ｏ−とのランダム
共重合体であり、主鎖の繰り返し単位が分岐構造を持っ
ている。一方Ｆｏｍｂｌｉｎ−Ｚ（商品名）タイプは−
ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ−と−ＣＦ₂Ｏ−とのランダム共重合体
であり、分岐のない直鎖構造を持つ。Ｄｅｍｎｕｍおよ
びＫｒｙｔｏｘ（いずれも商品名）タイプは、それぞれ
ヘキサフルオロプロピレンオキシドおよびヘキサフルオ
ロイソプロピレンオキシドのホモポリマである。

【０００７】これらのパーフルオロポリエーテル化合物
は、化学的に不活性なために、磁気記録媒体表面への吸
着力に欠ける。そこでこの吸着力を改善するために、両
末端に極性基を持つパーフルオロポリエーテル化合物で
あるＦｏｍｂｌｉｎＺ−ＤＯＬ（商品名）やＦｏｍｂ
ｌｉｎ−ＡＭ２００１（商品名）が開発された。前者は
水酸基を、後者はピペロニル (Pyperonyl) 基を両末端
に有する。このうち、Ｆｏｍｂｌｉｎ−ＡＭ２００１は
特に金属表面やカーボン表面に対して強い固定化作用が
あり、磁気ヘッド装置と磁気記録媒体間の摩擦係数が減
少し、磁気記録装置の耐久性が向上する。

【０００８】これらパーフルオロポリエーテル系化合物
以外にも含フッ素系化合物は種々存在し、テフロン（商
品名）系材料、ポリフッ化ビニリデン、パーフルオロア
ルキル基を有する化合物あるいは部分フッ素化炭化水素
系化合物等多くの化合物が存在する。このため、含フッ
素系化合物といってもその性質を特定することはでき
ず、またその極性成分によっても特性に大きな差が生じ
ることが予想される。すなわち、磁気ヘッドあるいはス
ライダと含フッ素系化合物との親和性の差により、形成
される被膜の安定性が異なってくる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】このように、磁気記録
装置の中枢をなす磁気ヘッドおよび磁気記録媒体の接触
面の信頼性や耐久性に関しては、記録密度の向上ととも
にますます厳しいものが要求されている。この要求に応
えるための様々な工夫もなされてきたが、必ずしも要求
特性を満足していないのが現状である。またこの要求水
準そのものが、今後さらに高度のものとなることが予想
される。特にＨＤＤ装置においては、その記録容量が将
来１０Ｇｂｉｔ／ｃｍ²を超えるものと予想されてお
り、磁気ディスク等の表面平滑性が高まるに従ってフラ
イスティクションを含めたスティクションの問題は大き
い。

【００１０】本発明はかかる現状に鑑み提案するもので
あり、磁気ディスク等の磁気記録媒体表面からの磁気ヘ
ッドあるいはスライダの表面への潤滑剤の移行を防止
し、これにより、いかなる使用条件下においても安定な
潤滑性を保ち得る磁気ヘッドおよび磁気ヘッド装置を提
供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドおよ
び磁気ヘッド装置は、上述の課題を解決するために提案
するものであり、次の一般式（１）で示される、アルコ
キシシラノ基を有するパーフルオロポリエーテル化合物
を含む被膜を、磁気ヘッド、あるいは磁気ヘッドおよび
スライダの少なくとも摺動面に形成したことを特徴とす
る。Ｒ_fＣＯＲ₁-Ｒ₂-Ｓｉ（ＯＲ₃）₃ （１）（但し、Ｒ_fはパーフルオロポリエーテルを、Ｒ₁は
Ｏ，ＮＨおよびＳのいずれか一種を、Ｒ₂はアルキレン
基、アリーレン(arylene) 基およびアリーレン基を含む
アルキレン基のうちのいずれか一種を、Ｒ₃はアルキル
基をそれぞれ表し、Ｒ₂およびＲ₃は炭素数の制限はな
い。）

【００１２】一般式（１）中のパーフルオロポリエーテ
ルＲ_fの繰り返し構造としては特に限定はなく、単官能
のパーフルオロポリエーテルとしては、例えば式（２）
に示される直鎖状のパーフルオロプロピルオキシ基をも
つもの、分岐構造を持つものとしては式（３）に示され
るパーフルオロプロピルオキシ基とパーフルオロオキシ
メチレン基の共重合体、式（４）に示されるパーフルオ
ロイソプロピルオキシ基を持つもの等が例示される。Ｆ（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_n （２）ＣＦ₃〔ＯＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂〕_m（ＯＣＦ₂）_l（３）Ｆ〔ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ〕_k （４）また多官能のパーフルオロポリエーテルとしては、例え
ば式（５）に示されるパーフルオロオキシエチレン基と
パーフルオロオキシメチレン基との共重合体等が例示さ
れる。（ＯＣ₂Ｆ₄）_p（ＯＣＦ₂）_q （５）これらパーフルオロポリエーテル化合物の構造式中の
ｌ，ｍ，ｎ，ｋ，ｐおよびｑは、１以上の自然数を示
し、ｍ／ｌ，ｐ／ｑの値は０．５〜２．０程度の範囲が
好ましい。またその分子量は特に限定されないが、６０
０〜５０００程度が望ましい。分子量が小さすぎると蒸
気圧が大きくなり熱的安定性に欠ける。また分子量が大
きすぎると極性基の効果が小さくなり、磁気ヘッドやス
ライダ表面への吸着性能が低下する。

【００１３】本発明が適用される磁気ヘッドとしては、
電磁誘導型としては軟磁性フェライトあるいは軟磁性金
属ブロックをコア材料とするものやＭＩＧ（Ｍｅｔａ
ｌＩｎＧａｐ）等のブロックコア磁気ヘッド、およ
び薄膜磁気ヘッドが例示される。ＭＲ（Ｍａｇｎｅｔｏ
Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）型やＧＭＲ(Giant Magneto R
esistive) 型等の磁気抵抗効果型ヘッドや、光磁気記録
媒体用の光磁気ヘッドや、相変化型記録媒体用の光学ヘ
ッドにも好適に適用され、ヘッド材料は特に限定されな
い。またその摺動面に、ＤＬＣ(Diamond Like Carbon)
のような硬質被膜が形成されていてもよい。

【００１４】ＨＤＤ装置のように、磁気ヘッドをスライ
ダに搭載した磁気ヘッド装置においては、スライダ摺動
面にも一般式（１）で表される潤滑剤を塗布することが
極めて有効である。スライダ材料としては特に限定され
ず、フェライトやＡｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣ複合材、各種セラ
ミクス材料や硬質炭素材料等が用いられる。スライダの
摺動面にもＤＬＣ等の硬質被膜が形成されていてもよ
い。

【００１５】これら磁気ヘッドやスライダの少なくとも
摺動面に、一般式（１）で示されるアルコキシシラノ基
を有するパーフルオロポリエーテル化合物を含む被膜を
形成する方法としては特に限定はされないが、摺動面に
トップコーティグする方法が望ましい。塗布法としては
ディップコーテイング、刷毛等のアプリケータによる方
法、スプレー法、ＬＢ (Lagmuir Brodget)法等、いずれ
の方法でもよい。一般式（１）で示される化合物は、有
機溶媒等に溶解した希釈液として塗布してもよい。塗布
厚としては０．１〜５０ｎｍの範囲が選ばれ、０．５〜
１０ｎｍの範囲がさらに望ましい。

【００１６】一般式（１）で示されるアルコキシシラノ
基を有するパーフルオロポリエーテル化合物は、単独の
化合物で被膜を形成してもよいし、複数の化合物を混合
して被膜を形成してもよい。また従来既知の潤滑剤と混
合して被膜を形成することも可能である。

【００１７】本発明の磁気ヘッドあるいは磁気ヘッド装
置が適用される磁気記録媒体としては、塗布型および薄
膜型いずれのものであってもよい。また磁気記録媒体に
限らず光磁気記録媒体や光記録媒体であってもよい。ま
た媒体構造としては、金属やガラスあるいはポリカーボ
ネート等の剛体からなる非磁性支持体上に磁性薄膜を形
成した、ハードディスクや光磁気記録ディスク等の他
に、ＰＥＴ (Polyethylenetelephthalate)フィルム等の
柔軟な非磁性支持体上に磁性薄膜を形成した磁気テープ
やフロッピディスク等のいずれでもよい。これら磁気記
録媒体の磁性薄膜表面にはＤＬＣ等の硬質保護膜やパー
フルオロポリエーテル系化合物をはじめとするトップコ
ート層すなわち潤滑剤層が設けられていてもよい。潤滑
剤層が設けられている場合には、潤滑剤が磁気ヘッドや
スライダへ移行する現象が防止される。塗布型磁気記録
媒体のように潤滑剤が磁気記録層に内添されている場合
にも、表面に浸出した潤滑剤が磁気ヘッドやスライダへ
移行する現象が防止される。

【００１８】次に作用の説明に移る。ハードディスクを
はじめとする磁気記録媒体には、通常パーフルオロポリ
エーテル系化合物をはじめとする潤滑剤が塗布あるいは
内添されており、この潤滑剤は接触により磁気ヘッドや
スライダの摺動面に移行する。潤滑剤の移行を防止する
には、磁気ヘッドやスライダの摺動面にも同種の潤滑剤
の被膜が形成されていることが有効である。またその被
膜は化学的にも物理的にも安定していることが望まし
い。すなわち、摺動による熱や経時変化で変質しないこ
と、また摺動による剪断応力で払拭あるいは剥離しない
ことが要求される。このためには、磁気ヘッドあるいは
スライダの摺動面に強固に付着あるいは吸着し、磁気記
録媒体との連続摺動に対して耐久性を確保することが望
まれる。

【００１９】本発明はこの観点にたち、分子末端に極性
基としてアルコキシシラノ基を導入したパーフルオロポ
リエーテル化合物を採用し、これを含む被膜を磁気ヘッ
ドあるいはスライダの摺動面に形成した。アルコキシシ
ラノ基は磁気ヘッドあるいはスライダの摺動面に向けて
配向し、強固に固定される。他端のパーフルオロポリエ
ーテル基は外界に向けて配向し、磁気ヘッドあるいはス
ライダからの潤滑剤の移行を防止する。このため、フラ
イスティクションを含めたスティクションが防止される
とともに、パーフルオロポリエーテル基本来の不活性な
性質および優れた潤滑性能により、磁気記録媒体との摩
擦係数を低減する。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気ヘッドおよび
磁気ヘッド装置につき、図面を参照して説明する。

【００２１】まず、本発明の磁気ヘッド装置が搭載され
る磁気記録装置の一例として、ＨＤＤ装置の概略斜視図
を図１に示す。図示のＨＤＤ装置１には、弾性を有する
支持アーム３の一端に磁気ヘッド装置２が配設されてい
る。支持アーム３の他端にはアクチュエータ４が装着さ
れ、支持アーム３は回動軸を中心として自在に回動し得
るように構成されている。情報を記録再生するハードデ
ィスク５は、不図示のスピンドルモータにより回転し、
磁気ヘッド装置２との間で情報信号の電磁変換をおこな
う。ＨＤＤ装置１は、一部破断面で示したケースにより
気密に構成されている。

【００２２】磁気ヘッド装置２の概略側面図を図２に示
す。図示の例はウインチェスタタイプのスライダ７の端
面に磁気ヘッド６が固着されたものである。図２の下面
が摺動面であり、この摺動面にはアルコキシシラノ基を
有するパーフルオロポリエーテル化合物を含む被膜（薄
いので図示せず）が形成されている。なお図中の破線は
摺動面の長手方向に形成された溝を示す。

【００２３】本発明が適用される磁気ヘッド６は、電磁
誘導型であっても磁気抵抗効果型であってもよい。電磁
誘導型の場合は記録再生を兼用してもよいし、記録と再
生個別のヘッドを搭載してもよい。磁気抵抗効果型の場
合は、別に電磁誘導型の記録ヘッドを搭載する。

【００２４】スライダ７の材料は先述したようにフェラ
イト材料、Ａｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣ複合材、ＣａＴｉＯ₃や
ＺｒＯ₂等の各種セラミクス材、ＮｉＺｎ等の合金ある
いは硬質カーボン等が用いられる。

【００２５】ハードディスク５と磁気ヘッド装置２との
動作状態を図３の概略断面図に示す。ハードディスク５
は、一例としてＡｌ合金やガラス等の剛性を有する非磁
性支持体８上に、Ｎｉ−Ｐ被膜９およびＣｒ被膜１０等
からなる硬質下地膜、Ｃｏ合金等からなる磁気記録層１
１、ＤＬＣやアモルファスカーボン、Ｃｒ₂Ｏ₃，Ｓｉ
Ｏ₂あるいはＺｒＯ₂等からなる硬質保護膜１２、そし
てパーフルオロポリエーテル化合物等からなる潤滑剤層
１３が順次形成されたものである。これらのうち、磁気
記録層１１は従来公知のＣｏ−Ｎｉ合金等の面内磁気記
録材料や、Ｃｏ−Ｃｒ等の垂直磁気記録材料はいずれも
使用可能であり、その材料や層構成は特に限定されな
い。また図示のハードディスク５の各層あるいは各膜の
厚さ、およびそれらの比率は説明のためのものであり、
実際とは異なる。ハードディスク５は、不図示のスピン
ドルモータにより矢印の方向に回転している。

【００２６】本発明が適用される磁気ヘッド６およびス
ライダ７からなる磁気ヘッド装置２は、回動しかつ弾性
を有する支持アーム３に、ジンバルサポート等の揺動機
構を介して装着されている。

【００２７】ＨＤＤ装置の停止時あるいはシーク時にお
いては、磁気ヘッド装置２の摺動面とハードディスク５
とは接触するが、実動作時においては、微小間隔、すな
わちニアコンタクトの状態で磁気ヘッド装置２はハード
ディスク５表面から流体力学的に浮上する。本発明の磁
気ヘッド装置２においては、その摺動面にアルコキシシ
ラノ基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を含む
被膜（薄いので図示せず）が形成されているので、両者
間の摩擦やスティクションの低減が図れるのみならず、
長時間の接触後に浮上開始する際のフライスティクショ
ンをも併せて防止することが可能である。

【００２８】

【実施例】以下本発明の磁気ヘッドおよび磁気ヘッド装
置につき、比較例を交えてさらに詳細に説明するが、当
然のことながら本発明はこれら実施例に何ら限定される
ものではない。以下の実施例はＨＤＤ装置に本発明を適
用した例である。

【００２９】実施例１一般式（１）Ｒ_fＣＯＲ₁-Ｒ₂-Ｓｉ（ＯＲ₃）₃ （１）の化合物として、Ｒ_f＝Ｆ（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_l
ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＨ₂、Ｒ₁＝Ｏ、Ｒ₂＝Ｃ₃Ｈ₆そして
Ｒ₃＝ＣＨ₃の化合物（潤滑剤１）を有機溶媒に溶解し
た塗布液を磁気ヘッドおよびスライダの摺動面に３ｎｍ
の膜厚に塗布し、実施例１の磁気ヘッド装置を作成し
た。

【００３０】実施例２〜実施例１０潤滑剤１に換えて、〔表１〕に示す置換基を有する一般
式（１）で表される化合物（潤滑剤２〜潤滑剤１０）を
有機溶媒に溶解した塗布液を磁気ヘッドおよびスライダ
の摺動面に３ｎｍの膜厚に塗布し、実施例１に準じて実
施例２〜実施例１０の磁気ヘッド装置を作成した。〔表
１〕には潤滑剤１をも併せて示す。潤滑剤１〜潤滑剤１
０の分子量は、いずれも２０００〜３０００程度であ
る。

【００３１】

【表１】

【００３２】比較例１〜比較例８一般式（１）で表される、アルコキシシラノ基を有する
パーフルオロポリエーテル化合物に換えて、〔表２〕に
示す分子構造を有する一般的、あるいは市販の潤滑剤１
１〜潤滑剤１８を有機溶媒に溶解した塗布液を磁気ヘッ
ドおよびスライダの摺動面に３ｎｍの膜厚に塗布し、実
施例１に準じて比較例１〜比較例８の磁気ヘッド装置を
作成した。

【００３３】

【表２】

【００３４】フライスティクションの測定磁気ディスクとして、Ｃｏ合金系の磁気記録層上に、両
末端に極性基を持つパーフルオロポリエーテル化合物で
あるＦｏｍｂｌｉｎＺ−ＤＯＬ（商品名）を３ｎｍの
厚さに塗布したものを用いた。この磁気ディスク上を、
浮上量５０ｎｍに設定した磁気ヘッド装置で７２時間シ
ークした後さらに１２時間放置し、この後スティクショ
ンを測定した。測定結果として、摩擦係数が１以上とな
ったものを×、１〜０．５のものを△、そして０．５以
下のものを○で表した。

【００３５】磁気ヘッド装置摺動面の潤滑剤増加率同様に、磁気ディスクとしてＣｏ合金系の磁気記録層上
に、両末端に極性基を持つパーフルオロポリエーテル化
合物であるＦｏｍｂｌｉｎＺ−ＤＯＬ（商品名）を３
ｎｍの厚さに塗布したものを用いた。この磁気ディスク
上を、浮上量５０ｎｍに設定した磁気ヘッド装置で７２
時間シークした後さらに１２時間放置し、この後磁気ヘ
ッド装置摺動面の潤滑剤増加率を測定した。測定は、シ
ーク前後の潤滑剤層の膜厚をエリプソメトリを用いて計
測し、膜厚の増加率を％表示した。

【００３６】磁気ディスク表面の潤滑剤減少率同様に、磁気ディスクとしてＣｏ合金系の磁気記録層上
に、両末端に極性基を持つパーフルオロポリエーテル化
合物であるＦｏｍｂｌｉｎＺ−ＤＯＬ（商品名）を３
ｎｍの厚さに塗布したものを用いた。この磁気ディスク
上を、浮上量５０ｎｍに設定した磁気ヘッド装置で７２
時間シークした後さらに１２時間放置し、この後磁気デ
ィスク表面の潤滑剤減少率を測定した。測定は、シーク
前後の潤滑剤層の膜厚をエリプソメトリを用いて計測
し、膜厚の減少率を％表示した。

【００３７】以上の測定結果を〔表３〕および〔表４〕
にまとめて示す。これらのうち、〔表３〕は実施例１〜
実施例１０の磁気ヘッド装置を、〔表４〕は比較例１〜
比較例８の磁気ヘッド装置の測定結果を示す。

【００３８】

【表３】

【００３９】

【表４】

【００４０】〔表３〕および〔表４〕の測定結果を比較
すると、フライスティクションはアルコキシシラノ基を
有するパーフルオロポリエーテル化合物を含む被膜を形
成した本発明の磁気ヘッド装置は、いずれも摩擦係数が
０．５以下で良好であることが判る。これに対し、一般
的な潤滑剤を用いた比較例の磁気ヘッド装置では、いず
れも摩擦係数が０．５を超え、１．０を超えるものも多
い。これら比較例の磁気ヘッド装置は、いずれもＣＳＳ
モードのスタート時に不安定な動作となる虞れが多分に
ある。

【００４１】また磁気ヘッド装置摺動面の潤滑剤の増加
率を見ると、実施例の磁気ヘッド装置はいずれも１７％
以下であるのに対し、比較例の磁気ヘッド装置はいずれ
も３５％以上であり、５５％に達するものもある。これ
らの結果は、磁気ディスク表面から磁気ヘッド装置摺動
面への潤滑剤の移行を裏付けている。さらに磁気ディス
ク表面の潤滑剤の減少率を見ると、この潤滑剤の移行は
さらに明らかになる。すなわち、実施例の磁気ヘッド装
置を用いた場合の磁気ディスク表面の潤滑剤の減少率は
いずれも２１％以下であるのに対し、比較例の磁気ヘッ
ド装置を用いた磁気ディスク表面の潤滑剤の減少率はい
ずれも３０％以上に達している。

【００４２】これらの結果から明らかなように、含フッ
素系化合物による潤滑剤であっても、その化学構造式に
より、潤滑剤の移行やフライスティクション特性に大き
な差が現れることが判る。例えば、同じパーフルオロポ
リエーテル化合物である潤滑剤１４や潤滑剤１５（比較
例４、５）であっても、末端の極性基の違いにより効果
に大きな差が現れ、アルコキシシラノ基を有するパーフ
ルオロポリエーテル化合物が優れることが明らかであ
る。しかしながら、アルコキシシラノ基を有する含フッ
素系化合物であっても、パーフルオロアルキル基を疏水
基とする潤滑剤１７（比較例７）は満足な特性を示さな
い。長鎖アルキル基を疏水基とするとともに、アルコキ
シシラノ基を極性基として有する潤滑剤１８（比較例
８）についても同様である。単なる高級脂肪酸である潤
滑剤１２（比較例２）もまた不満足な特性である。

【００４３】以上、本発明の磁気ヘッドおよび磁気ヘッ
ド装置につき実施例および比較例により詳細な説明を加
えたが、これらは単なる例示であり、本発明はこれら実
施例に何ら限定されるものではない。例えば、実施例は
ＨＤＤ装置の磁気ヘッド装置にアルコキシシラノ基を有
するパーフルオロポリエーテル化合物を含む被膜を適用
した例を示したが、ＨＤＤ装置以外にもフロッピディス
ク用の磁気ヘッドやヘリカルスキャン型の磁気ヘッド等
に適用して、磁気ディスクあるいは磁気テープとの走行
性を向上することが可能である。また光ディスクや光磁
気ディスクのヘッドに用いても、ディスクにコンタクト
した場合の走行性を改善することができる。

【００４４】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の磁気ヘッドおよび磁気ヘッド装置によれば、磁気ディ
スク等の磁気記録媒体表面からの潤滑剤の移行を防止
し、スティクションやフライスティクションの低減を図
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッド装置が搭載される磁気記録
装置の一例の、ＨＤＤ装置の概略斜視図である。

【図２】本発明が適用される磁気ヘッド装置の概略側面
図である。

【図３】ハードディスクと磁気ヘッド装置との動作状態
示す概略断面図である。

【符号の説明】

１…ＨＤＤ装置、２…磁気ヘッド装置、３…支持アー
ム、４…アクチュエータ、５…ハードディスク、６…磁
気ヘッド、７…スライダ、８…非磁性支持体、９…Ｎｉ
−Ｐ被膜、１０…Ｃｒ被膜、１１…磁気記録層、１２…
硬質保護膜、１３…潤滑剤層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（１）で示される、アルコキ
シシラノ基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を
含む被膜を、磁気ヘッドの少なくとも摺動面に形成した
ことを特徴とする磁気ヘッド。Ｒ_fＣＯＲ₁-Ｒ₂-Ｓｉ（ＯＲ₃）₃ （１）（但し、Ｒ_fはパーフルオロポリエーテルを、Ｒ₁は
Ｏ，ＮＨおよびＳのいずれか一種を、Ｒ₂はアルキレン
基、アリーレン基およびアリーレン基を含むアルキレン
基のうちのいずれか一種を、Ｒ₃はアルキル基をそれぞ
れ表し、Ｒ₂およびＲ₃は炭素数の制限はない。）
【請求項２】下記一般式（１）で示される、アルコキ
シシラノ基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を
含む被膜を、磁気ヘッドおよびスライダの少なくとも摺
動面に形成したことを特徴とする磁気ヘッド装置。Ｒ_fＣＯＲ₁-Ｒ₂-Ｓｉ（ＯＲ₃）₃ （１）（但し、Ｒ_fはパーフルオロポリエーテルを、Ｒ₁は
Ｏ，ＮＨおよびＳのいずれか一種を、Ｒ₂はアルキレン
基、アリーレン基およびアリーレン基を含むアルキレン
基のうちのいずれか一種を、Ｒ₃はアルキル基をそれぞ
れ表し、Ｒ₂およびＲ₃は炭素数の制限はない。）