JPH1096802A - マイクロレンズ基板 - Google Patents
マイクロレンズ基板Info
- Publication number
- JPH1096802A JPH1096802A JP8253389A JP25338996A JPH1096802A JP H1096802 A JPH1096802 A JP H1096802A JP 8253389 A JP8253389 A JP 8253389A JP 25338996 A JP25338996 A JP 25338996A JP H1096802 A JPH1096802 A JP H1096802A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- microlens
- substrate
- microlenses
- dummy pattern
- microlens substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
マイクロレンズ面側に平滑化層を形成しても、表面平滑
な平滑化層とすることの出来るマイクロレンズ基板を提
供することを目的とする。 【解決手段】透明基板上に複数のマイクロレンズを形成
したマイクロレンズ基板において、マイクロレンズ形成
領域を囲む、マイクロレンズと略同一の高さとした額縁
状のダミーパターンを形成したことを特徴とするマイク
ロレンズ基板。
Description
ョン装置等に用いられる、透明基板上に複数のマイクロ
レンズを形成したマイクロレンズ基板に係わる。
成部品の一つである、液晶パネル10部を模式的に示した
ものである。図中に示すように、少なくとも液晶パネル
10部は、透明基板2上に複数のマイクロレンズ3を形成
したマイクロレンズ基板1と、薄膜トランジスタ(TF
T13)等のスイッチング素子および配線等を透明基板
2’上に形成した電極基板11とからなっている。液晶パ
ネル10部は、マイクロレンズ3と電極基板11とを対向さ
せ、かつ両基板が所定のギャップをもつよう対向させた
うえで、両基板間に液晶を封入し、貼り合わせるもので
ある。
部位によりバラつき、所定のギャップとならない、いわ
ゆるギャップ不良となった場合、液晶表示の品位を大幅
に劣化させるものといえる。
ロレンズ3を複数形成したマイクロレンズ基板1は、表
面が凹凸となっているものである。このため、対向させ
た両基板間のギャップ不良およびレベリング不良を防止
し、液晶表示品位を向上させるためには、マイクロレン
ズ基板1のマイクロレンズ3側の面を平滑とする、すな
わち、マイクロレンズ基板1上に平滑化層を形成する必
要が生じるものである。
を形成する手段として、以下に記す方法がとられている
ものである。すなわち、マイクロレンズ基板1のマイク
ロレンズ3側の面に、例えばスピンコート法等で透明樹
脂を塗布することで、いわゆるオーバーコート層をマイ
クロレンズ側の面に形成し平滑化層とする方法であり、
または、マイクロレンズ3側の面に、接着剤にて薄いカ
バーガラスを貼り合わせ、カバーガラスを平滑化層とす
る方法である。
のマイクロレンズ基板の表面平滑化方法では、所望する
表面平滑を得ることが難しいものである。すなわち、通
常のマイクロレンズ基板1においては、平面図である図
3および、図3のY−Y’線における断面図である図4
に示すように、マイクロレンズ3の形成領域を、透明基
板2の板端部から離れた、透明基板2の中央部寄りとす
ることが一般的といえる。
にオーバーコート層5を形成した場合、透明基板2の板
端部より中央部寄りがマイクロレンズ3により高くなっ
ているため、図6に示すようにマイクロレンズ3の形成
領域上のオーバーコート層5部位に盛り上がり部が生じ
てしまうものである。特に、液晶プロジェクション装置
の仕様上、マイクロレンズ3の高さを例えば2〜6μm
と高く形成する場合、盛り上がり部が発生し易いといえ
る。なお、オーバーコート層5の形成後に、この盛り上
がり部を研磨し、表面平滑とする手段もあるといえる
が、研磨後のオーバーコート層厚にムラが生じやすく、
また、手間、コストが掛かり、さらに、研磨法は、削り
滓が異物として付着するという汚染の問題も生じるもの
である。
発生を防止する手段として、オーバーコート層の層厚を
厚くして形成することも考えられる。しかし、オーバー
コート層の層厚を、例えば5μm以上と厚く塗布、形成
した場合、形成したオーバーコート層の応力により、マ
イクロレンズ基板1が反る等の問題が生じるものであ
る。
にてカバーガラス6を貼りつける方法においても、マイ
クロレンズ3の形成領域に相対した部位より、基板端部
位が低くなるため、図7に示すようにカバーガラス6が
湾曲し歪みが生じるものである。湾曲し歪みが生じたカ
バーガラス6を有するマイクロレンズ基板1を用いパネ
ル化した場合、両基板間のギャップ不良に加えて、カバ
ーガラス6の歪みによりニュートンリングが発生し、さ
らに液晶表示品位が劣化するといえる。
であり、オーバーコート層またはカバーガラス等の従来
通りの平滑化手段を用いても、容易に表面平滑なマイク
ロレンズ基板を得ることの出来るマイクロレンズ基板を
提供することを目的とする。
を達成するために、まず請求項1においては、透明基板
上に複数のマイクロレンズを形成したマイクロレンズ基
板において、マイクロレンズ形成領域を囲む、マイクロ
レンズと略同一の高さとした額縁状のダミーパターンを
形成したことを特徴とするマイクロレンズ基板としたも
のである。
ダミーパターンを、相互に紫外線透過可能な間隙を隔て
た複数パターンの集合により形成したことを特徴とする
請求項1に記載のマイクロレンズ基板としたものであ
り、さらにまた、請求項3においては、マイクロレンズ
の形成の際に、マイクロレンズの形成に用いた材質およ
び手法にて、前記額縁状のダミーパターンを同時に形成
したことを特徴とする請求項1または2に記載のマイク
ロレンズ基板としたものである。
模式的に表した図面に基づき、本発明の詳説を行う。
平面図を、また、図2は、図1のX−X’線における断
面図を示している。図1および図2に示すように、本発
明におけるマイクロレンズ基板1には、従来通り所定の
パターンに従って、透明基板2の中央部寄りに、複数の
マイクロレンズ3を形成しているものである。
特徴として、図1および図2に示すように、マイクロレ
ンズ3の形成領域を開口部とする、額縁状のダミーパタ
ーン4を透明基板2上に形成しているものであり、か
つ、額縁状のダミーパターン4の高さは、マイクロレン
ズ3と略同一の高さとするものである。なお、マイクロ
レンズ3の形成領域とダミーパターン4との間隙は、マ
イクロレンズ基板1の仕様により適宜設定するものであ
る。
板は、透明基板2の板端部位から離れた、基板の中央部
寄りにパターンを形成していた。そのため、マイクロレ
ンズ基板を表面平滑とするため、オーバーコート層を形
成する、または、カバーガラスを貼り合わせた場合、パ
ターン形成領域、すなわちマイクロレンズ3の形成領域
が板端部より高くなっているため、マイクロレンズ3の
形成領域でオーバーコート層が盛り上がり、また、カバ
ーガラスに湾曲を生じていたものである。
は、マイクロレンズ3の形成領域の周囲に、例えば透明
基板2の板端部位まで覆う、マイクロレンズ3と略同一
の高さの額縁状のダミーパターン4を有しているもので
ある。すなわち、本発明のマイクロレンズ基板1では、
マイクロレンズ3とダミーパターン4とで略平滑な表面
を構成しているといえ、このマイクロレンズ3とダミー
パターン4とで構成される略平滑な面上に位置させるオ
ーバーコート層5、または、カバーガラス6も平滑とな
るものである。
ミーパターン4を形成する時期は、マイクロレンズ3の
形成前または、形成後であっても構わないといえる。ま
た、ダミーパターン4を構成する材質または、形成手段
は、マイクロレンズ3のそれと異なっていても構わな
い。しかし、マイクロレンズ3の形成とは別に、マイク
ロレンズ3の材質とは異なった材質にて、また、マイク
ロレンズ3の形成手段とは異なった形成手段にて額縁状
のダミーパターン4を形成すると、マイクロレンズ基板
の形成工程が煩雑になり、かつ、材料費が余分に掛かる
という新たな問題が生じるものである。
決するものである。すなわち、透明基板2上にマイクロ
レンズ3を形成する際に、マイクロレンズ3の形成に用
いる材質および手法にて、額縁状のダミーパターン4を
同時に形成するものである。以下に、本発明のマイクロ
レンズ基板1を製造する工程の一例を示す図8に基づき
説明を行う。なお、図8の例では、マイクロレンズ3の
材質を透明樹脂等の有機材料とし、フォトリソグラフィ
ーによりパターニングした後、熱処理を行うことでマイ
クロレンズ3を形成する方法を用いているものである。
性樹脂(東京応化(株)製、商品名「TMR−P3」)
を滴下後、透明基板2を 700rmp にて90秒間回転した
後、ホットプレートにて90℃、 100秒間プレベークを行
うことにより、図8(a)に示すように、透明基板2上
に透明な感光性レジスト層7を形成した。
パターンを有するパターン露光用マスク8を介し、感光
性レジスト層7にパターン露光を行う。なお、形成した
感光性レジスト層7がポジ型であるため、パターン露光
用マスク8は、マイクロレンズ3を形成する部位およ
び、本発明の特徴とする額縁状のダミーパターン4を形
成する部位を遮光部とし、各マイクロレンズ3間およ
び、マイクロレンズ3の形成領域とダミーパターン4と
の間を光透過部としている。
名「NMD−W」)を用い、 200rpm にて30秒間のスピ
ン現像を行った後、純水リンスおよび乾燥を行い、未露
光未硬化部位の感光性レジスト層7を除去し、図8
(c)を得た。
80℃まで段階的に透明基板2を加熱することで、透明基
板2上に残った感光性レジスト層の角部を丸め、図8
(d)に示すように、透明基板2上に、透明基板2表面
からの高さ約4μmの額縁状のダミーパターン4、およ
び透明基板2表面から頂点までの高さ約4μmのマイク
ロレンズ3を有する本発明のマイクロレンズ基板1を得
る。
として紫外線硬化型樹脂(共立化学(株)製、商品名
「TEK−OG−125」)を滴下し、マイクロレンズ
基板1を5000 rpmにて60秒間回転した後、50μmの厚さ
のカバーガラス6を貼り合わせた。しかる後、 100mW/
cm2 の紫外線をカバーガラス6側より2分間照射し、紫
外線硬化型樹脂を硬化することでカバーガラスの固着を
行った。
クロレンズ基板1に貼り合わせたカバーガラス6の歪み
を調べたところ、マイクロレンズ3の形成領域部位と基
板端部位との歪みは1μm以下に抑えられていた。しか
し、上述したのと同様の工程および条件にて、額縁状の
ダミーパターン4を有しない従来の形態のマイクロレン
ズ基板を製造し、しかる後、マイクロレンズ基板上に、
上述した方法にてカバーガラス6を貼り合わせたとこ
ろ、マイクロレンズ3の形成領域部位と基板端部位との
カバーガラス6の歪みは4〜5μm程度となったもので
ある。
う。前述した(従来の技術)の項で記したように、液晶
パネル10部とするため、マイクロレンズ基板1と電極基
板11とを対向させ、両基板間に液晶を封入、封止するよ
う両基板を貼り合わせるものである。
型の接着剤を用いる場合がある。例えば、マイクロレン
ズ基板1に形成した平滑化層の、マイクロレンズ3の形
成領域外に紫外線硬化型の接着剤を塗布した後に、両基
板を貼り合わせ、しかる後、図9に示すように、マイク
ロレンズ基板1の透明基板2側から紫外線光の照射を行
い、接着剤を硬化させ両基板を固着させるものである。
なお、使用する接着剤の種類によっては、紫外線光の照
射後、接着部位等に加熱を行う場合もある。
イクロレンズ3の形成領域外には、ほぼパターンが形成
されておらず、透明基板2側から照射された紫外線光
は、紫外線硬化型の接着剤に到達していたものである。
しかし、上述したように、本発明のマイクロレンズ基板
1においては、マイクロレンズ3の形成領域外に額縁状
のダミーパターン4を形成するものである。
質が、接着剤を硬化すべく照射された紫外線光を透過す
る性質を持たない場合、もしくは紫外線光に対し30〜50
%程度の透過率しか有しない場合であっても、ダミーパ
ターン4部で、紫外線光が遮光されてしまうものであ
る。すなわち、両基板の貼り合わせに用いる紫外線硬化
型接着剤の硬化に必要な光量が得られず、上述した、紫
外線硬化型の接着剤を用いた両基板の貼り合わせが出来
ない恐れが生じるといえる。
4が紫外線光を遮光し、従来の両基板の貼り合わせ手段
が行えなくなる問題を解決するためになされたものであ
る。すなわち、マイクロレンズ3の形成領域を囲み、マ
イクロレンズ3と略同一の高さとした額縁状のダミーパ
ターン4を、相互に紫外線透過可能な間隙を隔てた複数
パターンの集合により形成したことを特徴とするマイク
ロレンズ基板1を提案するものである。
は、額縁状のダミーパターン4をベタパターンで形成し
ている。このため、ダミーパターン4を構成する材質
が、照射された紫外線光を透過する性質を持たない場
合、ダミーパターン4は、紫外線光を遮光してしまうも
のである。
線透過可能な間隙を隔てた複数パターンの集合、例えば
図10の平面図に示すように、複数本のストライプパター
ン9の集合により形成した場合、透明基板2側より照射
された紫外線光は、図10のZ−Z’線における断面図で
ある図11に示すように、各ストライプパターン9の間を
通過出来るといえる。なお、図11では、各ストライプパ
ターン9の間を光が通過する様子を示すものであり、ス
トライプパターン9およびマイクロレンズ3を透過した
後の光、およびマイクロレンズ基板1上に形成した平滑
化層等は図示していない。すなわち、各ストライプパタ
ーン9の間を通過した紫外線光により、従来通り、両基
板の貼り合わせに用いる紫外線硬化型の接着剤を硬化す
ることが出来るため、両基板の貼り合わせが可能となる
ものである。
た複数パターンの形状は、上記のストライプパターン9
に限定されるものではなく、マイクロレンズと同様のド
ット状、または、モザイク状であっても構わない。各パ
ターンの大きさおよび、間隔は、使用する紫外線硬化型
の接着剤の仕様、すなわち、硬化に必要な光量等により
異なるため、適宜設定することが望ましいといえる。
述した複数パターンの集合で形成するダミーパターン4
も、マイクロレンズ3の形成に用いる材質および手法に
て、マイクロレンズ3を形成する際に同時に形成するこ
とが望ましいといえる。
明および図面に限定されるものではなく、本発明の趣旨
に基づき、種々の変形が可能なことはいうまでもない。
パターン4は、透明基板2の板端まで達しているが、必
ずしも枠幅を基板の板端までとる必要はなく、本発明の
趣旨により、表面平滑な平滑化層が得られるよう、枠幅
を適宜設定しても構わない。
題)で記したように、従来のマイクロレンズ基板では、
表面平滑とすべくマイクロレンズ基板上に平滑化層を形
成しても、平滑化層が表面平滑とならず、盛り上がり部
や歪みを生じていたものである。しかし、本発明により
得られたマイクロレンズ基板1においては、従来の手段
をそのまま用いても容易に表面平滑な平滑化層を形成す
ることが可能となるものである。
を用いることにより、膜厚を厚くする、または研磨等を
行うことなく、容易に表面平滑な平滑化層が得られる。
これにより、マイクロレンズ基板および電極基板を対向
させる際のギャップ精度が向上し、液晶プロジェクショ
ン装置の表示品位が向上するものである。
する額縁状のダミーパターンは、マイクロレンズの形成
と同時に、マイクロレンズの形成に用いた材質および手
法にて形成するため、マイクロレンズ基板の形成工程を
増やすことなく容易に形成することができる等、本発明
のマイクロレンズ基板は実用上優れているといえる。
平面図。
断面図。
図。
図。
の一例を示す断面図。
の他の例を示す断面図。
板を製造する方法の一例の要部を工程順に示す説明図。
ル部の一例を示す説明図。
示す平面図。
の一例を示す説明図。
Claims (3)
- 【請求項1】透明基板上に複数のマイクロレンズを形成
したマイクロレンズ基板において、マイクロレンズ形成
領域を囲む、マイクロレンズと略同一の高さとした額縁
状のダミーパターンを形成したことを特徴とするマイク
ロレンズ基板。 - 【請求項2】前記額縁状のダミーパターンを、相互に紫
外線透過可能な間隙を隔てた複数パターンの集合により
形成したことを特徴とする請求項1に記載のマイクロレ
ンズ基板。 - 【請求項3】マイクロレンズの形成の際に、マイクロレ
ンズの形成に用いた材質および手法にて、前記額縁状の
ダミーパターンを同時に形成したことを特徴とする請求
項1または2に記載のマイクロレンズ基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25338996A JP3533846B2 (ja) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | マイクロレンズ基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25338996A JP3533846B2 (ja) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | マイクロレンズ基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1096802A true JPH1096802A (ja) | 1998-04-14 |
JP3533846B2 JP3533846B2 (ja) | 2004-05-31 |
Family
ID=17250697
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25338996A Expired - Lifetime JP3533846B2 (ja) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | マイクロレンズ基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3533846B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000221482A (ja) * | 1999-01-29 | 2000-08-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置 |
US6970212B1 (en) | 1998-07-14 | 2005-11-29 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and method for fabricating the same, and projection display device |
JP2009163168A (ja) * | 2008-01-10 | 2009-07-23 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
JP2013182258A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Toshiba Tec Corp | レンズアレイ、画像形成装置及びレンズアレイの製造方法 |
US9025373B2 (en) | 2012-07-17 | 2015-05-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Non-volatile programmable switch |
-
1996
- 1996-09-25 JP JP25338996A patent/JP3533846B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6970212B1 (en) | 1998-07-14 | 2005-11-29 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and method for fabricating the same, and projection display device |
KR100686498B1 (ko) * | 1998-07-14 | 2007-02-23 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 전기 광학장치 및 그 제조방법과 투사형 표시장치 |
JP2000221482A (ja) * | 1999-01-29 | 2000-08-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置 |
JP2009163168A (ja) * | 2008-01-10 | 2009-07-23 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
JP2013182258A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Toshiba Tec Corp | レンズアレイ、画像形成装置及びレンズアレイの製造方法 |
US9025373B2 (en) | 2012-07-17 | 2015-05-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Non-volatile programmable switch |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3533846B2 (ja) | 2004-05-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8477270B2 (en) | Liquid crystal display panel and method for fabricating the same | |
KR100518051B1 (ko) | 능동 매트릭스형 액정 디스플레이 장치와 그 제조 방법 | |
WO2016033841A1 (zh) | 液晶显示面板结构及其制作方法 | |
US7477352B2 (en) | Liquid crystal display device including step-compensating pattern and fabricating method thereof | |
JP4932421B2 (ja) | 液晶表示装置とその製造方法 | |
WO2007086159A1 (ja) | 表示装置、表示装置の製造方法、基板及びカラーフィルタ基板 | |
JP2001311963A (ja) | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 | |
JP2002062818A (ja) | マイクロレンズおよび画像表示装置の製造方法 | |
JP3879144B2 (ja) | カラーフィルター | |
JPH11211902A (ja) | 平板型マイクロレンズアレイ | |
KR100525880B1 (ko) | 전기 광학 장치 및 프로젝터 | |
JP2000329906A (ja) | マイクロレンズアレイ基板とその製造方法 | |
JP2007171858A (ja) | マイクロレンズの製造方法及びマイクロレンズ基板、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置、並びに電子機器 | |
JPH1096802A (ja) | マイクロレンズ基板 | |
JP4315084B2 (ja) | マイクロレンズアレイ板及びその製造方法、並びにこれを備えた電気光学装置及び電子機器 | |
JP2002055359A (ja) | 液晶表示パネルの製造方法 | |
JP2005241826A (ja) | 液晶表示装置 | |
KR20020052254A (ko) | 액정 표시장치 제조방법 | |
JP2001066606A (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
JP2004280006A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JP4269381B2 (ja) | 液晶表示装置用マイクロレンズ基板 | |
JP2005055452A (ja) | マイクロレンズアレイ及び電気光学装置並びにそれらの製造方法 | |
WO2024060240A1 (zh) | 显示面板与制造显示面板的方法 | |
JP2006139299A (ja) | カラーフィルター及びその製造方法 | |
JP2001021878A (ja) | アクティブマトリクス型液晶表示装置とその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040217 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040301 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080319 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090319 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100319 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100319 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110319 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120319 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130319 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140319 Year of fee payment: 10 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |