JPH1127114A - 高ヒステリシス幅入力回路 - Google Patents

高ヒステリシス幅入力回路

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JPH1127114A
JPH1127114A JP17862497A JP17862497A JPH1127114A JP H1127114 A JPH1127114 A JP H1127114A JP 17862497 A JP17862497 A JP 17862497A JP 17862497 A JP17862497 A JP 17862497A JP H1127114 A JPH1127114 A JP H1127114A
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Masami Hashimoto
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Abstract

(57)【要約】 【課題】インバータ回路のβ比の違いによるロジックレ
ベルの差を利用するヒステリシス回路は、低電圧になる
とヒステリシスの幅が極端に小さくなってしまう。 【解決手段】入力信号にのみ制御されるインバータ回路
と、前状態を記憶したラッチ回路の信号のみに制御され
るMOSFETを負荷とした回路を2組と、ラッチ回路
により、ロジックレベルの差を利用したヒステリシス回
路を構成した。 【効果】負荷となるMOSFETは入力信号に影響され
ないので、高い方のロジックレベルと低い方のロジック
レベルの設定の自由度が大きくなり、低電圧でもヒステ
リシスの幅を充分大きく確保できる効果がある。また設
計の自由度が高い為、無理のない形状と応答性が確保で
る効果がある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はMOSFETをもち
いた半導体集積回路装置において、入力信号のノイズに
よる誤動作や不安定さを除去するために入力回路の入力
信号が高電位から低電位へ、あるいは低電位から高電位
へ遷移する際にロジックレベルにヒステリシスを設けた
入力回路において、低電圧の電源の場合においてもヒス
テリシス幅を充分に大きく確保する回路の構成に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来のヒステリシスを有する入力回路
は、インバータ回路と等価な回路を構成し、入力信号に
必ず支配され、かつそのロジックレベルを決定する大き
な要因であるP型MOSFETのコンダクタンス定数β
とN型MOSFETのコンダクタンス定数βの比を
2種設け、該2種のβとβの比を前の状態によって
変える回路構成をとっていた。例えば図7は入力信号が
入力したインバータ回路を2個設け、その内の1個を前
の状態を記憶した信号によってオン(ON)、オフ(O
FF)することによりβとβの比を変えロジックレ
ベルを変化させることにより、前の状態によってロジッ
クレベルに差をつけていた。つまりヒステリシスを作り
出していた。また、図6は別の回路例であり、特開昭5
8−182914号公報に示されたものであるが、この
回路もβ比の差によるインバータ回路としてのロジック
レベルの差を利用してヒステリシスを作り出していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】さて、前述した従来の
ヒステリシスを有する入力回路は等価回路としてインバ
ータ回路であるが、インバータ回路のロジックレベルは
図5のように、P型MOSFETとN型MOSFETの
コンダクタンス定数をそれぞれβ、βとし、またス
レッショルド電圧をそれぞれVTP、VTNとする。ま
た電源電圧VDD、基準の接地電位0、ロジックレベル
をVGLとすると、このとき、 1/2・β(VDD−VGL−VTP=1/2・
β(VGL−VTNが成立ち、ロックレベルV
GLは VGL={VDD−VTP+(β/β1/2・V
TN}/{1+(β/β1/2} となる。したがって、P型MOSFETとN型MOSF
ETの形状を変えて、(β/β)を0から無限大ま
で変えればロジックレベルが変わるので、 VTN≦VGL≦VDD−VTP の範囲に限定され、高い方のロジックレベルVIH
(β/β)が0のときで VIH=VDD−VTP となり、また低い方のロジックレベルVILは(β
β)が無限大のときで VIL=VTN である。したがってヒステリシス幅VWHLは VWHL=VDD−VTP−VTN となる。ただし、(β/β)を0や無限大にするこ
とは実態として不可であるため、実際にはこれより更に
ヒステリシス幅は小さくなる。したがって電源電圧V
DDが低い電圧、例えば1.5V程度になるとVTP
TNは0.5Vから0.7V程度であるのでヒステリ
シス幅は非常に小さくなり、当初の目的を果たさなくな
る。なお、この様子を示したのが図4である。したがっ
て従来のヒステリシスを有する入力回路は低電圧ではヒ
ステリシス幅が大きくとれないという問題点があった。
【0004】また、(β/β)を変えるためにP型
MOSFETとN型MOSFETの形状を不自然な程、
変える必要があるため大きなチップ面積を占有したり、
駆動能力を小さくして応答性が低下したりする問題点が
あった。
【0005】そこで本発明はこのような問題点を解決す
るもので、その目的とするところは低電圧においても比
較的に大きなヒステリシス幅を有する入力回路を提供す
ることである。
【0006】また、比較的に大きなヒステリシス幅を有
する入力回路を妥当なチップ面積で具現化できる回路を
提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の高ヒステリシス
幅入力回路は、入力信号によって制御される第1のイン
バータ回路と前の状態を記憶したラッチ回路によって制
御されるP型MOSFETとによって低い方のロジック
レベルを持つ第1の入力回路と、入力信号によって制御
される第2のインバータ回路と前の状態を記憶したラッ
チ回路によって制御されるN型MOSFETとによって
高い方のロジックレベルを持つ第2の入力回路と、前の
状態を記憶しているラッチ回路からなることを特徴とす
る。
【0008】
【作用】本発明の上記の構成によれば、ロジックレベル
は入力信号によってのみ制御されるインバータ回路の
(β/β)比だけではなく前の状態を記憶したラッ
チ回路の信号によってのみ制御されるMOSFETとの
総合効果によって決定されので前述したインバータ回路
のロジックレベルの制限が解除されることとなり、ロジ
ックレベルの設定の自由度の範囲が増す。またP型MO
SFETを付加した第1の入力回路とN型MOSFET
を付加した第2の入力回路を設けることにより、(β
/β)の設定の自由度が増し、設計が容易になると同
時にヒステリシス幅を大きく出来る。またラッチ回路を
設けたことにより、ヒステリシスを持たせられると同時
に過渡状態による不安定さが少なくなる。また(β
β)を無理に極端な値に設定しなくともロジックレベ
ルの値の設定が容易であるので、極端なMOSFETの
形状が不要となり、妥当なチップ面積の回路が実現す
る。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明の詳細
を示す。図1は本発明の高ヒステリシス幅入力回路の第
1の実施例を示す回路図である。図1において11はP
型MOSFETであり、ソース電極は正極の電源+V
DDに接続されている。12はN型MOSFETであ
り、ソース電極は負極の電源−VSSに接続されてい
る。P型MOSFET11とN型MOSFET12のそ
れぞれのゲート電極は互いに接続され、またそれぞれの
ドレイン電極も互いに接続されインバータ回路13を構
成している。
【0010】また15はP型MOSFETであり、ソー
ス電極は正極の電源+VDDに接続されている。16は
N型MOSFETであり、ソース電極は負極の電源−V
SSに接続されている。P型MOSFET15とN型M
OSFET16のそれぞれのゲート電極は互いに接続さ
れ、またそれぞれのドレイン電極も互いに接続されイン
バータ回路17を構成している。21、22はNAND
回路(非論理積回路)である。
【0011】NAND回路21の出力はNAND回路2
2の第2ゲートに入力し、NAND回路22の出力はN
AND回路21の第2ゲートに入力している。また、イ
ンバータ回路13の出力はNAND回路21の第1ゲー
トに入力している。23はインバータ回路である。イン
バータ回路17の出力はインバータ回路23のゲートに
入力し、インバータ回路23の出力はNAND回路22
の第1ゲートに入力している。NAND回路21、22
およびインバータ回路23によって図の破線20に囲ま
れたラッチ回路を構成している。ラッチ回路の出力端子
19はNAND回路21の出力に接続されている。14
はP型MOSFETであり、ソース電極は正極の電源+
DDに接続され、ドレイン電極はインバータ回路13
の出力に接続され、ゲート電極はNAND回路21の出
力に接続されている。18はN型MOSFETであり、
ソース電極は負極の電源−VSSに接続され、ドレイン
電極はインバータ回路17の出力に接続され、ゲート電
極はNAND回路21の出力に接続されている。インバ
ータ回路13とインバータ回路17のそれぞれの入力は
互いに接続され、入力回路としての入力信号端子10と
なっている。
【0012】さて、入力信号端子10が初め低電位であ
るとする。このときラッチ回路20の出力19は低電位
であり、P型MOSFET14はオン(ON)、N型M
OSFET18はオフ(OFF)している。つぎに入力
信号10の電位が除々に高くなっていくと、まずインバ
ータ回路17の出力が高電位から低電位に変わるがNA
ND回路21の出力は低電位であるのでラッチ回路20
としての出力は変化しない。そして更に入力信号10の
電位が高くなって行き、N型MOSFET12の駆動能
力がP型MOSFET11とP型MOSFET14の駆
動能力の合計を上回ったとき、インバータ回路13の出
力は高電位から低電位に変わり、ラッチ回路20の出力
19は低電位から高電位に変わり、P型MOSFET1
4がオフし、またN型MOSFET18がオンする。こ
の結果、インバータ回路13とP型MOSFET14か
ら決まるロジックレベルは変化するとともに、インバー
タ回路17とN型MOSFET18から決まるロジック
レベルも変化する。さて、つぎに入力信号10の電位が
高電位から低電位になっていくと、N型MOSFET1
8がオンしているため、まずインバータ回路13の出力
が低電位から高電位に変わるがNAND回路22の出力
は低電位であるのでラッチ回路20としての出力は変化
しない。そして更に入力信号10の電位が低くくなって
行き、P型MOSFET15の駆動能力がN型MOSF
ET16とN型MOSFET18の駆動能力の合計を上
回ったとき、インバータ回路17の出力は低電位から高
電位に変わり、ラッチ回路20の出力19は高電位から
低電位に変わり、P型MOSFET14がオンし、また
N型MOSFET18がオフする。この結果、インバー
タ回路13とP型MOSFET14から決まるロジック
レベルは再度変化するとともに、インバータ回路17と
N型MOSFET18から決まるロジックレベルも再び
変化する。このP型MOSFET14とN型MOSFE
T18のオン、オフによる相違分がヒステリシスを生じ
る要因である。
【0013】さて、P型MOSFET11、14とN型
MOSFET12のそれぞれのコンダクタンス定数をβ
P1、βP2、βとし、またそれぞれのスレッショル
ド電圧をVTP、VTP、VTNとし、P型MOSFE
T14がオンしているときの、P型MOSFET14と
インバータ回路13によるロジックレベルVGLは 1/2・βP1(VDD−VGL−VTP+1/2
・βP2(VDD−VTP=1/2・β(VGL
−VTN が成立ち、ロックレベルVGL(VIH)は分かりやす
さの観点からまず、VDDが低電圧、βP1≪βP2
の仮定を入れると VIH≒VTN+(βP2/β1/2・(VDD
TP) となる。ここで(βP2/β)の値を0から無限大ま
で変化させると VTN≦VIN≦∞ の電源電位を越えての範囲まで設定できることが解る。
また、このとき仮に (βP2/β1/2=(VDD−VTN)/(V
DD−VTP) に設定すると VIH≒VDD となり、前述したインバータ回路のVIHの上限が(V
DD−VTP)までしかないのに比較して広がったこと
が解る。また (βP2/β1/2=(VDD−VTN)/(V
DD−VTP) の設定も容易にできるものであり、レイアウトパターン
の設計においても自然なものであるので、チップ面積の
増大や応答性の低下などの問題を引き起こさないことも
解る。
【0014】さて、N型MOSFET16、18とP型
MOSFET15のそれぞれのコンダクタンス定数をβ
N1、βN2、βとし、またそれぞれのスレッショル
ド電圧をVTN、VTN、VTPとし、N型MOSFE
T18がオンしているときの、N型MOSFET18と
インバータ回路17によるロジックレベルVGLは 1/2・βN1(VGL−VTN+1/2・βN2
(VDD−VTN=1/2・β(VDD−VGL
−VTP が成立ち、ロックレベルVGL(VIL)は分かりやす
さの観点からまず、V が低電圧、βN1≪βN2
の仮定を入れると VIL≒VDD−VTP−(βN2/β1/2
(VDD−VTN) となる。ここで(βP2/β)の値を0から無限大ま
で変化させると −∞≦VIL≦VDD−VTP の電源電位を越えての範囲まで設定できることが解る。
また、このとき仮に (βN2/β1/2=(VDD−VTP)/(V
DD−VIN) に設定すると VIL≒0 となり、前述したインバータ回路のVIHの下限がV
TNまでしかないのに比較して広がったことが解る。ま
た (βN2/β1/2=(VDD−VTP)/(V
DD−VTN) の設定も容易にできるものであり、レイアウトパターン
の設計においても自然なものであるので、チップ面積の
増大や応答性の低下などの問題を引き起こさないことも
解る。
【0015】以上のVIH,VILをラッチ回路によっ
て使いわければ −∞≦VGL≦+∞ まで原理的には設定可能である。そこまで範囲を広げな
くとも前述した自然な条件設定によって 0≦VGL≦+VDD が容易に可能となる。これは従来のインバータ回路の切
り替えによる VTN≦VGL≦VDD−VTP に比較すると範囲が大きく広がり、ヒステリシス幅が大
きくとれることが解る。またこの効果は低電圧の際に大
きい。なお、以上の様子を図示したのが図3である。
【0016】さて、図1のラッチ回路は単なる一例であ
り、別のラッチ回路の例を図2に示す。
【0017】また、図1の実施例のとき解り易さのため
に βP1≪βP2やβN1≪βN2 の仮定を設けたが、これらの仮定は必ずしも必要はな
い。
【0018】
【発明の効果】以上、述べたように本発明によれば、低
電圧においてもヒステリシス幅の大きなヒステリシス入
力回路が提供できるという効果がある。
【0019】したがって、低電圧においてもノイズに強
いヒステリシス入力回路が提供できるという効果があ
る。
【0020】また、P型MOSFETを付加した第1の
入力回路とN型MOSFETを付加した第2の入力回路
を設けることにより、VIH、VILの設定が設計上、
容易であり、かつ製造上の変動も安定するという効果が
ある。
【0021】また、P型MOSFETを付加した第1の
入力回路とN型MOSFETを付加した第2の入力回路
とラッチ回路を設けることにより、過渡状態においても
不安定さの少ないヒステリシス回路を提供できるという
効果がある。
【0022】また、P型MOSFETとN型MOSFE
Tの形状比に無理がないので妥当なチップ面積と応答性
で具現化できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示す回路図である。
【図2】本発明の中に用いるラッチ回路の第2の実施例
を示す回路図である。
【図3】本発明の回路のヒステリシスを持つ様子を図示
した電気特性図である。
【図4】従来の回路のヒステリシスを持つ様子を図示し
た電気特性図である。
【図5】本発明の回路および従来回路において用いるイ
ンバータ回路の構成を示す回路図である。
【図6】従来回路の例を示す回路図である。
【図7】従来回路の例を示す回路図である。
【符号の説明】
10・・・入力信号端子 11、14、15・・・P型MOSFET 12、16、18・・・N型MOSFET 13、17、23・・・インバータ回路 19・・・出力端子 20・・・ラッチ回路 21、22・・・NAND回路

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】a)絶縁ゲート電界効果型トランジスタ
    (以下MOSFETと略す)を用いた半導体集積回路装
    置のヒステリシス入力回路において、 b)ソース電極が正極の電源+VDDに接続された第1
    のP型MOSFETとソース電極が負極の電源−VSS
    に接続された第1のN型MOSFETとからなり、かつ
    前記第1のP型MOSFETと第1のN型MOSFET
    のそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞ
    れのドレイン電極も互いに接続された構成による第1の
    インバータ回路と、 c)ソース電極が正極の電源+VDDに接続された第2
    のP型MOSFETとソース電極が負極の電源−VSS
    に接続された第2のN型MOSFETとからなり、かつ
    前記第2のP型MOSFETと第2のN型MOSFET
    のそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞ
    れのドレイン電極も互いに接続された構成による第2の
    インバータ回路と、 d)ソース電極が正極の電源+VDDに接続され、ドレ
    イン電極は前記第1のインバータ回路のなかの第1のP
    型MOSFETのドレイン電極に接続された第3のP型
    MOSFETと、 e)ソース電極が負極の電源−VSSに接続され、ドレ
    イン電極は前記第2のインバータ回路のなかの第2のN
    型MOSFETのドレイン電極に接続された第3のN型
    MOSFETと、 f)前記第1のインバータ回路と第2のインバータ回路
    の出力信号を入力し、前記第1、第2のインバータ回路
    の入力信号が高電位から低電位へ、あるいは低電位から
    高電位へ遷移する際に第1、第2のインバータ回路の出
    力がともに変化するまで前の状態を記憶しておくラッチ
    回路からなり、 g)前記ラッチ回路の出力信号は前記第3のP型MOS
    FETのゲート電極と、前記第3のN型MOSFETの
    ゲート電極とに接続され、かつヒステリシス入力回路と
    しての出力端子となり、 h)前記第1のインバータ回路と第2のインバータ回路
    のそれぞれの入力端子は互いに接続され、かつヒステリ
    シス入力回路の入力端子となっていることを特徴とする
    高ヒステリシス幅入力回路。
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