JPH1064265A - 半導体装置の出力回路 - Google Patents

半導体装置の出力回路

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JPH1064265A
JPH1064265A JP8223402A JP22340296A JPH1064265A JP H1064265 A JPH1064265 A JP H1064265A JP 8223402 A JP8223402 A JP 8223402A JP 22340296 A JP22340296 A JP 22340296A JP H1064265 A JPH1064265 A JP H1064265A
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Atsushi Fujiwara
藤原  淳
Toshiro Yamada
俊郎 山田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体装置において、異常動作を防ぎつつ、
低消費電力でかつ高速な出力回路を実現する。 【解決手段】 電源と出力端子7との間の電流経路にお
いて、PチャネルMOSトランジスタ1と直列にNチャ
ネルMOSトランジスタ2を接続し、これと並列にNチ
ャネルMOSトランジスタ10を接続する。データ出力
時、電位変換回路4により電源電圧よりも高く昇圧され
た電圧および電源電圧をNチャネルMOSトランジスタ
2および10のゲートにそれぞれ供給する。”H”デー
タ出力時、外部端子がVDD−Vthに達するまではNチャ
ネルMOSトランジスタ2、10がともに外部端子の電
位上昇に寄与するため、ゲートを電原電圧よりも高く昇
圧する必要があるNチャネルMOSトランジスタ2を小
さくすることができ、高速動作を維持しながら昇圧電源
の負荷を小さくすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の出力
回路に関するもので、特に入出力用の外部端子と接続さ
れる、DRAM等の半導体装置の出力回路に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】従来、DRAM等の半導体メモリーで用
いる出力回路の最終段としては、NMOS型のデータ出
力バッファを使用する場合と、CMOS型のデータ出力
バッファを使用する場合とがあった。
【0003】まず、従来のNMOS型データ出力バッフ
ァについて説明する。図3に従来のNMOS型データ出
力バッファの例を示す。DRAM等のNMOS型データ
出力バッファとしては電源VDD(例えば3.3V)とD
Q端子との間に接続されたNチャネルMOSトランジス
タ102と、DQ端子と接地VSS(0V)との間に接続
されたNチャネルMOSトランジスタ103とからなる
トライステート出力回路が通常用いられる。”H”デー
タ出力の場合にはNチャネルMOSトランジスタ102
がオンし、NチャネルMOSトランジスタ103がカッ
トオフする。”L”データ出力の場合にはNチャネルM
OSトランジスタ103がオンし、NチャネルMOSト
ランジスタ102がカットオフする。データを出力しな
い場合にはNチャネルMOSトランジスタ102もNチ
ャネルMOSトランジスタ103も共にカットオフし、
DQ端子に対してデータ出力バッファがハイインピーダ
ンス状態になる。
【0004】ところで、NMOS型データ出力バッファ
において、NチャネルMOSトランジスタ102のゲー
ト電極に接続された制御線の論理振幅がVDDであるとす
ると、外部端子に現れる電位はVDDよりも、Nチャネル
MOSトランジスタ102のしきい値電圧Vthだけ低
い、VDD−Vthになってしまう。そのため、出力バッフ
ァ回路内に電位変換回路104を設けて、NチャネルM
OSトランジスタ102のゲート電圧をVDD+Vth以上
の高電圧に昇圧することにより、出力データが”H”の
時、外部端子の電位がVDDになるようにしている。
【0005】次に、従来のCMOS型出力バッファにつ
いて説明する。図4に従来のCMOS型データ出力バッ
ファの例を示す。CMOS型データ出力バッファでは、
電源VDD(例えば3.3V)とDQ端子との間に接続さ
れたPチャネルMOSトランジスタ1と、DQ端子と接
地VSS(0V)との間に接続されたNチャネルMOSト
ランジスタ3とを有するトライステート出力回路が採用
される。”H”データ出力時にはPチャネルMOSトラ
ンジスタ1がオンし、NチャネルMOSトランジスタ3
がカットオフする。”L”データ出力時にはNチャネル
MOSトランジスタ3がオンし、PチャネルMOSトラ
ンジスタ1がカットオフする。非出力動作時には両出力
トランジスタがカットオフするように、PチャネルMO
Sトランジスタ1のゲート電極に”H”レベルの電圧、
すなわち電源電圧VDDが、NチャネルMOSトランジス
タ3のゲート電極に”L”レベルの電圧、すなわち0V
が各々供給される。データ非出力時には両出力トランジ
スタがいずれもカットオフする結果、DQ端子に対して
データ出力バッファがハイインピーダンス状態になる。
【0006】CMOS型データ出力バッファでは、”
H”データ出力時、PチャネルMOSトランジスタ1の
ゲート電圧を0Vにすれば、そのドレイン電圧がVDD
なる。したがってそのドレイン電極を直接DQ端子に接
続すれば、NMOS型データ出力バッファのような電位
変換回路を用いなくてもDQ端子の電位がVDDまで上が
るようになる。
【0007】しかし、そのようにPチャネルMOSトラ
ンジスタ1のドレイン電極を直接DQ端子に接続する
と、データ出力バッファがハイインピーダンス状態のと
き、すなわち、PチャネルMOSトランジスタ1のゲー
ト電極に”H”レベルの電位V DDが、NチャネルMOS
トランジスタ3のゲート電極に”L”レベルの電位0V
が供給されているとき、外部端子DQから電源電圧VDD
を上回る正の電圧が印加されると、種々の不具合が引き
起こされる。PチャネルMOSトランジスタ1はP型シ
リコン基板中のNウェル領域内に形成され、そのソース
およびドレインはNウェル領域内のP型拡散領域であ
る。したがって、高いドレイン電圧に起因してP型拡散
領域とN型ウェル領域との間のPN接合に順方向の大電
流が流れ、ラッチアップ等を引き起こすことになる。
【0008】そのため、PチャネルMOSトランジスタ
1とDQ端子との間にさらに出力制御トランジスタ2
(NチャネルMOSトランジスタ)を直列に設け、非出
力時、すなわちデータ出力バッファがハイインピーダン
ス状態のときには、出力制御トランジスタ2のゲート電
圧を0Vにし、データ出力時には、PチャネルMOSト
ランジスタ1とNチャネルMOSトランジスタ3のいず
れか一方がオンする直前に出力制御トランジスタ2のゲ
ート電圧をVDD+Vth以上に昇圧する方式が提案されて
いる(特開平5−36278号)。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
のNMOS型データ出力バッファでは、”H”データ出
力時、外部端子の電位をVDDにするため、電源側のNチ
ャネルMOSトランジスタのゲート電位を電位変換回路
を用いてVDD+Vth以上に昇圧する必要があり、そのた
めに要する時間がデータの出力を遅延させる。
【0010】また、このNチャネルMOSトランジスタ
のみによって”H”データを出力するため、これをある
程度大きなトランジスタとしなければならないが、この
大きなトランジスタのゲート電極を0VとVDD+Vth
上の電位との間で充放電させる必要があるため、消費電
流が大きくなる。特にオンチップの昇圧電源を用いる半
導体装置では、昇圧電源の供給しなければならない電流
が大きくなり、その結果、昇圧電源の占める面積の増
大、ひいてはチップ全体の面積の増大を招くことにもな
る。電源側のNチャネルMOSトランジスタの大きさを
小さくすれば消費電流の増大を抑えることができるが、
これは、出力データがハイインピーダンスから”H”
へ、あるいは”L”から”H”へ遷移する速度を低下さ
せることになる。
【0011】一方、電源側のPチャネルMOSトランジ
スタと外部端子との間にNチャネルの出力制御トランジ
スタを直列に接続したCMOS型データ出力バッファで
は、”H”データ出力時よりも前に出力制御トランジス
タのゲートが昇圧されるので、昇圧に要する時間による
データ出力の遅延はないが、ハイインピーダンス状態か
らデータ出力状態に変化する際には出力制御トランジス
タのゲートを昇圧しなければならないので、ハイインピ
ーダンス状態とデータ出力状態を交互に頻繁に繰り返す
ような動作、例えばDRAMのファーストページモード
のような動作では、NMOS型データ出力バッファの場
合と同様に、昇圧電源の供給すべき電流が増大するとい
う問題を生じる。
【0012】本発明の目的は、回路を構成する素子の異
常動作を防ぎつつ、データ出力の高速化、低消費電力化
を図った半導体装置の出力回路を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、本発明の半導体装置の出力回路は、電源と外部端子
との間の電流経路において、外部端子に第1のNチャネ
ルMOSトランジスタを接続し、第1のNチャネルMO
Sトランジスタと並列に第2のNチャネルMOSトラン
ジスタを接続し、電位変換回路を用いて、データ出力時
に第1のNチャネルMOSトランジスタのゲート電極に
電源電圧を上回る正の電圧を印加するとともに、第2の
NチャネルMOSトランジスタのゲートに電源電圧を印
加するようにしたものである。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明の
半導体装置の出力回路は、電源と外部端子との間の電流
経路中で並列に接続された第1のNチャネルMOSトラ
ンジスタおよび第2のNチャネルMOSトランジスタ
と、外部端子と接地との間の電流経路中に接続された第
3のNチャネルMOSトランジスタと、電源電圧に等し
い電圧を入力し、電源電圧よりも高く昇圧した電圧を出
力する電位変換回路とを備え、データ出力時に、電位変
換回路の出力を第1のNチャネルMOSトランジスタの
ゲートに供給し、電源電圧を第2のNチャネルMOSト
ランジスタのゲートに供給するようにしたものであ
り、”H”データ出力時、外部端子がVDD−Vthに達す
るまでは第1および第2のNチャネルMOSトランジス
タがともにオンした状態になり、外部端子の電位上昇に
寄与するため、ゲート電極を電源電圧を上回る正の電圧
へ昇圧する必要がある第1のNチャネルMOSトランジ
スタが小さくても高速にデータを”H”に遷移させるこ
とができる。その結果、電源電圧を上回る正の電圧に昇
圧すべき負荷容量が小さくなり、本発明の出力回路を搭
載した半導体装置の消費電力を小さくすることができ
る。
【0015】本発明の請求項2に記載の発明の半導体装
置の出力回路は、請求項1に記載の半導体装置の出力回
路において、電位変換回路が内部昇圧電源を用いて電源
電圧よりも高く昇圧した電圧を出力するようにしたもの
であり、昇圧電源の供給すべき電流が小さくて済み、昇
圧電源の占める面積、ひいてはチップ全体の面積を小さ
く抑えることができる。
【0016】本発明の請求項3に記載の発明の半導体装
置の出力回路は、電源と内部ノードとの間に接続された
PチャネルMOSトランジスタと、内部ノードと外部端
子との間に並列に接続された第1のNチャネルMOSト
ランジスタおよび第2のNチャネルMOSトランジスタ
と、外部端子と接地との間に接続された第3のNチャネ
ルMOSトランジスタと、電源電圧に等しい電圧を入力
し、電源電圧よりも高く昇圧した電圧を出力する電位変
換回路とを備え、データ出力時に、電位変換回路の出力
を第1のNチャネルMOSトランジスタのゲートに供給
し、電源電圧を第2のNチャネルMOSトランジスタの
ゲートに供給するようにしたものであり、”H”データ
出力時、外部端子がVDD−Vthに達するまでは第1およ
び第2のNチャネルMOSトランジスタがともにオンし
た状態になり、外部端子の電位上昇に寄与するため、ゲ
ート電極を電源電圧を上回る正の電圧へ昇圧する必要が
ある第1のNチャネルMOSトランジスタが小さくても
高速にデータを”H”に遷移させることができる。その
結果、電源電圧を上回る正の電圧に昇圧すべき負荷容量
が小さくなり、本発明の出力回路を搭載した半導体装置
の消費電力を小さくすることができる。
【0017】本発明の請求項4に記載の発明の半導体装
置の出力回路は、請求項3に記載の半導体装置の出力回
路において、データ非出力時には、第1のNチャネルM
OSトランジスタと第2のNチャネルMOSトランジス
タとがともにカットオフし、データ出力時には、Pチャ
ネルMOSトランジスタと第3のNチャネルMOSトラ
ンジスタとのうちのいずれか一方がオンする前に、第1
のNチャネルMOSトランジスタと第2のNチャネルM
OSトランジスタとがオンするようにしたものであり、
データ非出力時、外部端子から電源電圧を上回る正の電
圧が印加されても、PチャネルMOSトランジスタのド
レイン電極にこの電圧が印加されることはなく、ラッチ
アップ等の不具合を生じることがない。また、データ出
力時には、”H”レベル、”L”レベルに確定したデー
タが出力される前に、第1および第2のNチャネルMO
Sトランジスタがオンし、第1のNチャネルMOSトラ
ンジスタのゲート電極が電源電圧を上回る正の電圧に昇
圧されるので、昇圧に要する時間がデータの出力を遅延
させることはなく、高速な半導体装置の出力回路が実現
される。
【0018】本発明の請求項5に記載の発明の半導体装
置の出力回路は、請求項3または4に記載の半導体装置
の出力回路において、電位変換回路が内部昇圧電源を用
いて電源電圧よりも高く昇圧した電圧を出力するように
したものであり、昇圧電源の供給すべき電流が小さくて
済み、昇圧電源の占める面積、ひいてはチップ全体の面
積を小さく抑えることができる。
【0019】以下、本発明の実施の形態を図面を参照し
ながら説明する。 (第1の実施の形態)図1は、本発明の第1の実施の形
態における半導体装置の出力回路の構成を示す回路図で
ある。図1において、1はPチャネルMOSトランジス
タ、2は第1の出力制御NチャネルMOSトランジス
タ、10は第2の出力制御NチャネルMOSトランジス
タ、3はNチャネルMOSトランジスタ、4は電位変換
回路である。5は第1の入力端子で出力データ信号D
が、6は第2の入力端子で出力制御信号OEがそれぞれ
供給される。PチャネルMOSトランジスタ1は電源V
DDと内部ノードNDとの間に挿入され、第1および第2
の出力制御NチャネルMOSトランジスタ2、10は、
内部ノードNDと外部端子7との間に並列に挿入されて
いる。出力制御信号OEは電位変換回路4の入力端子と
第2の出力制御NチャネルMOSトランジスタ10のゲ
ート電極に供給され、電位変換回路4の出力V out が第
1の出力制御NチャネルMOSトランジスタ2のゲート
電極に供給される。
【0020】なお、本実施の形態では、電位変換回路4
は、外部から印加された電源VDDをもとに内部で発生さ
れた昇圧電源を用い、VDDレベルの入力信号を昇圧電源
のレベルの出力信号にレベル変換する回路であるが、電
位変換回路は他の構成であってもよい。例えば、昇圧コ
ンデンサと遅延回路を用いて信号レベルを昇圧するよう
な構成であってもよい。
【0021】図1に示した出力回路は、出力制御信号O
Eが”H”レベルであるときに、出力データDの論理レ
ベルに応じたデータ信号DQを外部端子7へ出力するも
のである。
【0022】まず、非出力動作時における図1の出力回
路の動作について説明する。非出力動作時には、出力制
御信号OEが”L”レベルになる。出力制御信号OE
が”L”レベルの時、PチャネルMOSトランジスタ1
のゲート電極に供給される信号Shは”H”に、Nチャ
ネルMOSトランジスタ3のゲート電極に供給される信
号Slは”L”になる。また、第1の出力制御Nチャネ
ルMOSトランジスタ2、および、第2の出力制御Nチ
ャネルMOSトランジスタ10のゲート電圧がともに”
L”レベルとなる。したがって、PチャネルMOSトラ
ンジスタ1、第1および第2の出力制御NチャネルMO
Sトランジスタ2、10、NチャネルMOSトランジス
タ3は、いずれもカットオフする。この結果、外部端子
7はハイインピーダンス状態となる。
【0023】この状態で、外部端子7に外部から電源電
圧VDDを上回る正の電圧VDQが印加されても、第1お
よび第2の出力制御NチャネルMOSトランジスタ2、
10はカットオフしたままであるので、電源電圧VDD
上回る正の電圧VDQが印加されるのは第1および第2
の出力制御NチャネルMOSトランジスタ2、10のド
レイン電極にとどまり、PチャネルMOSトランジスタ
1のドレイン電極にはこの電圧は印加されない。Nチャ
ネルMOSトランジスタのドレイン電極は、接地ないし
は負の電圧にバイアスされたP型基板ないしはP型ウェ
ル中のN型拡散領域で形成されるので、これに正の電圧
が印加されてもPN接合が順バイアスされることはな
く、ラッチアップ等の不具合を生じることはない。
【0024】また、この状態で、外部端子7に外部から
負の電圧−VDQが印加され、この印加電圧の絶対値V
DQが第1および第2の出力制御NチャネルMOSトラ
ンジスタ2、10のしきい値電圧Vthを上回った場合、
これらのNチャネルMOSトランジスタ2、10はオン
する。しかし、Pチャネルトランジスタ1はカットオフ
状態を保持するので、これらのNチャネルMOSトラン
ジスタ2、10に電源VDDからドレイン電流が供給され
ることはない。そのため、NチャネルMOSトランジス
タ2、10のターンオンに起因した基板電流は発生しな
い。したがって、DRAMのメモリセルデータの破壊等
の不具合を生じることもない。
【0025】次に、データ出力時の動作について説明す
る。データ出力時は出力制御信号OEが”H”レベルに
なる。出力制御信号OEが”L”から”H”に遷移する
と、直ちに第2の出力制御NチャネルMOSトランジス
タ10がオンする。同時に、電位変換回路4が動作し、
昇圧された出力制御信号Vout が第1の出力制御Nチャ
ネルMOSトランジスタ2のゲート電極に供給される。
それから、”H”レベルあるいは”L”レベルに確定し
たデータが出力される。出力データ信号Dが”H”レベ
ルになった場合には、信号ShおよびSlがともに”
L”レベルとなり、PチャネルMOSトランジスタ1が
オン、NチャネルMOSトランジスタ3がカットオフす
る。その結果、電源と外部端子の間に挿入されたPチャ
ネルMOSトランジスタ1と出力制御NチャネルMOS
トランジスタ2、10が全て導通し、外部端子から”
H”レベルのデータが出力される。出力データ信号D
が”L”レベルになった場合には、信号ShおよびSl
がともに”H”レベルとなり、PチャネルMOSトラン
ジスタ1がカットオフ、NチャネルMOSトランジスタ
3がオンする。その結果、接地と外部端子の間に挿入さ
れたNチャネルMOSトランジスタ3が導通し、外部端
子から”L”レベルのデータが出力される。データ出力
時には、”H”レベル、”L”レベルに確定したデータ
が出力される前に、第1および第2の出力制御Nチャネ
ルMOSトランジスタがオンし、第1の出力制御Nチャ
ネルMOSトランジスタのゲート電極が電源電圧を上回
る正の電圧に昇圧されるので、昇圧に要する時間がデー
タの出力を遅延させることはなく、高速な半導体装置の
出力回路が実現できる。
【0026】データ出力時、第1の出力制御Nチャネル
MOSトランジスタ2のゲート電極にはVDD+Vth以上
に昇圧された出力制御信号Vout が印加されているの
で、”H”データ出力の場合、NチャネルMOSトラン
ジスタのゲートしきい値電圧による電圧ロスがなく、外
部端子7は電源電圧VDDに等しい電位まで上昇する。外
部端子7の電位が接地ないしは中間レベルから電源電圧
DDへと上昇する際、外部端子7の電位がVDD−Vth
達するまでは、第1の出力制御NチャネルMOSトラン
ジスタ2のみでなく、第2の出力制御NチャネルMOS
トランジスタ10も導通状態になり、外部端子7の電位
の上昇に寄与する。したがって、第1の出力制御Nチャ
ネルMOSトランジスタ2としては、それ程大きなトラ
ンジスタを用いなくても、十分高速にデータを”H”に
遷移させることができる。本実施の形態では、ゲート電
極を電源電圧を上回る正の電圧へ昇圧する必要がある第
1の出力制御NチャネルMOSトランジスタ2が小さ
く、したがって、昇圧電源の負荷が小さく、供給すべき
電流が小さくて済むので、低消費電力の半導体装置が実
現できる。また、昇圧電源の占める面積、ひいてはチッ
プ全体の面積を小さく抑えることもできる。
【0027】(第2の実施の形態)図2は、本発明の第
2の実施の形態における半導体装置の出力回路の構成を
示す回路図である。図2において、2、10、3はいず
れもNチャネルMOSトランジスタ、4は電位変換回路
である。5は第1の入力端子で出力データ信号Dが、6
は第2の入力端子で出力制御信号OEがそれぞれ供給さ
れる。NチャネルMOSトランジスタ2、10は、電源
と外部端子7との間に並列に挿入されている。ANDゲ
ート8には出力制御信号OEと出力データ信号Dとが入
力され、その出力Shが電位変換回路4の入力端子とN
チャネルMOSトランジスタ10のゲート電極に供給さ
れ、電位変換回路4の出力Vout がNチャネルMOSト
ランジスタ1のゲート電極に供給される。
【0028】なお、本実施の形態では、電位変換回路4
は、外部から印加された電源VDDをもとに内部で発生さ
れた昇圧電源を用い、VDDレベルの入力信号を昇圧電源
のレベルの出力信号にレベル変換する回路であるが、電
位変換回路は他の構成であってもよい。例えば、昇圧コ
ンデンサと遅延回路を用いて信号レベルを昇圧するよう
な構成であってもよい。
【0029】図2に示した出力回路は、出力制御信号O
Eが”H”レベルであるときに、出力データDの論理レ
ベルに応じたデータ信号DQを外部端子7へ出力するも
のである。
【0030】まず、非出力動作時における図2の出力回
路の動作について説明する。非出力動作時には、出力制
御信号OEが”L”レベルになる。出力制御信号OE
が”L”レベルの時、NチャネルMOSトランジスタ1
0に供給される信号Sh、およびNチャネルMOSトラ
ンジスタ10に供給される電位変換回路4を経た信号V
out はともに”L”になり、また、第3のNチャネルM
OSトランジスタ3のゲート電極に供給される信号Sl
も”L”になる。したがって、NチャネルMOSトラン
ジスタ2、10、および3は、いずれもカットオフす
る。この結果、外部端子7はハイインピーダンス状態と
なる。
【0031】本実施の形態の出力回路では、最終段はN
チャネルMOSトランジスタのみで構成されており、外
部端子に印加された電圧がPチャネルトランジスタのド
レイン電極に印加されることがなく、電源電圧VDDを上
回る正の電圧VDQが印加されてもラッチアップ等の不
具合を生じることはない。
【0032】次に、データ出力時の動作について説明す
る。データ出力時は出力制御信号OEが”H”レベルに
なる。出力データ信号Dが”H”レベルになった場合に
は、信号Sh、Vout が”H”レベル、信号Slが”
L”レベルとなり、NチャネルMOSトランジスタ2、
10がオン、NチャネルMOSトランジスタ3がカット
オフする。その結果、外部端子から”H”レベルのデー
タが出力される。出力データ信号Dが”L”レベルにな
った場合には、信号Sh、Vout が”L”レベル、信号
Slが”H”レベルとなり、NチャネルMOSトランジ
スタ2、10がカットオフ、NチャネルMOSトランジ
スタ3がオンする。その結果、外部端子から”L”レベ
ルのデータが出力される。
【0033】”H”データ出力時、NチャネルMOSト
ランジスタ2のゲート電極にはVDD+Vth以上に昇圧さ
れた出力制御信号Vout が印加されているので、Nチャ
ネルMOSトランジスタのゲートしきい値電圧による電
圧ロスがなく、外部端子7は電源電圧VDDに等しい電位
まで上昇する。外部端子7の電位が接地ないしは中間レ
ベルから電源電圧VDDへと上昇する際、外部端子7の電
位がVDD−Vthに達するまでは、NチャネルMOSトラ
ンジスタ2のみでなく、NチャネルMOSトランジスタ
10も導通状態になり、外部端子7の電位の上昇に寄与
する。したがって、NチャネルMOSトランジスタ2が
それ程大きなトランジスタでなくても、十分高速にデー
タを”H”に遷移させることができる。本実施の形態で
は、ゲート電極を電源電圧を上回る正の電圧へ昇圧する
必要があるNチャネルMOSトランジスタ2が小さく、
したがって、昇圧電源の負荷が小さく、供給すべき電流
が小さくて済むので、低消費電力の半導体装置が実現で
きる。また、昇圧電源の占める面積、ひいてはチップ全
体の面積を小さく抑えることもできる。
【0034】
【発明の効果】以上のように、本発明に係る半導体装置
の出力回路によれば、データ非出力時、外部端子から電
源電圧を上回る正の電圧が印加されても、PチャネルM
OSトランジスタのドレイン電極にこの電圧が印加され
ることはなく、ラッチアップ等の不具合を生じることが
ない。さらに、データ出力時、第1のNチャネルMOS
トランジスタのゲート電極に電源電圧を上回る正の電圧
が印加され、第2のNチャネルMOSトランジスタのゲ
ート電極に電源電圧が印加されるが、”H”データ出力
時、外部端子がVDD−Vthに達するまでは、第1および
第2のNチャネルトランジスタがともにオンした状態に
なり外部端子の電位上昇に寄与するため、ゲート電極を
電源電圧を上回る正の電圧へ昇圧する必要がある第1の
NチャネルMOSトランジスタ2が小さくても高速にデ
ータを”H”に遷移させることができる。その結果、電
源電圧を上回る正の電圧に昇圧すべき負荷容量が小さく
なり、消費電力が小さくなる。したがって、回路を構成
する素子の異常動作を防ぎつつ、データ出力の高速化、
低消費電力化を実現することができる。
【0035】また、請求項4記載の発明のようにPチャ
ネルMOSトランジスタと第3のNチャネルMOSトラ
ンジスタとのうちのいずれか一方がオンする前に、第1
のNチャネルMOSトランジスタと第2のNチャネルM
OSトランジスタとがオンするようにすれば、データ出
力時には、”H”レベル、”L”レベルに確定したデー
タが出力される前に、第1および第2のNチャネルMO
Sトランジスタがオンし、第1のNチャネルMOSトラ
ンジスタのゲート電極が電源電圧を上回る正の電圧に昇
圧されるので、昇圧に要する時間がデータの出力を遅延
させることはなく、データ出力を高速化することができ
る。
【0036】さらに、請求項2または5記載の発明のよ
うに電位変換回路が内部昇圧電源を用いて電源電圧より
も高く昇圧した電圧を出力する場合には、昇圧電源の供
給すべき電流が小さくて済むので、昇圧電源の占める面
積、ひいてはチップ全体の面積を小さく抑えることがで
き、低コストの半導体装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置の
出力回路の構成を示す回路図
【図2】本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置の
出力回路の構成を示す回路図
【図3】従来の半導体装置のNMOS型出力回路の構成
を示す回路図
【図4】従来の半導体装置のCMOS型出力回路の構成
を示す回路図
【符号の説明】
1 PチャネルMOSトランジスタ 2 第1の出力制御NチャネルMOSトランジスタ 3 NチャネルMOSトランジスタ 4 電位変換回路 5 第1の入力端子 6 第2の入力端子 10 第2の出力制御NチャネルMOSトランジスタ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電源と外部端子との間の電流経路中で並
    列に接続された第1のNチャネルMOSトランジスタお
    よび第2のNチャネルMOSトランジスタと、前記外部
    端子と接地との間の電流経路中に接続された第3のNチ
    ャネルMOSトランジスタと、前記電源の電圧に等しい
    電圧を入力し、前記電源の電圧よりも高く昇圧した電圧
    を出力する電位変換回路とを備え、データ出力時に、前
    記電位変換回路の出力を前記第1のNチャネルMOSト
    ランジスタのゲートに供給し、前記電源の電圧を前記第
    2のNチャネルMOSトランジスタのゲートに供給する
    ことを特徴とする半導体装置の出力回路。
  2. 【請求項2】 前記電位変換回路が内部昇圧電源を用い
    て前記電源の電圧よりも高く昇圧した電圧を出力するこ
    とを特徴とする請求項1記載の半導体装置の出力回路。
  3. 【請求項3】 電源と内部ノードとの間に接続されたP
    チャネルMOSトランジスタと、前記内部ノードと外部
    端子との間に並列に接続された第1のNチャネルMOS
    トランジスタおよび第2のNチャネルMOSトランジス
    タと、前記外部端子と接地との間に接続された第3のN
    チャネルMOSトランジスタと、前記電源の電圧に等し
    い電圧を入力し、前記電源の電圧よりも高く昇圧した電
    圧を出力する電位変換回路とを備え、データ出力時に、
    前記電位変換回路の出力を前記第1のNチャネルMOS
    トランジスタのゲートに供給し、前記電源の電圧を前記
    第2のNチャネルMOSトランジスタのゲートに供給す
    ることを特徴とする半導体装置の出力回路。
  4. 【請求項4】 データ非出力時には、前記第1のNチャ
    ネルMOSトランジスタと前記第2のNチャネルMOS
    トランジスタとがともにカットオフし、データ出力時に
    は、前記PチャネルMOSトランジスタと前記第3のN
    チャネルMOSトランジスタとのうちのいずれか一方が
    オンする前に、前記第1のNチャネルMOSトランジス
    タと前記第2のNチャネルMOSトランジスタとがオン
    することを特徴とする請求項3記載の半導体装置の出力
    回路。
  5. 【請求項5】 前記電位変換回路が内部昇圧電源を用い
    て前記電源の電圧よりも高く昇圧した電圧を出力するこ
    とを特徴とする請求項3または4記載の半導体装置の出
    力回路。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002533971A (ja) * 1998-12-18 2002-10-08 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 過電圧保護i/oバッファ
JP2011188013A (ja) * 2010-03-04 2011-09-22 Toshiba Corp 出力バッファ

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