JPH1074819A - 半導体製造装置及びウェーハカセット移載方法 - Google Patents

半導体製造装置及びウェーハカセット移載方法

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JPH1074819A
JPH1074819A JP24700096A JP24700096A JPH1074819A JP H1074819 A JPH1074819 A JP H1074819A JP 24700096 A JP24700096 A JP 24700096A JP 24700096 A JP24700096 A JP 24700096A JP H1074819 A JPH1074819 A JP H1074819A
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cassette
wafer
spare
loader
shelf
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JP24700096A
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English (en)
Inventor
Hitoshi Nakagawa
均 中川
Daisuke Kitamura
大輔 北村
Tetsuo Yamamoto
哲夫 山本
Seiji Watanabe
誠治 渡辺
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Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】予備カセット棚が設けられている空間での予備
カセット棚設置密度の増大を可能とし、半導体製造装置
内でのウェーハカセットの移載効率の向上を図り、 【解決手段】カセットを収納する収納庫に対峙して設け
られた予備カセット棚12と、前記収納庫と予備カセッ
ト棚間を横行、昇降し、ウェーハカセットの移載を行う
カセットローダ15を有するカセット移載機とを具備
し、収納されたウェーハカセットに対する前記カセット
ローダの進退により、或は90°回転によりウェーハカ
セットの授受を行う半導体製造装置に於いて、前記予備
カセット棚を複数列、複数段設け、前記予備カセット棚
の少なくとも1列の少なくとも1つの予備カセット棚を
横行可能とする。予備カセット棚を横行可能としたの
で、予備カセット棚に隣接する空間をウェーハカセット
の移載に必要な空間として確保できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は縦型炉を有する縦型
拡散装置、或は縦型CVD装置等の半導体製造装置、特
に半導体製造装置内でのウェーハカセットの収納数を増
大させた半導体製造装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体素子の材料であるシリコンウェー
ハは、ウェーハカセットに装填された状態で半導体製造
装置に対して搬送され、半導体製造装置内でもウェーハ
カセットはウェーハの保持器として機能し、ウェーハは
ウェーハカセットに装填された状態で半導体製造装置内
に収納される。
【0003】図5、図6に於いて従来の半導体製造装置
を説明する。
【0004】筐体1内部の前面側には外部搬送装置(図
示せず)との間でウェーハカセット11の授受を行うカ
セット授受ユニット2が設けられ、該カセット授受ユニ
ット2の後側にカセット移載機3が設けられ、該カセッ
ト移載機3を挾んで前記カセット授受ユニット2と対向
してカセット収納庫4が設けられ、該カセット収納庫4
の上方にバッファ収納庫5が設けられ、前記カセット授
受ユニット2の上方前記バッファ収納庫5に対峙した位
置に予備カセット棚12を2列上下2段の計4つ設け
る。該予備カセット棚12にはウェーハカセット11が
縦向き姿勢で乗載される。
【0005】前記バッファ収納庫5の後側にクリーンユ
ニット6が設けられ、前記カセット授受ユニット2の上
方にはクリーンユニット14が設けられている。前記筐
体1の後部上方には縦型の反応炉7が設けられ、該反応
炉7の下方にはボート8を該反応炉7に挿脱するボート
エレベータ9が設けられ、前記ボート8には水平姿勢の
ウェーハが多段に装填される。
【0006】該ボートエレベータ9と前記カセット収納
庫4との間にウェーハ移載機10が設けられている。該
ウェーハ移載機10は昇降可能、且回転可能な回転ステ
ージ18にウェーハチャック19が進退可能に設けら
れ、該ウェーハチャック19は上下に配列された複数の
チャックプレート20(図では1枚を示す)を具備して
おり、該チャックプレート20にウェーハを保持して前
記ウェーハカセット11と前記ボート8間でウェーハの
授受を行う様になっている。
【0007】前記ボートエレベータ9は昇降可能なボー
ト受台21を有し、該ボート受台21に前記ボート8が
乗置される。
【0008】前記カセット移載機3はカセットローダ1
3及び駆動部24を具備し、該駆動部24は前記カセッ
トローダ13を昇降ガイド25に沿って昇降可能とし、
又該昇降ガイド25を水平レール26に沿って移動可能
としている。前記カセットローダ13は水平軸心15を
中心に略90°回転する様になっており、更にカセット
ローダ13は図7に示される様に、カセット移載プレー
ト16と該カセット移載プレート16に対して直角に設
けられたカセット受け17を具備し、前記カセット移載
プレート16、及びカセット受け17がそれぞれ前記水
平軸心15に対して進退可能となっている。
【0009】前記反応炉7は筒状のヒータ22内部に反
応管23が設けられており、該反応管23内部が反応室
となり、該反応室は前記ボート8が完全に挿入されるこ
とで密閉される。
【0010】ウェーハが装填されたウェーハカセット1
1は外部搬送装置(図示せず)から前記カセット授受ユ
ニット2に縦向き姿勢で搬入され、搬入されたウェーハ
カセット11は前記カセット移載機3が保持し、更に9
0°回転して水平姿勢として前記カセット授受ユニット
2から前記カセット収納庫4、バッファ収納庫5、更に
前記カセット収納庫4、バッファ収納庫5から前記予備
カセット棚12に移載する。
【0011】先ず、図8〜図12に於いて上記カセット
移載機3のカセット授受ユニット2からカセット収納庫
4、バッファ収納庫5への移載動作について説明する。
尚、カセット収納庫4、バッファ収納庫5への移載動作
は同様であるので以下はカセット収納庫4への移載動作
について説明する。
【0012】前記カセット授受ユニット2にウェーハカ
セット11が縦向き姿勢で載置される。前記カセットロ
ーダ13を前記水平軸心15を中心に90°回転させ、
前記カセット受け17を前記カセット授受ユニット2の
下方に進入させる(図8(A)、図8(B))。更に、
カセット受け17をカセット授受ユニット2に対して前
進させ(図9(A))、次にカセットローダ13を上昇
させる。
【0013】前記カセットローダ13の上昇で前記カセ
ット受け17がウェーハカセット11をカセット授受ユ
ニット2より持上げ受載し(図9(B))、更にカセッ
ト授受ユニット2に対してカセット受け17を後退さ
せ、ウェーハカセット11をカセット移載プレート16
に密着させる(図10(A))。次にカセットロ−ダ1
3を90°以下の角度で回転し、前記ウェーハカセット
11を傾斜させた状態で前記カセット移載プレート16
で保持する(図10(B))。ここで、ウェーハカセッ
ト11を傾斜させた状態としたのは、ウェーハカセット
11に対してウェーハ28がずれたり、脱落したりしな
い様にする為である。
【0014】前記カセットローダ13を上昇、水平方向
に移動させ、ウェーハカセット11をカセット収納庫4
の移載すべきカセット棚に対峙させる(図11
(A))。カセットローダ13を更に回転させ、前記カ
セット移載プレート16を水平とする。該カセット移載
プレート16を前進させ、ウェーハカセット11をカセ
ット棚の上に移動させ(図11(B))、更にカセット
ロ−ダ13を降下させ、最後にカセット移載プレート1
6を後退させてウェーハカセット11の移載を終了する
(図12)。
【0015】上記作業を繰返して前記カセット授受ユニ
ット2から、前記カセット収納庫4、前記バッファ収納
庫5へのウェーハカセット11の移載を行う。又、カセ
ット収納庫4、バッファ収納庫5間のウェーハカセット
11の移載については、ウェーハカセット11の姿勢に
変更はないので、前記したカセットローダ13の90°
回転作動が省略される。尚、カセット収納庫4、バッフ
ァ収納庫5間の移載に於いてもウェーハカセット11は
傾斜させて行う。
【0016】次に、前記カセット収納庫4、バッファ収
納庫5と前記予備カセット棚12間での移載動作を図1
2〜図8を参照して説明する。尚以下は、カセット収納
庫4と予備カセット棚12間での移載動作についての説
明であり、図中のカセット授受ユニット2は予備カセッ
ト棚12に相当し、カセット授受ユニット2からカセッ
ト収納庫4への移載動作の逆動作となる。
【0017】前記カセット移載プレート16をウェーハ
カセット11の下方に前進させ、カセットローダ13を
上昇させ、ウェーハカセット11をカセット移載プレー
ト16上に保持し、更にカセット移載プレート16を後
退させる(図12、図11(B)(A))。
【0018】前記カセットローダ13の横行、昇降によ
りカセットローダ13を移載すべき箇所の予備カセット
棚12迄で移動させ、前記カセットローダ13を略90
°回転させる。前記カセット受け17を前進させ、前記
ウェーハカセット11を予備カセット棚12の上に位置
させ、次にカセットローダ13を下降させて前記ウェー
ハカセット11を予備カセット棚12に移載する(図1
0(B)(A)、図9(B)(A))。
【0019】前記カセット受け17を後退させ、カセッ
トローダ13を図中反時計方向に回転させ、移載動作が
完了する(図9(B)(A)、図8(B)(A))。
【0020】又、前記カセット授受ユニット2と予備カ
セット棚12間でのウェーハカセット11の移載は、前
述した図8(A)(B)、図9(A)(B)で示したカ
セット授受ユニット2に対する受載動作と、カセットロ
ーダ13の横行、昇降動作、更に予備カセット棚12に
対する授載動作により行われる。
【0021】前記ウェーハ移載機10は前記カセット収
納庫4と前記ボート8間でのウェーハ28の移載を行
う。
【0022】前記回転ステージ18の昇降、回転により
ウェーハチャック19を移載すべき対象のウェーハカセ
ット11に対峙させ、更にウェーハチャック19の進退
により前記チャックプレート20にウェーハ28を吸着
する。吸着されたウェーハ28は前記回転ステージ18
の昇降、回転、更にウェーハチャック19の進退により
前記ボート8に順次装填される。尚、前記ボート8の上
部、下部の所要範囲にはダミーウェーハが、又所要間隔
でモニタウェーハが装填される。
【0023】前記ボート8にウェーハが完全に装填され
ると前記ボートエレベータ9がボート8を反応炉7内に
装入してウェーハの処理を行う。
【0024】処理の完了したウェーハは上記ウェーハの
移載の逆の手順でウェーハカセットに装填され、更にウ
ェーハカセットは上記ウェーハカセット搬送の逆の手順
で搬出される。尚、上記ダミーウェーハについては、繰
返し使用されるもので半導体製造装置の稼働中は搬入、
搬出は行われない。
【0025】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の半導体
製造装置に於ける予備カセット棚12へのウェーハカセ
ット移載動作では、図13にも示される様に、ウェーハ
カセット11の回転動作が伴う。従って、前記上側の予
備カセット棚12と下側の予備カセット棚12間の上下
間隔Hはウェーハカセット11の回転と干渉しないもの
でなくてはならない。この為、予備カセット棚12を設
置する場合の占有空間が大きくなり、筐体1内に収納で
きるウェーハカセット11の数を増大できない。
【0026】又、図6で示される様に、カセット移載機
3の駆動部24は筐体1の側壁に沿って設けられている
が、機構上前記カセットローダ13の横行は駆動部24
を除いた範囲に限られ、前記駆動部24の周辺の空間2
7がデッドスペースとして形成される。
【0027】本発明は斯かる実情に鑑み、予備カセット
棚の占有空間を少なくし、更にデッドスペースの有効利
用を図り、筐体内でのウェーハカセットの収納数を増大
させ、半導体製造装置と外部搬送装置間でのカセット搬
送効率、半導体製造装置内でのウェーハカセットの移載
効率の向上を図り、又半導体製造装置の稼働率の向上を
図るものである。
【0028】
【課題を解決するための手段】本発明は、カセットを収
納する収納庫と該収納庫に対峙して設けられた予備カセ
ット棚と、前記収納庫と予備カセット棚間を横行、昇降
し、ウェーハカセットの移載を行うカセットローダを有
するカセット移載機とを具備し、収納されたウェーハカ
セットに対する前記カセットローダの進退により、或は
90°回転によりウェーハカセットの授受を行う半導体
製造装置に於いて、前記予備カセット棚が複数列、複数
段設けられ、前記予備カセット棚の少なくとも1列の少
なくとも1つの予備カセット棚が横行可能である半導体
製造装置に係り、又前記カセットローダがウェーハカセ
ット収納位置に対する進退により、又90°回転によ
り、ウェーハカセットを収納する収納庫、予備カセット
棚に対してカセットの授受を行う半導体製造装置に係
り、又前記予備カセット棚の横行によりカセットローダ
のウェーハカセット姿勢変更用の空間が形成される半導
体製造装置に係り、又少なくとも予備カセット棚の上下
間隔を、前記カセットローダがウェーハカセットを保持
した状態で予備カセット棚間を相対移動可能とした半導
体製造装置に係り、又前記予備カセット棚の横行移動位
置がカセット移載機の駆動部の上方の空間である半導体
製造装置に係り、又カセットローダの昇降動、予備カセ
ット棚に対する相対横行移動の協働により予備カセット
棚に対するウェーハカセットの移載を行うウェーハカセ
ット移載方法に係るものである。
【0029】予備カセット棚を横行可能としたので、予
備カセット棚に隣接する空間の利用が図れ、ウェーハカ
セットの移載に必要な空間が確保でき、ウェーハカセッ
ト移載に必要な作動を前記空間で行わせる様にし、予備
カセット棚が設けられている空間での予備カセット棚設
置密度を増大させる。
【0030】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。
【0031】尚、本発明に係る半導体製造装置に於い
て、カセット授受ユニット、カセット収納庫、バッファ
収納庫、反応炉、ボートエレベータ、ウェーハ移載機、
予備カセット棚等は前述した従来例と同様であるので説
明は省略し、以下は本発明の要部のみを説明する。又、
図1、図2中、図5、図6中で示したものと同様のもの
には同符号を付してある。
【0032】予備カセット棚12をa列、b列の2列
に、又各列3段の計6棚を配設し、カセット移載機3の
駆動部24側のb列の予備カセット棚12bを前記駆動
部24に隣接した空間(図6の空間27に相当)に横行
可能とする。又、前記予備カセット棚12a、予備カセ
ット棚12bそれぞれの上下間隔Hは、予備カセット棚
12a,12bがウェーハカセット11を受載した状態
で前記カセット受け17が自由に横行できる様に、ウェ
ーハカセット11の上側の隙間を、前記カセット受け1
7高さhより大きくしてある。尚、該高さhを確保する
為の予備カセット棚12a,12bの上下間隔Hは、前
述した従来例のウェーハカセット11を回転するために
必要な高さHより小さく、結局本実施の形態での予備カ
セット棚12a,12bの上下間隔は、従来の予備カセ
ット棚12の上下間隔より低く、筐体1の外径寸法を変
えることなく予備カセット棚12の数を増やす事ができ
る。
【0033】以下、本実施の形態の作動について説明す
る。
【0034】先ず、カセット授受ユニット2から予備カ
セット棚12のb列へのウェーハカセット11移載につ
いて説明する。
【0035】前記予備カセット棚12のb列を移動さ
せ、中央にカセット回転用空間30を形成した状態とす
る。前記カセット授受ユニット2の位置は前記カセット
回転用空間30の下方に位置する。
【0036】カセットローダ13がカセット授受ユニッ
ト2よりウェーハカセット11を受載する。この状態で
はウェーハカセット11は横向き姿勢である。更に、前
記カセットローダ13は前記カセット回転用空間30に
対峙した位置迄上昇し、90°回転し、ウェーハカセッ
ト11を縦向き姿勢とする。
【0037】回転した状態では、カセット受け17、ウ
ェーハカセット11が予備カセット棚12bと12bと
の間に位置する。前記予備カセット棚12のb列が移動
し、中央位置に戻る。前記カセットローダ13と予備カ
セット棚12bとの関係はウェーハカセット11、カセ
ット受け17が予備カセット棚12bの上方に位置した
図4に示す状態となっており、前記カセットローダ13
が降下することでウェーハカセット11を予備カセット
棚12b上に移載することができる。
【0038】予備カセット棚12bから前記カセット授
受ユニット2へのウェーハカセット11移載は上記した
移載動作の逆を行うことでなされる。
【0039】次に、カセット授受ユニット2から予備カ
セット棚12のa列への移載について説明する。
【0040】前記予備カセット棚12のb列を移動さ
せ、中央にカセット回転用空間30を形成した状態とす
る。
【0041】前記カセットローダ13がカセット授受ユ
ニット2よりウェーハカセット11を受載する。更に、
前記カセットローダ13は前記カセット回転用空間30
に対峙した位置迄上昇し、90°回転し、ウェーハカセ
ット11を縦向き姿勢とする。
【0042】回転した状態では、カセット受け17、ウ
ェーハカセット11が予備カセット棚12aと12aと
の間に位置する。前記カセットローダ13を横行させ、
ウェーハカセット11を予備カセット棚12aと予備カ
セット棚12a間に移動する。前記カセットローダ13
と予備カセット棚12aとの関係はウェーハカセット1
1、カセット受け17が予備カセット棚12aの上方に
位置した図4に示す状態となっており、前記カセットロ
ーダ13が降下することでウェーハカセット11を予備
カセット棚12a上に移載することができる。
【0043】予備カセット棚12aから前記カセット授
受ユニット2への移載は上記した移載動作の逆を行うこ
とで同様に行える。
【0044】前記カセット収納庫4、バッファ収納庫5
から予備カセット棚12bへ移載する場合は、前記カセ
ットローダ13のカセット移載プレート16の進退、カ
セットローダ13の昇降の協動でウェーハカセット11
をカセットローダ13が受載した後、該カセットローダ
13を前記カセット回転用空間30に移動し、該カセッ
ト回転用空間30でウェーハカセット11を90°回転
させ、前記予備カセット棚12bを横行させ、前記カセ
ットローダ13を降下させることで行う。
【0045】又、前記カセット収納庫4、バッファ収納
庫5から予備カセット棚12aへ移載する場合は、前記
カセットローダ13のカセット移載プレート16の進
退、カセットローダ13の昇降の協動でウェーハカセッ
ト11をカセットローダ13が受載した後、該カセット
ローダ13を前記カセット回転用空間30に移動し、該
カセット回転用空間30でウェーハカセット11を90
°回転させ、カセットローダ13を予備カセット棚12
a側に横行させ、更に前記カセットローダ13を降下さ
せることで行う。
【0046】予備カセット棚12bからカセット収納庫
4、バッファ収納庫5への移載、或は予備カセット棚1
2aからカセット収納庫4、バッファ収納庫5への移載
は上述した移載動作の逆を行うことでなされる。
【0047】尚、上記実施の形態で、予備カセット棚1
2bを横行させる駆動手段としては、エアシリンダ、油
圧シリンダ等の流体圧シリンダ、或はモータで駆動され
るスクリュー、ナット等が考えられる。又、予備カセッ
ト棚12bは一列全体が一体的に横行してもよく、各予
備カセット棚12bをそれぞれ横行可能にし、前記カセ
ットローダ13が回転動作する箇所の予備カセット棚1
2bのみを横行させ、必要最小限のカセット回転用空間
30を確保してもよい。
【0048】又、実施の形態では予備カセット棚12に
ウェーハカセット11を移載する場合にウェーハカセッ
ト11の姿勢を変更する為、回転動作を伴った場合を説
明したが、カセットの姿勢を変更しない場合でも同様に
実施可能であることは言う迄もない。
【0049】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、予備カ
セット棚を横行可能にして筐体内の空間を有効利用した
ので、カセットローダのカセット回転用空間を予備カセ
ット棚以外の場所に確保することができ、従来の半導体
製造装置と同様な仕様で収納できるウェーハカセットの
数を増大させることができ、外部搬送装置とのウェーハ
カセットの搬送効率の増大、半導体製造装置内部での移
載効率の向上を図ることができ、半導体製造装置の稼働
率の向上に寄与する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を示す縦断面概略図であ
る。
【図2】図1のA−A矢視図である。
【図3】図1のB−B矢視図である。
【図4】本実施の形態でのカセットローダの説明図であ
る。
【図5】従来例の縦断面概略図である。
【図6】図5のC−C矢視図である。
【図7】半導体製造装置内でのウェーハカセットの移載
に使用されるカセットローダの説明図である。
【図8】(A)(B)は該カセットローダによるウェー
ハカセットの移載作動を示す説明図である。
【図9】(A)(B)は該カセットローダによるウェー
ハカセットの移載作動を示す説明図である。
【図10】(A)(B)は該カセットローダによるウェ
ーハカセットの移載作動を示す説明図である。
【図11】(A)(B)は該カセットローダによるウェ
ーハカセットの移載作動を示す説明図である。
【図12】該カセットローダによるウェーハカセットの
移載作動を示す説明図である。
【図13】該カセットローダによるウェーハカセットの
移載作動を示す説明図である。
【符号の説明】
1 筐体 2 カセット授受ユニット 3 カセット移載機 4 カセット収納庫 5 バッファ収納庫 7 反応炉 9 ボートエレベータ 10 ウェーハ移載機 11 ウェーハカセット 12 予備カセット棚 13 カセットローダ 16 カセット移載プレート 17 カセット受け 20 チャックプレート 24 駆動部 30 カセット回転用空間
フロントページの続き (72)発明者 渡辺 誠治 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 カセットを収納する収納庫と該収納庫に
    対峙して設けられた予備カセット棚と、前記収納庫と予
    備カセット棚間を横行、昇降し、ウェーハカセットの移
    載を行うカセットローダを有するカセット移載機とを具
    備し、収納されたウェーハカセットに対する前記カセッ
    トローダの進退により、或は90°回転によりウェーハ
    カセットの授受を行う半導体製造装置に於いて、前記予
    備カセット棚が複数列、複数段設けられ、前記予備カセ
    ット棚の少なくとも1列の少なくとも1つの予備カセッ
    ト棚が横行可能であることを特徴とする半導体製造装
    置。
  2. 【請求項2】 前記カセットローダがウェーハカセット
    収納位置に対する進退により、又90°回転により、ウ
    ェーハカセットを収納する収納庫、予備カセット棚に対
    してカセットの授受を行う請求項1の半導体製造装置。
  3. 【請求項3】 前記予備カセット棚の横行によりカセッ
    トローダのウェーハカセット姿勢変更用の空間が形成さ
    れる請求項1の半導体製造装置。
  4. 【請求項4】 少なくとも予備カセット棚の上下間隔
    を、前記カセットローダがウェーハカセットを保持した
    状態で予備カセット棚間を相対移動可能とした請求項1
    の半導体製造装置。
  5. 【請求項5】 前記予備カセット棚の横行移動位置がカ
    セット移載機の駆動部の上方の空間である請求項1の半
    導体製造装置。
  6. 【請求項6】 カセットローダの昇降動、予備カセット
    棚に対する相対横行移動の協働により予備カセット棚に
    対するウェーハカセットの移載を行うことを特徴とする
    ウェーハカセット移載方法。
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