JP2003137892A - 3位で官能化されたオルガノシランの製造方法 - Google Patents

3位で官能化されたオルガノシランの製造方法

Info

Publication number
JP2003137892A
JP2003137892A JP2002314495A JP2002314495A JP2003137892A JP 2003137892 A JP2003137892 A JP 2003137892A JP 2002314495 A JP2002314495 A JP 2002314495A JP 2002314495 A JP2002314495 A JP 2002314495A JP 2003137892 A JP2003137892 A JP 2003137892A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reaction
zone
product
reaction zone
separation zone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002314495A
Other languages
English (en)
Inventor
Raymund Dr Sonnenschein
ゾンネンシャイン ライムント
Christoph Dr Batz-Sohn
バッツ−ゾーン クリストフ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Degussa GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Degussa GmbH filed Critical Degussa GmbH
Publication of JP2003137892A publication Critical patent/JP2003137892A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12Organo silicon halides
    • C07F7/14Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • C07F7/0825Preparations of compounds not comprising Si-Si or Si-cyano linkages
    • C07F7/0827Syntheses with formation of a Si-C bond
    • C07F7/0829Hydrosilylation reactions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • C07F7/1872Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
    • C07F7/1876Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アリル化合物(HC=CH−CHX)を
シラン(RSiH)と、反応塔中で、1bar
〜25barの圧力下に、不均一系白金触媒の存在で反応
させることを含む、3位で官能化されたオルガノシラン
の製造方法。 【解決手段】 シラン反応物は、反応塔中に存在し、か
つアリル化合物に対して化学量論的過剰量で反応塔中へ
導入され、反応塔は、好ましくは反応帯域、反応帯域の
上に位置した第一の分離帯域及び反応帯域の下に位置し
た第二の分離帯域を含み、その際、第一の生成物は、反
応帯域を出てかつ第一の分離帯域に入り、かつ第二の生
成物は反応帯域を出てかつ第二の分離帯域に入り、蒸留
は、反応室中の反応と同時に起こる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、3位で官能化され
たオルガノシランの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ハイドロジェンシラン類が、均一系白金
触媒又は不均一系白金触媒の存在で、例えば塩化アリル
と反応して3−クロロプロピルシラン類を形成しうるこ
とは公知である。この反応は、一般に“ヒドロシリル
化”と呼ばれ、かつ反応式Iに例示されている。
【0003】
【化1】
【0004】可溶性白金化合物−最も単純な場合に、例
えばHPtClが、反応のための触媒として使用さ
れる場合の均一系ヒドロシリル化が言われる(ドイツ連
邦共和国特許出願公開(DE-OS)第28 51 456号明細書;チ
ェコスロバキア社会主義共和国特許(CS-PS)第176 910号
明細書;米国特許第4,292,433号明細書;米国特許第4,2
92,434号明細書;ドイツ連邦共和国特許出願公告(DE-A
S)第11 87 240号明細書;及びドイツ連邦共和国特許(DE
-PS)第11 65 028号明細書参照、これらの全てが参考に
よりここで取り込まれる)。不均一系ヒドロシリル化の
場合に、担体上の元素白金又は白金化合物は、反応触媒
として使用される(米国特許第2,637,738号明細書;ド
イツ連邦共和国特許(DE-PS)第20 12 229号明細書;及び
ドイツ連邦共和国特許(DE-PS)第28 15 316号明細書参
照、これらの全てが参考によりここで取り込まれる)。
【0005】また、例えば、塩化アリルがハイドロジェ
ンシラン類と反応して3−クロロプロピルシラン類を形
成するにあたり(例えば上記反応式(I))、一部の塩
化アリルが、二次反応においてハイドロジェンシラン類
と反応して、プロペン及び関連ハイドロジェンシランに
相応するクロロシランを形成することも公知である。例
えば、反応式II参照。
【0006】
【化2】
【0007】従って、例えば、塩化アリルとトリクロロ
シランとの反応において、反応される塩化アリル25〜
30mol%は、反応式(II)で示された二次反応によ
りプロペンに変換される。等モル量の四塩化ケイ素は、
この望ましくない二次反応において形成される。
【0008】形成されたクロロプロピルシランと四塩化
ケイ素のモル比は、反応の選択率の尺度である。この選
択率は、典型的には、2.33:1(収率70%、塩化
アリルに対して)〜3:1(収率75%)の値を達成す
る。
【0009】また、プロペンの形成が、特別な方法で反
応を行うことにより低下することができることも公知で
ある。この操作形式は、更にハイドロジェンシランと定
量的に反応してプロピルシラン類を形成するプロペンを
生じる。また、反応が、常法で、常圧下に実施される
と、二次反応から発生するプロペンは、別の二次反応に
おいてハイドロジェンシランとかなりの程度まで反応し
て相応するプロピルシラン類を形成する(DE 34 04 703
Cも参照, 参考によりここで取り込まれる)。例えば、
反応式III参照。
【0010】
【化3】
【0011】従って、例えば、白金処理された活性炭が
充填された塔中での塩化アリル及びトリクロロシランの
不均一系触媒反応を用いる工業用プラントにおいて、3
−クロロプロピルトリクロロシラン1000kg当たり
プロピルトリクロロシラン230kgまでが得られる。
そのことは、標的生成物になったトリクロロシラン量に
関連して、望ましくない副生物(例えばプロピルシラン
類)を生じるにあたり使い果たされるトリクロロシラン
を補給するために、付加的な約28%のトリクロロシラ
ン出発材料が必要とされることを意味する(DE 41 19 9
94 A1も参照,参考によりここで取り込まれる)。
【0012】公知方法は、一方では付加的なハイドロジ
ェンシラン反応物が必要であり、かつ他方では、望まし
くないプロピルシラン類が分離し難いという欠点を有す
る。それに加えて、これらの望ましくない二次化合物の
適用分野はなく、かつ費用集約的な手段は、それらを処
分するのに使用されなければならないという事実があ
る。
【0013】参考によりここで取り込まれる刊行物EP-A
0 519 181からは、3−クロロプロピルシランの製造に
過剰量の塩化アリルを使用することが公知である。公知
方法は、蒸留により処理されなければならない反応混合
物が、望ましくない量の塩化アリルを含有するという欠
点を有する。
【0014】
【特許文献1】ドイツ連邦共和国特許出願公開(DE-OS)
第28 51 456号明細書
【特許文献2】チェコスロバキア社会主義共和国特許(C
S-PS)第176 910号明細書
【特許文献3】米国特許第4,292,433号明細書
【特許文献4】米国特許第4,292,434号明細書
【特許文献5】ドイツ連邦共和国特許出願公告(DE-AS)
第11 87 240号明細書
【特許文献6】ドイツ連邦共和国特許(DE-PS)第11 65 0
28号明細書
【特許文献7】米国特許第2,637,738号明細書
【特許文献8】ドイツ連邦共和国特許(DE-PS)第20 12 2
29号明細書
【特許文献9】ドイツ連邦共和国特許(DE-PS)第28 15 3
16号明細書
【特許文献10】DE 34 04 703 C
【特許文献11】DE 41 19 994 A1
【特許文献12】EP-A 0 519 181
【非特許文献1】Ullmann's Encyclopedia of Industri
al Chemistry, Vol.34, p.321以下参照(1992)
【0015】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の対象
は、この欠点を示さない3−クロロプロピルトリクロロ
シランの製造方法を見出すことである。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明は、3位で官能化
されたオルガノシランを製造する方法に関する。この方
法は、式I: HC=CH−CHX (I) [式中、XはCl、Br、I、F、CN、SCN、S
H、SR、OH、NRR及びORからなる群から選択
され、その際、R及びRは、互いに独立して、(C
〜C)アルキル又は(C〜C)アリルからなる群
から選択される]で示されるアリル化合物を、式II: RSiH (II) [式中、R、R、Rは、互いに独立して、水素、
ハロゲン、(C〜C)アルキル、(C〜C)ハ
ロゲンアルキル、(C〜C)アリル、(C
)アルコキシ、フェニル、アリール又はアラルキル
からなる群から選択される]で示されるシランと反応さ
せることを含み、その際、反応は、不均一系白金触媒の
存在で、1bar〜25barの圧力下に反応塔中で行われ
る。
【0017】好ましくは、反応塔は、反応帯域、反応帯
域の上に位置した第一の分離帯域及び反応帯域の下に位
置した第二の分離帯域を含み、その際、第一の生成物は
反応帯域を出てかつ第一の分離帯域に入り、かつ第二の
生成物は反応帯域を出てかつ第二の分離帯域に入る。そ
のような反応塔を用いて、蒸留は、反応塔中で反応と同
時に行われる。
【0018】本発明に従って、シラン反応物は、反応塔
中に存在し、かつアリル化合物に対して化学量論的過剰
量で反応塔中へ導入される。
【0019】本発明による方法において、反応帯域(又
は第一の分離帯域)からの第一の生成物中に存在する未
反応シランは、凝縮されてよく、かつ凝縮した未反応シ
ランの少なくとも一部は、次いで反応帯域中へ(好まし
くは第一の分離帯域を経て)再導入されてよい。また、
反応帯域(又は第二の分離帯域)からの第二の生成物の
一部は、気化されてよく、かつ少なくとも一部の気化流
は、次いで反応帯域中へ(好ましくは第二の分離帯域を
経て)再導入されてよい。
【0020】本発明の特に好ましい実施態様において、
アリル化合物出発材料は、ハロゲン化アリル、好ましく
は塩化アリル(“ACL”)であり、かつシラン化合物
出発材料は、トリハロゲンシラン、好ましくはトリクロ
ロシラン(“TCS”)である。塩化アリル及びトリク
ロロシランが出発反応物として使用される場合には、製
造される所望の最終生成物は、クロロプロピルトリクロ
ロシラン(“CLPTS”)である。
【0021】本発明は、図面に関連して更に理解され
る。
【0022】
【実施例】本発明による方法に有用な反応塔は、Ullman
n's Encyclopedia of IndustrialChemistry, Vol. 34,
p.321以下参照(1992)から公知であり、これは参考によ
りここで取り込まれる。
【0023】本発明の方法に使用される反応塔の1つの
有利な特徴は、化学反応が、1つの塔中で、蒸留による
その後の処理の第一段階と同時に実施されることであ
る。そのような反応塔を使用することにより、投資費用
が低下される。図1中に示されているように、反応器塔
10は、反応帯域12、反応帯域12の上に位置した第
一の分離帯域14及び反応帯域12の下に位置した第二
の分離帯域16を含んでおり、その際、第一の生成物
は、反応帯域12を出てかつ第一の分離帯域14に入
り、かつ第二の生成物は、反応帯域12を出てかつ第二
の分離帯域16に入る。そのような反応塔を用いて、蒸
留は、反応塔中で化学反応と同時に行われる。
【0024】第一の生成物は、第一の分離帯域14に入
り、そこで最初の分離が起こり、かつトリクロロシラン
及びプロペンを含有する生じる生成物は、第一の分離帯
域14を去り、かつ凝縮器18中へ導入される。凝縮器
18は、任意の適した、例えば冷却水ループ20を用い
て冷却される。凝縮器18から、未反応トリクロロシラ
ンは、管路22を経て(好ましくは第一の分離帯域14
で)反応器塔10に返送され、かつプロペン生成物は管
路24を経て除去される。
【0025】図1中に更に説明されているように、トリ
クロロシラン及び塩化アリル出発反応物は、反応塔10
の反応帯域12にそれぞれ入力路26及び28を経て供
給される。反応帯域12は、常用の不均一系白金含有触
媒充填物を備えている。所望の反応に適した任意の触媒
及び適した任意の充填構成は、本発明から逸脱すること
なく使用されることができる。トリクロロシランは、始
動の間に過剰量で添加される。反応塔10の頭部に集積
された後に、化学量論的量の比は、変換に関与する反応
に相応する。こうして、トリクロロシランが付加的な蒸
留塔を経て分離される必要はもはやない。極めて高いト
リクロロシラン過剰量は、この手順を用いて到達される
ことができ、かつ反応熱は、蒸発に使用されることがで
き、これは以下により詳細に記載される。
【0026】反応帯域12中での反応後、上記の第二の
生成物は、反応帯域12を出て、かつ第二の分離帯域1
6に入る。第二の分離帯域16からの生成物は、管路3
0を経て第二の分離帯域16及び反応器塔10を去る。
生成物路30からの生成物の一部は、蒸発器32中へ導
入され、かつ次いで反応塔10中へ(好ましくは第二の
分離帯域16を通して)再循環路36を経て再導入され
る。蒸発器32が任意の適切な方法で加熱されることが
できる一方で、上記で示されたように、好ましくは反応
帯域12中で行われる化学反応の間に発生した熱が、蒸
発器32を加熱するのに使用されることができる。蒸発
器32中へ導入されない生成物路30の一部は、最終生
成物路34を経て生成物として除去される。この生成物
路34は、主にクロロプロピルトリクロロシランを含有
し、かつ副生物、例えばプロピルトリクロロシラン及び
四塩化ケイ素も含有しうる。必要に応じてか又は所望の
場合には、生成物路34中の生成物は、更なる処理、例
えば分離又は精製プロセスにかけられてよい。
【0027】図2も、本発明の方法の一例を説明する。
この図中で、反応塔10の出入りする物質流の温度、圧
力及び貫流が示されている。図2中に説明された例にお
いて、生成物流30は、蒸発器32中へ導入され、かつ
再循環流36及び生成物流34への分離は、蒸発器32
で起こる。
【0028】5bar(絶対)の圧力で、反応に十分であ
る温度プロフィールは、反応塔10に沿って85℃〜1
90℃、好ましくは90℃〜190℃に設定される。塔
10中の段7及び8上の主反応帯域は、温度の僅かな上
昇を示す。モル濃度及び単位重量当たり質量は、塩化ア
リルが完全に反応されかつ高度に過剰量のトリクロロシ
ランが反応塔10の各理論段に到達することができるこ
とを示す。
【0029】反応塔10の個々の理論段の値[その際、
段1は凝縮器を示し、段16は蒸発器を示す]は、第I
表及び第II表に示されている。
【0030】
【表1】
【0031】
【表2】
【0032】上記のデータに説明されているように、本
発明による方法から生じる利点は、反応の選択率(クロ
ロプロピルトリクロロシランの製造への)が実質的に改
善されることである。改善された選択率は、塔に沿って
生じる極めて高い過剰量のトリクロロシランのために起
こる。望ましくないプロピルトリクロロシランの分率
は、こうして極めて低く保持されることができる。
【0033】もっと具体的に言えば、上記の例におい
て、最後の段階(蒸発段階16)でのクロロプロピルト
リクロロシランとプロピルトリクロロシランの質量比又
は重量比は、0.705742/0.147762又は
約4.8である。好ましくは、この比は、少なくとも
3.5、より好ましくは少なくとも4.0又は少なくと
も4.5である。同様に、最後の段階でのクロロプロピ
ルトリクロロシランと四塩化ケイ素との質量比又は重量
比は、0.705742/0.141317又は約5.
0である。好ましくは、この比は、少なくとも3.5、
より好ましくは少なくとも4.0又は少なくとも4.5
である。
【0034】また、反応塔を去る生成物混合物は、塩化
アリル出発材料を殆ど全く含まない(即ち、段階1、
2、15及び16での混合物は、極めて少量の塩化アリ
ルを含有するに過ぎない)。好ましくは、反応器塔を去
りかつ最終生成物路中に存在する塩化アリルの量は、1
質量%未満(関連生成物流の質量に対して)、より好ま
しくは0.1質量%未満、特に好ましくは0.01質量
%未満である。第II表中に記載された例は、最終生成
物流中でより低い濃度ですらある塩化アリルを示し、こ
のことは、この出発材料が、反応塔中で実質的に完全に
反応されることを示している。
【0035】本発明が、多様な好ましい実施態様及び例
に関連して記載されている一方で、当業者には、添付さ
れた特許請求の範囲に定義されているように、多様な変
更及び修正が発明の精神及び範囲から逸脱することなく
なされうることが認識される。
【図面の簡単な説明】
【図1】特許の保護が請求された発明の方法の略示図。
【図2】反応塔の出入りする物質流の温度、圧力及び貫
流を示した、本発明の方法を例示的な実施を示す図。
【符号の説明】
10 反応塔、 12 反応帯域、 14 第一の分離
帯域、 16 第二の分離帯域、 18 凝縮器、 2
0 冷却水、 22、24、26、28、30管路、
32 蒸発器、 34、36 管路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4H049 VN01 VP01 VQ12 VR21 VR33 VS12 VU36

Claims (24)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式I: HC=CH−CHX (I) [式中、Xは、Cl、Br、I、F、CN、SCN、S
    H、SR、OH、NRR 及びORからなる群から選択
    され、その際、R及びRは、互いに独立して、(C
    〜C)アルキル又は(C〜C)アリルからなる群
    から選択される]で示されるアリル化合物を、式II: RSiH (II) [式中、R、R、Rは、互いに独立して、水素、
    ハロゲン、(C〜C)アルキル、(C〜C)ハ
    ロゲンアルキル、(C〜C)アリル、(C
    )アルコキシ、フェニル、アリール又はアラルキル
    からなる群から選択される]で示されるシランと反応さ
    せることを含んでいる、3位で官能化されたオルガノシ
    ランを製造する方法において、前記反応を、不均一系白
    金触媒の存在で、1bar〜25barの圧力下で反応塔中で
    行うことを特徴とする、3位で官能化されたオルガノシ
    ランの製造方法。
  2. 【請求項2】 蒸留を、反応塔中での反応と同時に行
    う、請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 シランが、アリル化合物に対して化学量
    論的過剰量で反応塔中に存在する、請求項1記載の方
    法。
  4. 【請求項4】 シランを、アリル化合物に対して化学量
    論的過剰量で反応塔中へ導入する、請求項1記載の方
    法。
  5. 【請求項5】 反応塔が反応帯域を含み、その際、第一
    の生成物が反応帯域の第一の端部を去り、かつ第二の生
    成物が反応帯域の第二の端部を去る、請求項1記載の方
    法。
  6. 【請求項6】 更に、第一の生成物中の未反応シランを
    凝縮し、かつ凝縮した未反応シランの少なくとも一部を
    反応帯域中へ再導入する、請求項5記載の方法。
  7. 【請求項7】 更に、第二の生成物の一部を気化させて
    気化流を形成し、かつ少なくとも一部の気化流を反応帯
    域中へ再導入する、請求項6記載の方法。
  8. 【請求項8】 更に、第二の生成物の一部を気化させて
    気化流を形成し、かつ気化流の少なくとも一部を反応帯
    域中へ再導入する、請求項5記載の方法。
  9. 【請求項9】 反応塔が次のもの:反応帯域、反応帯域
    の上に位置した第一の分離帯域及び反応帯域の下に位置
    した第二の分離帯域を含み、その際、第一の生成物が反
    応帯域を出てかつ第一の分離帯域に入り、かつ第二の生
    成物が反応帯域を出てかつ第二の分離帯域に入る、請求
    項1記載の方法。
  10. 【請求項10】 更に、未反応シランを第一の反応帯域
    から除去し、未反応シランの少なくとも一部を凝縮し、
    かつ凝縮した未反応シランの少なくとも一部を第一の分
    離帯域中へ再導入する、請求項9記載の方法。
  11. 【請求項11】 更に、分離された生成物を第二の分離
    帯域から除去し、分離生成物の少なくとも一部を気化し
    て気化流を形成し、かつ少なくとも一部の気化流を第二
    の分離帯域中へ再導入する、請求項10記載の方法。
  12. 【請求項12】 更に、分離された生成物を第二の分離
    帯域から除去し、分離生成物の少なくとも一部を気化し
    て気化流を形成し、かつ少なくとも一部の気化流を第二
    の分離帯域中へ再導入する、請求項9記載の方法。
  13. 【請求項13】 クロロプロピルトリクロロシランを製
    造する方法において、塩化アリルをトリクロロシラン
    と、不均一系白金触媒の存在で、1bar〜25barの圧力
    下で反応塔中で反応させることを特徴とする、クロロプ
    ロピルトリクロロシランの製造方法。
  14. 【請求項14】 蒸留を、反応塔中の反応と同時に行
    う、請求項13記載の方法。
  15. 【請求項15】 トリクロロシランが、塩化アリルに対
    して化学量論的過剰量で反応塔中に存在する、請求項1
    3記載の方法。
  16. 【請求項16】 トリクロロシランを、塩化アリルに対
    して化学量論的過剰量で反応塔中へ導入する、請求項1
    3記載の方法。
  17. 【請求項17】 反応塔が反応帯域を含み、その際、第
    一の生成物が反応帯域の第一の端部を去り、かつ第二の
    生成物が反応帯域の第二の端部を去る、請求項13記載
    の方法。
  18. 【請求項18】 更に、未反応のトリクロロシランを凝
    縮し、かつ凝縮した未反応トリクロロシランの少なくと
    も一部を反応帯域中へ再導入する、請求項17記載の方
    法。
  19. 【請求項19】 更に、第二の生成物の一部を気化させ
    て気化流を形成し、かつ少なくとも一部の気化流を反応
    帯域中へ再導入する、請求項18記載の方法。
  20. 【請求項20】 更に、第二の生成物の一部を気化させ
    て気化流を形成し、かつ少なくとも一部の気化流を反応
    帯域中へ再導入する、請求項17記載の方法。
  21. 【請求項21】 反応塔が、次のもの:反応帯域、反応
    帯域の上に位置した第一の分離帯域及び反応帯域の下に
    位置した第二の分離帯域を含み、その際、第一の生成物
    が反応帯域を出てかつ第一の分離帯域に入り、かつ第二
    の生成物が反応帯域を出てかつ第二の分離帯域へ入る、
    請求項13記載の方法。
  22. 【請求項22】 更に、未反応トリクロロシランを第一
    の反応帯域から除去し、未反応トリクロロシランの少な
    くとも一部を凝縮し、かつ凝縮した未反応トリクロロシ
    ランの少なくとも一部を第一の分離帯域中へ再導入す
    る、請求項21記載の方法。
  23. 【請求項23】 更に、分離された生成物を第二の分離
    帯域から除去し、少なくとも一部の分離生成物を気化さ
    せて気化流を形成し、かつ少なくとも一部の気化流を第
    二の分離帯域中へ再導入する、請求項22記載の方法。
  24. 【請求項24】 更に、分離された生成物を第二の分離
    帯域から除去し、少なくとも一部の分離生成物を気化さ
    せて気化流を形成し、かつ少なくとも一部の気化流を第
    二の分離帯域中へ再導入する、請求項21記載の方法。
JP2002314495A 2001-10-31 2002-10-29 3位で官能化されたオルガノシランの製造方法 Pending JP2003137892A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10153795A DE10153795A1 (de) 2001-10-31 2001-10-31 Verfahren zur Herstellung von in 3-Stellung funktionalisierten Propylsilanen
DE10153795.6 2001-10-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003137892A true JP2003137892A (ja) 2003-05-14

Family

ID=7704361

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002314495A Pending JP2003137892A (ja) 2001-10-31 2002-10-29 3位で官能化されたオルガノシランの製造方法

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP1316557B1 (ja)
JP (1) JP2003137892A (ja)
CN (1) CN1417212A (ja)
DE (2) DE10153795A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101121664B1 (ko) 2009-11-27 2012-03-09 한국과학기술연구원 알릴클로로실란의 제조방법

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7569691B2 (en) 2005-04-20 2009-08-04 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Protected piperazino group-bearing organoxysilane compound and making method
DE102006039191A1 (de) * 2006-08-21 2008-03-20 Wacker Chemie Ag Kontinuierliche Herstellung von Organosilanen
CN101143874B (zh) * 2007-11-05 2011-08-24 杭州师范大学 一种含不同取代基的烯丙基氯硅烷的制备方法
DE102012210308A1 (de) 2012-06-19 2012-11-08 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Herstellung von (3-Chlorpropyl)-Trichlorsilan
CN108659029A (zh) * 2017-04-01 2018-10-16 中国科学院成都有机化学有限公司 一种硅烷偶联剂中间体的制备方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3404703A1 (de) * 1984-02-10 1985-09-05 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur herstellung von 3-chlorpropyltrichlorsilan
US5359113A (en) * 1993-11-08 1994-10-25 Dow Corning Corporation Method for maintaining catalytic activity during a hydrosilylation reaction
DE19632157A1 (de) * 1996-08-09 1998-02-12 Huels Chemische Werke Ag Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von 3-Halogen-Propyl-Organosilanen
DE19860146A1 (de) * 1998-12-24 2000-06-29 Bayer Ag Verfahren und Anlage zur Herstellung von Silan
DE10017168A1 (de) * 2000-04-07 2001-10-11 Bayer Ag Verfahren und Anlage zur Herstellung von Silan
IL147949A (en) * 2001-02-03 2004-12-15 Degussa Process for producing converted silanes profile in position 3

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101121664B1 (ko) 2009-11-27 2012-03-09 한국과학기술연구원 알릴클로로실란의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
CN1417212A (zh) 2003-05-14
EP1316557A1 (de) 2003-06-04
DE50201986D1 (de) 2005-02-17
EP1316557B1 (de) 2005-01-12
DE10153795A1 (de) 2003-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1439180B1 (en) Process for the production and purification of bis(tertiary-butylamino)silane
JP6336111B2 (ja) 純粋なトリシリルアミンを製造する方法
JP2003137892A (ja) 3位で官能化されたオルガノシランの製造方法
JP2785622B2 (ja) 3−[n−(2−アミノエチル)]アミノプロピルアルコキシシランの製造方法及びその製造装置
US5223636A (en) Process for preparing partially alkoxylated polysiloxane
US20020008011A1 (en) Method for the preparation of propylsilanes functionalized in the 3 position
KR100795317B1 (ko) 3-위치에서 관능화된 프로필 실란의 제조 방법
EP1314735B1 (en) Process for producing organosilanes
US4108882A (en) Method of preparing methylsiloxanes and methylchloride
KR20170091623A (ko) 공정 배출가스 흐름 내에 함유된 클로로실란 혼합물로부터 헥사클로로디실란의 회수 방법
US4855473A (en) Process for the preparation of organooxychlorosilanes
JPH0881473A (ja) 接触アルキル化方法
US4222953A (en) Method of preparing organosiloxanes and methylchloride
US4642363A (en) Method of preparing trialkyl organo-oxysilanes
KR100839939B1 (ko) 메틸클로로실란의 제조방법
JP3915872B2 (ja) テトラキス(トリメチルシリル)シラン及びトリス(トリメチルシリル)シランの製造方法
JPS6218483B2 (ja)
JP2619086B2 (ja) アミノシラン化合物の製造方法
JPH05194550A (ja) 3−[n−(2−アミノエチル)アミノプロピルアルコキシシランの製造方法とその製造装置
GB2139637A (en) Method of making organosiloxanes and alkyl halides from dialkyldialkoxysilanes
JPS606696A (ja) アルコキシシランの連続的製造方法
KR19980059284A (ko) 비닐클로로실란의 제조방법
KR20040082837A (ko) 메탄올 ―금속 규소 반응을 통한트리메톡시실란(tms)의 제조방법