TW467916B - Process for preparing vinylated organosilicon compounds - Google Patents

Process for preparing vinylated organosilicon compounds Download PDF

Info

Publication number
TW467916B
TW467916B TW086106116A TW86106116A TW467916B TW 467916 B TW467916 B TW 467916B TW 086106116 A TW086106116 A TW 086106116A TW 86106116 A TW86106116 A TW 86106116A TW 467916 B TW467916 B TW 467916B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
patent application
scope
group
acetylene
item
Prior art date
Application number
TW086106116A
Other languages
English (en)
Inventor
Frank Steding
Original Assignee
Degussa
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Degussa filed Critical Degussa
Application granted granted Critical
Publication of TW467916B publication Critical patent/TW467916B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0801General processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • C07F7/0825Preparations of compounds not comprising Si-Si or Si-cyano linkages
    • C07F7/0827Syntheses with formation of a Si-C bond
    • C07F7/0829Hydrosilylation reactions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/24Stationary reactors without moving elements inside
    • B01J19/2455Stationary reactors without moving elements inside provoking a loop type movement of the reactants
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/24Stationary reactors without moving elements inside
    • B01J19/2455Stationary reactors without moving elements inside provoking a loop type movement of the reactants
    • B01J19/2465Stationary reactors without moving elements inside provoking a loop type movement of the reactants externally, i.e. the mixture leaving the vessel and subsequently re-entering it
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/26Nozzle-type reactors, i.e. the distribution of the initial reactants within the reactor is effected by their introduction or injection through nozzles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/38Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
    • B01J23/40Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals of the platinum group metals
    • B01J23/42Platinum
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12Organo silicon halides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12Organo silicon halides
    • C07F7/14Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008Controlling the process
    • B01J2208/00017Controlling the temperature
    • B01J2208/0053Controlling multiple zones along the direction of flow, e.g. pre-heating and after-cooling

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Description

ά 6 7 9 1 6 Α7 Β7 五、發明説明(1 ) 發明赀暑 本發明係有關於一種至少包含一痼H2 C=CH-Si-基團 之有機矽化合物的製法,其藉由至少含有一個H-Si基之 有機矽化合物,與乙炔在氣相/液相反應,其中另外至 少存在催化劑,並從反應混合物中提取至少含有一 H2C =CH-Si -基圃之有機矽化合物。 已知藉由乙炔和齒矽烷(含有1或2锢鍵結至矽原子 之氫原子,而且可能含有或可能不含有惰性單價有機基) 在鉑催化劑存在下,可製得乙烯基鹵矽烷,上述反應若 在加熱條件下,溫度範圍在8G至120°C,而且該反應在 液態稀釋液和大氣壓下進行。因此德國專利1 2 3 2 58 0 掲示上逑製法可在非連績或連溏的狀況下進行,而且較 佳的條件是以含有H-Si鍵之豳矽烷的計量而言,乙炔為 稍微過剩。根據德國專利12 32 580所提製法,産物産 率約可達8 0 %至91 %。 i德國專利A 21 31 7 4 2教示製備烯基矽烷的方法,將 可經取代或不經取代之乙炔,加到矽烷(可為二甲矽烷 -... 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 基乙烷)中,上述反應之溫度範圍為120至22(TC,氣壓 為0.1至5.0大氣壓,當其在反應腔室中形成烯基矽烷時 ,可連壤將所得氣體形式的産物移出。在此製法所使用 之較佳催化劑条統包括氛基鉑酸(IV)和酮的反應産物。 逑製法,一般傺將乙炔加入至少含有一個H-Si-基 -----—---••,•一,糾丄.. ...... \ V .::二基之矽烷的反應槽或反應塔中,以便確定有最大的質量 轉移和適當的停留時間。這種形態的設備常常是耗費成 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) 五、發明説明(2 ) 不 用 使 係 化 基 烷 矽 甲 氫 之 烷 矽 氯 三 和 炔 乙 於 闘 。近 的最 本 劑 化 .J1I1 倦 物 合 ο 錯1 鉑達 的 苛 動性 % 擇 選 之 烷 砂 氣 三 % ο 8 達 可 率 産 誌 雜 學 化 屬 金 機 有 用 應 見 參 卷 年 第 化 .is " 的 化 基 烷 矽 甲 氳 為 題 標 頁 第的 ) 雜 部 複 為 較 是 法 製 的 劑 化 .itll 0 述 上 說 來 0 相 掴於 一 因 另起 矓苠 反 , 成失 加損 的 例於 ,在 出 的 排目 起明 1 發 氣本 廢 炔隨 , 乙常 C 法 應通環方 反炔循的 未乙再濟 是應的經 素反熱又 因未過單 濟而經簡 經 ,中能 要·炔備可 重乙設儘 的之燒種 慮應燃一 考反在供 要未如提 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本瓦) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 以製備至少包含一値H2 C = CH-Si-基圃的有機矽化合物。 根據本發明所附申請專利範圍,本發明可達成該目的。 已經發現可以藉由至少含有一値H-Si基之有機矽化合 物,與乙炔在氣相/液相反應,其中至少另外存在催化 劑,並從反應混合物中提取至少含有一個H2C=CH-Si-基圃之有機矽化合物,以便簡單又經濟地製備至少包含 一個H2C=C H-Si-基團的有機矽化合物,若將至少含有 一傾H-Si基之有機矽化合物和乙炔(以計量來說乙炔為 .過量),置入實際上在催化劑存在下之噴射管環狀反應 器中,那麼惰性液相會帶來緊密的接觸,接著至少含有 —個H2 C=CH-Si -基團之有機矽化合物會從反應混合物 被提取违來,而過剩的乙炔則再循環至整個製程中》 本發明製法中用來製備至少含有一個H2 C=CH-Si -基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) 467916 A7 B7 五、發明説明(3 ) 團之有機矽化合物的噴射管環狀反應器,確保實際上有 最佳的質量轉移,同時也確保具備溫和的反應條件,所 以本發明的製法具有髙度的選擇性,亦即,可以大大避 免不需要的副反應以及第二反應,而且建到高産率,因 此本發明製法具有顯而易見的經濟價值。 根據本發明之相當簡單的製程,特徵在於具有高的空 間-時間産率,即可達高的選擇性,實際上對含有H-Si基 之起始材料而言,轉換率為100%。 此外,本發明的製法實際上具有經濟價值,因為過剩 的乙炔還可回收至製程中,再者,本製法甚至在不使用 再循環氣體壓縮機即可對乙炔進行回收:換言之,本發 明有最少量的乙炔損失,特別是針對經濟性而言,本發 明可以提供另一値選擇,即見投#再循環氣體壓縮機。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 因此本發明傜有關一種至少包含一個H2 C=CH-Si -基 團之有機矽化合物的製法,其藉由至少含有一橱H-Si基 之有機矽化合物,與乙炔在氣相/液相反應,其中至少 另外存在催化劑,並從反應混合物中提取至少含有一個 H2 C=CH-Si -基圃之有機矽化合物,若將至少含有一個 H-Si基之有機矽化合物和乙炔(以計量來說乙炔為過量) ,置入實際上在催化劑存在下之噴射管環狀反應器中, 那麼惰性液相會帶來最緊密的接觸,接箸至少含有一锢 H2 C=CH-Si -基圍之有機矽化合物會從反應混合物被提 取出來,而過剩的乙炔則再循環至整摘過程中6 適用於本發明製法之噴射管反應器或噴射管環狀反應 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印策 4 B 7 9 1 0 A7 ___^_B7 ___ 五、發明説明(4 ) 器,其一般的操作形式,特別可參見下列文獻;Nagel 等人之 CIT42(1970>pp474-479 ; Nagel等人之 CIT42{1970) PP9 2 1 - 32 6 ; Hiibner等人之 CT16(1987)pp87-92 ; Warnecke 等人之CIT59(1987)pp798-799e本發明製法之較佳具體 實施例所用的反應器,傺為德國Burdosa製的型號 「BURD0SA集統j之噴射管環狀反應器,但是柑等或簡 單的構造形態亦可使用^» 本發明製法一般進行的方式,僳首先將至少含有 H-Si基之有機砂化合物以及乙炔及和/或液相中,一起 餵入噴射管環狀反應器中。 餵入製程之乙炔操作壓力範圍>1絶對巴,且g 1.4絶 對巴。 根據本發明製法,至少含有H-Si基之有機砂化合物為 一個如通式I的氳砂院 RAH㈣ SiYc (Π 式中1至8锢硪原子的烷基、鹵烷基(較佳含有F或' C1)和芳基(如苯基、苄基、和萘基),且R可為 相同或不同, X: Cl、OH、1至4個磺原子之烷氣基, Y : ! -((〇H2)dSiR2,)e(CH2)dSiR3,,其中 R,: H、R和 X, 且I可為相同或不同,又d= 1,2, 3或4,且 e = 0, 1或 2 , a : 0 , 1 , 2或 3 , b : 0 , 1 , 2或 3 , 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
4 6 7 9 1 6 A7 B7 五、發明説明(5 ) c : 0 或 1,其中(a + b + c) £ 3, 式I的例子包括氫矽烷,如二甲基氣矽烷、甲基二氨 矽烷、二氣砂烷、1,1,4,4,四甲基二甲矽烷基乙烯、三 氣矽烷,或如通式II的氫矽氣烷
RAH^SiY (ID 式中R: 1至8個碳原子的烷基、齒烷基(較佳含有F或 C1)和芳基(如苯基、苄基、和萘基),且R可為 相同或不同, X: Cl、OH、1至4橱磺原子之院氣基, γ ; (-O-SiRj'VO-SiRj , 其中 R,:H、R和 X, 且8'可為相同或不同,又f = 1,2,3, 4或5, a : 0 , 1 或 2 , b: 0,1 或 2,其中(a + b)S2, 式II的例子包括氫矽氣烷,如1,1,3,3 -四甲基二矽氣 烷、或包括氫矽氮烧p如l,if3,3-四甲基二砂氣烷, 或如通式III的氫砂氣烷 [Β«ΛΗ<2^Η)δ'·0'^ (III) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 式中R: 1至8橱磺原子的烷基、鹵烷基(較佳含有F或 Cl>和芳基(如苯基、苄基、和萊基),且R可為 相同或不同, X: Cl、0H、1至4個碩原子之烷氧基, q : 〇,或 1, r·: 0,或 1,其中(q + r)芸 1, s : 3 或 4, 本紙張尺度適用中國國家標準i CNS ) A4規格(210X297公釐) 4 6 /916 五、發明説明u ) 拥子包活琿狀氬矽氧烷,如1,3,5,7-四甲基環四矽氣 院。 根據本發明製法,較佳使用的有機砂化合物為包括甲 基二氣矽烷、或二甲基氣矽烷、或由其所構成之混合 物、或二氛矽烷、或四甲基二矽氣烷之起始树料。 本發明製法之乙炔對至少含有一個Η-Si基画之各別有 機矽化合物的莫耳比,設定為1. 5 : 1至20 : 1M。 經濟部中央標率局貞工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 較佳的情況是在將至少含有一MH-Si基鼷之各別有機矽 化合物和乙炔餵入噴射管琛狀反醮器前,先将其轉換成 氣態混合物》氣钃或混合物通常镍藉由涯合嘖嘴來拉引 ,然後加懕成条統壓力,在混合噴_内典被逸至的液相 互相混·合》液相適合藉由离傅遞幫浦來將之傅通至混合 噴嘴β在噴射管環狀反醮器中,特別在琛狀匾域内,氣 體/混合物和液相可互相緊密的渥合。較佳,惰性液相在 傳遞至噴射管琿狀反Κ器前,預先經過加熱。根據本發 明製法,一般之噴射管環狀反應器的操作溫度箱圍為50 至2〇B°C,較佳是70至140。0,噴射管琛狀反醮器内之糸 統鼹力介於1絶對巴至4絶對巴間,較佳為2至3绝對 巴間。最大的糸統壓力受限於安全考量,且其規定傺根 據良好作業規範(6MP)的規定,其規定乙炔在各別溫度 下所應有的瞳力》這些限制與乙炔自動分解之應力〆 溫度限制的曲線並不相蘭》 根據本發明製法之液相,較佳實際上為情性溶劑或溶 爾混合物〇較佳液相裡各自溶劑的沸點,均比從反應混 ϋ張尺度適用中國國家標準(〇叫八4規格(210父297公釐) 經濟部中央標华局員工消費合作社印製 ^4 6 79 16 A7 B7 五、發明説明(7 ) 合提取之至少包含一値C=CB-Si -基醑的有機矽化合 物高。適當的例子包括H 5-三甲基苯、熱轉換油,特 別是三甲苯,如MAHLOTHERM®,但是液相也可為包含所 謂乙烯基化的「雙加成物」。 非均質催化劑和均質催化劑,均可作為本發明之催化 劑。非均質催化劑的例子可參考列於下列文獻的催化劑 :德國專利40 3 5 0 3 2和4D 3 5 0 3 3。本發明之非均質催 化劑較佳放置在噴射脊琛狀反應器内,如置於固定床。 固定床也可包括惰性混合元素和流動改質劑。較佳,均 質催化劑稱溶解於本發明之液相中。為了反應具有充分 足量的新鮮均質催化劑,必需在製程中不斷供應含有新 鮮催化劑的溶劑,同時將液相的廢料排出〇含鉑的催化 劑,被證明對本製法特別有用,不過其他高貴金屬催化 劑亦可使用,如鍩。 根據本發明製法,噴射管環狀反應器的下游可以建接 至粗分反應混合物用之冷凝單元(溶劑/可能的「雙加 成物」/可能的催化劑/産物和乙炔和可能還含有類似 的揮發性成分),被分解的乙炔在維持的壓力條件下可 以選擇再循環至起始材料内。漸渐自反應混合物提取 至少含有一個H2 C=CH-Si-基團的有機矽化合物的遇程 ,俗藉由蒸餾而完成,而且製程中累積在底部的液相産 物大量回收至製程中。根據本發明製法,蒸皤過程為單~ 或多-步驟蒸餾,可以適用於上述目的有薄膜蒸發器和/ 或蒸餾管。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X2.97公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
4 67 916 A 7 B7 五、發明説明(y ) 根據本發明製法的另一耱選擇是在減壓中處理反醮混 合物。因此本發明提供提取單乙烯化、二乙烯化、和多 乙烯化有機砂化合物的另一種可能•本發明製程常為連纗 進行。本發明製法也可與催化痛之徐徐形成結合,以便 使催化剤再生,並囲收貴重金靥。 根嫌本發明之新親製法,可以置備有機联化合物,如 乙播基甲基二氣砂焼.、乙嫌基~甲基第砂焼、一'乙嫌基 二氣矽烷、乙烯基-和二乙烯基四甲基二砂氣烷* 本發明製法之總産率,以使用之有機砂化合物來計算 的話,一般可達到9δ坌。 利用下列賁施例更詳细銳明本發明》
(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) .Λ· 訂- 經濟部中夬標準局負工消費合作杜印製 在逋鑛狀態下操作的嘖射管琛狀反應器(R1)中,經由 幫浦(P1)和蒸發器(W1),將液態甲基二氣矽烷(S1)以0.8 莫耳/小時的速率,和新鮮乙炔(caH2) —起餵入*在 進入蒸發器前,新鮮乙炔與回收氣流之乙炔(S8) 一起混 合0 反鼴溫度為8ITC,整力為1.5絶對壓。間時,經由再 循環S浦(P3)以約80升/小時來操作溶剤的循環(S9), 而且再進入噴射噴嘴(R〗)前,先壓縮約10絶對 離開反應器(S 1)之氣流實存在著兩相(S 1 0 ) ·其傈由 過剩乙快和液態反應産物所構成》乙烯甲基二氰矽院的 濃度約15重量%。 -1 0 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 4 0 7 9 1 Β Α7 Β7 五、發明説明(9 ) 經濟部肀央標準局員工消費合作社印裂 在相分離器(B1)内,乙炔和産物混合物(實際上由所 需乙烯基化矽烷和初餾物和尾部餾份所構成)與溶劑分 離)《·溶劑經由幫浦(P3)的作用回到瑢劑循環(S9)。 産物混合物在冷凝器U2)内冷凝,並經由幫浦(PO當 作進料(S11)供應進蒸餾管(D1)中。過剰乙快會經由循 環管(S8)流回反應器中》反應器UU之糸統壓力經由閥 (V2)來控制。殘餘氣體經由殘餘氣體出口(S3)離開整锢 製程設備 從管柱底部(D1)裝載的溶劑和反應形成之高沸點成分 (如「雙加成物J , 1,4 -二甲基-1,1,4, 4 -四氣-1,2 -二 矽烷),經由溶劑再循環管(S7)餵入溶翔I循環中〇源自 於反應之高沸點成分,如雙加成物,可以和丨容薄^經由氣 流(S6)—起移除。從管柱(D2)底部(35>取出的乙燦基化 矽烷為高純度。 反應器中開始時填裝純溶劑,如-三甲基苯。所 使用的催化剤為傳統、均勻溶劑之基於Η 2 MCI β的氫 甲矽烷基催化劑β P t的濃約3 ρ ρ β。且經由幫浦(Ρ 2 )來進 行催化劑/溶劑(S 2 )的供_ β 以連續形態操作整個設備,溶劑被高沸點反應産物( 如「雙加成物」)稀釋。乙烯基化的選擇性,不會因高 沸點成分的增加而受到影響。 甲基二氣矽烷之矽烷轉換率有99%,而且從製程中所 得乙烯基化甲基二氣矽烷之産率為9?%。 曹旃例2L : _ -1 1 _ <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張又度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210 X 297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 6 7 9 1 6 A7 B7五、發明説明U〇 ) 根據實施例1的設備中,使用的混合物含有? β莫耳% 的甲基二氣矽烷和30莫耳%的異戊烷,進行如實施例1 相同的步驟。矽烷的輸入量為ΕΪ . 8莫耳/小時,乙炔氣 流則為1莫耳/小時。矽烷的轉換率為98%,而且從製 程中所得乙稀基化甲基二氣矽烷之産率為97%。 審掄例3 : 根據實施例1的設備中,使用的是二甲基氣矽烷。矽 烷的輸入量為1莫耳/小時,乙炔氣流則為1 . 2莫耳/ 小時。反應溫度為92 矽烷的轉換率為99.8%,而且 乙烯基化二甲基氣矽烷之選擇率逵38%。 第1圖顯.示本發明之較佳具體實施例的製法。 第1圖的關鍵字 設備部分: Rl =噴射管環狀反應器 Bl =自粗製産物氣流中分離溶劑(可能與催化劑和含Si 副産物一起)的設備部件 P1至P4 =將製程中材料氣流轉換的莆浦 Dl =蒸餾粗製産栩的蒸餾管柱 D2=精密蒸餾的蒸餾管柱 VI二調整乙炔供氣的闊 V2 =調整殘餘氣流速率的閥 Wl=含有混合部件的熱交換器 »2=從粗製産物中分離未消耗乙炔之濃縮單元 -1 2 - (請先間讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張又度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 4 67 9 16 A7 A 7 B7五、發明説明() 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 流 氣 料 材 2 至溶殘管管管溶乙溶 少解餘柱柱柱 物 合 化處 矽應 機.供 有的 之劑 圍化 基催 i β S 鮮 處H-新 氣楢之 供 一 浮 炔有懸 乙含或 Π 出 體 氣 物物 産産 部部 頂底 的的 P 出 的 物 産 M 過 部 底 之 流 管氣 環環管 循循環 再再循 劑炔劑 流 氣 相 兩 之 物物 産産 應的 反餾 \ 蒸 炔入 乙餵 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2I0X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

Claims (1)

  1. A8 BS C8 D8 、申請專利範圍 第86 1〇6 116號「乙烯基化有機矽化合物類之製法」專利案 (90年7月31日修正) (请先閲讀背面之注意事項再填窝本頁) 六、申請專利範圍: 1 .—種至少包含一 H2C= CH-Si-基團之有機矽化合物 的製法,其係藉由至少含有一個H-Si基之有機矽 化合物,與乙炔在氣相/液相反應.,-其中至少另外 存在催化劑,並從反應混合物中提取至少含有一H2C =CH-Si-基團之有機矽化合物, 其中,反應物中之有機矽化合物至少含有一個H-Si 基,而乙炔爲過量,而且實際上在催化劑存在下, 惰性液相在噴射管環狀反應器中帶來緊密的接觸, 接著,至少含有一個H2C=CH-Si-基團之有機矽化 合物會從反應混合物提取出來,而過剩的乙炔則再 循環至整個製程中; 線、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其中至少含有一個H-Si基團之有機矽化合物與乙 炔和/或與液相一起進料至噴射管環狀反應器中; 其中至少含有一個H-Si基團之有機矽化合物與乙 炔和/或與液相一起進料至噴射管環狀反應器中: 其中惰性液相實際上在進料至噴射管環狀反應器 前,預先經過加熱; 其中噴射管環狀反應器在50至200°C範圍間運轉; 其中製程中所加乙炔,其壓力大於1絕對巴,並 小於1 . 4絕對巴; 其中液相實際上爲惰性溶劑或溶劑混合物; 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 其中有機矽化合物至少包含一個純度爲10至1〇〇% 之H-Si基團; 其中乙炔對至少含有一個H-Si基團之各別有機矽 化合物的莫耳比,設定爲1·5: 1至20: 1間; 其中蒸餾的過程爲單-或多-步驟的蒸餾; 其中蒸餾的過程使用薄膜蒸發器和/或蒸餾管》 2. 如申請專利範圍第1項之製法,,其中噴射管環管狀 反應器係在70到1 40°C範圍間運轉。 3. 如申請專利範圍第1項之製法,其中噴射管環狀反 應器之系統操作壓力大於1絕對巴,而且最大允許 壓力係由GMP (良好生產規範)對乙炔在反應溫度下 所規定。 4. 如申請專利範圍第1項之製法,其中噴射管環狀反 應器之系統操作壓力爲1至3絕對巴β 5. 如申請專利範圍第1項之製法,其中液相裡各自溶 劑的沸點,均比從反應混合提取之至少包含一個H2C =CH-Si -基團的有機矽化合物高。 6. 如申請專利範圍第1項之製法,其中溶劑爲1,3,5-三甲基苯。 7 .如申請專利範圍第1項之製法,其中溶劑含有惰性 熱轉換油" 8. 如申請專利範圍第1項之製法,其中溶劑爲三甲苯。 9, 如申請專利範圔第1項之製法,其係使用均質催化 劑。 1紙張尺度適+ _家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝-----τ---;"訂‘.|-------線\ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 AS B8 C8 D8 67916 六、申請專利範圍 10 _如申請專利範圍第9項之製法,其中均質催化劑係 溶劑於液項中。 11_如申請專利範圍第1項之製法,其係使Μ非均質 催化劑。 12. 如申請專利範圍第11項之製法,其中非均質催化 劑係被放置於噴射管環狀反應器中。 13. 如申請專利範圔第1項之製法,其係使用含鉑催 化劑。 14. 如申請專利範圔第1項之製法,其中至少含有一 個H-Si基團之有機矽化合物爲 一個如通式Γ的氫矽烷 R a XbH ( 4 a - b - c ) S i Yc (I) 式中R: 1至8個碳原子的烷基、鹵院基和芳基,且 R可爲相同或不同, X:C1、0H、1至4個碳原子之烷氧基, Y: ^ ,其中 R.:H、R 和 X, 且R’可爲相同或不同,又d=l,2,3或4, 且 e = 0,1 或 2, a : 0,1,2 或 3, b : 0,1,2 或 3, c:0 或 1,其中(a + b+c)芸 3, 或如通式Π的氫矽氧烷 RaXb,H(3 - a - b) S i Y ( I I ) 式中R: 1至8個碳原子的烷基、鹵烷基和芳基, -3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) - I . I I I I I Ί] -null— I---- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 線、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制农 C8 D8 ~ ....... 1 -—- 六、申請專利範圍 且R可爲相同或不同, X:C1、0H、1至4個碳原子之烷氧基, Y: ’其中 R,:H、R 和 X, 且R’可爲相同或不同,又f=1,2,3,4或5, a : 0,1 或 2, b · 〇,1 或 2,其中(a+b)g 2, 或如通式III的氫矽氧烷 (III) 式中R: 1至8個碳原子的烷基、鹵烷基和芳基, 且R可爲相同或不同, X : Cl、OH、1至4個碳原子之烷氧基, q : 0,或 1, r:0,或 1,其中(q+r)gl, s : 3 或 4。 15. 如申請專利範圍第1項之製法,其中起始材料中 所使用的有機矽化合物實際上包括甲基二氯矽烷、 或二甲基氯矽烷、或由其所構成之混合物、或二氯 矽烷、或四甲基二矽氧烷。 16. 如申請專利範圍第1項之製法,其中漸漸自反應 混合物提取至少含有一個H2C=CH-Si-基團的有機 矽化合物的過程,係藉由蒸餾而完成,而且製程中 累積在底部的液相產物大量回收至製程中。 17. 如申請專利範圍第1項之製法’其中提取的是單 乙烯基化有機矽化合物。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ί請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 裝-----:---訂---------線、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 6 7 9 1 6 A8 B8 C8 DS 六、申請專利範圍 18. 如申請專利範圍第1項之製法,其中提取的是二 乙烯基化有機矽化合物。 19. 如申請專利範圍第1項之製法,其中提取的是多 乙烯基化有機矽化合物。 20. 如申請專利範圍第1項之製法,其中反應混合物 的製程係在減壓下進行。 21. 如申請專利範圍第1項之製法,其中製程爲連續 進行。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 線、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
TW086106116A 1996-05-11 1997-05-08 Process for preparing vinylated organosilicon compounds TW467916B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19619138A DE19619138C2 (de) 1996-05-11 1996-05-11 Verfahren zur Herstellung von vinylierten Silicium-organischen Verbindungen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW467916B true TW467916B (en) 2001-12-11

Family

ID=7794113

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW086106116A TW467916B (en) 1996-05-11 1997-05-08 Process for preparing vinylated organosilicon compounds

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5929269A (zh)
EP (1) EP0806427B1 (zh)
JP (1) JPH1059982A (zh)
KR (1) KR970074785A (zh)
CN (1) CN1170723A (zh)
DE (2) DE19619138C2 (zh)
ES (1) ES2189900T3 (zh)
TW (1) TW467916B (zh)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9502342D0 (en) * 1995-02-07 1995-03-29 Exxon Chemical Patents Inc Hydrocarbon treatment and catalyst therefor
DE19859759C1 (de) 1998-12-23 2000-06-29 Goldschmidt Ag Th Verfahren und Vorrichtung zur Durchführung kontinuierlicher Hydrosilylierungsreaktionen
JP5530429B2 (ja) * 2008-07-01 2014-06-25 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド 気体状の不飽和炭化水素のハイドロシリレーションプロセス
DE102010043996A1 (de) * 2010-11-16 2012-05-16 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Herstellung alkoxysubstituierter 1,2-Bis-Silyl-Ethane
CN103183701B (zh) * 2011-12-30 2016-02-03 浙江新安化工集团股份有限公司 乙烯基含氯硅烷的制备方法
US8987494B2 (en) 2012-04-11 2015-03-24 Gelest Technologies, Inc. Low molecular weight carbosilanes, precursors thereof, and methods of preparation
CN103570756A (zh) * 2012-08-07 2014-02-12 山东万达有机硅新材料有限公司 一种制备乙烯基三氯硅烷化合物的方法
CN102875585B (zh) * 2012-10-17 2015-09-02 嘉兴联合化学有限公司 一种制备四甲基二乙烯基二硅氧烷的方法
CN103113399B (zh) * 2013-03-08 2015-12-23 嘉兴学院 一种制备二甲基乙烯基氯硅烷的方法
WO2023222245A1 (de) 2022-05-20 2023-11-23 Wacker Chemie Ag Verfahren zur herstellung von organosiliciumverbindungen

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2851473A (en) * 1955-12-23 1958-09-09 Union Carbide Corp Processes for the reaction of silanic hydrogen-bonded compounds with unsaturated hydrocarbons
NL132148C (zh) * 1963-12-18
DE2131742C3 (de) * 1971-06-25 1974-11-14 Wacker-Chemie Gmbh, 8000 Muenchen Verfahren zur Herstellung von Alkenylsilanen
JPS5935591B2 (ja) * 1978-03-10 1984-08-29 田辺製薬株式会社 グルタチオンの製造法
DE2851456C2 (de) * 1978-11-28 1982-09-23 Wacker-Chemie GmbH, 8000 München Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen
JPS606358B2 (ja) * 1979-09-25 1985-02-18 信越化学工業株式会社 アルケニルハロシランの製造方法
DE68918990T2 (de) * 1988-06-17 1995-07-27 Massachusetts Inst Technology Verfahren zur Herstellung von Verbundwerkstoff, insbesondere eine Metallmatrix mit dispergierten Keramikteilchen.
JPH0314590A (ja) * 1989-06-09 1991-01-23 Toshiba Silicone Co Ltd 不飽和基含有有機ケイ素化合物およびその製造方法
JPH0314592A (ja) * 1989-06-09 1991-01-23 Toshiba Silicone Co Ltd 有機ケイ素化合物およびその製造方法
US4898961A (en) * 1989-07-17 1990-02-06 Dow Corning Corporation Method for preparing alkenylsilanes
JP2676001B2 (ja) * 1990-03-08 1997-11-12 工業技術院長 1,2―ビスシリルエチレン誘導体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN1170723A (zh) 1998-01-21
JPH1059982A (ja) 1998-03-03
DE19619138A1 (de) 1997-11-13
US5929269A (en) 1999-07-27
KR970074785A (ko) 1997-12-10
EP0806427A3 (de) 1999-10-27
EP0806427A2 (de) 1997-11-12
EP0806427B1 (de) 2003-02-19
DE19619138C2 (de) 2002-04-18
DE59709326D1 (de) 2003-03-27
ES2189900T3 (es) 2003-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW467916B (en) Process for preparing vinylated organosilicon compounds
US7339069B2 (en) Continuous process for preparing SiOC-containing compounds
US20060167202A1 (en) Process for continuously preparing low-alkoxy silicone resins
TW450993B (en) Recovery of styrene from pyrolysis gasoline by extractive distillation
JP4587262B2 (ja) ギ酸の製法
TWI250148B (en) Process and apparatus for the production of butylacetate and isobutylacetate
TWI303242B (en) Process for producing high purity trialkanolamine
US4609752A (en) Process and apparatus for continuously synthesizing alkoxypolysiloxanes
TW200724227A (en) Apparatus and method for continuously carried out equilibrium reactions
HU229966B1 (hu) Egyedényes eljárás 2-oxazolidinon-származékok előállítására
CN102159533B (zh) 制备西那卡塞的方法
CN104144934A (zh) 由常规非可裂化的直接法残留物合成有机基卤代硅烷单体
KR100935120B1 (ko) 재활용된 염화수소를 이용한 클로로메탄의 제조 방법
JPH10513456A (ja) アミノエチルエタノールアミンおよび/またはヒドロキシエチルピペラジンを製造するための方法
CN102137832A (zh) 制备环酮的方法
TW380132B (en) A process for the preparation and fractionation of a mixture of dimethyl ether and chloromethane with methanol as extractant
JPH07502018A (ja) 2−エチル−2−(ヒドロキシメチル)ヘキサナール及び2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールの連続合成方法
TW593234B (en) Process for producing aliphatic tricarbonitriles
TW411343B (en) A process for preparing 1-(3-trialkylsilylphenyl)-2,2,2-trifluoromethyl ethanone derivatives
JPS6061585A (ja) 2−フエニルエチルクロルシランの製法
JP2021512888A (ja) トラゾドンの調製のための継続的なプロセス
CN101717367A (zh) N,n'-二烷基环脲类衍生物的制备方法
US5084589A (en) Process for synthesis of methoxy substituted methylsilanes
JP2736916B2 (ja) シベトンの製造法
WO2018033199A1 (de) Verfahren zur herstellung von sekundären aminoorganosiliciumverbindungen

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees