JP3533846B2 - マイクロレンズ基板 - Google Patents
マイクロレンズ基板Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶プロジェクシ
ョン装置等に用いられる、透明基板上に複数のマイクロ
レンズを形成したマイクロレンズ基板に係わる。
ョン装置等に用いられる、透明基板上に複数のマイクロ
レンズを形成したマイクロレンズ基板に係わる。
【０００２】
【従来の技術】図５は、液晶プロジェクション装置の構
成部品の一つである、液晶パネル10部を模式的に示した
ものである。図中に示すように、少なくとも液晶パネル
10部は、透明基板２上に複数のマイクロレンズ３を形成
したマイクロレンズ基板１と、薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ13）等のスイッチング素子および配線等を透明基板
２’上に形成した電極基板11とからなっている。液晶パ
ネル10部は、マイクロレンズ３と電極基板11とを対向さ
せ、かつ両基板が所定のギャップをもつよう対向させた
うえで、両基板間に液晶を封入し、貼り合わせるもので
ある。
成部品の一つである、液晶パネル10部を模式的に示した
ものである。図中に示すように、少なくとも液晶パネル
10部は、透明基板２上に複数のマイクロレンズ３を形成
したマイクロレンズ基板１と、薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ13）等のスイッチング素子および配線等を透明基板
２’上に形成した電極基板11とからなっている。液晶パ
ネル10部は、マイクロレンズ３と電極基板11とを対向さ
せ、かつ両基板が所定のギャップをもつよう対向させた
うえで、両基板間に液晶を封入し、貼り合わせるもので
ある。
【０００３】ここで、対向させた両基板間のギャップが
部位によりバラつき、所定のギャップとならない、いわ
ゆるギャップ不良となった場合、液晶表示の品位を大幅
に劣化させるものといえる。
部位によりバラつき、所定のギャップとならない、いわ
ゆるギャップ不良となった場合、液晶表示の品位を大幅
に劣化させるものといえる。
【０００４】透明基板２表面に、例えば半球形のマイク
ロレンズ３を複数形成したマイクロレンズ基板１は、表
面が凹凸となっているものである。このため、対向させ
た両基板間のギャップ不良およびレベリング不良を防止
し、液晶表示品位を向上させるためには、マイクロレン
ズ基板１のマイクロレンズ３側の面を平滑とする、すな
わち、マイクロレンズ基板１上に平滑化層を形成する必
要が生じるものである。
ロレンズ３を複数形成したマイクロレンズ基板１は、表
面が凹凸となっているものである。このため、対向させ
た両基板間のギャップ不良およびレベリング不良を防止
し、液晶表示品位を向上させるためには、マイクロレン
ズ基板１のマイクロレンズ３側の面を平滑とする、すな
わち、マイクロレンズ基板１上に平滑化層を形成する必
要が生じるものである。
【０００５】従来、マイクロレンズ基板１上に平滑化層
を形成する手段として、以下に記す方法がとられている
ものである。すなわち、マイクロレンズ基板１のマイク
ロレンズ３側の面に、例えばスピンコート法等で透明樹
脂を塗布することで、いわゆるオーバーコート層をマイ
クロレンズ側の面に形成し平滑化層とする方法であり、
または、マイクロレンズ３側の面に、接着剤にて薄いカ
バーガラスを貼り合わせ、カバーガラスを平滑化層とす
る方法である。
を形成する手段として、以下に記す方法がとられている
ものである。すなわち、マイクロレンズ基板１のマイク
ロレンズ３側の面に、例えばスピンコート法等で透明樹
脂を塗布することで、いわゆるオーバーコート層をマイ
クロレンズ側の面に形成し平滑化層とする方法であり、
または、マイクロレンズ３側の面に、接着剤にて薄いカ
バーガラスを貼り合わせ、カバーガラスを平滑化層とす
る方法である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した従来
のマイクロレンズ基板の表面平滑化方法では、所望する
表面平滑を得ることが難しいものである。すなわち、通
常のマイクロレンズ基板１においては、平面図である図
３および、図３のＹ−Ｙ’線における断面図である図４
に示すように、マイクロレンズ３の形成領域を、透明基
板２の板端部から離れた、透明基板２の中央部寄りとす
ることが一般的といえる。
のマイクロレンズ基板の表面平滑化方法では、所望する
表面平滑を得ることが難しいものである。すなわち、通
常のマイクロレンズ基板１においては、平面図である図
３および、図３のＹ−Ｙ’線における断面図である図４
に示すように、マイクロレンズ３の形成領域を、透明基
板２の板端部から離れた、透明基板２の中央部寄りとす
ることが一般的といえる。
【０００７】上述したように、マイクロレンズ基板１上
にオーバーコート層５を形成した場合、透明基板２の板
端部より中央部寄りがマイクロレンズ３により高くなっ
ているため、図６に示すようにマイクロレンズ３の形成
領域上のオーバーコート層５部位に盛り上がり部が生じ
てしまうものである。特に、液晶プロジェクション装置
の仕様上、マイクロレンズ３の高さを例えば２〜６μｍ
と高く形成する場合、盛り上がり部が発生し易いといえ
る。なお、オーバーコート層５の形成後に、この盛り上
がり部を研磨し、表面平滑とする手段もあるといえる
が、研磨後のオーバーコート層厚にムラが生じやすく、
また、手間、コストが掛かり、さらに、研磨法は、削り
滓が異物として付着するという汚染の問題も生じるもの
である。
にオーバーコート層５を形成した場合、透明基板２の板
端部より中央部寄りがマイクロレンズ３により高くなっ
ているため、図６に示すようにマイクロレンズ３の形成
領域上のオーバーコート層５部位に盛り上がり部が生じ
てしまうものである。特に、液晶プロジェクション装置
の仕様上、マイクロレンズ３の高さを例えば２〜６μｍ
と高く形成する場合、盛り上がり部が発生し易いといえ
る。なお、オーバーコート層５の形成後に、この盛り上
がり部を研磨し、表面平滑とする手段もあるといえる
が、研磨後のオーバーコート層厚にムラが生じやすく、
また、手間、コストが掛かり、さらに、研磨法は、削り
滓が異物として付着するという汚染の問題も生じるもの
である。
【０００８】また、オーバーコート層の盛り上がり部の
発生を防止する手段として、オーバーコート層の層厚を
厚くして形成することも考えられる。しかし、オーバー
コート層の層厚を、例えば５μｍ以上と厚く塗布、形成
した場合、形成したオーバーコート層の応力により、マ
イクロレンズ基板１が反る等の問題が生じるものであ
る。
発生を防止する手段として、オーバーコート層の層厚を
厚くして形成することも考えられる。しかし、オーバー
コート層の層厚を、例えば５μｍ以上と厚く塗布、形成
した場合、形成したオーバーコート層の応力により、マ
イクロレンズ基板１が反る等の問題が生じるものであ
る。
【０００９】次いで、マイクロレンズ３側の面に接着剤
にてカバーガラス６を貼りつける方法においても、マイ
クロレンズ３の形成領域に相対した部位より、基板端部
位が低くなるため、図７に示すようにカバーガラス６が
湾曲し歪みが生じるものである。湾曲し歪みが生じたカ
バーガラス６を有するマイクロレンズ基板１を用いパネ
ル化した場合、両基板間のギャップ不良に加えて、カバ
ーガラス６の歪みによりニュートンリングが発生し、さ
らに液晶表示品位が劣化するといえる。
にてカバーガラス６を貼りつける方法においても、マイ
クロレンズ３の形成領域に相対した部位より、基板端部
位が低くなるため、図７に示すようにカバーガラス６が
湾曲し歪みが生じるものである。湾曲し歪みが生じたカ
バーガラス６を有するマイクロレンズ基板１を用いパネ
ル化した場合、両基板間のギャップ不良に加えて、カバ
ーガラス６の歪みによりニュートンリングが発生し、さ
らに液晶表示品位が劣化するといえる。
【００１０】本発明は、以上の事情に鑑みなされたもの
であり、オーバーコート層またはカバーガラス等の従来
通りの平滑化手段を用いても、容易に表面平滑なマイク
ロレンズ基板を得ることの出来るマイクロレンズ基板を
提供することを目的とする。
であり、オーバーコート層またはカバーガラス等の従来
通りの平滑化手段を用いても、容易に表面平滑なマイク
ロレンズ基板を得ることの出来るマイクロレンズ基板を
提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記課題
を達成するために、まず請求項１においては、透明基板
上に有機材料から成る複数のマイクロレンズを形成した
マイクロレンズ基板と、透明基板上にスイッチング素子
及び配線等を形成した電極基板とを、マイクロレンズと
電極基板とを対向するように対向させ、両基板間に液晶
を封入し、紫外線硬化型接着剤でマイクロレンズの形成
領域外で貼り合わせて液晶パネルとするためのマイクロ
レンズ基板において、マイクロレンズ形成領域を囲み、
かつマイクロレンズと略同一の高さとした、マイクロレ
ンズと同じ材質から成る額縁状のダミーパターンを有
し、マイクロレンズおよびダミーパターンはフォトリソ
グラフィーによりパターニングした後に熱処理を行うこ
とで一括形成し、しかる後にダミーパターン領域以内を
覆うカバーガラスおよびオーバーコート層からなる平滑
化層を形成したことで、平滑化層を表面平滑とし、前記
液晶パネルとした際にマイクロレンズ形成領域における
両基板間のギャップ精度を向上させることを特徴とする
マイクロレンズ基板としたものである。
を達成するために、まず請求項１においては、透明基板
上に有機材料から成る複数のマイクロレンズを形成した
マイクロレンズ基板と、透明基板上にスイッチング素子
及び配線等を形成した電極基板とを、マイクロレンズと
電極基板とを対向するように対向させ、両基板間に液晶
を封入し、紫外線硬化型接着剤でマイクロレンズの形成
領域外で貼り合わせて液晶パネルとするためのマイクロ
レンズ基板において、マイクロレンズ形成領域を囲み、
かつマイクロレンズと略同一の高さとした、マイクロレ
ンズと同じ材質から成る額縁状のダミーパターンを有
し、マイクロレンズおよびダミーパターンはフォトリソ
グラフィーによりパターニングした後に熱処理を行うこ
とで一括形成し、しかる後にダミーパターン領域以内を
覆うカバーガラスおよびオーバーコート層からなる平滑
化層を形成したことで、平滑化層を表面平滑とし、前記
液晶パネルとした際にマイクロレンズ形成領域における
両基板間のギャップ精度を向上させることを特徴とする
マイクロレンズ基板としたものである。
【００１２】また、請求項２においては、前記額縁状の
ダミーパターンを、相互に紫外線透過可能な間隙を隔て
た複数パターンの集合により形成したことを特徴とする
請求項１に記載のマイクロレンズ基板としたものであ
る。
ダミーパターンを、相互に紫外線透過可能な間隙を隔て
た複数パターンの集合により形成したことを特徴とする
請求項１に記載のマイクロレンズ基板としたものであ
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態例を
模式的に表した図面に基づき、本発明の詳説を行う。
模式的に表した図面に基づき、本発明の詳説を行う。
【００１４】図１は、本発明のマイクロレンズ基板１の
平面図を、また、図２は、図１のＸ−Ｘ’線における断
面図を示している。図１および図２に示すように、本発
明におけるマイクロレンズ基板１には、従来通り所定の
パターンに従って、透明基板２の中央部寄りに、複数の
マイクロレンズ３を形成しているものである。
平面図を、また、図２は、図１のＸ−Ｘ’線における断
面図を示している。図１および図２に示すように、本発
明におけるマイクロレンズ基板１には、従来通り所定の
パターンに従って、透明基板２の中央部寄りに、複数の
マイクロレンズ３を形成しているものである。
【００１５】ここで、本発明のマイクロレンズ基板１の
特徴として、図１および図２に示すように、マイクロレ
ンズ３の形成領域を開口部とする、額縁状のダミーパタ
ーン４を透明基板２上に形成しているものであり、か
つ、額縁状のダミーパターン４の高さは、マイクロレン
ズ３と略同一の高さとするものである。なお、マイクロ
レンズ３の形成領域とダミーパターン４との間隙は、マ
イクロレンズ基板１の仕様により適宜設定するものであ
る。
特徴として、図１および図２に示すように、マイクロレ
ンズ３の形成領域を開口部とする、額縁状のダミーパタ
ーン４を透明基板２上に形成しているものであり、か
つ、額縁状のダミーパターン４の高さは、マイクロレン
ズ３と略同一の高さとするものである。なお、マイクロ
レンズ３の形成領域とダミーパターン４との間隙は、マ
イクロレンズ基板１の仕様により適宜設定するものであ
る。
【００１６】前述したように、従来のマイクロレンズ基
板は、透明基板２の板端部位から離れた、基板の中央部
寄りにパターンを形成していた。そのため、マイクロレ
ンズ基板を表面平滑とするため、オーバーコート層を形
成する、または、カバーガラスを貼り合わせた場合、パ
ターン形成領域、すなわちマイクロレンズ３の形成領域
が板端部より高くなっているため、マイクロレンズ３の
形成領域でオーバーコート層が盛り上がり、また、カバ
ーガラスに湾曲を生じていたものである。
板は、透明基板２の板端部位から離れた、基板の中央部
寄りにパターンを形成していた。そのため、マイクロレ
ンズ基板を表面平滑とするため、オーバーコート層を形
成する、または、カバーガラスを貼り合わせた場合、パ
ターン形成領域、すなわちマイクロレンズ３の形成領域
が板端部より高くなっているため、マイクロレンズ３の
形成領域でオーバーコート層が盛り上がり、また、カバ
ーガラスに湾曲を生じていたものである。
【００１７】しかし、本発明のマイクロレンズ基板１で
は、マイクロレンズ３の形成領域の周囲に、例えば透明
基板２の板端部位まで覆う、マイクロレンズ３と略同一
の高さの額縁状のダミーパターン４を有しているもので
ある。すなわち、本発明のマイクロレンズ基板１では、
マイクロレンズ３とダミーパターン４とで略平滑な表面
を構成しているといえ、このマイクロレンズ３とダミー
パターン４とで構成される略平滑な面上に位置させるオ
ーバーコート層５、または、カバーガラス６も平滑とな
るものである。
は、マイクロレンズ３の形成領域の周囲に、例えば透明
基板２の板端部位まで覆う、マイクロレンズ３と略同一
の高さの額縁状のダミーパターン４を有しているもので
ある。すなわち、本発明のマイクロレンズ基板１では、
マイクロレンズ３とダミーパターン４とで略平滑な表面
を構成しているといえ、このマイクロレンズ３とダミー
パターン４とで構成される略平滑な面上に位置させるオ
ーバーコート層５、または、カバーガラス６も平滑とな
るものである。
【００１８】マイクロレンズ３の形成とは別に、マイク
ロレンズ３の材質とは異なった材質にて、また、マイク
ロレンズ３の形成手段とは異なった形成手段にて額縁状
のダミーパターン４を形成すると、マイクロレンズ基板
の形成工程が煩雑になり、かつ、材料費が余分に掛かる
という新たな問題が生じる。
ロレンズ３の材質とは異なった材質にて、また、マイク
ロレンズ３の形成手段とは異なった形成手段にて額縁状
のダミーパターン４を形成すると、マイクロレンズ基板
の形成工程が煩雑になり、かつ、材料費が余分に掛かる
という新たな問題が生じる。
【００１９】請求項１に係わる発明は、この問題をも解
決するものである。すなわち、透明基板２上にマイクロ
レンズ３を形成する際に、マイクロレンズ３の形成に用
いる材質および手法にて、額縁状のダミーパターン４を
同時に形成するものである。以下に、本発明のマイクロ
レンズ基板１を製造する工程の一例を示す図８に基づき
説明を行う。なお、図８の例では、マイクロレンズ３の
材質を透明樹脂等の有機材料とし、フォトリソグラフィ
ーによりパターニングした後、熱処理を行うことでマイ
クロレンズ３を形成する方法を用いているものである。
決するものである。すなわち、透明基板２上にマイクロ
レンズ３を形成する際に、マイクロレンズ３の形成に用
いる材質および手法にて、額縁状のダミーパターン４を
同時に形成するものである。以下に、本発明のマイクロ
レンズ基板１を製造する工程の一例を示す図８に基づき
説明を行う。なお、図８の例では、マイクロレンズ３の
材質を透明樹脂等の有機材料とし、フォトリソグラフィ
ーによりパターニングした後、熱処理を行うことでマイ
クロレンズ３を形成する方法を用いているものである。
【００２０】まず、ガラス等の透明基板２上に透明感光
性樹脂（東京応化（株）製、商品名「ＴＭＲ−Ｐ３」）
を滴下後、透明基板２を 700rmp にて90秒間回転した
後、ホットプレートにて90℃、 100秒間プレベークを行
うことにより、図８（ａ）に示すように、透明基板２上
に透明な感光性レジスト層７を形成した。
性樹脂（東京応化（株）製、商品名「ＴＭＲ−Ｐ３」）
を滴下後、透明基板２を 700rmp にて90秒間回転した
後、ホットプレートにて90℃、 100秒間プレベークを行
うことにより、図８（ａ）に示すように、透明基板２上
に透明な感光性レジスト層７を形成した。
【００２１】次いで、図８（ｂ）に示すように、所定の
パターンを有するパターン露光用マスク８を介し、感光
性レジスト層７にパターン露光を行う。なお、形成した
感光性レジスト層７がポジ型であるため、パターン露光
用マスク８は、マイクロレンズ３を形成する部位およ
び、本発明の特徴とする額縁状のダミーパターン４を形
成する部位を遮光部とし、各マイクロレンズ３間およ
び、マイクロレンズ３の形成領域とダミーパターン４と
の間を光透過部としている。
パターンを有するパターン露光用マスク８を介し、感光
性レジスト層７にパターン露光を行う。なお、形成した
感光性レジスト層７がポジ型であるため、パターン露光
用マスク８は、マイクロレンズ３を形成する部位およ
び、本発明の特徴とする額縁状のダミーパターン４を形
成する部位を遮光部とし、各マイクロレンズ３間およ
び、マイクロレンズ３の形成領域とダミーパターン４と
の間を光透過部としている。
【００２２】次いで、現像液（東京応化（株）製、商品
名「ＮＭＤ−Ｗ」）を用い、 200rpm にて30秒間のスピ
ン現像を行った後、純水リンスおよび乾燥を行い、未露
光未硬化部位の感光性レジスト層７を除去し、図８
（ｃ）を得た。
名「ＮＭＤ−Ｗ」）を用い、 200rpm にて30秒間のスピ
ン現像を行った後、純水リンスおよび乾燥を行い、未露
光未硬化部位の感光性レジスト層７を除去し、図８
（ｃ）を得た。
【００２３】次いで、ホットプレートを用い、90℃〜 1
80℃まで段階的に透明基板２を加熱することで、透明基
板２上に残った感光性レジスト層の角部を丸め、図８
（ｄ）に示すように、透明基板２上に、透明基板２表面
からの高さ約４μｍの額縁状のダミーパターン４、およ
び透明基板２表面から頂点までの高さ約４μｍのマイク
ロレンズ３を有する本発明のマイクロレンズ基板１を得
る。
80℃まで段階的に透明基板２を加熱することで、透明基
板２上に残った感光性レジスト層の角部を丸め、図８
（ｄ）に示すように、透明基板２上に、透明基板２表面
からの高さ約４μｍの額縁状のダミーパターン４、およ
び透明基板２表面から頂点までの高さ約４μｍのマイク
ロレンズ３を有する本発明のマイクロレンズ基板１を得
る。
【００２４】次いで、マイクロレンズ基板１上に接着剤
として紫外線硬化型樹脂（共立化学（株）製、商品名
「ＴＥＫ−ＯＧ−１２５」）を滴下し、マイクロレンズ
基板１を5000 rpmにて60秒間回転した後、50μｍの厚さ
のカバーガラス６を貼り合わせた。しかる後、 100mW／
cm2 の紫外線をカバーガラス６側より２分間照射し、紫
外線硬化型樹脂を硬化することでカバーガラスの固着を
行った。
として紫外線硬化型樹脂（共立化学（株）製、商品名
「ＴＥＫ−ＯＧ−１２５」）を滴下し、マイクロレンズ
基板１を5000 rpmにて60秒間回転した後、50μｍの厚さ
のカバーガラス６を貼り合わせた。しかる後、 100mW／
cm2 の紫外線をカバーガラス６側より２分間照射し、紫
外線硬化型樹脂を硬化することでカバーガラスの固着を
行った。
【００２５】ちなみに、上述した実施例で得られたマイ
クロレンズ基板１に貼り合わせたカバーガラス６の歪み
を調べたところ、マイクロレンズ３の形成領域部位と基
板端部位との歪みは１μｍ以下に抑えられていた。しか
し、上述したのと同様の工程および条件にて、額縁状の
ダミーパターン４を有しない従来の形態のマイクロレン
ズ基板を製造し、しかる後、マイクロレンズ基板上に、
上述した方法にてカバーガラス６を貼り合わせたとこ
ろ、マイクロレンズ３の形成領域部位と基板端部位との
カバーガラス６の歪みは４〜５μｍ程度となったもので
ある。
クロレンズ基板１に貼り合わせたカバーガラス６の歪み
を調べたところ、マイクロレンズ３の形成領域部位と基
板端部位との歪みは１μｍ以下に抑えられていた。しか
し、上述したのと同様の工程および条件にて、額縁状の
ダミーパターン４を有しない従来の形態のマイクロレン
ズ基板を製造し、しかる後、マイクロレンズ基板上に、
上述した方法にてカバーガラス６を貼り合わせたとこ
ろ、マイクロレンズ３の形成領域部位と基板端部位との
カバーガラス６の歪みは４〜５μｍ程度となったもので
ある。
【００２６】次いで、請求項２に係わる発明の説明を行
う。前述した（従来の技術）の項で記したように、液晶
パネル10部とするため、マイクロレンズ基板１と電極基
板11とを対向させ、両基板間に液晶を封入、封止するよ
う両基板を貼り合わせるものである。
う。前述した（従来の技術）の項で記したように、液晶
パネル10部とするため、マイクロレンズ基板１と電極基
板11とを対向させ、両基板間に液晶を封入、封止するよ
う両基板を貼り合わせるものである。
【００２７】この両基板の貼り合わせの際、紫外線硬化
型の接着剤を用いる場合がある。例えば、マイクロレン
ズ基板１に形成した平滑化層の、マイクロレンズ３の形
成領域外に紫外線硬化型の接着剤を塗布した後に、両基
板を貼り合わせ、しかる後、図９に示すように、マイク
ロレンズ基板１の透明基板２側から紫外線光の照射を行
い、接着剤を硬化させ両基板を固着させるものである。
なお、使用する接着剤の種類によっては、紫外線光の照
射後、接着部位等に加熱を行う場合もある。
型の接着剤を用いる場合がある。例えば、マイクロレン
ズ基板１に形成した平滑化層の、マイクロレンズ３の形
成領域外に紫外線硬化型の接着剤を塗布した後に、両基
板を貼り合わせ、しかる後、図９に示すように、マイク
ロレンズ基板１の透明基板２側から紫外線光の照射を行
い、接着剤を硬化させ両基板を固着させるものである。
なお、使用する接着剤の種類によっては、紫外線光の照
射後、接着部位等に加熱を行う場合もある。
【００２８】従来のマイクロレンズ基板においては、マ
イクロレンズ３の形成領域外には、ほぼパターンが形成
されておらず、透明基板２側から照射された紫外線光
は、紫外線硬化型の接着剤に到達していたものである。
しかし、上述したように、本発明のマイクロレンズ基板
１においては、マイクロレンズ３の形成領域外に額縁状
のダミーパターン４を形成するものである。
イクロレンズ３の形成領域外には、ほぼパターンが形成
されておらず、透明基板２側から照射された紫外線光
は、紫外線硬化型の接着剤に到達していたものである。
しかし、上述したように、本発明のマイクロレンズ基板
１においては、マイクロレンズ３の形成領域外に額縁状
のダミーパターン４を形成するものである。
【００２９】このため、ダミーパターン４を構成する材
質が、接着剤を硬化すべく照射された紫外線光を透過す
る性質を持たない場合、もしくは紫外線光に対し30〜50
％程度の透過率しか有しない場合であっても、ダミーパ
ターン４部で、紫外線光が遮光されてしまうものであ
る。すなわち、両基板の貼り合わせに用いる紫外線硬化
型接着剤の硬化に必要な光量が得られず、上述した、紫
外線硬化型の接着剤を用いた両基板の貼り合わせが出来
ない恐れが生じるといえる。
質が、接着剤を硬化すべく照射された紫外線光を透過す
る性質を持たない場合、もしくは紫外線光に対し30〜50
％程度の透過率しか有しない場合であっても、ダミーパ
ターン４部で、紫外線光が遮光されてしまうものであ
る。すなわち、両基板の貼り合わせに用いる紫外線硬化
型接着剤の硬化に必要な光量が得られず、上述した、紫
外線硬化型の接着剤を用いた両基板の貼り合わせが出来
ない恐れが生じるといえる。
【００３０】請求項２に係わる発明は、ダミーパターン
４が紫外線光を遮光し、従来の両基板の貼り合わせ手段
が行えなくなる問題を解決するためになされたものであ
る。すなわち、マイクロレンズ３の形成領域を囲み、マ
イクロレンズ３と略同一の高さとした額縁状のダミーパ
ターン４を、相互に紫外線透過可能な間隙を隔てた複数
パターンの集合により形成したことを特徴とするマイク
ロレンズ基板１を提案するものである。
４が紫外線光を遮光し、従来の両基板の貼り合わせ手段
が行えなくなる問題を解決するためになされたものであ
る。すなわち、マイクロレンズ３の形成領域を囲み、マ
イクロレンズ３と略同一の高さとした額縁状のダミーパ
ターン４を、相互に紫外線透過可能な間隙を隔てた複数
パターンの集合により形成したことを特徴とするマイク
ロレンズ基板１を提案するものである。
【００３１】上述した図１および図２の説明において
は、額縁状のダミーパターン４をベタパターンで形成し
ている。このため、ダミーパターン４を構成する材質
が、照射された紫外線光を透過する性質を持たない場
合、ダミーパターン４は、紫外線光を遮光してしまうも
のである。
は、額縁状のダミーパターン４をベタパターンで形成し
ている。このため、ダミーパターン４を構成する材質
が、照射された紫外線光を透過する性質を持たない場
合、ダミーパターン４は、紫外線光を遮光してしまうも
のである。
【００３２】しかし、ダミーパターン４を、相互に紫外
線透過可能な間隙を隔てた複数パターンの集合、例えば
図10の平面図に示すように、複数本のストライプパター
ン９の集合により形成した場合、透明基板２側より照射
された紫外線光は、図10のＺ−Ｚ’線における断面図で
ある図11に示すように、各ストライプパターン９の間を
通過出来るといえる。なお、図11では、各ストライプパ
ターン９の間を光が通過する様子を示すものであり、ス
トライプパターン９およびマイクロレンズ３を透過した
後の光、およびマイクロレンズ基板１上に形成した平滑
化層等は図示していない。すなわち、各ストライプパタ
ーン９の間を通過した紫外線光により、従来通り、両基
板の貼り合わせに用いる紫外線硬化型の接着剤を硬化す
ることが出来るため、両基板の貼り合わせが可能となる
ものである。
線透過可能な間隙を隔てた複数パターンの集合、例えば
図10の平面図に示すように、複数本のストライプパター
ン９の集合により形成した場合、透明基板２側より照射
された紫外線光は、図10のＺ−Ｚ’線における断面図で
ある図11に示すように、各ストライプパターン９の間を
通過出来るといえる。なお、図11では、各ストライプパ
ターン９の間を光が通過する様子を示すものであり、ス
トライプパターン９およびマイクロレンズ３を透過した
後の光、およびマイクロレンズ基板１上に形成した平滑
化層等は図示していない。すなわち、各ストライプパタ
ーン９の間を通過した紫外線光により、従来通り、両基
板の貼り合わせに用いる紫外線硬化型の接着剤を硬化す
ることが出来るため、両基板の貼り合わせが可能となる
ものである。
【００３３】なお、相互に紫外線透過可能な間隙を隔て
た複数パターンの形状は、上記のストライプパターン９
に限定されるものではなく、マイクロレンズと同様のド
ット状、または、モザイク状であっても構わない。各パ
ターンの大きさおよび、間隔は、使用する紫外線硬化型
の接着剤の仕様、すなわち、硬化に必要な光量等により
異なるため、適宜設定することが望ましいといえる。
た複数パターンの形状は、上記のストライプパターン９
に限定されるものではなく、マイクロレンズと同様のド
ット状、または、モザイク状であっても構わない。各パ
ターンの大きさおよび、間隔は、使用する紫外線硬化型
の接着剤の仕様、すなわち、硬化に必要な光量等により
異なるため、適宜設定することが望ましいといえる。
【００３４】また、請求項１の説明で述べたように、上
述した複数パターンの集合で形成するダミーパターン４
も、マイクロレンズ３の形成に用いる材質および手法に
て、マイクロレンズ３を形成する際に同時に形成するこ
とが望ましいといえる。
述した複数パターンの集合で形成するダミーパターン４
も、マイクロレンズ３の形成に用いる材質および手法に
て、マイクロレンズ３を形成する際に同時に形成するこ
とが望ましいといえる。
【００３５】なお、本発明の実施の形態は、上述した説
明および図面に限定されるものではなく、本発明の趣旨
に基づき、種々の変形が可能なことはいうまでもない。
明および図面に限定されるものではなく、本発明の趣旨
に基づき、種々の変形が可能なことはいうまでもない。
【００３６】例えば、上述した図では、額縁状のダミー
パターン４は、透明基板２の板端まで達しているが、必
ずしも枠幅を基板の板端までとる必要はなく、本発明の
趣旨により、表面平滑な平滑化層が得られるよう、枠幅
を適宜設定しても構わない。
パターン４は、透明基板２の板端まで達しているが、必
ずしも枠幅を基板の板端までとる必要はなく、本発明の
趣旨により、表面平滑な平滑化層が得られるよう、枠幅
を適宜設定しても構わない。
【００３７】
【発明の効果】前述した（発明が解決しようとする課
題）で記したように、従来のマイクロレンズ基板では、
表面平滑とすべくマイクロレンズ基板上に平滑化層を形
成しても、平滑化層が表面平滑とならず、盛り上がり部
や歪みを生じていたものである。しかし、本発明により
得られたマイクロレンズ基板１においては、従来の手段
をそのまま用いても容易に表面平滑な平滑化層を形成す
ることが可能となるものである。
題）で記したように、従来のマイクロレンズ基板では、
表面平滑とすべくマイクロレンズ基板上に平滑化層を形
成しても、平滑化層が表面平滑とならず、盛り上がり部
や歪みを生じていたものである。しかし、本発明により
得られたマイクロレンズ基板１においては、従来の手段
をそのまま用いても容易に表面平滑な平滑化層を形成す
ることが可能となるものである。
【００３８】すなわち、本発明のマイクロレンズ基板１
を用いることにより、膜厚を厚くする、または研磨等を
行うことなく、容易に表面平滑な平滑化層が得られる。
これにより、マイクロレンズ基板および電極基板を対向
させる際のギャップ精度が向上し、液晶プロジェクショ
ン装置の表示品位が向上するものである。
を用いることにより、膜厚を厚くする、または研磨等を
行うことなく、容易に表面平滑な平滑化層が得られる。
これにより、マイクロレンズ基板および電極基板を対向
させる際のギャップ精度が向上し、液晶プロジェクショ
ン装置の表示品位が向上するものである。
【００３９】さらに、マイクロレンズ形成領域外に形成
する額縁状のダミーパターンは、マイクロレンズの形成
と同時に、マイクロレンズの形成に用いた材質および手
法にて形成するため、マイクロレンズ基板の形成工程を
増やすことなく容易に形成することができる等、本発明
のマイクロレンズ基板は実用上優れているといえる。
する額縁状のダミーパターンは、マイクロレンズの形成
と同時に、マイクロレンズの形成に用いた材質および手
法にて形成するため、マイクロレンズ基板の形成工程を
増やすことなく容易に形成することができる等、本発明
のマイクロレンズ基板は実用上優れているといえる。
【００４０】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板の一実施例を示す
平面図。
平面図。
【図２】本発明のマイクロレンズ基板の一実施例を示す
断面図。
断面図。
【図３】従来のマイクロレンズ基板の一例を示す平面
図。
図。
【図４】従来のマイクロレンズ基板の一例を示す断面
図。
図。
【図５】液晶パネル部の要部を示す説明図。
【図６】従来のマイクロレンズ基板に形成した平滑化層
の一例を示す断面図。
の一例を示す断面図。
【図７】従来のマイクロレンズ基板に形成した平滑化層
の他の例を示す断面図。
の他の例を示す断面図。
【図８】（ａ）〜（ｄ）は、本発明のマイクロレンズ基
板を製造する方法の一例の要部を工程順に示す説明図。
板を製造する方法の一例の要部を工程順に示す説明図。
【図９】本発明のマイクロレンズ基板を用いた液晶パネ
ル部の一例を示す説明図。
ル部の一例を示す説明図。
【図１０】本発明のマイクロレンズ基板の他の実施例を
示す平面図。
示す平面図。
【図１１】本発明のマイクロレンズ基板への紫外線照射
の一例を示す説明図。
の一例を示す説明図。
１ マイクロレンズ基板
２ 透明基板
３ マイクロレンズ
４ ダミーパターン
５ オーバーコート層
６ カバーガラス
７ レジスト層
８ 露光用マスク
９ ストライプパターン
10 液晶パネル
11 電極基板
12 接着剤
13 ＴＦＴ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平９−159806（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−258195（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−333328（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 1/00 - 1/08
G02B 3/00 - 3/14
G02F 1/1335 - 1/13363
Claims (2)
- 【請求項１】透明基板上に有機材料から成る複数のマイ
クロレンズを形成したマイクロレンズ基板と、透明基板
上にスイッチング素子及び配線等を形成した電極基板と
を、マイクロレンズと電極基板とを対向するように対向
させ、両基板間に液晶を封入し、紫外線硬化型接着剤で
マイクロレンズの形成領域外で貼り合わせて液晶パネル
とするためのマイクロレンズ基板において、 マイクロレンズ形成領域を囲み、かつマイクロレンズと
略同一の高さとした、マイクロレンズと同じ材質から成
る額縁状のダミーパターンを有し、マイクロレンズおよ
びダミーパターンはフォトリソグラフィーによりパター
ニングした後に熱処理を行うことで一括形成し、しかる
後にダミーパターン領域以内を覆うカバーガラスおよび
オーバーコート層からなる平滑化層を形成したことで、
平滑化層を表面平滑とし、前記液晶パネルとした際にマ
イクロレンズ形成領域における両基板間のギャップ精度
を向上させることを特徴とするマイクロレンズ基板。 - 【請求項２】前記額縁状のダミーパターンを、相互に紫
外線透過可能な間隔を隔てた複数パターンの集合により
形成したことを特徴とする請求項１に記載のマイクロレ
ンズ基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25338996A JP3533846B2 (ja) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | マイクロレンズ基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25338996A JP3533846B2 (ja) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | マイクロレンズ基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1096802A JPH1096802A (ja) | 1998-04-14 |
| JP3533846B2 true JP3533846B2 (ja) | 2004-05-31 |
Family
ID=17250697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25338996A Expired - Lifetime JP3533846B2 (ja) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | マイクロレンズ基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3533846B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000029011A (ja) * | 1998-07-14 | 2000-01-28 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置およびその製造方法、並びに投射型表示装置 |
| JP2000221482A (ja) * | 1999-01-29 | 2000-08-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JP5309568B2 (ja) * | 2008-01-10 | 2013-10-09 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置及び電子機器 |
| JP5539425B2 (ja) * | 2012-03-05 | 2014-07-02 | 東芝テック株式会社 | レンズアレイ、画像形成装置及びレンズアレイの製造方法 |
| JP2014022507A (ja) | 2012-07-17 | 2014-02-03 | Toshiba Corp | 不揮発プログラマブルスイッチ |
-
1996
- 1996-09-25 JP JP25338996A patent/JP3533846B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1096802A (ja) | 1998-04-14 |
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