JPH064852A - 磁気ディスク装置 - Google Patents
磁気ディスク装置Info
- Publication number
- JPH064852A JPH064852A JP16236792A JP16236792A JPH064852A JP H064852 A JPH064852 A JP H064852A JP 16236792 A JP16236792 A JP 16236792A JP 16236792 A JP16236792 A JP 16236792A JP H064852 A JPH064852 A JP H064852A
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- Japan
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- magnetic disk
- head
- film
- magnetic
- disk device
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 コンタクト方式の磁気ディスク装置におい
て、磁気ディスクとヘッドとが常時接触摺動しても、磁
性膜が損傷するのを防止する。 【構成】 ガラス基板を用い、このガラス基板上に積層
した磁性膜上に膜厚５０〜８０オングストロームのパー
フルオロポリエーテルの潤滑膜を有する磁気ディスク４
と、荷重０．０１〜０．１ｇ重を有するヘッド６とを備
えている。このように、ヘッド６を荷重を小さくし、か
つ磁気ディスク４面に潤滑膜を形成することにより、ヘ
ッド６が常時磁気でディスクと接触摺動しても、磁性膜
が摩耗することはない。
て、磁気ディスクとヘッドとが常時接触摺動しても、磁
性膜が損傷するのを防止する。 【構成】 ガラス基板を用い、このガラス基板上に積層
した磁性膜上に膜厚５０〜８０オングストロームのパー
フルオロポリエーテルの潤滑膜を有する磁気ディスク４
と、荷重０．０１〜０．１ｇ重を有するヘッド６とを備
えている。このように、ヘッド６を荷重を小さくし、か
つ磁気ディスク４面に潤滑膜を形成することにより、ヘ
ッド６が常時磁気でディスクと接触摺動しても、磁性膜
が摩耗することはない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータの外部記
憶装置に使用する磁気ディスク装置に関する。
憶装置に使用する磁気ディスク装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置は起動時に磁気ディス
クが回転して、ヘッドが磁気ディスクと接触しながら空
気の粘性による浮力を受けて浮上し、定常回転数になる
と一定の浮上量を保ち、磁気記録の書き込み及び読み出
しを行う。そして、停止時には、磁気ディスクの回転数
の低下と共にヘッドは浮上量が低下し、磁気ディスクと
接触摺動して停止する。
クが回転して、ヘッドが磁気ディスクと接触しながら空
気の粘性による浮力を受けて浮上し、定常回転数になる
と一定の浮上量を保ち、磁気記録の書き込み及び読み出
しを行う。そして、停止時には、磁気ディスクの回転数
の低下と共にヘッドは浮上量が低下し、磁気ディスクと
接触摺動して停止する。
【０００３】これは、コンタクト・スタート・ストップ
（ＣＳＳ）方式と呼ばれ、広く採用されている。また、
高記録密度を達成するために、磁気ディスク及びヘッド
の特性向上に加えて、ヘッドの低浮上化がはかられてき
た。最近では、ヘッドの浮上量は０．１μｍの達成を要
求されており、さらには、０．１μｍ以下のニアーコン
タクトレコーディングの領域、そして、最終的には、常
時接触するコンタクレコーディング方式まで進むと考え
られており、コンタクト方式の磁気ディスク装置として
ヘッドの軽量化及び低荷重化をはかった装置が考案され
ている。
（ＣＳＳ）方式と呼ばれ、広く採用されている。また、
高記録密度を達成するために、磁気ディスク及びヘッド
の特性向上に加えて、ヘッドの低浮上化がはかられてき
た。最近では、ヘッドの浮上量は０．１μｍの達成を要
求されており、さらには、０．１μｍ以下のニアーコン
タクトレコーディングの領域、そして、最終的には、常
時接触するコンタクレコーディング方式まで進むと考え
られており、コンタクト方式の磁気ディスク装置として
ヘッドの軽量化及び低荷重化をはかった装置が考案され
ている。
【０００４】磁気ディスクはＮｉ−Ｐメッキ処理を施し
たアルミ基板にテクスチャーと呼ばれる同心円状の溝を
設け、その上にスパッタ法で成膜した下地Ｃｒ膜，磁性
膜及びアモルファスカーボン保護膜、そして、最表面に
潤滑膜を有するのが一般的である。テクスチャーは磁気
ディスク装置停止時に、ヘッドと磁気ディスクとの間に
生じる吸着力を低下させる目的で施せられる。
たアルミ基板にテクスチャーと呼ばれる同心円状の溝を
設け、その上にスパッタ法で成膜した下地Ｃｒ膜，磁性
膜及びアモルファスカーボン保護膜、そして、最表面に
潤滑膜を有するのが一般的である。テクスチャーは磁気
ディスク装置停止時に、ヘッドと磁気ディスクとの間に
生じる吸着力を低下させる目的で施せられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述したコンタクト方
式の磁気ディスク装置では、ヘッドと磁気ディスクとが
起動・停止時接触摺動するため、低荷重のヘッドであっ
ても、アモルファスカーボン保護膜が摩耗して磁性膜が
損傷したり、また、カーボン膜の摩耗によって生じた微
小粉がヘッドに付着し、記録特性に悪影響を与えるとい
う問題点があった。
式の磁気ディスク装置では、ヘッドと磁気ディスクとが
起動・停止時接触摺動するため、低荷重のヘッドであっ
ても、アモルファスカーボン保護膜が摩耗して磁性膜が
損傷したり、また、カーボン膜の摩耗によって生じた微
小粉がヘッドに付着し、記録特性に悪影響を与えるとい
う問題点があった。
【０００６】さらに、ヘッドが磁気ディスク表面上にあ
る微小突起と衝突すると、低荷重のヘッドは跳ね上り、
着地の際に磁気ディスク面を損傷させるという問題点が
あった。
る微小突起と衝突すると、低荷重のヘッドは跳ね上り、
着地の際に磁気ディスク面を損傷させるという問題点が
あった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、装置の起動・
停止時にヘッドと磁気ディスクとが接触摺動するコンタ
クト・スタート・ストップ方式の磁気ディスク装置にお
いて、前記ヘッドが荷重０．０１〜０．１グラム重を有
し、かつ前記磁気ディスクがガラス基板とこのガラス基
板に積層する磁性膜とこの磁性膜上に形成する５０〜８
０オングストロームの潤滑膜とを有している。
停止時にヘッドと磁気ディスクとが接触摺動するコンタ
クト・スタート・ストップ方式の磁気ディスク装置にお
いて、前記ヘッドが荷重０．０１〜０．１グラム重を有
し、かつ前記磁気ディスクがガラス基板とこのガラス基
板に積層する磁性膜とこの磁性膜上に形成する５０〜８
０オングストロームの潤滑膜とを有している。
【０００８】また、前記磁気ディスクの前記潤滑膜が次
に示す分子式 （Ａ） Ｒ−ＣＦ2 −（ＯＣ2 Ｆ4 ）m −（ＯＣＦ2 ）
n −ＯＣＦ2 −Ｒ （Ｃ） Ｆ−（Ｃ3 Ｆ6 Ｏ）q −Ｃ2 Ｆ4 −Ｒ″ ただし、Ｒ，Ｒ′，Ｒ″：アルキル基 ｍ，ｎ，ｐ，ｑは０又は正の整数のパーフルオロポリエ
ーテルのいずれか１つよりなることを特徴とする。
に示す分子式 （Ａ） Ｒ−ＣＦ2 −（ＯＣ2 Ｆ4 ）m −（ＯＣＦ2 ）
n −ＯＣＦ2 −Ｒ （Ｃ） Ｆ−（Ｃ3 Ｆ6 Ｏ）q −Ｃ2 Ｆ4 −Ｒ″ ただし、Ｒ，Ｒ′，Ｒ″：アルキル基 ｍ，ｎ，ｐ，ｑは０又は正の整数のパーフルオロポリエ
ーテルのいずれか１つよりなることを特徴とする。
【０００９】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【００１０】図１（ａ），（ｂ）は本発明の一実施例を
示す上面図及び側面図である。図１（ａ），（ｂ）にお
いて、ベース１上にスピンドルモータ２とアクチュエー
タ３とが搭載され、スピンドルモータ２には磁気ディス
ク４が取り付けられ、また、アクチュエータ２にはヘッ
ドアーム５を介してヘッド６が取り付けられている。こ
のヘッド６は０．０１〜０．１ｇ重の荷重で磁気ディス
ク４上にロードされる。そして、アクチュエータ３とボ
イスコイルモータ７とによって、ヘッド６は磁気ディス
ク４の半径方向の移動し、所定のトラックに位置決めさ
れる。
示す上面図及び側面図である。図１（ａ），（ｂ）にお
いて、ベース１上にスピンドルモータ２とアクチュエー
タ３とが搭載され、スピンドルモータ２には磁気ディス
ク４が取り付けられ、また、アクチュエータ２にはヘッ
ドアーム５を介してヘッド６が取り付けられている。こ
のヘッド６は０．０１〜０．１ｇ重の荷重で磁気ディス
ク４上にロードされる。そして、アクチュエータ３とボ
イスコイルモータ７とによって、ヘッド６は磁気ディス
ク４の半径方向の移動し、所定のトラックに位置決めさ
れる。
【００１１】図２（ａ），（ｂ）は本発明の磁気ディス
ク装置に用いたヘッド６の構成を示す図である。ジンバ
ルスプリング８に取り付けられたＡｌ2 Ｏ3 ＴｉＣ（ア
ルミナ・チタン・カーバイド）製のコア９には、Ｆｅ−
Ｎｉ合金１０に挟まれた絶縁層１１中にコイル１２が形
成され、最上層には絶縁保護膜１３が設けられている。
ク装置に用いたヘッド６の構成を示す図である。ジンバ
ルスプリング８に取り付けられたＡｌ2 Ｏ3 ＴｉＣ（ア
ルミナ・チタン・カーバイド）製のコア９には、Ｆｅ−
Ｎｉ合金１０に挟まれた絶縁層１１中にコイル１２が形
成され、最上層には絶縁保護膜１３が設けられている。
【００１２】図３（ａ）は本実施例の磁気ディスク装置
に用いた磁気ディスク４の構成を示す図である。この磁
気ディスクは、表面粗さＲａ＝１．０〜１．５ｎｍに仕
上げられたガラス基板１４上に、下地Ｃｒ膜１５を１０
００オングストローム、ＣｏＣｒＰｔ合金よりなる磁性
膜１６を３００オングストローム、カーボン保護膜１７
を３００オングストロームずつ順次形成し、さらに、カ
ーボン保護膜１７上には、図４に示す分子式で表される
パーフルオロポリエーテルよりなる潤滑膜１８が成膜さ
れている。そして、これらの下地Ｃｒ膜１５，磁性膜１
６およびカーボン保護膜１７はスパッタ法により形成
し、潤滑膜１８はディッピング法により形成いた。続い
て、図３（ｂ）に示す磁気ディスクは、他の実施例であ
って、磁性膜１６の上にカーボン保護膜１７を設けず、
直接潤滑膜１８を成膜したものである。
に用いた磁気ディスク４の構成を示す図である。この磁
気ディスクは、表面粗さＲａ＝１．０〜１．５ｎｍに仕
上げられたガラス基板１４上に、下地Ｃｒ膜１５を１０
００オングストローム、ＣｏＣｒＰｔ合金よりなる磁性
膜１６を３００オングストローム、カーボン保護膜１７
を３００オングストロームずつ順次形成し、さらに、カ
ーボン保護膜１７上には、図４に示す分子式で表される
パーフルオロポリエーテルよりなる潤滑膜１８が成膜さ
れている。そして、これらの下地Ｃｒ膜１５，磁性膜１
６およびカーボン保護膜１７はスパッタ法により形成
し、潤滑膜１８はディッピング法により形成いた。続い
て、図３（ｂ）に示す磁気ディスクは、他の実施例であ
って、磁性膜１６の上にカーボン保護膜１７を設けず、
直接潤滑膜１８を成膜したものである。
【００１３】次に、本実施例の磁気ディスク装置に用い
た磁気ディスク及びヘッドの耐久性試験の結果について
説明する。
た磁気ディスク及びヘッドの耐久性試験の結果について
説明する。
【００１４】図６は各環境下における磁気ディスク及び
ヘッドの耐久性試験結果を説明する図であって、本実施
例の磁気ディスク装置を５℃−５％ＲＨ，２３℃−５０
％ＲＨ及び６０℃−８０％ＲＨの環境下で、図１に示す
磁気ディスク装置のヘッド６の位置を固定し、磁気ディ
スク４を毎分３６００回転の回転数で５００時間連続回
転させた後、ヘッド６及び磁気ディスク４の外観を調査
した結果を本実施例と従来例とについて比較したもので
ある。
ヘッドの耐久性試験結果を説明する図であって、本実施
例の磁気ディスク装置を５℃−５％ＲＨ，２３℃−５０
％ＲＨ及び６０℃−８０％ＲＨの環境下で、図１に示す
磁気ディスク装置のヘッド６の位置を固定し、磁気ディ
スク４を毎分３６００回転の回転数で５００時間連続回
転させた後、ヘッド６及び磁気ディスク４の外観を調査
した結果を本実施例と従来例とについて比較したもので
ある。
【００１５】また、試験される磁気ディスクのサンプル
は、カーボン膜の有り及び無しの２種類、潤滑剤のタイ
プは、図４に示すように３種類とした。そして、潤滑膜
厚は本実施例では５０及び８０オングストロームの２種
類とした。この潤滑剤は膜厚を厚く、例えば、１００オ
ングストローム以上にすると、磁気ディスクが回転する
際に、遠心力によって周囲に飛散するため、別の障害を
引起すという弊害がある。
は、カーボン膜の有り及び無しの２種類、潤滑剤のタイ
プは、図４に示すように３種類とした。そして、潤滑膜
厚は本実施例では５０及び８０オングストロームの２種
類とした。この潤滑剤は膜厚を厚く、例えば、１００オ
ングストローム以上にすると、磁気ディスクが回転する
際に、遠心力によって周囲に飛散するため、別の障害を
引起すという弊害がある。
【００１６】なお、従来例の磁気ディスクは、図５に示
すように、メッキ処理によりＮｉ−Ｐ膜２０を２０μｍ
を有するアルミニウム基板１９上に、スパッタ法により
下地Ｃｒ膜１５を１０００オングストローム、ＣｏＣｒ
Ｐｔ合金よりなる磁性膜１６を３００オングストロー
ム、カーボン保護膜１７を３００オングストロームずつ
順次形成し、さらに、カーボン保護膜１７上には、ディ
ッピング法により膜厚２０オングストロームのパーフル
オロポリエーテルよりなる潤滑膜１８を形成したものを
用いた。
すように、メッキ処理によりＮｉ−Ｐ膜２０を２０μｍ
を有するアルミニウム基板１９上に、スパッタ法により
下地Ｃｒ膜１５を１０００オングストローム、ＣｏＣｒ
Ｐｔ合金よりなる磁性膜１６を３００オングストロー
ム、カーボン保護膜１７を３００オングストロームずつ
順次形成し、さらに、カーボン保護膜１７上には、ディ
ッピング法により膜厚２０オングストロームのパーフル
オロポリエーテルよりなる潤滑膜１８を形成したものを
用いた。
【００１７】図６によると、本実施例では、すべての環
境下において異常は認められないが、従来例では、５℃
−５％ＲＨ及び６０℃−８０％ＲＨで磁気ディスク４の
摩耗による異常が認められた。また、すべての実施例に
おいて、磁気ディスク４を毎分３６００回転の回転数で
５００時間連続回転させ、さらに、２３℃−５０％ＲＨ
で４８時間放置した後でも、磁気ディスク装置の再起動
が支障なくできることが確認された。
境下において異常は認められないが、従来例では、５℃
−５％ＲＨ及び６０℃−８０％ＲＨで磁気ディスク４の
摩耗による異常が認められた。また、すべての実施例に
おいて、磁気ディスク４を毎分３６００回転の回転数で
５００時間連続回転させ、さらに、２３℃−５０％ＲＨ
で４８時間放置した後でも、磁気ディスク装置の再起動
が支障なくできることが確認された。
【００１８】なお、潤滑膜厚の測定は、Ｘ線分光分析機
（例えば、ＳＳＩ社（米国），ＭプローブＥＳＣＡ）を
用い、潤滑剤の組成であるパーフルオロポリエーテルの
ＣＦ結合及びＣＨ結合に対する光電子の強度（ピーク
値）をそれぞれ測定し、次式により求めた。
（例えば、ＳＳＩ社（米国），ＭプローブＥＳＣＡ）を
用い、潤滑剤の組成であるパーフルオロポリエーテルの
ＣＦ結合及びＣＨ結合に対する光電子の強度（ピーク
値）をそれぞれ測定し、次式により求めた。
【００１９】 潤滑膜厚（オングストローム） ＝４０ｌｎ｛２．０６×（ＣＦピーク）／（ＣＨピーク）＋１｝
【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気ディ
スク装置は、ガラス基板に積層した磁性膜上に膜厚５０
〜８０オングストロームの潤滑膜を有する磁気ディスク
と、低荷重のヘッドとを備えたので、磁気ディスクが摩
耗しにくく耐久性に優れるという効果を有する。
スク装置は、ガラス基板に積層した磁性膜上に膜厚５０
〜８０オングストロームの潤滑膜を有する磁気ディスク
と、低荷重のヘッドとを備えたので、磁気ディスクが摩
耗しにくく耐久性に優れるという効果を有する。
【図１】分図（ａ），（ｂ）は本発明の一実施例を示す
上面図及び側面図である。
上面図及び側面図である。
【図２】分図（ａ）は図１のヘッド６を示す図であり、
分図（ｂ）は同図（ａ）のコア９の拡大断面図である。
分図（ｂ）は同図（ａ）のコア９の拡大断面図である。
【図３】分図（ａ），（ｂ）は図１の磁気ディスク４の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図４】図３の磁気ディスク４の潤滑膜に用いた潤滑剤
の分子式を示す図である。
の分子式を示す図である。
【図５】従来の磁気ディスクの構成の一例を示す断面図
である。
である。
【図６】各環境下における磁気ディスク及びヘッドの耐
久性試験結果を説明する図である。
久性試験結果を説明する図である。
１ ベース ２ スピンドルモータ ３ アクチュエータ ４ 磁気ディスク ５ ヘッドアーム ６ ヘッド ７ ボイスコイルモータ ８ ジンバルスプリング ９ コア １０ Ｆｅ−Ｎｉ合金 １１ 絶縁層 １２ コイル １３ 絶縁保護膜 １４ ガラス基板 １５ 下地Ｃｒ膜 １６ 磁性膜 １７ カーボン保護膜 １８ 潤滑膜 １９ アルミニウム基板 ２０ Ｎｉ−Ｐ膜
Claims (2)
- 【請求項１】 装置の起動・停止時にヘッドと磁気ディ
スクとが接触摺動するコンタクト・スタート・ストップ
方式の磁気ディスク装置において、前記ヘッドが荷重
０．０１〜０．１グラム重を有し、かつ前記磁気ディス
クがガラス基板とこのガラス基板に積層する磁性膜とこ
の磁性膜上に形成する５０〜８０オングストロームの潤
滑膜とを有することを特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項２】 前記磁気ディスクの前記潤滑膜が次に示
す分子式 （Ａ） Ｒ−ＣＦ2 −（ＯＣ2 Ｆ4 ）m −（ＯＣＦ2 ）
n −ＯＣＦ2 −Ｒ （Ｃ） Ｆ−（Ｃ3 Ｆ6 Ｏ）q −Ｃ2 Ｆ4 −Ｒ″ ただし、Ｒ，Ｒ′，Ｒ″：アルキル基 ｍ，ｎ，ｐ，ｑは０又は正の整数のパーフルオロポリエ
ーテルのいずれか１つよりなることを特徴とする請求項
１記載の磁気ディスク装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16236792A JPH064852A (ja) | 1992-06-22 | 1992-06-22 | 磁気ディスク装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16236792A JPH064852A (ja) | 1992-06-22 | 1992-06-22 | 磁気ディスク装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH064852A true JPH064852A (ja) | 1994-01-14 |
Family
ID=15753224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16236792A Pending JPH064852A (ja) | 1992-06-22 | 1992-06-22 | 磁気ディスク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH064852A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100884481B1 (ko) * | 2002-09-12 | 2009-02-17 | 주식회사 포스코 | 오븐 탄화실 도어 |
| US8781405B2 (en) | 2009-03-26 | 2014-07-15 | Kyocera Corporation | Radio communication terminal |
-
1992
- 1992-06-22 JP JP16236792A patent/JPH064852A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100884481B1 (ko) * | 2002-09-12 | 2009-02-17 | 주식회사 포스코 | 오븐 탄화실 도어 |
| US8781405B2 (en) | 2009-03-26 | 2014-07-15 | Kyocera Corporation | Radio communication terminal |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19980916 |