JPH1062739A - 可逆表示媒体 - Google Patents

可逆表示媒体

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JPH1062739A
JPH1062739A JP21989296A JP21989296A JPH1062739A JP H1062739 A JPH1062739 A JP H1062739A JP 21989296 A JP21989296 A JP 21989296A JP 21989296 A JP21989296 A JP 21989296A JP H1062739 A JPH1062739 A JP H1062739A
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JP
Japan
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liquid crystal
polymer liquid
display medium
light scattering
reversible
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JP21989296A
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English (en)
Inventor
Hidehiko Soyama
秀彦 曽山
Takashi Uematsu
高志 植松
Masanobu Ninomiya
正伸 二宮
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱の印加により白濁/透明表示を行うフレキ
シブルな熱可逆表示媒体において、高い光散乱性と高い
強度を有する可逆性記録表示媒体を提供する。 【解決手段】 樹脂中に、粒子状高分子液晶材料を分散
した光散乱層を基材上に形成した可逆表示媒体であっ
て、光散乱層の透過率を熱の印加により可逆的に変化さ
せ、記録/消去を行う。高分子液晶材料は液晶性モノマ
ーと、非液晶性モノマーとの共重合体が好ましく、高分
子液晶材料の粒子径は、0.1μm以上、2μm以下で
あることが望ましい。可逆表示媒体に分散した高分子液
晶材料の等方相ガラス状態と液晶相ガラス状態とを用い
て記録/消去を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は少なくとも熱の印加
により可逆的に記録/消去可能な可逆表示媒体に関し、
さらに詳しくは熱の印加により白濁/透明表示を行うフ
レキシブルな可逆表示媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、光散乱性により画像の記録と消去
が可逆的に行える可逆記録表示媒体が注目されている。
なかでもサーマルヘッド等による熱を用いて簡単に白濁
/透明表示可能な可逆表示媒体が多数報告されている。
このような白濁/透明型記録表示材料としては、2種
類の高分子をブレンドし温度による相溶/非相溶により
表示を行う素子(特開昭60−180887)、樹脂
母材中に有機低分子化合物の微結晶を分散し結晶サイズ
の変化により表示を行う素子(特開昭54−11937
7)、高分子液晶化合物の液晶ポリドメイン構造と等
方相ガラス状態を用いて表示を行う素子等が知られてい
る。は、2つのポリマー界面での屈折率差により散乱
状態を形成する、は、有機低分子の結晶サイズと微結
晶化したときの空隙の存在で光散乱状態を形成する、
は、液晶基に基づく大きな複屈折率と液晶ポリドメイン
構造により光散乱状態を形成することが知られている。
【0003】一方、熱以外の駆動力で光散乱を制御する
素子としては、バインダーポリマーの中に低分子液晶
が分散された構造をもち、低分子液晶の大きな複屈折と
バインダーポリマーとの屈折率差の組合せにより光散乱
状態を形成し、電場により光散乱を制御するポリマー分
散液晶が知られている。またと類似の構成としてバ
インダーポリマー中に高分子液晶を分散させ、熱と電場
により光散乱を制御する素子(特開平3−28498
8)が開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】は、2種類の高分子
を共通溶剤に溶かし、塗布・乾燥させることにより溶媒
相分離させて作製される。この方法は、溶媒相分離法を
用いて作製し、溶融相分離の原理を用いて表示を行うた
め材料選択に限りがあり、任意に大きな屈折率差をもつ
2つの材料を組み合せることはできない為、光散乱性能
(白濁性)はあまり大きくできなかった。またも有機
低分子物質と樹脂母材を共通溶剤に溶かし、溶媒相分離
法を用いて作製されるために分散する結晶の粒子径・粒
子径分布等を制御することは難しく、十分な光散乱性能
(白濁性)を得ることは容易でない。は、大きな複屈
折率と液晶ポリドメイン構造により光散乱を行うため、
よりも高い光散乱性能(白濁性)が得られるが、表
示素子としてはさらに高い光散乱性能(白濁性)が要求
される。
【0005】のポリマー分散高分子液晶(特開平3−
284988)は、重合相分離法で作製されるため、
と同様に分散する液晶の分散形状・粒子径・粒子径分布
等を制御することは難しく、十分な光散乱性能(白濁
性)を得ることは容易でない。また、は電界駆動を
基本としているため、電極が素子中に必要であり、デバ
イス構成が複雑になる。高い光散乱性能(白濁性)を達
成するためには可視光程度のドメイン径が必要となる
が、このドメイン径では低電界駆動は困難であり、低電
圧で駆動しようとすると、液晶の分散粒径を大きくせざ
るをえず、液晶/バインダーポリマー界面が減少するた
め光散乱性能(白濁性)が低下し、また解像度も低下す
るという問題がある。さらには液体である低分子液晶
を用いるため、電極間のギャップを一定に保てずフレキ
シブルな素子への応用は難しいという問題がある。は
熱と電場を同時に印加する必要があり、素子全体を加熱
し電場でアドレスするか、あるいは素子全体に電場を印
加した状態でレーザー等でアドレスするしかなく記録手
段が大がかりになるという問題点があった。
【0006】本発明は上記問題に鑑みてなされものであ
り、高い光散乱性を有し、記録方法の簡単なシート状の
可逆性表示記録媒体を得ることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、「樹脂中に粒
子状の高分子液晶材料を分散した光散乱層を基材上に形
成した可逆表示媒体であって、該光散乱層の透過率を熱
の印可により可逆的に変化させ、可逆記録/消去可能に
構成されていることを特徴とする可逆表示媒体」であ
り、熱だけの印可により記録/表示を行う場合、高分子
液晶材料の等方相ガラス状態(透明状態)と液晶相ガラ
ス状態(白濁状態)とを利用して記録/表示を行うこと
ができる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の好ましい一実施の形態を図1に示す。図
1(a)に示す実施の形態は、支持基板1上に光散乱層
2及び表面保護層3が順次積層された構成からなる。ま
た、図1(b)に示す実施の形態は、支持基板1と光散
乱層2との間に光反射層4が設けられており、図1
(c)に示す実施の形態は、支持基板1と光散乱層2と
の間に光吸収層5が設けられている。さらに図1(d)
に示す実施の形態では、支持基板1と光散乱層2との間
に光吸収層5及び空気層6が設けられており、光吸収層
5と空気層6からなる光反射層を組み合せた積層構成と
することによって、表示特性が向上することから、好ま
しく用いられる。
【0009】まず、本発明における光散乱層を形成す
る、樹脂中に分散される“高分子液晶材料”について述
べ、次に高分子液晶が分散される“バインダー樹脂材料
“について述べる。高分子液晶には主鎖または側鎖にメ
ソゲン(液晶性を示す分子)を結合した主鎖型および側
鎖型高分子液晶等が知られているが、本発明では特に側
鎖型高分子液晶が好ましく使用される。また、高分子側
鎖に液晶性側鎖と非液晶性側鎖とを有する共重合体も好
ましく使用される。このような高分子液晶は特開平4−
218024、特開平6−18866に開示されてお
り、記録像コントラストの大幅な向上と感熱特性の最適
化が可能となる。
【0010】次に高分子液晶の作製方法について記述す
る。通常、側鎖型高分子液晶は重合可能なメソゲン化合
物(以下メソゲンモノマーと称する)の重合、あるいは
水素化ポリシリコーンなどの反応性ポリマーに付加反応
可能なメソゲン化合物を付加することにより製造でき
る。このような技術はMakromol.Chem.,
p273−179(1978)、Eur−Polym.
J.18,p651(1982)、Mol.Crys
t.Liq.Cryst.169,p167(198
9)等に開示されている。
【0011】本発明の高分子液晶も同様な方法で製造す
ることができる。上記したメソゲンモノマーや付加反応
可能なメソゲン化合物とは、ビフェニル系、フェニルベ
ンゾエート系、シクロヘキシルベンゼン系、アゾキシベ
ンゼン系、アゾベンゼン系、アゾメチン系、フェニルピ
リミジン系、ジフェニルアセチレン系、p−フェニル
(フェニルベンゾエート)系、シクロヘキシルビフェニ
ル系、ターフェニル系などの剛直な分子(メソゲン)
に、所定の長さのアルキルスペーサーを介して、アクリ
ル酸エステル、メタクリル酸エステル基やビニル基が結
合した種々化合物等が代表的なものである。
【0012】これらの化合物の代表的な構造例を下記に
示す。 CH2 =C(Ra)−COO−(CH2 n −Z−A CH2 =CH−(CH2 n −Z−A (式中、Raは水素またはメチル基を示し、nは1〜3
0の中から選ばれる整数を示し、AはメソゲンAを表
す。Zは単結合、−O−、−COO−、−OCO−、−
CH=N−、−N=CH−から選択される基を示す。) メソゲンAとしては、例えば、下記の(a)〜(k)の
化合物が挙げられる。
【0013】
【化1】
【0014】(式中、X及びYは、それぞれ単結合、−
N=N−、−N(→O)=N−、−CH=N−、−N=
CH−、−COO−、−OOC−、チエニレン基から選
択される基を表し、R1 はアルコキシ基、ハロゲン基、
シアノ基、カルボキシ基、アルキル基から選択される基
を表し、pは1〜5の中から選択される整数を示し、p
が2以上の場合、それぞれのR1 は、異なるものであっ
てもよい。)
【0015】また、メソゲンモノマーとメソゲン化合物
と、好ましく共重合あるいは共付加させるされる種々非
メソゲンモノマーや化合物としては、(メタ)アクリル
酸アルキルおよびその誘導体、スチレンおよびその誘導
体、酢酸ビニル、(メタ)アクリロニトリル、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、ビニルピロリドン、1−ヘキセ
ン、1−オクテンなどや、架橋のための反応性基を持つ
化合物である(メタ)アクリル酸、ω−カルボキシ−ポ
リカプロラクトン−モノ(メタ)アクリレート、スルホ
ン酸ビニル、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メ
タ)アクリロキシエチルアシッドフォスフェート、2−
ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、2−(メタ)アクリロキシエチルサクシネート、
フタル酸モノ(メタ)アクリレート、2−(メタ)アク
リロキシエチル(2−ヒドロキシエチル)フタレート、
4−(メタ)アクリロキシアルキルオキシ−ベンゾイッ
クアシッド、グリセリル(メタ)アクリレート、ヒドロ
キシ基置換スチレン、メタ(アクリル)アミド、N,N
−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N
−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、グリシ
ジル(メタ)アクリレート、2−プロペン−1−オー
ル、5−ヘキセン−1−オール等が挙げられる。ここで
例示したものは一例であって、特に限定するものではな
い。
【0016】上記した化合物の高分子液晶中への共重合
または共付加量は単量体単位として0.1モル%〜70
モル%の範囲が好ましく、さらに好ましくは0.5モル
%〜50モル%の範囲である。非液晶性化合物の共重合
または共付加量がこれよりも少ない場合、狙った共重合
または共付加効果が現れにくく、逆にこれよりも多い場
合、共重合体または共付加体で液晶相が消滅してしま
う。また上記非メソゲンモノマーは2種類以上を同時に
用いても構わない。
【0017】本発明の高分子液晶は上記したモノマーや
反応性化合物を用いて、ラジカル重合やイオン重合ある
いは反応性ポリマーに付加させることで、単独重合や単
独付加、あるいは共重合して合成することができる。高
分子液晶の分子量は、重量平均で5000〜100万の
範囲、特に好ましくは1万〜50万の範囲である。また
共重合する場合の形態はランダム、ブロック、グラフ
ト、交互など種々の形態をとることが可能である。
【0018】本発明で用いる高分子液晶には、耐侯性の
向上を目的としてヒンダードアミンやヒンダードフエノ
ール等の各種酸化防止剤を添加してもよい。また構造的
に、より強固にするために各種フィラーを添加してもよ
い。以上に列挙した種々成分の添加量は組成物中に0.
01〜5重量%の範囲が好ましい。以上に記述した他に
も熱と磁場を用いて記録を行う場合、高分子液晶の応答
性向上を目的に低分子液晶化合物を1〜20重量%の範
囲内で高分子液晶に添加しても構わない。
【0019】次に、高分子液晶材料の粒子化方法につい
て述べる。粒子化方法としては、粉砕法や乳化法があ
る。粉砕法では、予め作製した固体の高分子液晶材料
を、アトマイザーや遊星ミルやマイクロナイザー、ジェ
ットミルを用いて粉砕する乾式粉砕法と、コロイドミル
を用いて粉砕する湿式粉砕法がある。分散径を数μm程
度以下にしたい場合は粉砕法を使用することができる。
乳化法では、予め作製した固体の高分子液晶材料を加熱
溶融させ、これを高分子液晶材料に対しての貧溶媒中に
滴下・撹拌することで粒子を形成する方法、あるいは溶
媒に溶解させ、これを高分子液晶材料に対しての貧溶媒
中に滴下・撹拌することで粒子を形成する方法がある。
このとき必要に応じて貧溶媒中に乳化剤を加え、高分子
液晶材料の分散性を向上させることもできる。その後、
溶媒を除去・乾燥して粒子化された高分子液晶を得るこ
とができる。
【0020】また粒子生成重合法(乳化重合法、懸濁重
合法、シード乳化重合法、ディスパージョン重合法)に
より高分子液晶粒子を溶媒を使用せずに作製することも
できる。このとき架橋性基を有する多官能モノマーを添
加することにより架橋された高分子液晶粒子を生成する
こともできる。乳化法では、数百nm程度の細かな粒子
の作成が可能となる。また、粉砕法と比較して単分散に
近い粒径分布を持つ粒子の作成が可能である。本発明の
光散乱層を白濁/透明型の表示素子として利用する場
合、粒子径はその分布数の極大において、その直径で
0.1〜2.0μmの範囲にある場合、最も強く光を散
乱することから好ましい。さらに好ましい粒子径は直径
で0.3〜1.0μmの範囲にある場合である。
【0021】次に粒子状高分子液晶が分散される“バイ
ンダー樹脂“について説明する。バインダー樹脂として
はポリビニルアルコール、ポリアクリレート、ポリメタ
クリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミ
ド、ポリメチルアクリレート、ポリエチルアクリレー
ト、ポリメチルアクリレート、ポリエチルアクリレー
ト、ポリオレフィン等の熱可塑性樹脂を用いることがで
きる。また、バインダー樹脂は目的によって種々選択す
ることもできる。例えば、高分子液晶との屈折率差を大
きくとる目的では、低い屈折率のバインダー樹脂の使用
が好ましい。具体的にはポリフッ化ビニリデン、ポリテ
トラフルオロエチレン、ポリトリフルオロエチルメタク
リレート、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリビニル
イソプロピルエーテル等のような熱可塑性低屈折率バイ
ンダー樹脂が好ましく使用される。
【0022】また耐久性の向上を目的としては、ガラス
転移温度の高い紫外線硬化性樹脂や電子線硬化樹脂や熱
硬化樹脂を選択することもできる。具体的にはエポキシ
アクリレート(ビスフェノールA型,ノボラック型のア
クリレート)、ウレタンアクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリエステルアクリレート等の樹脂の使用が可能で
ある。
【0023】高分子液晶分散組成物における高分子液晶
粒子の好ましい含有量はその分散粒子径により最適値が
異なってくるが、20重量%から90重量%の範囲、さ
らに好ましくは40重量%から80重量%の範囲であ
る。この範囲よりも少ないと、目的とする光学特性、例
えば、光散乱性が得られず、一方多い場合はバインダー
の結着効果が低減してしまい、素子の力学強度を低減さ
せるおそれがある。
【0024】熱可逆表示媒体の支持基板としては、ポリ
エステル、アセテート、ポリカーボネート、ポリスルホ
ン、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリ塩化ビニル等のプラスチックフィルムが
使用され、その厚みは10〜1000μmの範囲から選
択され、より好ましくは25〜200μmの範囲であ
る。また、表示モードに応じて上記材料のプラスチック
フィルムを着色したり、アルミ等の反射層や着色層を形
成することも可能である。反射層や着色層の好ましい厚
みは10nm〜100μmの範囲である。
【0025】次に、表面保護層について述べる。表面保
護層に求められる特性は、耐磨耗性、耐熱性、耐圧性、
表面摩擦性及び表面潤滑性である。それらを満たす材料
の一つとしては、紫外線硬化樹脂、及び電子線硬化樹脂
などの熱硬化性樹脂が挙げられる。紫外線硬化樹脂、及
び電子線硬化樹脂は多官能モノマーや多官能オリゴマー
の重合反応により膜を形成するため、機械的強度の強い
強靭な表面保護層となる。このような樹脂の具体的な材
料としては、ポリエステルアクリレート、ポリエステル
メタクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリスチ
ルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ウレ
タンアクリレート、エポキシアクリレート(特にビスフ
ェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS
型の骨格をそれぞれもつエポキシアクリレートやフェノ
ールノボラック型エポキシアクリレート)、ポリカーボ
ネート、ポリブタジエンアクリレート、シリコーンアク
リレート、メラミンアクリレート、等の多官能オリゴマ
ーで官能基数が1〜10のものが好ましく使用される。
また、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシ
ルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、1,
6ヘキサジオールアクリレート等の単官能モノマーも好
ましく使用される。
【0026】次に、熱可逆表示媒体の作成方法について
述べる。作製した高分子液晶粒子を、高分子液晶に対し
ての貧溶媒に溶解させたバインダー樹脂と混合し塗布液
とする。ここで架橋された高分子液晶微粒子を用いる場
合は樹脂を溶解する溶媒として高分子液晶に対する貧溶
媒を用いる必要はなくバインダー樹脂の選択の幅が広く
なると共に光錯乱層上に表面保護層を形成する際、光散
乱層の高分子液晶が表面保護層の溶媒等により影響を受
けることがない等の製造上の利点を有する。また、上記
のように作製した塗布液を撹拌しながら高分子液晶粒子
を分散させ、基板フィルム上に塗布・乾燥させ光散乱層
を製膜する方法、あるいは高分子液晶粒子と高分子液晶
材料と非相溶のバインダーとを、バインダーが軟化する
温度で加熱混合して高分子液晶粒子を分散させ所定に成
型したのちに冷却する方法がある。バインダー樹脂とし
て硬化性樹脂を用いた場合は、紫外線、電子線や熱を付
与して樹脂の硬化を行い光散乱層を製膜する方法が適用
される。ここでも架橋された高分子液晶微粒子を用いる
場合はバインダー樹脂として高分子液晶材料と非相溶の
バインダーを選択する必要はない。
【0027】光散乱層の厚みは、目的とする光学特性に
よって種々設定されるが0.1〜50μmの範囲から、
特に好ましくは1〜20μmの範囲から選択される。光
散乱層製膜後に、光散乱層上に表面保護層材料を溶媒に
溶かし塗布・乾燥、紫外線や電子線、熱を付与すること
により硬化させて形成し、熱可逆表示媒体を作製する。
表面保護層の厚みは好ましくは0.1〜20μmの範囲
から選択される。
【0028】こうして作製した熱可逆表示媒体は、レー
ザーやサーマルヘッドによって情報を表示記録すること
が可能である。レーザーやサーマルヘッドを用いて媒体
を、部分的に、高分子液晶材料の等方相−液晶相相転移
温度以上まで加熱し、高分子液晶材料のガラス相転移温
度以下まで急激に冷却すると、高分子液晶材料の等方相
−液晶相相転移温度以上の光学的等方状態が、ガラス相
転移温度以下のガラス状態に固定されて、透明な等方相
ガラス状態を示す領域を形成することができる。レーザ
ーやサーマルヘッドで加熱していない領域は、高分子液
晶材料の等方相−液晶相相転移温度以下でかつガラス相
転移温度以下の白濁した液晶相ガラス状態状態を示す領
域である。この透明な等方相ガラス状態と白濁した液晶
相ガラス状態状態を熱可逆表示媒体に形成することによ
り、情報の表示記録が行える。
【0029】表示記録された情報を消去する場合は、ヒ
ートローラーやホットスタンパー等を用いて、熱可逆表
示媒体全体を高分子液晶材料の等方相−液晶相相転移温
度以上まで加熱し、高分子液晶材料のガラス相転移温度
以下まで徐々に冷却することで、可逆表示媒体全体が白
濁した液晶相ガラス状態状態をとり、情報の消去が行え
る。
【0030】
【実施例】
高分子液晶の合成(I) メソゲンモノマーとして4−アクリロキシヘキシルオキ
シ−4’−シアノ−ビフェニル285gを非メソゲンモ
ノマーとしてブチルメタクリレート15gを用い、重合
開始剤としてAIBN(アゾイソブチルニトリル)0.
6g、MEK(メチルエチルケトン)300gを溶媒と
して70℃で24時間共重合し、メタノール中で再沈殿
精製して下記構造式(I)で示される高分子液晶(I)
290gを得た。
【0031】
【化2】 〔重量平均分子量(GPCによるポリスチレン換算)
: 100,000〕
【0032】実施例1 上記高分子液晶(I)の30gのMEK30wt%溶液
を、周速50m/secで撹拌している800gの10
wt%のPVA(ポリビニルアルコール)水溶液中に、
徐々に滴下することにより乳化し、高分子液晶がPVA
水溶液中に粒状に分散しているエマルジョンを作製し
た。MEKを脱溶媒した後の粒状高分子液晶の大きさ
は、メジアン径で約410nmであった。このエマルジ
ョン500gを冷却しながら濾過し、取り出した粒子状
高分子液晶を蒸留水で3回洗浄した後に、凍結乾燥させ
て固体の粒子状高分子液晶5gを得た。上記PVA水溶
液10gと上記粒子状高分子液晶5gとを混合し、超音
波を加えて分散させた水溶液を、厚み100μmの透明
PETフィルム上にバーコーターを用いて塗布し、乾燥
させて、膜厚約6μmの光散乱層を形成した。さらに表
面保護層として1%の炭酸カルシウムのフィラーを分散
させた紫外線硬化組成物(商品名:アロニックスUV3
700N:東亜合成(株)製)を塗布、メタルハライド
ランプを用いて紫外線硬化することで、約1μmの表面
保護層を光散乱層の上に形成し熱可逆表示媒体を作製し
た。
【0033】実施例2 撹拌の際の周速を30m/sec.と遅くした以外は実
施例1と同様にしてエマルジョンを作製した。脱溶媒後
の粒状高分子液晶の大きさは、メジアン径で約1.3μ
mであった。実施例1と同様に濾過・洗浄した後に、凍
結乾燥させて固体の粒子状高分子液晶5gを得た。実施
例1と同様に、上記PVA水溶液10gと粒子状高分子
液晶5gとを混合し、超音波を加えて分散させた水溶液
を、厚み100μmの透明PETフィルム上にバーコー
ターを用いて塗布・乾燥して膜厚約6μmの光散乱層を
形成した。さらに実施例1と同様にして表面保護層を形
成し熱可逆表示媒体を作製した。
【0034】実施例3 実施例1と同様に上記高分子液晶(I)の30gのME
K30wt%溶液を、周速50m/secで撹拌してい
る2wt%のPVA水溶液800g中に徐々に滴下して
乳化し、高分子液晶がPVA水溶液中に粒状に分散して
いるエマルジョンを作製した。続いて加熱処理してME
Kを脱溶媒した。上記エマルジョンを冷却しながら濾過
し、取り出した粒子状高分子液晶を蒸留水で3回洗浄し
た後に、凍結乾燥させて固体の粒子状高分子液晶を得
た。粒状高分子液晶の大きさは、メジアン径で約570
nmであった。この粒子状高分子液晶4.0gを、多官
能モノマー(商品名:DPCA60:日本化薬(株)
製)1.0gと紫外線重合開始剤(バイキュア55:A
KZOJaspan(株)製)0.1gとをイソプロピ
ルアルコールに溶かした溶液と混合.撹拌し、100μ
mの透明PETフィルム上にバーコーターを用いて塗布
・乾燥し、メタルハライドランプを用いて紫外線硬化さ
せて6μmの光散乱層を形成した。さらに実施例1と同
様にして表面保護層を形成し可逆表示媒体を作製した。
【0035】実施例4 下記構造式(II)で示される繰り返し単位をもつ高分
子液晶を作製し、高分子液晶として用いた以外は、実施
例1と同様にして熱可逆表示媒体を作製した。
【0036】
【化3】
【0037】実施例5 撹拌の際の周速を10m/sec.と、実施例2よりさ
らに遅くした以外は実施例1と同様にして可逆表示媒体
を作製した。尚、作製した粒状高分子液晶の大きさは、
メジアン径で約2.4μmであった。
【0038】比較例1 厚み100μmのPETフィルム上に、高分子液晶
(I)を塗布し、乾燥させて、膜厚約6μmの単層の高
分子液晶から成る光散乱層を形成した。光散乱層の上に
実施例1と同様に表面保護層を形成し、可逆表示媒体を
作製した。
【0039】<熱可逆表示媒体の評価>上記のようにし
て作製した熱可逆表示媒体にサーマルヘッド印字装置に
よって印字(8dots/mm、0.3mJ/dot)
し、熱可逆表示媒体に白濁部と透明部とを設けた。その
後、印字サンプルをアルミ蒸着PET(ポリエチレンテ
レフタレート)フィルムに重ね、白濁部と透明部の反射
光学濃度をX−rite404(X−rite社製)に
より測定した。結果を表1に示す。
【0040】
【表1】
【0041】表1より実施例1〜5と比較例1を比較す
ると、本発明の粒子状高分子液晶を用いた可逆表示媒体
は、高分子液晶単独の可逆表示媒体より光散乱性が向上
していることが判る(光学濃度が低いほど白い、0.3
以下が好ましい)。比較例1は比較的白濁度が高いが青
味がかった白であり視認性が悪い。また、実施例1と実
施例4の比較より、本発明の高分子液晶材料として「液
晶性モノマーと非液晶性モノマーとの共重合体」を使う
ことにより、印字部の透明性が向上し(光学濃度が高い
ほど透明性が高い、少なくとも1.2以上が好ましい)
コントラストの高い可逆表示媒体が作製できることが判
る。さらに光散乱性能において、実施例1〜3と実施例
5との比較により、本発明に使用する粒子状高分子液晶
の粒子径として2μm以下の範囲が好ましく、1.0μ
m以下がさらに好ましいことが判る。一方、粒子径が可
視光波長範囲より小さくなると可視光領域の光散乱性能
が低下することから、特に好ましい粒子径は0.3μm
以上、1.0μm以下である。
【0042】
【発明の効果】本発明は、樹脂中に粒子状の高分子液晶
を分散した散乱層の透過率を印可する熱により制御する
ため、簡単な方法で記録可能な高い光散乱性を有し高コ
ントラストの可逆性記録表示媒体を供給できる。このた
め従来の高分子液晶系と同じコントラストを得るのに光
散乱層の膜厚を薄くすることが可能となり材料費が安く
できる。また熱と電場、熱と磁場等二つ以上の外力を同
時に制御しなければならない他の方式と比較して装置が
小さくできる利点がある。また本発明によれば、予め高
分子液晶化合物の微粒子を作製したのち可逆表示媒体を
作製することができるため、溶媒相分離法あるいは重合
相分離法を用いて作製した素子よりも、分散粒子径や分
散密度が制御しやすく最適な光散乱状態を容易に実現す
ることが可能となり生産性が高くなる。さらに本発明で
は電極もセル構造も必要としないため、簡単な構成でフ
レキシブルな全固体デバイスが作製可能であり、高い繰
り返し耐久性をもつ可逆性記録表示媒体の供給が可能と
なる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の可逆表示媒体の好ましい実施の形態を
示す断面図である。
【符号の説明】
1 支持基板 2 光散乱層 3 表面保護層 4 光反射層 5 光吸収層 6 空気層

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 樹脂中に粒子状の高分子液晶材料を分散
    した光散乱層を基材上に形成した可逆表示媒体であっ
    て、前記光散乱層の透過率を少なくとも熱の印加により
    可逆的に変化させ記録/消去可能に構成されていること
    を特徴とする可逆表示媒体。
  2. 【請求項2】 前記可逆表示媒体に分散した高分子液晶
    材料の等方相ガラス状態と液晶相ガラス状態とを用いて
    記録/表示可能に構成されていることを特徴とする請求
    項1に記載の可逆表示媒体。
  3. 【請求項3】 前記高分子液晶材料が液晶性モノマーと
    非液晶性モノマーとの共重合体であることを特徴とする
    請求項1又は請求項2に記載の可逆表示媒体。
  4. 【請求項4】 前記光散乱層中に分散された粒子状の高
    分子液晶材料の粒径が0.1μm以上、2μm以下であ
    ることを特徴とする請求項1乃至請求項3に記載の可逆
    表示媒体。
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