JPH11121551A - ウェハカセット - Google Patents

ウェハカセット

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JPH11121551A
JPH11121551A JP28634797A JP28634797A JPH11121551A JP H11121551 A JPH11121551 A JP H11121551A JP 28634797 A JP28634797 A JP 28634797A JP 28634797 A JP28634797 A JP 28634797A JP H11121551 A JPH11121551 A JP H11121551A
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Shinichi Oki
伸一 沖
Yoshiro Nakada
義朗 中田
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】シール部材を半導体ウェハに接近させるにも拘
わらず、ウェハトレイ、プローブカード及びシール部材
により形成される密封空間の容積が低減しないようにす
る。 【解決手段】 複数の半導体集積回路素子が形成された
半導体ウェハ10はウェハトレイ11の上に載置されて
いる。ウェハトレイ11の上に載置された半導体ウェハ
10と対向するようにプローブカード12が配置されて
いる。ウェハトレイ11のウェハ載置部11aには、第
1の環状の凹状溝31、第2の環状の凹状溝32、第1
の直線状の凹状溝33及び第2の直線状の凹状溝34が
形成されている。第1の直線状の凹状溝33はウェハト
レイ11の内部に形成された第1の連通路35を介して
第1の開閉弁37と接続されている。第2の直線状の凹
状溝34はウェハトレイ11の内部に形成された第2の
連通路36を介して第2の開閉弁38と接続されてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハ上に
形成された複数の半導体集積回路素子に対して一括して
バーンインを行なうためのウェハカセット及びプローブ
カードの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体集積回路装置は、半導体集
積回路素子とリードフレームとがボンディングワイヤに
よって電気的に接続された後、半導体集積回路素子とリ
ードフレームのリードとが樹脂又はセラミックスにより
封止された状態で供給されて、プリント基板に実装され
る。
【0003】ところが、電子機器の小型化及び低価格化
の要求から、半導体集積回路装置を半導体ウェハから切
り出したままのベアチップ状態で回路基板に実装する方
法が開発されており、品質が保証されたベアチップを低
価格で供給することが望まれている。
【0004】ベアチップに対して品質保証を行なうため
には、半導体集積回路素子の電気的特性をウェハ状態で
一括してバーンインを行なう必要がある。
【0005】そこで、例えば、NIKKEI MICRODEVICES 19
97年 7月号に記載されているように、半導体集積回路素
子が形成された半導体ウェハを保持するウェハトレイ
と、該ウェハトレイに保持された半導体ウェハと対向す
るように設けられ、該半導体ウェハの半導体集積回路素
子の検査用端子と接続されるバンプを有するプローブカ
ードと、ウェハトレイとプローブカードとの間に設けら
れ、ウェハトレイ及びプローブカードと共に密封空間を
形成する環状のシール材とを備えたウェハカセットが提
案されている。
【0006】以下、前記のウェハカセットについて、図
5及び図6を参照しながら説明する。図5はウェハカセ
ットの断面構造を示しており、図6はウェハカセットの
部分拡大断面構造を示している。
【0007】図5及び図6に示すように、半導体ウェハ
10を保持したウェハトレイ11と、ポリイミド樹脂よ
りなり弾性を有するプローブカード12を保持した配線
基板13とが対向するように設けられていると共に、ウ
ェハトレイ11の周縁部に環状のシール材14が設けら
れている。
【0008】図6に示すように、半導体ウェハ10上に
形成されている各半導体集積回路素子は外部電極16を
有している。
【0009】図5及び図6に示すように、プローブカー
ド12における、半導体ウェハ10上の半導体集積回路
素子の外部電極16と対応する部位にはバンプ17が設
けられていると共に、プローブカード12の周縁部は剛
性のリング18により保持されている。
【0010】配線基板13には、一端部が電源電圧、接
地電圧又は信号電圧等の検査用電圧を供給する図示しな
い検査装置に接続される多層配線20と、該多層配線2
0の他端側とプローブカード12のバンプ17とを電気
的に接続する異方導電性ゴム21とが設けられている。
【0011】ウェハトレイ11の側面には、図示しない
減圧手段に接続される開閉弁22が設けられていると共
に、ウェハトレイ11の上面における半導体ウェハ10
とシール部材14との間には、開閉弁22と連通する環
状の減圧用凹状溝19が形成されている。
【0012】以上のような構造を有するバーンイン用カ
セットにおいて、ウェハトレイ11と配線基板13とを
接近させると、ウェハトレイ11、プローブカード12
及びシール部材14によって第1の密封空間15が形成
されると共に、プローブカード12と配線基板13との
間に第2の密封空間25が形成される。
【0013】図5に示す状態で、開閉弁22を図示しな
い減圧手段に接続して第1の密封空間15を減圧する
と、ウェハトレイ11とプローブカード12とが一層接
近して、図6に示すように、半導体ウェハ10上の各半
導体集積回路素子の外部電極16とプローブカード12
のバンプ17とが電気的に接続する。その後、検査装置
から検査用電圧を半導体ウェハ10上の各半導体集積回
路素子に印加したり、各半導体集積回路素子からの出力
信号を検査装置に入力したりして、検査装置により各半
導体集積回路素子の電気特性を評価する。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述したよ
うに、第1の密封空間15を減圧すると、ウェハトレイ
11とプローブカード12とが一層接近して、半導体ウ
ェハ10上の各半導体集積回路素子の外部電極16とプ
ローブカード12のバンプ17とが電気的に接続する
が、プローブカード12が弾性を有しているため、図7
に示すように、プローブカード12の周縁部は、ウェハ
トレイ11の方につまり第1の密封空間15の方に引っ
張られる。そして、プローブカード12の周縁部がウェ
ハトレイ11の方に引っ張られる反動として、プローブ
カード12の周縁部の近傍に形成されているバンプ17
は浮き上がって半導体ウェハ10の外部電極16から離
れてしまうので、プローブカード12の周縁部の近傍の
バンプ17と外部電極16との電気的接続が得られなく
なると言う問題がある。
【0015】また、プローブカード12におけるバンプ
17とシール部材14との間の距離は、プローブカード
12におけるバンプ17同士の間の距離に比べてかなり
大きいので、プローブカード12におけるバンプ17と
シール部材14との間の領域はプローブカード12にお
けるバンプ17同士の間の領域に比べて伸びる量が大き
い。このため、プローブカード12の周縁部の近傍に設
けられているバンプ17がシール部材14の方に移動す
るので、プローブカード12の周縁部の近傍のバンプ1
7と外部電極16との電気的接続が得られなくなると言
う問題もある。
【0016】そこで、ウェハトレイ11の上面における
半導体ウェハ10とシール部材14との間に形成されて
いる減圧用凹状溝19をなくして、シール部材14を半
導体ウェハ10に接近させることを考慮したが、減圧用
凹状溝19を有しない構造にすると、第1の密封空間1
5の容積が小さくなってしまう。第1の密封空間15の
容積が小さくなると、第1の密封空間15を減圧する際
に外部から少量の空気が流入しても、第1の密封空間1
5の減圧状態が低下する(大気圧に近づく)ので、バン
プ17と外部電極16との電気的接続が得られなくなる
と言う新たな問題が発生する。
【0017】さらに、第1の密封空間15を減圧する際
に、プローブシート12の周縁部とと配線基板13との
間から大気が第2の密封空間25に流入し、第2の密封
空間25に流入した空気が第1の密封空間15にも流入
するので、第1の密封空間15の減圧状態が低下して、
バンプ17と外部電極16との電気的接続が得られなく
なると言う問題も発生する。もっとも、図6に示すよう
に、プローブカード12の周縁部と配線基板13とを全
周に亘って接着剤24で固定することも考慮されるが、
このようにすると、プローブカード12が損傷したとき
にプローブカード12を取り替えるのに多大な労力が必
要になるので、プローブカード12の周縁部と配線基板
13とを全周に亘って接着剤24で固定することは現実
的ではない。
【0018】前記に鑑み、本発明は、シール部材を半導
体ウェハに接近させるにも拘わらず、第1の密封空間の
容積が低減しないようにすることを第1の目的とし、プ
ローブカードの周縁部と配線基板とを全周に亘って接着
剤で固定することなく、プローブシートの周縁部と配線
基板との間から大気が第2の密封空間に流入しないよう
にすることを第2の目的とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、本発明に係る第1のウェハカセットは、複数の半導
体集積回路素子が形成された半導体ウェハが載置される
ウェハ載置部を有するウェハトレイと、ウェハトレイの
ウェハ載置部と対向するように設けられ、複数の半導体
集積回路素子の各外部電極と接続されるバンプを有する
プローブカードと、ウェハトレイにおけるウェハ載置部
の外側に設けられ、ウェハトレイ及びプローブカードと
共に密封空間を形成する環状のシール部材と、ウェハト
レイに設けられ密封空間と外部とを連通させる連通路
と、連通路を開閉する開閉弁とを備えたウェハカセット
を前提とし、ウェハトレイのウェハ載置部には、連通路
と連通するように形成され、密封空間の容積を増大させ
る容積増大用凹状溝が設けられている。
【0020】第1のウェハカセットによると、ウェハト
レイのウェハ載置部に、密封空間の容積を増大させる容
積増大用凹状溝が設けられているため、ウェハトレイの
ウェハ載置部とシール部材との間に減圧用凹状溝を設け
る必要がないので、ウェハトレイ、プローブカード及び
シール部材によって形成される密封空間の容積の減少を
招くことなく、シール部材を半導体ウェハに接近させる
ことが可能になる。
【0021】第1のウェハカセットにおいて、環状のシ
ール部材の基部は、ウェハトレイにおけるウェハ載置部
の外側に環状に形成されたシール部材用凹状溝に嵌入さ
れており、容積増大用凹状溝はシール部材用凹状溝と連
通していることが好ましい。
【0022】第1のウェハカセットは、ウェハトレイの
ウェハ載置部に形成され、該ウェハ載置部に載置される
半導体ウェハを吸引するためのウェハ吸引用凹状溝を備
え、容積増大用凹状溝はウェハ吸引用凹状溝と連通して
いることが好ましい。
【0023】本発明に係る第2のウェハカセットは、複
数の半導体集積回路素子が形成された半導体ウェハが載
置されるウェハ載置部を有するウェハトレイと、ウェハ
トレイのウェハ載置部と対向するように設けられ、複数
の半導体集積回路素子の各外部電極と接続されるバンプ
を有するプローブカードと、プローブカードの周縁部を
保持する保持基板と、ウェハトレイにおけるウェハ載置
部の外側に設けられ、ウェハトレイ及びプローブカード
と共に第1の密封空間を形成すると共にプローブカード
の周縁部を保持基板に対して押圧することによりプロー
ブカードと保持基板との間に第2の密封空間を形成する
環状のシール部材とを備えたウェハカセットを前提と
し、保持基板と、環状のシール部材により保持基板に対
して押圧されるプローブカードの周縁部との間に環状の
弾性材が設けられている。
【0024】第2のウェハカセットによると、保持基板
とプローブカードの周縁部との間に環状の弾性材が設け
られているため、ウェハトレイ、プローブカード及びシ
ール部材によって形成される第1の密封空間を減圧する
際に、保持基板とプローブカードとの間に形成される第
2の密封空間に、保持基板とプローブカードの周縁部と
の間から大気が流入し難くなる。
【0025】
【発明の実施の形態】
(第1の実施形態)以下、本発明の第1の実施形態に係
るウェハカセットについて、図1及び図2を参照しなが
ら説明する。
【0026】図1は第1の実施形態に係るウェハカセッ
トにおけるウェハトレイの平面構造を示し、図2は第1
の実施形態に係るウェハカセットの断面構造を示してい
る。
【0027】第1の実施形態に係るウェハカセットは、
図2に示すように、従来のウェハカセットと同様、半導
体集積回路素子が形成された半導体ウェハ10が載置さ
れるウェハ載置部11aを有するウェハトレイ11と、
該ウェハトレイ11のウェハ載置部11aと対向するよ
うに設けられ、表面側に複数の半導体集積回路素子の各
外部電極16と接続されるバンプ17を有する、例えば
ポリイミド樹脂等の弾性材よりなるプローブカード12
と、多層配線20を有していると共にプローブカード1
2の裏面と異方導電性ゴム21を介して接している保持
基板としての配線基板13とを備えている。
【0028】ウェハトレイ11におけるウェハ載置部1
1aの外側には環状のシール部材用凹状溝23が形成さ
れており、該シール部材用凹状溝23に環状のシール部
材14の基部が嵌入されている。
【0029】また、プローブカード12の周縁部は剛性
のリング18に固定されていると共に、剛性のリング1
8は配線基板13に固定されており、これにより、プロ
ーブカード12は配線基板13に保持されている。
【0030】さらに、従来のウェハカセットと同様、プ
ローブカード12の周縁部が環状のシール部材14によ
り配線基板13に押圧されているため、ウェハトレイ1
1、プローブカード12及びシール部材14によって第
1の密封空間15が形成されていると共に、プローブカ
ード12と配線基板13との間に第2の密封空間が25
が形成されている。
【0031】第1の実施形態の特徴として、図1に示す
ように、ウェハトレイ11のウェハ載置部11aには、
円環状に延び且つ一部分が途絶えた複数の第1の環状の
凹状溝31及び複数の第2の環状の凹状溝32が交互に
同心円状に形成されている。また、ウェハトレイ11の
ウェハ載置部11aには内外方向へ直線状に延び且つ外
端部がシール部材用凹状溝23と連通する第1の直線状
の凹状溝33が形成されており、複数の第1の環状の凹
状溝31は第1の直線状の凹状溝33とそれぞれ連通し
ている。また、ウェハトレイ11のウェハ載置部11a
には内外方向へ第1の直線状の凹状溝33と平行に延び
且つ外側の端部が最外の第1の環状の凹状溝31の内側
まで延びる第2の直線状の凹状溝34が形成されてお
り、複数の第2の環状の凹状溝32は第2の直線状の凹
状溝34とそれぞれ連通している。
【0032】第1の直線状の凹状溝33の途中部は、ウ
ェハトレイ11の上面から内部に向かって延びた後、上
面と平行に外側へ延びる第1の連通路35の内側の端部
に接続されており、該第1の連通路35の外側の端部は
ウェハトレイ11の側面に設けられた第1の開閉弁37
と接続されている。
【0033】また、第2の直線状の凹状溝34の途中部
は、ウェハトレイ11の内部を第1の連通路35と平行
に延びる第2の連通路36の内側の端部に接続されてお
り、該第2の連通路36の外側の端部はウェハトレイ1
1の側面に設けられた第2の開閉弁38と接続されてい
る。
【0034】以上説明したように、第1の直線状の凹状
溝33はシール部材用凹状溝23を介して第1の密封空
間15に連通しているので、第1の開閉弁37を図示し
ない減圧装置に接続すると、第1の密封空間15の空気
は第1の直線状の凹状溝33及び第1の連通路35を通
って外部に流出するので、第1の密封空間15は減圧さ
れる。この場合、第1の連通路35は、第1の直線状の
凹状溝33及び複数の第1の環状の凹状溝31に接続さ
れているため、第1の密封空間15の容積は、第1の直
線状の凹状溝33及び複数の第1の環状の凹状溝31の
容積分だけ増大している。
【0035】従って、第1の直線状の凹状溝33及び複
数の第1の環状の凹状溝31によって、第1の密封空間
15の容積を増大させる容積増大用凹状溝が構成されて
おり、これにより、従来技術の項で説明した、ウェハト
レイ11の上面における半導体ウェハ10とシール部材
14との間に位置する減圧用凹状溝19をなくすことが
できるので、第1の密封空間14の容積の減少を招くこ
となく、シール部材14を半導体ウェハ10に接近させ
ることが可能になる。このため、第1の密封空間15を
減圧する際に外部から少量の空気が流入しても、第1の
密封空間15の減圧状態が低下する事態を回避できるの
で、バンプ17と外部電極16との確実な電気的接続が
得られる。
【0036】尚、第1の直線状の凹状溝33はシール部
材用凹状溝23に連通しているが、シール部材用凹状溝
23にはシール部材14の基部が嵌入されているため、
第1の密封空間15の減圧時にシール部材用凹状溝23
を通って第1の密封空間15に流入する大気の量は僅か
であるので特に支障はない。
【0037】また、第2の直線状の凹状溝34は、ウェ
ハトレイ11のトレイ載置部11aの上に拡がる複数の
第2の環状の凹状溝32に接続されていると共に、第2
の連通路36を介して第2の開閉弁38に接続されてい
るため、第2の開閉弁38を図示しない減圧装置に接続
すると、複数の第2の環状の凹状溝32が減圧されるの
で、ウェハトレイ11のトレイ載置部11aの上に載置
される半導体ウェハ10はウェハトレイ11の保持され
る。
【0038】(第2の実施形態)以下、本発明の第2の
実施形態に係るウェハカセットについて、図3を参照し
ながら説明する。図2は第2の実施形態に係るウェハカ
セットにおけるウェハトレイの平面構造を示している。
【0039】第2の実施形態に係るウェハカセットは、
ウェハトレイ11の構造を除いては、第1の実施形態と
同様であるので、以下の説明においては、ウェハトレイ
11の構造についてのみ説明する。
【0040】第2の実施形態の特徴として、図3に示す
ように、ウェハトレイ11のウェハ載置部11aには、
円環状に延びる複数の環状の凹状溝41が同心円状に形
成されていると共に、内外方向へ直線状に延び且つ外側
の端部がシール部材用凹状溝23と連通する直線状の凹
状溝42が形成されており、複数の環状の凹状溝41は
直線状の凹状溝42とそれぞれ連通している。また、直
線状の凹状溝42の途中部は、ウェハトレイ11の上面
から内部に向かって延びた後、上面に平行に外側へ延び
る図示しない連通路43の内側の端部に接続されてお
り、該連通路43の外側の端部はウェハトレイ11の側
面に設けられた開閉弁44と接続されている。
【0041】以上説明したように、直線状の凹状溝42
はシール部材用凹状溝23を介して第1の密封空間15
に連通しているので、開閉弁44を図示しない減圧装置
に接続すると、第1の密封空間15の空気は直線状の凹
状溝42及び連通路43を通って外部に流出するので、
第1の密封空間15は減圧される。この場合、連通路4
3は、直線状の凹状溝42及び複数の環状の凹状溝41
に接続されているため、第1の密封空間15の容積は増
大している。従って、直線状の凹状溝42及び複数の環
状の凹状溝41によって、第1の密封空間15の容積を
増大させる容積増大用凹状溝が構成されており、これに
より、第1の実施形態と同様に、第1の密封空間14の
容積の減少を招くことなく、シール部材14を半導体ウ
ェハ10に接近させることが可能になる。
【0042】また、直線状の凹状溝42に接続している
複数の環状の凹状溝41は、ウェハトレイ11のトレイ
載置部11aの上に拡がっているため、開閉弁44を図
示しない減圧装置に接続すると、複数の環状の凹状溝4
1が減圧されるので、ウェハトレイ11のトレイ載置部
11aの上に載置される半導体ウェハ10はウェハトレ
イ11に保持される。
【0043】第2の実施形態によると、第1の密封空間
15の容積を増大させる容積増大用凹状溝の容積が、第
1の実施形態に比べて、複数の第2の環状の凹状溝32
の分だけ増大しているので、第1の密封空間15の容積
を増大させる効果がより向上する。また、複数の環状の
凹状溝41、直線状の凹状溝42及び開閉弁44が、第
1の密封空間15の容積を増大させる機能と半導体ウェ
ハ10をウェハトレイ11に吸引する機能との両方を持
っているため、構造がシンプルになる。
【0044】(第3の実施形態)以下、本発明の第3の
実施形態に係るウェハカセットについて、図4を参照し
ながら説明する。図4は第3の実施形態に係るウェハカ
セットの断面構造を示している。
【0045】第3の実施形態に係るウェハカセットは、
従来のウェハカセットと同様、半導体集積回路素子が形
成された半導体ウェハ10が載置されるウェハ載置部1
1aを有するウェハトレイ11と、該ウェハトレイ11
のウェハ載置部11aと対向するように設けられ、表面
側に複数の半導体集積回路素子の各外部電極16と接続
されるバンプ17を有するプローブカード12と、多層
配線20を有していると共にプローブカード12の裏面
と異方導電性ゴム21を介して接する保持基板としての
配線基板13と、ウェハトレイ11におけるウェハ載置
部11aの外側に設けられた環状のシール部材14とを
備えている。
【0046】プローブカード12の周縁部は剛性のリン
グ18に固定されていると共に、剛性のリング18は間
隔をおいて設けられた接着剤24を介して配線基板13
に固定されており、これにより、プローブカード12は
配線基板13に保持されている。また、プローブカード
12の周縁部が環状のシール部材14により配線基板1
3に押圧されているため、ウェハトレイ11、プローブ
カード12及びシール部材14によって第1の密封空間
15が形成されていると共に、プローブカード12と配
線基板13との間に第2の密封空間が25が形成されて
いる。
【0047】ウェハトレイ11の側面には図示しない減
圧手段に接続される開閉弁22が設けられていると共
に、ウェハトレイ11の上面における半導体ウェハ10
とシール部材14との間には開閉弁22と連通する環状
の減圧用凹状溝19が形成されている。
【0048】第3の実施形態の特徴として、配線基板1
3と、シール部材14により配線基板13に対して押圧
されるプローブカード12の周縁部との間に、例えば断
面矩形状のゴムよりなる環状の弾性材50が設けられて
いる。環状の弾性材50は、プローブカード12の周縁
部に固定されていてもよいし、配線基板13におけるプ
ローブカード12の周縁部と対向する部位に固定されて
いてもよい。また、弾性材50の厚さについては、限定
されないが、異方導電性ゴム21の厚さと同程度である
と、プローブカード12がウェハトレイ11の周縁部と
対向する部位においてもウェハトレイ11の上面と平行
状態になるので好ましい。
【0049】第3の実施形態によると、配線基板13と
プローブカード12の周縁部との間に環状の弾性材50
が設けられているため、第1の密封空間15を減圧する
際に、配線基板13とプローブカード12の周縁部との
間から大気が第2の密封空間25に流入し難くなる。こ
のため、第1の密封空間15の減圧状態が低下して、バ
ンプ17と外部電極16との電気的接続が得られなくな
る恐れが低減する。従って、プローブカード12の周縁
部と配線基板13とを全周に亘って接着剤24で固定す
ることなく、大気がプローブシート12の周縁部と配線
基板13との間から第2の密封空間に流入する事態を防
止できる。
【0050】
【発明の効果】本発明に係る第1のウェハカセットによ
ると、ウェハトレイのウェハ載置部とシール部材との間
に減圧用凹状溝を設ける必要がないため、ウェハトレ
イ、プローブカード及びシール部材によって形成される
密封空間の容積の減少を招くことなく、シール部材を半
導体ウェハに接近させることが可能になる。このため、
第1のウェハカセットによると、密封空間を減圧する際
に外部から少量の空気が流入しても、密封空間の減圧状
態が低下する事態を回避できるので、プローブカードの
各バンプと半導体ウェハ上の半導体集積回路素子の各外
部電極との確実な電気的接続が得られる。
【0051】第1のウェハカセットにおいて、容積増大
用凹状溝が、環状のシール部材の基部が嵌入されている
シール部材用凹状溝と連通していると、容積増大用凹状
溝の容積を増大させることができると共に、容積増大用
凹状溝を確実に密封空間と連通させることができる。
【0052】第1のウェハカセットが、容積増大用凹状
溝が、ウェハトレイのウェハ載置部に形成されたウェハ
吸引用凹状溝と連通していると、容積増大用凹状溝の容
積を増大させることができると共に、ウェハトレイの構
造をシンプルにすることができる。
【0053】第2のウェハカセットによると、ウェハト
レイ、プローブカード及びシール部材によって形成され
る第1の密封空間を減圧する際に、保持基板とプローブ
カードとの間に形成される第2の密封空間に保持基板と
プローブカードの周縁部との間から大気が流入し難くな
るため、第1の密封空間の減圧状態が低下して、プロー
ブカードの各バンプと半導体ウェハ上の半導体集積回路
素子の各外部電極との電気的接続が確保される。このた
め、第2のウェハカセットによると、プローブカードの
周縁部と保持基板とを全周に亘って接着剤で固定するこ
となく、大気がプローブシートの周縁部と配線基板との
間から第2の密封空間に流入する事態を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係るウェハカセット
のウェハトレイの上面構造を示す平面図である。
【図2】本発明の第1の実施形態に係るウェハカセット
の部分拡大断面図である。
【図3】本発明の第2の実施形態に係るウェハカセット
のウェハトレイのの上面構造を示す平面図である。
【図4】本発明の第3の実施形態に係るウェハカセット
の部分拡大断面図である。
【図5】従来のウェハカセットを示す断面図である。
【図6】従来のウェハカセットの部分拡大断面図であ
る。
【図7】従来のウェハカセットの問題点を説明する断面
図である。
【符号の説明】
10 半導体ウェハ 11 ウェハトレイ 11a ウェハ載置部 12 プローブカード 13 配線基板 14 シール部材 15 第1の密封空間 16 外部電極 17 バンプ 18 剛性のリング 19 減圧用凹状溝 20 多層配線 21 異方導電性ゴム 22 開閉弁 23 シール部材用凹状溝 24 接着剤 25 第2の密封空間 31 第1の環状の凹状溝 32 第2の環状の凹状溝 33 第1の直線状の凹状溝 34 第2の直線状の凹状溝 35 第1の連通路 36 第2の連通路 37 第1の開閉弁 38 第2の開閉弁 41 環状の凹状溝 42 直線状の凹状溝 43 連通路 44 開閉弁 50 弾性材

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の半導体集積回路素子が形成された
    半導体ウェハが載置されるウェハ載置部を有するウェハ
    トレイと、前記ウェハトレイのウェハ載置部と対向する
    ように設けられ、前記複数の半導体集積回路素子の各外
    部電極と接続されるバンプを有するプローブカードと、
    前記ウェハトレイにおけるウェハ載置部の外側に設けら
    れ、前記ウェハトレイ及びプローブカードと共に密封空
    間を形成する環状のシール部材と、前記ウェハトレイに
    設けられ前記密封空間と外部とを連通させる連通路と、
    前記連通路を開閉する開閉弁とを備えたウェハカセット
    において、 前記ウェハトレイのウェハ載置部には、前記連通路と連
    通するように形成され、前記密封空間の容積を増大させ
    る容積増大用凹状溝が設けられていることを特徴とする
    ウェハカセット。
  2. 【請求項2】 前記環状のシール部材の基部は、前記ウ
    ェハトレイにおけるウェハ載置部の外側に環状に形成さ
    れたシール部材用凹状溝に嵌入されており、 前記容積増大用凹状溝は前記シール部材用凹状溝と連通
    していることを特徴とする請求項1に記載のウェハカセ
    ット。
  3. 【請求項3】 前記ウェハトレイのウェハ載置部に形成
    され、該ウェハ載置部に載置される半導体ウェハを吸引
    するためのウェハ吸引用凹状溝を備え、 前記容積増大用凹状溝は前記ウェハ吸引用凹状溝と連通
    していることを特徴とする請求項1に記載のウェハカセ
    ット。
  4. 【請求項4】 複数の半導体集積回路素子が形成された
    半導体ウェハが載置されるウェハ載置部を有するウェハ
    トレイと、前記ウェハトレイのウェハ載置部と対向する
    ように設けられ、前記複数の半導体集積回路素子の各外
    部電極と接続されるバンプを有するプローブカードと、
    前記プローブカードの周縁部を保持する保持基板と、前
    記ウェハトレイにおけるウェハ載置部の外側に設けら
    れ、前記ウェハトレイ及びプローブカードと共に第1の
    密封空間を形成すると共に前記プローブカードの周縁部
    を前記保持基板に対して押圧することにより前記プロー
    ブカードと前記保持基板との間に第2の密封空間を形成
    する環状のシール部材とを備えたウェハカセットにおい
    て、 前記保持基板と、前記環状のシール部材により前記保持
    基板に対して押圧される前記プローブカードの周縁部と
    の間に環状の弾性材が設けられていることを特徴とする
    ウェハカセット。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011071245A (ja) * 2009-09-25 2011-04-07 Panasonic Corp プローブカード及びそれを用いた半導体ウェーハの検査方法
KR101429492B1 (ko) * 2011-12-08 2014-08-12 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 웨이퍼 검사용 인터페이스 및 웨이퍼 검사 장치

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