JPH1059982A - ビニル化有機珪素化合物の製造方法 - Google Patents

ビニル化有機珪素化合物の製造方法

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JPH1059982A
JPH1059982A JP9117338A JP11733897A JPH1059982A JP H1059982 A JPH1059982 A JP H1059982A JP 9117338 A JP9117338 A JP 9117338A JP 11733897 A JP11733897 A JP 11733897A JP H1059982 A JPH1059982 A JP H1059982A
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acetylene
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catalyst
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JP9117338A
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Frank Dr Steding
シュテーディング フランク
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Huels AG
Chemische Werke Huels AG
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ビニル化有機珪素化合物を簡単かつ経済的に
製造する。 【解決手段】 少なくとも１個のＨ−Ｓｉ基を有する有
機珪素化合物（Ａ）を、気相／液相中で触媒の存在でア
セチレンと反応させ、この反応混合物から少なくとも１
個のＨ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基を有する有機珪素化合物
（Ｂ）を製出することによって有機珪素化合物（Ｂ）を
製造する方法において、有機珪素化合物（Ａ）、過剰に
使用されるアセチレン及び不活性の液相をジェットノズ
ル付ループ形反応器で均質に混合し、次に反応混合物か
ら目的化合物（Ｂ）を製出しかつ過剰のアセチレンを該
工程に復帰させる。 【効果】 副反応及び続発反応が回避され、高い収率が
得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも１個の
Ｈ−Ｓｉ基を有する有機珪素化合物を、気相／液相中で
少なくとも１種の添加触媒の存在でアセチレンと反応さ
せ、少なくとも１個のＨ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基を有する有
機珪素化合物を反応混合物から製出することによって、
少なくとも１個のＨ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基を有する有機珪
素化合物を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】アセチレンを、珪素に１又は２個の水素
原子が結合されていて、場合により不活性一価有機基を
有するハロゲンシランと白金触媒の存在で反応させ、反
応を熱時に、すなわち８０〜１２０℃の温度範囲で液状
希釈剤中でかつ大気圧下で実施する場合には、ビニルハ
ロゲンシランが得られることは公知である。すなわちド
イツ国特許第１２３２５８０号明細書は、前記方法を回
分式又は連続的に行うことができ、好ましくは、Ｈ−Ｓ
ｉ結合を有する使用されたハロゲンシランの化学量論の
量に対して弱過剰のアセチレンのみを用いて作業するこ
とを開示している。前記の特許明細書の実施例によれ
ば、この方法により約８０％〜９１％の生成物収率が得
られる。
【０００３】ドイツ国特許出願公開第２１３１７４２号
明細書はアルケニルシランの製造方法を記載している
が、この場合には場合により置換されたアセチレンのシ
ランへの付加をジシリルエタン中で１２０〜２２０℃及
び０．１〜５．０気圧の過圧で行いかつ得られたアルケ
ニルシランをその生成の程度に応じて連続的にかつガス
状でのみ反応室から取出す。この場合好ましい触媒系と
しては白金−（ＩＶ）−塩素酸とケトンとの反応生成物
を使用する。
【０００４】前記方法にとって共通なのは、少なくとも
１個のＨ−Ｓｉ基を有するシランへのアセチレンの付加
を、反応がま又は反応塔で行い、可及的に大きい物質交
換面及び十分な滞留時間を得ることを努力した点であっ
た。このような装置は一般にコスト高である。
【０００５】アセチレン及びトリクロロシランのヒドロ
シリル化に関する最近の研究では、不動化された白金−
錯触媒を使用する。この場合にはビニルトリクロロシラ
ンに関する１００％の選択率で８０％の収率が得られる
［Catalysis of hydrosilylation,Part XXII′,Applied
Organometallic Chemistry Vol.７（１９９３）、Ｓ．
２０７−２１２］。さらにこのような触媒の製造も比較
的コスト高である。
【０００６】前記方法における付加反応の際の重要な経
済要素は、未反応のアセチレン量に基づいて起るアセチ
レンの損失である。このアセチレン量は次に一般には廃
ガスで工程から除去され、例えば燃焼装置の形の熱利用
に供給される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の基礎には、少
なくとも１個のＨ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基を有する有機珪素
化合物を可及的に簡単かつ経済的に製造することを可能
にする方法を提供するという課題があった。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記課題は、本発明によ
り特許請求の範囲の記載の手段により解決される。
【０００９】ところで、少なくとも１個のＨ−Ｓｉ基を
有する有機珪素化合物を、気相／液相中で少なくとも１
種の添加触媒の存在でアセチレンと反応させかつ反応混
合物から少なくとも１個のＨ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基を有す
る有機珪素化合物を製出し、この際少なくとも１個のＨ
−Ｓｉ基を有する有機珪素化合物、過剰で使用されるア
セチレン及び十分に不活性の液相をジェットノズル付ル
ープ形反応器（Strahlduesenschlaufenreaktor）で触媒
の存在で極めて均質に混合し、次に少なくとも１個のＨ
２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基を有する有機珪素化合物を反応混合
物から製出しかつ過剰のアセチレンを工程に復帰させる
場合には、少なくとも１個のＨ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基を有
する該有機珪素化合物を容易にかつ経済的に製造できる
ことが判明した。
【００１０】本発明方法の場合には、少なくとも１個の
Ｈ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基を有する有機珪素化合物を製造す
るためにジェットノズル付ループ形反応器を使用するこ
とによってほぼ最適の物質移行及び同時に十分に保護的
な反応条件を調整し、その結果本発明方法の場合には高
い選択率が得られる、つまり不所望の副反応ならびに続
発反応が十分に回避され、高い収率が実現されて、該方
法を経済的に利用することができる。
【００１１】比較的簡単な本発明方法は従って、大きな
空時収率によって優れている。すなわちこの場合にはＨ
−Ｓｉ基を有する出発物質（Edukte）に関して１００％
変換率で極めて高い選択率が得られる。
【００１２】さらに本発明方法は極めて経済的である、
それというのも過剰に使用されたアセチレンを工程に復
帰させ、さらにまたアセチレン復帰用循環ガス圧縮器を
使用せずに操作することができるからである。つまり本
発明方法は、最小のアセチレン損失の他に特に経済的観
点においてさらに循環ガス圧縮器の投資を省略すること
もできる。
【００１３】従って本発明の対象は、少なくとも１個の
Ｈ−Ｓｉ基を有する有機珪素化合物を、気相／液相中で
少なくとも１種の添加触媒の存在でアセチレンと反応さ
せかつ少なくとも１個のＨ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基を有する
有機珪素化合物を反応混合物から製出することによっ
て、少なくとも１個のＨ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基を有する有
機珪素化合物を製造する方法であり、その特徴とすると
ころは、少なくとも１個のＨ−Ｓｉ基を有する有機珪素
化合物、過剰に使用されるアセチレン及び十分に不活性
の液相を、ジェットノズル付ループ形反応器で触媒の存
在で極めて均質に混合し、次に少なくとも１個のＨ２Ｃ
＝ＣＨ−Ｓｉ基を有する有機珪素化合物を反応混合物か
ら製出しかつ過剰のアセチレンを工程に復帰させること
である。
【００１４】本発明方法でも適当に使用されうるような
ジェットノズル付ループ形反応器ならびにその作用様式
はなかんずく次の文献個所から知ることができる：Nage
l etal.ＣＩＴ ４２（１９７０）Ｓ．４７４−４７
９；Nagel et al.ＣＩＴ ４２（１９７０）Ｓ．９２１
−９２６；Huebner ＣＴ１６（１９８７）Ｓ．８７−９
２；Warnecke et al.ＣＩＴ ５９（１９８７）Ｓ．７
９８−７９９。本発明方法で使用される反応器の好まし
い実施形は例えば“システム・ブルドーザ（System BUR
DOSA）”（ドイツ国在Ｂｕｒｄｏｓａ社製）型のジェッ
トノズル付ループ形反応器であるが、同一又は類似構造
の型も適当に使用することができる。
【００１５】本発明方法は、一般には、先ず少なくとも
１個のＨ−Ｓｉ基を有する有機珪素化合物をアセチレン
及び／又は液相と一緒にジェットノズル付ループ形反応
器に供給するように行う。
【００１６】アセチレンは好ましくは＞１バール（絶
対）〜≦１．４バール（絶対）の使用圧で工程に供給す
る。
【００１７】本発明方法の場合には、少なくとも１個の
Ｈ−Ｓｉ基を有する有機珪素化合物として一般式Ｉ： ＲａＸｂＨ（４−ａ−ｂ−ｃ）ＳｉＹｃ （Ｉ） ［式中、ＲはＣ原子１〜８個を有するアルキル基、好ま
しくはＦ又はＣｌを有するハロゲンアルキル基及びアリ
ール基例えばフェニル基、ベンジル基及びナフチル基で
あり、Ｒは同じか又は異なっており、ＸはＣｌ、ＯＨ、
Ｃ原子１〜４個を有するアルコキシ基であり、Ｙは−
（（ＣＨ２）ｄＳｉＲ′２）ｅ（ＣＨ２）ｄＳｉＲ′３
であり、ここでＲ′はＨ、Ｒ及びＸでありかつ同じか又
は異なっており、ｄ＝１、２、３及び４であり、ｅ＝
０、１又は２であり、ａは０、１、２又は３であり、ｂ
は０、１、２又は３であり、ｃは０又は１であり、（ａ
＋ｂ＋ｃ）≦３である］で示される有機珪素化合物、例
えば水素シラン、例えばジメチルクロロシラン、メチル
ジクロロシラン、ジクロロシラン、１，１，４，４−テ
トラメチルジシリルエチレン、トリクロロシラン、又は
一般式ＩＩ： ＲａＸｂＨ（３−ａ−ｂ）ＳｉＹ （ＩＩ） ［式中、ＲはＣ原子１〜８個を有するアルキル基、好ま
しくはＦ又はＣｌを有するハロゲンアルキル基及びアリ
ール基、例えばフェニル基、ベンジル基及びナフチル基
であり、Ｒは同じか又は異なっており、ＸはＣｌ、Ｏ
Ｈ、Ｃ原子１〜４個を有するアルコキシ基であり、Ｙは
（−Ｏ−ＳｉＲ′２）ｆ−Ｏ−ＳｉＲ′３であり、ここ
でＲ′はＨ、Ｒ及びＸでありかつ同じか又は異なってお
り、ｆ＝０、１、２、３、４又は５であり、ａは０、１
又は２であり、ｂは０、１又は２であり、（ａ＋ｂ ）
≦２である］で示される有機珪素化合物、例えば水素シ
ロキサン、例えば１，１，３，３−テトラメチルジシロ
キサン、又は水素シラザン、例えば１，１，３，３−テ
トラメチルジシラザン、又は一般式ＩＩＩ： ［ＲｑＸｒＨ（２−ｑ−ｒ）Ｓｉ−Ｏ−］ｓ （ＩＩＩ） ［式中、ＲはＣ原子１〜８個を有するアルキル基、好ま
しくはＦ又はＣｌを有するハロゲンアルキル基及びアリ
ール基、例えばフェニル基、ベンジル基、ナフチル基で
あり、Ｒは同じか又は異なっており、ＸはＣｌ、ＯＨ、
Ｃ原子１〜４個を有するアルコキシ基であり、ｑは０又
は１であり、ｒは０又は１であり、（ｑ＋ｒ）≦１であ
り、ｓは３又は４である］で示される有機珪素化合物、
例えば環状水素シロキサン、例えば１，３，５，７−テ
トラメチルシクロテトラシロキサンを使用することがで
きる。
【００１８】本発明方法の場合には、好ましくは、有機
珪素化合物として、メチルジクロロシロキサン又はジメ
チルクロロシラン又はこれらの混合物を含有する出発物
質又はジクロロシラン又はテトラメチルシロキサンを使
用する。
【００１９】本発明方法においては、少なくとも１個の
Ｈ−Ｓｉ基を有する、その都度の有機珪素化合物に対す
るアセチレンのモル比は、１．５：１〜２０：１の値に
適当に調節する。
【００２０】好ましくは、少なくとも１個のＨ−Ｓｉ基
を有する有機珪素化合物及びアセチレンをジェットノズ
ル付ループ形反応器中に供給する前に、ガス状混合物に
変える。このガスもしくは混合物は一般には混合ノズル
により吸引し、使用圧力に圧縮しかつ混合ノズル中で供
給された液相と混合する。この液相は強力ポンプを介し
て混合ノズルに適当に供給する。ガス／混合物及び液相
はジェットノズル付ループ形反応器で、特にループ領域
で極めて均質に混合することができる。十分に不活性の
液相をジェットノズル付ループ形反応器中に供給する前
に適当に予熱する。本発明方法では、一般に５０〜２０
０℃、好ましくは７０〜１４０℃の範囲の温度でジェッ
トノズル付ループ形反応器を運転する。ジェットノズル
付ループ形反応器中の使用圧力は好ましくは＞１バール
（絶対）〜４バール（絶対）、特に２〜３バール（絶
対）である。最高使用圧力は安全技術的考慮によって限
定されておりかつその都度の温度での圧力下におけるア
セチレンの取扱いのための公認の技術的規則によって決
っている。これらの限定はアセチレンの自己分解のため
の圧力／温度−限界曲線と一致しない。
【００２１】本発明方法の場合、液相としては十分に不
活性の溶剤又は溶剤混合物を適当に使用する。液相での
その都度の溶剤は好ましくは、反応混合物から得られか
つ少なくとも１個のＨ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基を有する有機
珪素化合物よりも高い沸点を有する。溶剤としては、例
えばメシチレン、熱媒油（Waermetraegeroel）特にトリ
トルオール、例えばマルロテルム（ＭＡＲＬＯＴＨＥＲ
Ｍ：商標）が適当である。しかしまた液相はビニル化の
所謂“二付加物（Bisaddukte）”を含有していてもよ
い。
【００２２】添加触媒としては、本発明の場合不均一及
び均一触媒を使用することができる。不均一触媒として
は例えば、ドイツ国特許第４０３５０３２号及び第４０
３５０３３号明細書から知られるような触媒を挙げるこ
とができる。本発明方法の場合、不均一触媒をジェット
ノズル付ループ形反応器中に、例えば固定床として適当
に配置する。また固定床には不活性の混合元素及び流動
調整剤も添加されていてよい。均一触媒は本発明方法で
使用される液相中で適当に溶かす。十分な量の新しい均
一触媒を反応のために利用可能にするためには、溶剤を
新しい触媒と一緒に工程で再供給しかつ同程度に消費さ
れた液相を除去することが必要であることもある。本発
明方法では白金含有触媒が特に有利であることが判明し
た。しかしまた他の貴金属触媒、例えばＲｈ−触媒も使
用することができる。
【００２３】本発明方法においては、ジェットノズル付
ループ形反応器に凝縮ユニットが接続されていて、反応
混合物−溶剤／場合により“二付加物”／場合により触
媒／生成物及びアセチレンならびに場合により他の類似
の揮発性成分−を粗分離することができる。この場合分
離されたアセチレンは圧力の保持下に使用物質として再
び復帰させることができる。少なくとも１個のＨ２Ｃ＝
ＣＨ−Ｓｉ基を有する有機珪素化合物を得るための反応
混合物、つまり粗生成物の後処理は、一般に蒸留的に行
い、この際塔底に生じる液相は大部分工程に復帰させ
る。本発明方法の場合蒸留的後処理は一段又は多段蒸留
で行うことができ、この場合例えば薄層蒸発器及び／又
は蒸留塔を使用する。
【００２４】また本発明方法では反応混合物の後処理を
減圧下でも行うことができる。そこで本発明方法の場合
にはモノビニル化、ジビニル化及び多ビニル化有機珪素
化合物を得ることもでき、この場合本発明方法を一般に
連続的に行う。また触媒の再生及び貴金属の回収のため
に該工程に触媒後処理部を接続させてもよい。
【００２５】本発明方法によれば、有機珪素化合物、例
えばビニルメチルジクロロシラン、ビニルジメチルクロ
ロシラン、ジビニルジクロロシラン、ビニル−及びジビ
ニルテトラメチルジシロキサンを製造することができ
る。
【００２６】本発明方法の場合には、一般に、使用され
た有機珪素化合物を基準にして約９５％〜９８％の工程
による収率が達成される。
【００２７】本発明を次の実施例によって詳述する。
【００２８】
【実施例】
例１ 連続的に運転されるジェットノズル付ループ形反応器
（Ｒ１）に、液状メチルジクロロシラン（Ｓ１）０．８
モル／ｈをポンプ（Ｐ１）及び蒸発器（Ｗ１）を介して
新しいアセチレン（Ｃ２Ｈ２）と一緒に供給する。新し
いアセチレンは蒸発器に入る前にアセチレン循環流（Ｓ
８）と混合される。
【００２９】反応温度は８０℃であり、圧力は１．５バ
ール（絶対）である。この際約８０ｌ／ｈの溶剤循環流
（Ｓ９）が循環ポンプ（Ｐ３）を介して送られかつジェ
ットノズル（Ｒ１）に入る前に約１０バール（絶対）に
圧縮される。
【００３０】反応器（Ｒ１）からは、過剰アセチレン及
び液状反応生成物から成る二相流（Ｓ１０）が流出す
る。ビニルメチルジクロロシランの濃度は約１５重量％
である。
【００３１】相分離部（Ｂ１）では、アセチレン及び生
成物混合物（所望のビニルシラン及び前留−及び後留成
分から成る）から溶剤が分離される。溶剤はポンプ（Ｐ
３）を介して溶剤循環流（Ｓ９）に戻る。
【００３２】凝縮器（Ｗ２）では、生成物混合物が凝縮
されかつ給送流（Ｓ１１）としてポンプ（Ｐ４）を介し
て蒸留塔（Ｄ１）に供給される。過剰アセチレンは循環
路（Ｓ８）を介して再び反応器に入る。反応器（Ｒ１）
における使用圧力は弁（Ｖ２）により調節される。残余
ガスは残余ガス排出口（Ｓ３）を介して装置を出る。
【００３３】塔（Ｄ１）の底部からは、連行された溶剤
及び高沸点生成物（Hochsieder）、例えば反応で生成さ
れた“二付加物”（１，４−ジメチル−１，１，４，４
−テトラクロロ−１，２−ジシラン）が溶剤復帰管（Ｓ
７）を介して溶剤循環路に給入される。反応から由来す
る高沸点生成物、例えば“二付加物”は溶剤と一緒に流
れ（Ｓ６）を介して除去される。ビニルシランは高純度
で塔（Ｄ２）の底部（Ｓ５）から取出される。
【００３４】反応器は始動のために純溶剤、ここではメ
シチレンを用いて始動される。触媒としてはＨ２ＰｔＣ
ｌ６を基礎とする均質に溶解された常用のヒドロシリル
化触媒が使用される。Ｐｔの濃度は約３ｐｐｍである。
触媒／溶剤（Ｓ２）の供給はポンプ（Ｐ２）を介して行
われる。
【００３５】連続的な装置運転の場合には、溶剤は高沸
点反応生成物、例えば“二付加物”によって稀釈され
る。この際ビニル化の選択率は高沸点生成物の増大によ
って影響されない。
【００３６】メチルジクロルシラン９９％のシラン変換
率の場合には、該方法により９７％のビニルメチルジク
ロロシランに関する収率が得られる。
【００３７】例２ 例１による装置でメチルジクロロシラン７０モル％とイ
ソペンタン３０モル％から成る混合物を使用し、例１で
記載したように操作する。シランの計量は０．８モル／
ｈであり、アセチレン流は１モル／ｈである。９８％の
シラン変換率の場合には、９７％のビニルメチルジクロ
ロシランに関する収率が得られる。
【００３８】例３ 例１による装置でジメチルクロロシランを使用する。シ
ランの計量は１モル／ｈであり、アセチレン流は１．２
モル／ｈである。反応温度は９２℃である。９９．８％
のシラン変換率の場合には、９８％のビニルジメチルク
ロロシランに関する選択率が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明方法を実施するためのフローチャートで
ある。
【符号の説明】
Ｒ１ ジェットノズル付ループ形反応器、 Ｂ１ 粗生
成物流から溶剤（場合により触媒及びＳｉ含有副生成物
と共に）を分離するための装置部、 Ｐ１〜Ｐ４ 工程
における物質流を移送するためのポンプ、 Ｄ１ 粗生
成物蒸留用蒸留塔、 Ｄ２ 精密蒸留用蒸留塔、 Ｖ１
アセチレン供給を調節するための弁、Ｖ２ 残余ガス
を調節するための弁、 Ｗ１ 混合部分を含む熱交換
器、 Ｗ２ 消費されなかったアセチレンを粗生成物か
ら分離するための凝縮ユニット、Ｓ１ 少なくとも１個
のＨ−Ｓｉ基を有する有機珪素化合物、 Ｓ２ 溶解さ
れたもしくは懸濁された新しい触媒の供給、 Ｓ３ 残
余ガスの排出、 Ｓ４塔Ｄ２の塔頂生成物、 Ｓ５ 塔
Ｄ２の塔底生成物、 Ｓ６ 塔Ｄ１の過剰な塔底生成物
の排出、 Ｓ７ 溶剤の復帰、 Ｓ８ アセチレンの循
環流、 Ｓ９溶剤の循環路、 Ｓ１０ アセチレン／反
応生成物の二相流、 Ｓ１１ 蒸留のための生成物給送

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 少なくとも１個のＨ−Ｓｉ基を有する有
    機珪素化合物を、気相／液相中で少なくとも１種の添加
    触媒の存在でアセチレンと反応させかつ反応混合物から
    少なくとも１個のＨ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基を有する有機珪
    素化合物を製出することによって、少なくとも１個のＨ
    ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基を有する有機珪素化合物を製造する
    に当たり、少なくとも１個のＨ−Ｓｉ基を有する有機珪
    素化合物、過剰に使用されるアセチレン及び十分に不活
    性の液相をジェットノズル付ループ形反応器で触媒の存
    在で極めて均質に混合し、次に反応混合物から少なくと
    も１個のＨ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基を有する有機珪素化合物
    を製出しかつ過剰のアセチレンを工程に復帰させること
    を特徴とする、少なくとも１個のＨ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ基
    を有する有機珪素化合物の製造方法。
  2. 【請求項２】 少なくとも１個のＨ−Ｓｉ基を有する有
    機珪素化合物を、アセチレン及び／又は液相と一緒にジ
    ェットノズル付ループ形反応器に供給する、請求項１記
    載の方法。
  3. 【請求項３】 少なくとも１個のＨ−Ｓｉ基を有する有
    機珪素化合物及びアセチレンをジェットノズル付ループ
    形反応器に供給前にガス状混合物に変える、請求項１又
    は２記載の方法。
  4. 【請求項４】 十分に不活性の液相をジェットノズル付
    ループ形反応器に供給前に予熱する、請求項１から３ま
    でのいずれか１項記載の方法。
  5. 【請求項５】 ジェットノズル付ループ形反応器を５０
    〜２００℃の範囲の温度で運転する、請求項１から４ま
    でのいずれか１項記載の方法。
  6. 【請求項６】 アセチレンを＞１バール（絶対）かつ≦
    １．４バール（絶対）の使用圧力で工程に供給する、請
    求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
  7. 【請求項７】 ジェットノズル付ループ形反応器を反応
    温度で＞１バール（絶対）と公認の技術的規則によりア
    セチレンに対して許容される最高圧力との間の使用圧力
    で運転する、請求項１から６までのいずれか１項記載の
    方法。
  8. 【請求項８】 液相として十分に不活性の溶剤又は溶剤
    混合物を使用する、請求項１から８までのいずれか１項
    記載の方法。
  9. 【請求項９】 液相中のその都度の溶剤が、反応混合物
    から製出されかつ少なくとも１個のＨ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ
    基を有する有機珪素混合物よりも高い沸点を有する、請
    求項８記載の方法。
  10. 【請求項１０】 溶剤としてメシチレンを使用する、請
    求項８又は９記載の方法。
  11. 【請求項１１】 溶剤として不活性熱媒油を使用する、
    請求項８から１０までのいずれか１項記載の方法。
  12. 【請求項１２】 均一触媒を使用する、請求項１から１
    １までのいずれか１項記載の方法。
  13. 【請求項１３】 均一触媒を液相中で溶かす、請求項１
    ２記載の方法。
  14. 【請求項１４】 不均一触媒を使用する、請求項１から
    １１までのいずれか１項記載の方法。
  15. 【請求項１５】 不均一触媒をジェットノズル付ループ
    形反応器中に配置する、請求項１４記載の方法。
  16. 【請求項１６】 白金含有触媒を使用する、請求項１か
    ら１５までのいずれか１項記載の方法。
  17. 【請求項１７】 少なくとも１個のＨ−Ｓｉ基を有する
    有機珪素化合物として、一般式Ｉ： ＲａＸｂＨ（４−ａ−ｂ−ｃ）ＳｉＹｃ （Ｉ） ［式中、 ＲはＣ原子１〜８個を有するアルキル基、ハロゲンアル
    キル基及びアリール基でありかつ同じか又は異なってお
    り、 ＸはＣｌ、ＯＨ、Ｃ原子１〜４個を有するアルコキシ基
    であり、 Ｙは−（（ＣＨ２）ｄＳｉＲ′２）ｅ（ＣＨ２）ｄＳｉ
    Ｒ３であり、ここでＲ′はＨ、Ｒ及びＸでありかつ同じ
    か又は異なっており、ｄ＝１、２、３又は４であり、ｅ
    ＝０、１又は２であり、 ａは０、１、２又は３であり、 ｂは０、１、２又は３であり、 ｃは０又は１であって、（ａ＋ｂ＋ｃ）≦３である］で
    示される水素シラン又は一般式ＩＩ： ＲａＸｂＨ（３−ａ−ｂ）ＳｉＹ （ＩＩ） ［式中、 ＲはＣ原子１〜８個を有するアルキル基、ハロゲンアル
    キル基及びアリール基でありかつ同じか又は異なってお
    り、 ＸはＣｌ、ＯＨ、Ｃ原子１〜４個を有するアルコキシ基
    であり、 Ｙは（−Ｏ−ＳｉＲ′２）ｆ−Ｏ−ＳｉＲ′３であり、
    ここでＲ′はＨ、Ｒ又はＸでありかつ同じか又は異なっ
    ており、ｆ＝０、１、２、３、４又は５であり、 ａは０、１又は２であり、 ｂは０、１又は２であり、（ａ＋ｂ）≦２である］で示
    される水素シロキサン又は一般式ＩＩＩ： ［ＲｑＸｒＨ（２−ｑ−ｒ）Ｓｉ−Ｏ−］ｓ （ＩＩＩ） ［式中、 ＲはＣ原子１〜８個を有するアルキル基、ハロゲンアル
    キル基及びアリール基でありかつ同じか又は異なってお
    り、 ＸはＣｌ、ＯＨ、Ｃ原子１〜４個を有するアルコキシ基
    であり、 ｑは０又は１であり、 ｒは０又は１であり、（ｑ＋ｒ）≦１であり、 ｓは３又は４である］で示される環状水素シロキサンを
    使用する請求項１から１６までのいずれか１項記載の方
    法。
  18. 【請求項１８】 有機珪素化合物として、主としてメチ
    ルジクロロシラン又はジメチルクロロシラン又はそれら
    の混合物を含有する抽出物又はジクロロシラン又はテト
    ラメチルジシロキサンを使用する、請求項１から１７ま
    でのいずれか１項記載の方法。
  19. 【請求項１９】 少なくとも１個のＨ−Ｓｉ基を有する
    純度１０〜１００％の有機珪素化合物を使用する、請求
    項１から１８までのいずれか１項記載の方法。
  20. 【請求項２０】 少なくとも１個のＨ−Ｓｉ基を有する
    その都度の有機珪素化合物に対するアセチレンのモル比
    を、１．５：１〜２０：１の値に調節する、請求項１か
    ら１９までのいずれか１項記載の方法。
  21. 【請求項２１】 少なくとも１個のＨ２Ｃ＝ＣＨ−Ｓｉ
    基を有する有機珪素化合物を得るための反応混合物の後
    処理を蒸留的に行いかつこの際塔底に生じる液相を大部
    分工程に復帰させる、請求項１から２０までのいずれか
    １項記載の方法。
  22. 【請求項２２】 蒸留的後処理を一段又は多段蒸留で行
    う、請求項１から２１までのいずれか１項記載の方法。
  23. 【請求項２３】 蒸留的後処理のために薄層蒸発器及び
    ／又は蒸留塔を使用する、請求項１から２２までのいず
    れか１項記載の方法。
  24. 【請求項２４】 モノビニル化有機珪素化合物を製造す
    る、請求項１から２３までのいずれか１項記載の方法。
  25. 【請求項２５】 ジビニル化有機珪素化合物を製造す
    る、請求項１から２４までのいずれか１項記載の方法。
  26. 【請求項２６】 多ビニル化有機珪素化合物を製造す
    る、請求項１から２５までのいずれか１項記載の方法。
  27. 【請求項２７】 反応混合物の後処理を減圧下で行う、
    請求項１から２６までのいずれか１項記載の方法。
  28. 【請求項２８】 方法を連続的に行う、請求項１から２
    ７までのいずれか１項記載の方法。
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