JPH1087781A - ウレトジオン基含有の重付加化合物、その製造方法及びそれからなる艶消しのｐｕｒ−粉末被覆 - Google Patents
ウレトジオン基含有の重付加化合物、その製造方法及びそれからなる艶消しのｐｕｒ−粉末被覆Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 塗料工業において付着性、柔軟性、衝撃強さ
及び耐化学薬品性を悪化させず、艶消し効果の再現性の
ある艶消し粉末塗料 【解決手段】 次の組成： 【化１】
及び耐化学薬品性を悪化させず、艶消し効果の再現性の
ある艶消し粉末塗料 【解決手段】 次の組成： 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、遊離イソシアネー
ト基又は部分的にもしくは完全にブロックされたイソシ
アネート基を有するウレトジオン基含有重付加化合物、
その製造方法並びに艶消し表面を有するポリウレタン−
粉末塗料におけるその使用に関する。
ト基又は部分的にもしくは完全にブロックされたイソシ
アネート基を有するウレトジオン基含有重付加化合物、
その製造方法並びに艶消し表面を有するポリウレタン−
粉末塗料におけるその使用に関する。
【０００２】
【従来の技術】かなり以前から艶消し表面を生じる粉末
塗料に関しての関心が増大している。この原因は、主に
実施上の性質である。光沢面は艶消し面よりもさらに高
度に清浄化する必要がある。さらに、安全性技術の理由
から著しく反射性の面は避けるのが望ましい。
塗料に関しての関心が増大している。この原因は、主に
実施上の性質である。光沢面は艶消し面よりもさらに高
度に清浄化する必要がある。さらに、安全性技術の理由
から著しく反射性の面は避けるのが望ましい。
【０００３】艶消し表面を得るための最も簡単な原理
は、粉末塗料に、所望の艶消し効果の程度に応じて少量
又は多量の充填剤、例えばチョーク、微細粒の二酸化ケ
イ素又は硫酸バリウムを混合することよりなる。しかし
ながら、この添加は塗料工業上の皮膜特性、例えば付着
性、柔軟性、衝撃強さ及び耐化学薬品性を悪化させる。
は、粉末塗料に、所望の艶消し効果の程度に応じて少量
又は多量の充填剤、例えばチョーク、微細粒の二酸化ケ
イ素又は硫酸バリウムを混合することよりなる。しかし
ながら、この添加は塗料工業上の皮膜特性、例えば付着
性、柔軟性、衝撃強さ及び耐化学薬品性を悪化させる。
【０００４】塗料と非相容性の材料、例えばワックス又
はセルロース誘導体の添加は、同様に艶消し効果を生じ
るが、押出の間のわずかな変化が表面光沢の変動を引き
起こしてしまう。この艶消し効果の再現性は保証されな
い。
はセルロース誘導体の添加は、同様に艶消し効果を生じ
るが、押出の間のわずかな変化が表面光沢の変動を引き
起こしてしまう。この艶消し効果の再現性は保証されな
い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は前記の先行技術の欠点を解消することであった。
は前記の先行技術の欠点を解消することであった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】意想外に、硬化剤成分と
してイソホロンジイソシアネート−ウレトジオン（省
略：ＩＰＤＩ−ウレトジオン）及びジアミンもしくはア
ミノアルコールの重付加化合物を使用した場合に、前記
の欠点を有していない艶消しの外観を呈するＰＵＲ−粉
末塗料が見出された。
してイソホロンジイソシアネート−ウレトジオン（省
略：ＩＰＤＩ−ウレトジオン）及びジアミンもしくはア
ミノアルコールの重付加化合物を使用した場合に、前記
の欠点を有していない艶消しの外観を呈するＰＵＲ−粉
末塗料が見出された。
【０００７】従って、本発明の対象は、次の組成：
【０００８】
【化５】
【０００９】［式中、
【００１０】
【化６】
【００１１】Ｒ1：Ｒ又は２〜１６個のＣ原子を有する
線状、分枝鎖又は環状のアルキレン基 Ｒ2、Ｒ3：同じ又は異なる、１〜１４個のＣ原子を有す
る炭化水素基 Ｒ4：Ｒ2又は次の基：
線状、分枝鎖又は環状のアルキレン基 Ｒ2、Ｒ3：同じ又は異なる、１〜１４個のＣ原子を有す
る炭化水素基 Ｒ4：Ｒ2又は次の基：
【００１２】
【化７】
【００１３】を表す］で示されるウレトジオン基含有の
重付加化合物である。
重付加化合物である。
【００１４】本発明による化合物は、遊離ＮＣＯ基の含
有率０．１〜５％、有利に０．１〜１％、全ＮＣＯ含有
率（遊離＋潜在的ＮＣＯ基）１０〜１８％、有利に１２
〜１７％、ウレトジオン基含有量１．２〜２．１ｍｍｏ
ｌ／ｇ、ブロックトＮＣＯ基の含有量０〜１ｍｍｏｌ／
ｇの点で優れている。この化合物の融点は１２０〜１８
０℃、有利に１４０から１７０℃の範囲内で変動する。
この化合物はＰＵＲ−粉末被覆の製造のために特に適し
ている。
有率０．１〜５％、有利に０．１〜１％、全ＮＣＯ含有
率（遊離＋潜在的ＮＣＯ基）１０〜１８％、有利に１２
〜１７％、ウレトジオン基含有量１．２〜２．１ｍｍｏ
ｌ／ｇ、ブロックトＮＣＯ基の含有量０〜１ｍｍｏｌ／
ｇの点で優れている。この化合物の融点は１２０〜１８
０℃、有利に１４０から１７０℃の範囲内で変動する。
この化合物はＰＵＲ−粉末被覆の製造のために特に適し
ている。
【００１５】本発明のもう一つの対象は、次の反応式：
【００１６】
【化８】
【００１７】に従う本発明による化合物の製造方法であ
り、その際、ＵＲ−ＤＡの遊離ＮＣＯ基は場合により全
て又は部分的に遮断剤と反応していてもよく、この置換
基は前記したものを表す。
り、その際、ＵＲ−ＤＡの遊離ＮＣＯ基は場合により全
て又は部分的に遮断剤と反応していてもよく、この置換
基は前記したものを表す。
【００１８】本発明による方法において使用されるウレ
トジオンは、ドイツ国特許出願公開第３０３０５１３号
明細書及び同第３７３９５４９号明細書に記載されたよ
うな、１７〜１８％の遊離ＮＣＯ基を有するＩＰＤＩ−
ウレトジオンであり、つまり反応生成物中に程度に差が
あるが高い割合のＩＰＤＩのポリウレトジオンが存在し
なければならない。モノマー含有率は≦１％である。１
８０〜２００℃（０．５ｈ）の加熱後のＩＰＤＩ−ウレ
トジオンの全ＮＣＯ含有率は３７．５〜３７．７％であ
る。
トジオンは、ドイツ国特許出願公開第３０３０５１３号
明細書及び同第３７３９５４９号明細書に記載されたよ
うな、１７〜１８％の遊離ＮＣＯ基を有するＩＰＤＩ−
ウレトジオンであり、つまり反応生成物中に程度に差が
あるが高い割合のＩＰＤＩのポリウレトジオンが存在し
なければならない。モノマー含有率は≦１％である。１
８０〜２００℃（０．５ｈ）の加熱後のＩＰＤＩ−ウレ
トジオンの全ＮＣＯ含有率は３７．５〜３７．７％であ
る。
【００１９】本発明による方法に使用すべきジアミン
は、第１級及び第２級アミノ基を有するジアミンであ
る。このジアミンは２工程で製造され、その際第１工程
では２個の第１級ジアミン（diprimaere Diamin）をア
ルデヒド又はケトンで縮合してシッフ塩基にし、第２工
程でシッフ塩基の水素化及び分別蒸留が行われる。でき
る限りわずかな副生成物（ジ−シッフ塩基）を得るため
に、著しい過剰量のジアミンを用いて作業しなければな
らない；原則として、ジアミン１０モルをカルボニル化
合物１モルと反応させる。縮合してシッフ塩基にするた
めに、原則として全ての脂肪族及び環式脂肪族ジアミ
ン、例えばエチレンジアミン、１，２−ジアミノプロパ
ン、２−メチルペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレ
ンジアミン、２，２，４−（２，４，４−）トリメチレ
ンヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン、１，
２−ジアミノシクロヘキサン並びに１，３−ビス（アミ
ノメチル）ベンゼンが挙げられる。シッフ塩基の製造の
ために使用すべきカルボニル化合物は、原則として全て
の（環式）脂肪族アルデヒド及びケトンが挙げられる
が、有利にイソブチルアルデヒド、２−エチルヘキサナ
ール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、
イソブチルケトン、シクロヘキサノン及び３，５，５−
トリメチルシクロヘキサノンが使用される。本発明によ
る方法の変法は、２個の第１級ジアミンとアクリル酸エ
ステル、例えばアクリル酸メチルエステル、アクリル酸
エチルエステル、アクリル酸ブチルエステル、アクリル
酸−ｔ−ブチルエステル、アクリル酸−２−エチルヘキ
シルエステルとの反応により得られるようなジアミンを
使用することにある。ジアミンとアクリル酸エステルと
の反応は、６０〜８０℃で１：１のモル比で行われる。
本発明による方法のもう一つの有利な変法は、水素化さ
れ、シアンエチル化されたモノアミン、例えばＮ−メチ
ル−１，３−プロパンジアミンを使用することにある。
本発明による方法の特に有利な変法は、アセトニン（４
−イソプロピルアミノ−２−アミノ−２−メチルペンタ
ン）の水素化生成物をＩＰＤＩ−ウレトジオンのための
反応成分として使用することにある。本発明による方法
に適したアミノアルコールは、原則として第１級アミノ
基並びに第１級又は第２級ＯＨ基を含有する全ての化合
物、例えばエタノールアミン、２−アミノ−１−ブタノ
ール、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、モ
ノイソプロパノールアミン、２，２′−アミノエトキシ
エタノール、３−アミノプロパノール及び３−アミノメ
チル−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノールであ
る。時には、ＵＲ−ＤＡの遊離ＮＣＯ基が焼き付け工程
の際にもはや遊離されない程度にブロックされているこ
とが有利であると判明した。遮断剤はモノアルコール、
例えばメタノール、エタノール、ブタノール、２−エチ
ルヘキサノール又は第１級並びに第２級モノアミン、例
えばブチルアミン、２−エチルヘキシルアミン、ジブチ
ルアミン、ジ−２−エチルヘキシルアミン並びにメチル
シクロヘキシルアミンである。
は、第１級及び第２級アミノ基を有するジアミンであ
る。このジアミンは２工程で製造され、その際第１工程
では２個の第１級ジアミン（diprimaere Diamin）をア
ルデヒド又はケトンで縮合してシッフ塩基にし、第２工
程でシッフ塩基の水素化及び分別蒸留が行われる。でき
る限りわずかな副生成物（ジ−シッフ塩基）を得るため
に、著しい過剰量のジアミンを用いて作業しなければな
らない；原則として、ジアミン１０モルをカルボニル化
合物１モルと反応させる。縮合してシッフ塩基にするた
めに、原則として全ての脂肪族及び環式脂肪族ジアミ
ン、例えばエチレンジアミン、１，２−ジアミノプロパ
ン、２−メチルペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレ
ンジアミン、２，２，４−（２，４，４−）トリメチレ
ンヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン、１，
２−ジアミノシクロヘキサン並びに１，３−ビス（アミ
ノメチル）ベンゼンが挙げられる。シッフ塩基の製造の
ために使用すべきカルボニル化合物は、原則として全て
の（環式）脂肪族アルデヒド及びケトンが挙げられる
が、有利にイソブチルアルデヒド、２−エチルヘキサナ
ール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、
イソブチルケトン、シクロヘキサノン及び３，５，５−
トリメチルシクロヘキサノンが使用される。本発明によ
る方法の変法は、２個の第１級ジアミンとアクリル酸エ
ステル、例えばアクリル酸メチルエステル、アクリル酸
エチルエステル、アクリル酸ブチルエステル、アクリル
酸−ｔ−ブチルエステル、アクリル酸−２−エチルヘキ
シルエステルとの反応により得られるようなジアミンを
使用することにある。ジアミンとアクリル酸エステルと
の反応は、６０〜８０℃で１：１のモル比で行われる。
本発明による方法のもう一つの有利な変法は、水素化さ
れ、シアンエチル化されたモノアミン、例えばＮ−メチ
ル−１，３−プロパンジアミンを使用することにある。
本発明による方法の特に有利な変法は、アセトニン（４
−イソプロピルアミノ−２−アミノ−２−メチルペンタ
ン）の水素化生成物をＩＰＤＩ−ウレトジオンのための
反応成分として使用することにある。本発明による方法
に適したアミノアルコールは、原則として第１級アミノ
基並びに第１級又は第２級ＯＨ基を含有する全ての化合
物、例えばエタノールアミン、２−アミノ−１−ブタノ
ール、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、モ
ノイソプロパノールアミン、２，２′−アミノエトキシ
エタノール、３−アミノプロパノール及び３−アミノメ
チル−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノールであ
る。時には、ＵＲ−ＤＡの遊離ＮＣＯ基が焼き付け工程
の際にもはや遊離されない程度にブロックされているこ
とが有利であると判明した。遮断剤はモノアルコール、
例えばメタノール、エタノール、ブタノール、２−エチ
ルヘキサノール又は第１級並びに第２級モノアミン、例
えばブチルアミン、２−エチルヘキシルアミン、ジブチ
ルアミン、ジ−２−エチルヘキシルアミン並びにメチル
シクロヘキシルアミンである。
【００２０】本発明によるウレトジオン基含有の重付加
化合物は、前記した方法により製造される。この方法は
２つの前後する次の工程で行われ、その際、 １． 第１工程ではＩＰＤＩ−ウレトジオンを第１級並
びに第２級アミノ基含有ジアミン及び／又はアミノアル
コールと反応させ、及び ２． 第２工程では次いで場合によりなお遊離している
ＮＣＯ基を遮断剤と反応させる。
化合物は、前記した方法により製造される。この方法は
２つの前後する次の工程で行われ、その際、 １． 第１工程ではＩＰＤＩ−ウレトジオンを第１級並
びに第２級アミノ基含有ジアミン及び／又はアミノアル
コールと反応させ、及び ２． 第２工程では次いで場合によりなお遊離している
ＮＣＯ基を遮断剤と反応させる。
【００２１】第１及び第２工程の反応は、溶剤中で行わ
れ、その際、溶剤は芳香族炭化水素、エステル又はケト
ン、例えばトルエン、酢酸エチル又は酢酸ブチル、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン並
びにこれらの溶剤の任意の混合物のグループから選択さ
れる。有利な溶剤はアセトンである。本発明による化合
物の製造は、ＩＰＤＩ−ウレトジオンのアセトン性溶液
にジアミンを、反応溶液の温度が４０℃を越えて上昇し
ない程度に計量供給することにより行われる。ジアミン
添加の完了後に、この反応は完了する。その後、反応生
成物がなお遊離ＮＣＯ基を含有すべき場合にアセトンは
留去される。
れ、その際、溶剤は芳香族炭化水素、エステル又はケト
ン、例えばトルエン、酢酸エチル又は酢酸ブチル、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン並
びにこれらの溶剤の任意の混合物のグループから選択さ
れる。有利な溶剤はアセトンである。本発明による化合
物の製造は、ＩＰＤＩ−ウレトジオンのアセトン性溶液
にジアミンを、反応溶液の温度が４０℃を越えて上昇し
ない程度に計量供給することにより行われる。ジアミン
添加の完了後に、この反応は完了する。その後、反応生
成物がなお遊離ＮＣＯ基を含有すべき場合にアセトンは
留去される。
【００２２】しかしこの反応生成物がもはや遊離ＮＣＯ
基を有しているべきでない場合、引き続き遮断剤Ｂ−Ｈ
と反応させる。モノアミンの場合についてこの反応は室
温で可能であり、その際、モノアミンの回分的添加の後
に反応は完了している。遮断剤がモノアルコールである
場合については、このブロッキングは６０℃で、ジブチ
ルスズラウレート（ＤＢＴＬ）０．０１重量％の存在で
実施される。
基を有しているべきでない場合、引き続き遮断剤Ｂ−Ｈ
と反応させる。モノアミンの場合についてこの反応は室
温で可能であり、その際、モノアミンの回分的添加の後
に反応は完了している。遮断剤がモノアルコールである
場合については、このブロッキングは６０℃で、ジブチ
ルスズラウレート（ＤＢＴＬ）０．０１重量％の存在で
実施される。
【００２３】ＩＰＤＩ−ウレトジオンとアミノアルコー
ルとの反応の際に、アミノアルコールのアセトン性ＩＰ
ＤＩ−ウレトジオン溶液への回分的配量供給が６０℃で
行われる。アミノアルコールの添加が完了した後、ＯＨ
−１当量あたりＮＣＯ−１当量が反応するまで６０℃で
さらに加熱する。モノアルコール及び第１級並びに第２
級モノアミンを用いたブロッキングは、ＩＰＤＩ−ウレ
トジオン／ジアミン−付加物の相応するブロッキングに
おいて記載したように行われる。遮断剤としてモノアル
コールを使用する場合、ＩＰＤＩ−ウレトジオンを約７
０℃でモノアルコールと溶剤不含で反応させ、ＯＨ／Ｎ
ＣＯ−反応が行われた後、ジアミンもしくはアミノアル
コールとの反応を溶剤中で行うのが有利であることが判
明した。
ルとの反応の際に、アミノアルコールのアセトン性ＩＰ
ＤＩ−ウレトジオン溶液への回分的配量供給が６０℃で
行われる。アミノアルコールの添加が完了した後、ＯＨ
−１当量あたりＮＣＯ−１当量が反応するまで６０℃で
さらに加熱する。モノアルコール及び第１級並びに第２
級モノアミンを用いたブロッキングは、ＩＰＤＩ−ウレ
トジオン／ジアミン−付加物の相応するブロッキングに
おいて記載したように行われる。遮断剤としてモノアル
コールを使用する場合、ＩＰＤＩ−ウレトジオンを約７
０℃でモノアルコールと溶剤不含で反応させ、ＯＨ／Ｎ
ＣＯ−反応が行われた後、ジアミンもしくはアミノアル
コールとの反応を溶剤中で行うのが有利であることが判
明した。
【００２４】本発明のもう一つの対象は、本発明による
化合物の、艶消しの外観を有するＰＵＲ−粉末塗料系の
製造のための使用である。本発明によるポリウレタン−
粉末塗料系は、ヒドロキシル基含有のポリマーと組み合
わせた本発明によるウレトジオン基含有の重付加化合物
からなる。
化合物の、艶消しの外観を有するＰＵＲ−粉末塗料系の
製造のための使用である。本発明によるポリウレタン−
粉末塗料系は、ヒドロキシル基含有のポリマーと組み合
わせた本発明によるウレトジオン基含有の重付加化合物
からなる。
【００２５】本発明による艶消しのＰＵＲ−粉末塗料の
製造のためのポリオール成分として、基本的にＯＨ基を
含有する全てのポリマーが挙げられる、例えば、エポキ
シ樹脂、ヒドロキシアクリレート、しかしながら有利に
は３〜６のＯＨ官能性を有し、１８００〜５０００、有
利に２３００〜４５００の平均分子量、２５〜１４０ｍ
ｇ ＫＯＨ／ｇ、有利に３０〜９０ｍｇ ＫＯＨ／ｇの
ＯＨ価及び≧７０〜≦１３０℃、有利に≧７５〜≦１１
０℃の融点を有するヒドロキシル基含有のポリエステル
が有利である。公知のようにポリオールとポリカルボン
酸との縮合により製造されるこの種のＯＨ含有ポリエス
テルは、例えばドイツ国特許出願公開第２７３５４９７
号明細書及び同第３００４９０３号明細書に記載されて
いる。
製造のためのポリオール成分として、基本的にＯＨ基を
含有する全てのポリマーが挙げられる、例えば、エポキ
シ樹脂、ヒドロキシアクリレート、しかしながら有利に
は３〜６のＯＨ官能性を有し、１８００〜５０００、有
利に２３００〜４５００の平均分子量、２５〜１４０ｍ
ｇ ＫＯＨ／ｇ、有利に３０〜９０ｍｇ ＫＯＨ／ｇの
ＯＨ価及び≧７０〜≦１３０℃、有利に≧７５〜≦１１
０℃の融点を有するヒドロキシル基含有のポリエステル
が有利である。公知のようにポリオールとポリカルボン
酸との縮合により製造されるこの種のＯＨ含有ポリエス
テルは、例えばドイツ国特許出願公開第２７３５４９７
号明細書及び同第３００４９０３号明細書に記載されて
いる。
【００２６】実用的な粉末塗料の製造のために、ＯＨ含
有樹脂及び本発明によるウレトジオン基含有の付加物
は、場合により顔料、例えばＴｉＯ2、レベリング剤、
例えばポリブチルアクリレートと一緒に、押出機又はニ
ーダーで９０〜１２０℃の間の温度で、ヒドロキシル基
含有樹脂の１個のＯＨ基に関して、０．６〜１．２、有
利に０．８〜１．１個のブロックされたＮＣＯ−基にな
るように混合される。
有樹脂及び本発明によるウレトジオン基含有の付加物
は、場合により顔料、例えばＴｉＯ2、レベリング剤、
例えばポリブチルアクリレートと一緒に、押出機又はニ
ーダーで９０〜１２０℃の間の温度で、ヒドロキシル基
含有樹脂の１個のＯＨ基に関して、０．６〜１．２、有
利に０．８〜１．１個のブロックされたＮＣＯ−基にな
るように混合される。
【００２７】こうして製造された粉末塗料は通常の粉体
塗布法により、例えば静電気的粉体噴霧又は流動層焼結
により、被覆すべき成形品に塗布することができる。皮
膜の硬化は１７０〜２００℃の温度に加熱することによ
り行われる。優れた腐食保護特性を有し、かつ優れた熱
安定性を有するフレキシブルな皮膜が得られる。ブロッ
クトポリイソシアネートをベースとする今まで公知のＰ
ＵＲ−粉末と比較して、本発明によるＰＵＲ−粉末は艶
消しの外観において優れており、その際、艶消しの度合
いは広い範囲内で変えられる。
塗布法により、例えば静電気的粉体噴霧又は流動層焼結
により、被覆すべき成形品に塗布することができる。皮
膜の硬化は１７０〜２００℃の温度に加熱することによ
り行われる。優れた腐食保護特性を有し、かつ優れた熱
安定性を有するフレキシブルな皮膜が得られる。ブロッ
クトポリイソシアネートをベースとする今まで公知のＰ
ＵＲ−粉末と比較して、本発明によるＰＵＲ−粉末は艶
消しの外観において優れており、その際、艶消しの度合
いは広い範囲内で変えられる。
【００２８】
【実施例】次に、本発明の対象を実施例により詳説す
る。
る。
【００２９】実験の部 Ａ） 硬化剤成分のための出発化合物 Ｉ． ＮＣＯ−成分 ＮＣＯ−成分として１７．６％のＮＣＯ含有率及び１％
のＩＰＤＩ含有率を有するＩＰＤＩ−ウレトジオンを使
用した。ＩＰＤＩ−ウレトジオンのＮＣＯ含有率は１８
０℃（１ｈ）での加熱の後に３７．５％であった。
のＩＰＤＩ含有率を有するＩＰＤＩ−ウレトジオンを使
用した。ＩＰＤＩ−ウレトジオンのＮＣＯ含有率は１８
０℃（１ｈ）での加熱の後に３７．５％であった。
【００３０】ＩＩ． 鎖長延長剤（ジアミン、アミノア
ルコール）
ルコール）
【００３１】
【化９】
【００３２】このＩＰＤ−Ａ１４９はＩＰＤ及びアクリ
ル酸−ｔ−ブチルエステルの等モルの反応により製造さ
れ、従ってモノ付加物約７０モル％、ジ付加物約１５モ
ル％及び遊離ＩＰＤからなる混合物である。
ル酸−ｔ−ブチルエステルの等モルの反応により製造さ
れ、従ってモノ付加物約７０モル％、ジ付加物約１５モ
ル％及び遊離ＩＰＤからなる混合物である。
【００３３】
【化１０】
【００３４】ＩＩＩ． 遮断剤 本発明による化合物の遊離ＮＣＯ−基を場合により２−
エチルヘキサノール又はジブチルアミンと反応させた。
エチルヘキサノール又はジブチルアミンと反応させた。
【００３５】Ｂ） 本発明による化合物の一般的製造方
法 ＩＰＤＩ−ウレトジオンのアセトン性溶液に室温で、反
応溶液の温度が４０℃を上回らないように計量供給し
た。ジアミン添加が完了した後に反応は完了した。その
後、反応生成物になお遊離ＮＣＯ−基が含まれる場合に
はアセトンを留去した。しかしながら、反応生成物が遊
離ＮＣＯ−基をもはや含有しない場合には、引き続き２
−エチルヘキサノール又はジブチルアミンと反応させ
る。ジブチルアミンの場合には、室温で可能であり、そ
の際ジブチルアミンを回分的に添加した後に反応は完了
する。２−エチルヘキサノールの場合には、この反応は
６０℃で、ジブチルスズジラウレート０．０１重量％の
存在で実施される。
法 ＩＰＤＩ−ウレトジオンのアセトン性溶液に室温で、反
応溶液の温度が４０℃を上回らないように計量供給し
た。ジアミン添加が完了した後に反応は完了した。その
後、反応生成物になお遊離ＮＣＯ−基が含まれる場合に
はアセトンを留去した。しかしながら、反応生成物が遊
離ＮＣＯ−基をもはや含有しない場合には、引き続き２
−エチルヘキサノール又はジブチルアミンと反応させ
る。ジブチルアミンの場合には、室温で可能であり、そ
の際ジブチルアミンを回分的に添加した後に反応は完了
する。２−エチルヘキサノールの場合には、この反応は
６０℃で、ジブチルスズジラウレート０．０１重量％の
存在で実施される。
【００３６】ＩＰＤＩ−ウレトジオンとアミノアルコー
ルとの反応の場合に、アミノアルコールはアセトン性の
ＩＰＤＩ−ウレトジオン−溶液に６０℃で回分的に計量
供給される。アミノアルコールの添加の完了後に、ＯＨ
−１当量あたりＮＣＯ−１当量が反応するまで６０℃で
さらに加熱した。ジブチルアミンもしくは２−エチルヘ
キサノールを用いたブロッキングは、ＩＰＤＩ−ウレト
ジオン／ジアミン−付加物の相応するブロッキングの場
合と同様に行われる。
ルとの反応の場合に、アミノアルコールはアセトン性の
ＩＰＤＩ−ウレトジオン−溶液に６０℃で回分的に計量
供給される。アミノアルコールの添加の完了後に、ＯＨ
−１当量あたりＮＣＯ−１当量が反応するまで６０℃で
さらに加熱した。ジブチルアミンもしくは２−エチルヘ
キサノールを用いたブロッキングは、ＩＰＤＩ−ウレト
ジオン／ジアミン−付加物の相応するブロッキングの場
合と同様に行われる。
【００３７】下記の表１に記載された化合物は一般的製
造方法により製造される。
造方法により製造される。
【００３８】Ｃ） ポリオール成分 本発明によるＰＵＲ−粉末の製造のためのＯＨ−成分と
して、ＯＨ価５５〜６０ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価２〜４ｍ
ｇＫＯＨ／ｇ、融点８２〜９０℃及び１６０℃での粘度
２４〜２９０００ｍＰａ・ｓを有するポリエステル（AL
FTALAT(R) AN 739 (Hoechst, Italien)）を使用した。
して、ＯＨ価５５〜６０ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価２〜４ｍ
ｇＫＯＨ／ｇ、融点８２〜９０℃及び１６０℃での粘度
２４〜２９０００ｍＰａ・ｓを有するポリエステル（AL
FTALAT(R) AN 739 (Hoechst, Italien)）を使用した。
【００３９】Ｄ） 本発明による粉末塗料の製造 一般的製造方法 粉砕された生成物（ＩＰＤＩ−ウレトジオン／ジアミン
−付加物、ポリエステル、レベリング剤、白色顔料）を
エッジランナー中で完全に混合し、引き続き押出機中で
８０〜１１０℃で均質化した。冷却後に押出物を破断
し、ピン付きディスクミルを用いて＜１００μｍの粒度
に粉砕した。こうして製造された粉末を静電気的粉末ス
プレー装置中で６０ＫＶで、脱脂し、場合により前処理
された鉄製板に塗布し、循環空気乾燥棚中で２００℃で
１５〜３０分間焼き付けた。
−付加物、ポリエステル、レベリング剤、白色顔料）を
エッジランナー中で完全に混合し、引き続き押出機中で
８０〜１１０℃で均質化した。冷却後に押出物を破断
し、ピン付きディスクミルを用いて＜１００μｍの粒度
に粉砕した。こうして製造された粉末を静電気的粉末ス
プレー装置中で６０ＫＶで、脱脂し、場合により前処理
された鉄製板に塗布し、循環空気乾燥棚中で２００℃で
１５〜３０分間焼き付けた。
【００４０】硬化剤は、ＮＣＯ：ＯＨ比が１：１の割合
でポリオールと混合した添加剤であった。
でポリオールと混合した添加剤であった。
【００４１】 クロノス（KRONOS 2160） ４０．０重量％ レシフロウ（RESIFLOW PV 5） １．０重量％ ベンゾイン ０．５重量％ 下記の表中の略語は次の意味である： ＳＤ ＝ 層厚（μｍ） ＥＴ ＝ エリクセンによる深度（ｍｍ）（ＤＩＮ
５３１５６） ＧＧ６０゜＝ ガードナーによる光沢測定（ＡＳＴＭ−
Ｄ５２３） Imp. rev. ＝ インパクト・リバース（Impact revers
e）（ｇ・ｍ）
５３１５６） ＧＧ６０゜＝ ガードナーによる光沢測定（ＡＳＴＭ−
Ｄ５２３） Imp. rev. ＝ インパクト・リバース（Impact revers
e）（ｇ・ｍ）
【００４２】
【表１】
【００４３】
【表２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エルマル ヴォルフ ドイツ連邦共和国 レックリングハウゼン シュタウフェンベルクシュトラーセ ７ (72)発明者 フェリックス シュミット ドイツ連邦共和国 ヘルテン ティローラ ー ヴェーク ２
Claims (4)
- 【請求項１】 次の組成： 【化１】 ［式中、 【化２】 Ｒ1：Ｒ又は２〜１６個のＣ原子を有する線状、分枝鎖
又は環状のアルキレン基 Ｒ2、Ｒ3：同じ又は異なる、１〜１４個のＣ原子を有す
る炭化水素基 Ｒ4：Ｒ2又は次の基： 【化３】 ］で示されるウレトジオン基含有の重付加化合物。 - 【請求項２】 イソホロンジイソシアネート−ウレトジ
オンを、不活性溶剤中で、ジアミン、アミノアルコール
又はアクリル酸エステル基含有ジアミンと、次の反応
式： 【化４】 に相応して反応させることを特徴とする請求項１記載の
化合物の製造方法。 - 【請求項３】 反応生成物（ＵＲ−ＤＡ）は第２の工程
でブロックされる請求項２記載の方法。 - 【請求項４】 請求項１記載の化合物からなる艶消しの
ＰＵＲ−粉末被覆。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19637377A DE19637377A1 (de) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | Uretdiongruppenhaltige Polyadditionsverbindungen, ein Verfahren zu ihrer Herstellung sowie deren Verwendung |
| DE19637377.8 | 1996-09-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1087781A true JPH1087781A (ja) | 1998-04-07 |
Family
ID=7805569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9246601A Pending JPH1087781A (ja) | 1996-09-13 | 1997-09-11 | ウレトジオン基含有の重付加化合物、その製造方法及びそれからなる艶消しのｐｕｒ−粉末被覆 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5859164A (ja) |
| EP (1) | EP0829498A1 (ja) |
| JP (1) | JPH1087781A (ja) |
| KR (1) | KR19980024566A (ja) |
| CA (1) | CA2215127A1 (ja) |
| DE (1) | DE19637377A1 (ja) |
| TW (1) | TW460499B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005325356A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-24 | Byk Chem Gmbh | 分散剤および分散安定剤用として適切な付加化合物 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19903710A1 (de) * | 1999-01-30 | 2000-08-03 | Bayer Ag | Uretdiongruppen und freie Isocyanatgruppen aufweisende Pulverlackvernetzer |
| DE10221048A1 (de) * | 2002-05-10 | 2003-11-27 | Degussa | Pulverlacke auf der Basis von Polyestern und mit Duroplast modifizierten Polyestern |
| US7964695B2 (en) * | 2005-03-28 | 2011-06-21 | Albemarle Corporation | Chain extenders |
| US8076518B2 (en) | 2005-03-28 | 2011-12-13 | Albemarle Corporation | Chain extenders |
| EP1868987A1 (en) * | 2005-03-28 | 2007-12-26 | Albemarle Corporation | Diimines and secondary diamines |
| KR20090098961A (ko) * | 2007-01-10 | 2009-09-18 | 알베마를 코포레이션 | 반응성 사출 성형 및 분무 시스템을 위한 제형 |
| CN114853742B (zh) * | 2022-05-13 | 2023-07-14 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种改性hdi脲二酮固化剂的制备方法与应用 |
| CN114736350B (zh) * | 2022-05-25 | 2023-12-19 | 安徽科瑞达新材料有限公司 | 一种脂肪族二异氰酸酯的二聚体加成产物的制备方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3998794A (en) * | 1972-04-29 | 1976-12-21 | Bayer Aktiengesellschaft | Polyurethane polyureas which contain uretdione groups |
| DE3030539A1 (de) * | 1980-08-13 | 1982-04-01 | Chemische Werke Hüls AG, 4370 Marl | Verfahren zur herstellung von abspaltfreien polyurethan-pulverlacken sowie die danach hergestellten lacke |
-
1996
- 1996-09-13 DE DE19637377A patent/DE19637377A1/de not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-07-17 EP EP97112242A patent/EP0829498A1/de not_active Withdrawn
- 1997-07-24 TW TW086110546A patent/TW460499B/zh active
- 1997-09-11 CA CA002215127A patent/CA2215127A1/en not_active Abandoned
- 1997-09-11 JP JP9246601A patent/JPH1087781A/ja active Pending
- 1997-09-12 KR KR1019970046906A patent/KR19980024566A/ko not_active Application Discontinuation
- 1997-09-15 US US08/929,803 patent/US5859164A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005325356A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-24 | Byk Chem Gmbh | 分散剤および分散安定剤用として適切な付加化合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR19980024566A (ko) | 1998-07-06 |
| US5859164A (en) | 1999-01-12 |
| TW460499B (en) | 2001-10-21 |
| EP0829498A1 (de) | 1998-03-18 |
| DE19637377A1 (de) | 1998-03-19 |
| CA2215127A1 (en) | 1998-03-13 |
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