JPH1059873A - シクロペンタジエンの製造方法 - Google Patents
シクロペンタジエンの製造方法Info
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- JPH1059873A JPH1059873A JP21566196A JP21566196A JPH1059873A JP H1059873 A JPH1059873 A JP H1059873A JP 21566196 A JP21566196 A JP 21566196A JP 21566196 A JP21566196 A JP 21566196A JP H1059873 A JPH1059873 A JP H1059873A
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- Japan
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- cyclopentadiene
- cyclopentenone
- compound
- general formula
- methyl
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 式[1]のシクロペンタジエンを良好な収率
で製造する方法を提供する。 【解決手段】 式[2] 【化1】 (式中、R1、R2、R3およびR4は互に独立して水素、
炭素数1〜20の炭化水素基または炭素数1〜20のケ
イ素含有炭化水素基である。)のシクロペンテノンとス
ルホニルヒドラジドとを酸触媒の存在下に反応させて式
[3] 【化2】 (式中、R1、R2、R3およびR4は式[2]におけると
同じ意味を有し、R5は炭素数1〜20の炭化水素基で
ある。)のヒドラゾン化合物とし、ついでこのヒドラゾ
ン化合物を周期表第1族の金属からなる有機金属と反応
させた後、式[1] 【化3】 (式中、R1、R2、R3およびR4は式[2]におけると
同じ意味を有する。)のシクロペンタジエンとする。
で製造する方法を提供する。 【解決手段】 式[2] 【化1】 (式中、R1、R2、R3およびR4は互に独立して水素、
炭素数1〜20の炭化水素基または炭素数1〜20のケ
イ素含有炭化水素基である。)のシクロペンテノンとス
ルホニルヒドラジドとを酸触媒の存在下に反応させて式
[3] 【化2】 (式中、R1、R2、R3およびR4は式[2]におけると
同じ意味を有し、R5は炭素数1〜20の炭化水素基で
ある。)のヒドラゾン化合物とし、ついでこのヒドラゾ
ン化合物を周期表第1族の金属からなる有機金属と反応
させた後、式[1] 【化3】 (式中、R1、R2、R3およびR4は式[2]におけると
同じ意味を有する。)のシクロペンタジエンとする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はシクロペンタジエン
の製造方法に関する。詳しくは、特定の構造のシクロペ
ンタジエンの合成方法に関する。
の製造方法に関する。詳しくは、特定の構造のシクロペ
ンタジエンの合成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】オレフィン重合用の均一系触媒として
は、いわゆるメタロセン化合物がよく知られており、そ
の合成原料としてシクロペンタジエン誘導体の合成方法
もメタロセン合成技術の進歩とともに種々の合成方法が
開発されてきた。それらの中で、メタロセンによるオレ
フィン重合においてポリオレフィンの立体規則性を改良
するために、メタロセンのリガンドであるシクロペンタ
ジエンの水素の幾つかをアルキル基で置換する方法でリ
ガンドとしてのシクロペンタジエン誘導体を合成する試
みがなされている(山崎ら、Chemistry Le
tters,1853(1989)、特開平4−268
307号公報)。
は、いわゆるメタロセン化合物がよく知られており、そ
の合成原料としてシクロペンタジエン誘導体の合成方法
もメタロセン合成技術の進歩とともに種々の合成方法が
開発されてきた。それらの中で、メタロセンによるオレ
フィン重合においてポリオレフィンの立体規則性を改良
するために、メタロセンのリガンドであるシクロペンタ
ジエンの水素の幾つかをアルキル基で置換する方法でリ
ガンドとしてのシクロペンタジエン誘導体を合成する試
みがなされている(山崎ら、Chemistry Le
tters,1853(1989)、特開平4−268
307号公報)。
【0003】また、同様にトリウム錯体の合成原料とし
てα位にオレフィンを有する2、3、4、5−テトラメ
チル−2−シクロペンテオンを水素化リチウムアルミニ
ウムで還元し、生成したモノオールを硫酸で脱水反応し
て1、2、3、4−テトラメチルシクロペンタジエンを
合成する方法が報告されている(T.Marksら、O
rganometallics,3,819(198
4))。
てα位にオレフィンを有する2、3、4、5−テトラメ
チル−2−シクロペンテオンを水素化リチウムアルミニ
ウムで還元し、生成したモノオールを硫酸で脱水反応し
て1、2、3、4−テトラメチルシクロペンタジエンを
合成する方法が報告されている(T.Marksら、O
rganometallics,3,819(198
4))。
【0004】しかしながら、これらの方法においても置
換基の導入位置が限られていたり、また収率が極端に低
いなどの問題の解決には至っていない。例えば、T.M
arksらの方法でのテトラアルキルシクロペンタジエ
ンの合成では、酸による2重結合の酸化分解を起こし、
収率が低い。また、3、4−ジメチル−2−シクロペン
テオンのようなケトンのα位炭素にオレフィン性の水素
を持つ化合物からの1、2−ジメチルシクロペンタジエ
ンのようなジアルキルシクロペンタジエンの合成は困難
である。これは、2−シクロペンテノールの酸脱水反応
では分解反応等が優先するために脱水反応によるシクロ
ペンタジエンの生成はできないからである。
換基の導入位置が限られていたり、また収率が極端に低
いなどの問題の解決には至っていない。例えば、T.M
arksらの方法でのテトラアルキルシクロペンタジエ
ンの合成では、酸による2重結合の酸化分解を起こし、
収率が低い。また、3、4−ジメチル−2−シクロペン
テオンのようなケトンのα位炭素にオレフィン性の水素
を持つ化合物からの1、2−ジメチルシクロペンタジエ
ンのようなジアルキルシクロペンタジエンの合成は困難
である。これは、2−シクロペンテノールの酸脱水反応
では分解反応等が優先するために脱水反応によるシクロ
ペンタジエンの生成はできないからである。
【0005】また、シクロペンタジエンに直接、置換基
を導入する試みとして、シクロペンタンジエンとブチル
リチウムなどの有機リチウムや水素化ナトリウムまたは
ナトリウムなどのアルカリ金属類との反応物であるシク
ロペンタジエニルアルカリ金属塩にハロゲン化アルキル
などを反応させてアルキル置換シクロペンタジエンを合
成することは一般的に行われるが、α、β−2置換のシ
クロペンタジエンのような互いに隣接する炭素への置換
基の導入は困難であった。
を導入する試みとして、シクロペンタンジエンとブチル
リチウムなどの有機リチウムや水素化ナトリウムまたは
ナトリウムなどのアルカリ金属類との反応物であるシク
ロペンタジエニルアルカリ金属塩にハロゲン化アルキル
などを反応させてアルキル置換シクロペンタジエンを合
成することは一般的に行われるが、α、β−2置換のシ
クロペンタジエンのような互いに隣接する炭素への置換
基の導入は困難であった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記方法によれば、特
定の構造のα、β−2置換、α、β、γ−3置換、α、
β、δ−3置換またはα、β、γ、δ−4置換シクロペ
ンタジエン誘導体の合成は困難であり、特定の構造のメ
タロセン化合物を合成するために必要なシクロペンタジ
エン誘導体の合成方法の開発が望まれる。
定の構造のα、β−2置換、α、β、γ−3置換、α、
β、δ−3置換またはα、β、γ、δ−4置換シクロペ
ンタジエン誘導体の合成は困難であり、特定の構造のメ
タロセン化合物を合成するために必要なシクロペンタジ
エン誘導体の合成方法の開発が望まれる。
【0007】したがって、本発明の目的は一般式[1]
のシクロペンタジンを良好な収率で製造する方法を提供
することにある。
のシクロペンタジンを良好な収率で製造する方法を提供
することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決して、特定の構造のシクロペンタジエンの製造方法
について鋭意検討し本発明を完成した。
解決して、特定の構造のシクロペンタジエンの製造方法
について鋭意検討し本発明を完成した。
【0009】即ち本発明は、一般式[1]
【0010】
【化4】 (式中、R1、R2、R3およびR4は互に独立して水素、
炭素数1〜20の炭化水素基または炭素数1〜20のケ
イ素含有炭化水素基から選ばれる。)で表されるシクロ
ペンタジエンの製造方法であって、その製造方法は一般
式[2]
炭素数1〜20の炭化水素基または炭素数1〜20のケ
イ素含有炭化水素基から選ばれる。)で表されるシクロ
ペンタジエンの製造方法であって、その製造方法は一般
式[2]
【0011】
【化5】 (式中、R1、R2、R3およびR4は一般式[1]におけ
ると同じ意味を有する。)で表されるシクロペンテノン
とスルホニルヒドラジドとを酸触媒の存在下に反応させ
て一般式[3]
ると同じ意味を有する。)で表されるシクロペンテノン
とスルホニルヒドラジドとを酸触媒の存在下に反応させ
て一般式[3]
【0012】
【化6】 (式中、R1、R2、R3およびR4は一般式[1]におけ
ると同じ意味を有し、R 5は炭素数1〜20の炭化水素
基から選ばれる。)で表されるヒドラゾン化合物とする
工程と、該ヒドラゾン化合物を周期表第1族の金属から
なる有機金属と反応させた後、分解して一般式[1]の
シクロペンタジエンを生成させる工程とからなることを
特徴とする製造方法である。
ると同じ意味を有し、R 5は炭素数1〜20の炭化水素
基から選ばれる。)で表されるヒドラゾン化合物とする
工程と、該ヒドラゾン化合物を周期表第1族の金属から
なる有機金属と反応させた後、分解して一般式[1]の
シクロペンタジエンを生成させる工程とからなることを
特徴とする製造方法である。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明において、一般式[1]、
一般式[2]及び一般式[3]におけるR1、R2、
R3、R4は、水素、炭素数1〜20の炭化水素基または
炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素基から選ばれ、炭
素数1〜20の炭化水素基としては炭素数1〜20のア
ルキル、炭素数3〜20のシクロアルキル、炭素数6〜
20のアリールまたは炭素数7〜20のアラルキルが挙
げられる。炭化水素基の具体例としては、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルまたはヘプ
チル、イソプロピル,2−メチルプロピル,tert−
ブチルまたはネオペンチル、シクロプロピル、シクロプ
ロピルメチル、シクロブチル、シクロブチルメチル、シ
クロペンチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘキシルメチル、ノルボルニル、ノルボルニ
ルメチル、メンチル、フェニル、トリル、キシリル、ナ
フチル、アントリル、ベンジル、フェチネル等が挙げら
れる。ケイ素含有炭化水素基としては、トリメチルシリ
ル、ジメチルエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、
シクロヘキシルジメチルシリル、ノルボニルジメチルシ
リル、トリフェニルシリルまたは2−(メチルジフェニ
ルシリル)エチル等が挙げられる。
一般式[2]及び一般式[3]におけるR1、R2、
R3、R4は、水素、炭素数1〜20の炭化水素基または
炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素基から選ばれ、炭
素数1〜20の炭化水素基としては炭素数1〜20のア
ルキル、炭素数3〜20のシクロアルキル、炭素数6〜
20のアリールまたは炭素数7〜20のアラルキルが挙
げられる。炭化水素基の具体例としては、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルまたはヘプ
チル、イソプロピル,2−メチルプロピル,tert−
ブチルまたはネオペンチル、シクロプロピル、シクロプ
ロピルメチル、シクロブチル、シクロブチルメチル、シ
クロペンチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘキシルメチル、ノルボルニル、ノルボルニ
ルメチル、メンチル、フェニル、トリル、キシリル、ナ
フチル、アントリル、ベンジル、フェチネル等が挙げら
れる。ケイ素含有炭化水素基としては、トリメチルシリ
ル、ジメチルエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、
シクロヘキシルジメチルシリル、ノルボニルジメチルシ
リル、トリフェニルシリルまたは2−(メチルジフェニ
ルシリル)エチル等が挙げられる。
【0014】本発明において、一般式[3]におけるR
5はR1〜R4と同じ炭素数1〜20の炭化水素基から選
ばれ、好ましくは、炭素数1から20のアルキル、炭素
数3〜20のシクロアルキル、炭素数6〜20のアリー
ルまたは炭素数7〜20のアラルキルが挙げられる。炭
化水素基の具体例としては、メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシルまたはヘプチル、イソ
プロピル,2−メチルプロピル,tert−ブチルまた
はネオペンチル、シクロプロピル、シクロプロピルメチ
ル、シクロブチル、シクロブチルメチル、シクロペンチ
ル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシル、シクロヘ
キシルメチル、ノルボルニル、ノルボルニルメチル、メ
ンチル、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、アン
トリル、ベンジル、フェチネル等が挙げられる。
5はR1〜R4と同じ炭素数1〜20の炭化水素基から選
ばれ、好ましくは、炭素数1から20のアルキル、炭素
数3〜20のシクロアルキル、炭素数6〜20のアリー
ルまたは炭素数7〜20のアラルキルが挙げられる。炭
化水素基の具体例としては、メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシルまたはヘプチル、イソ
プロピル,2−メチルプロピル,tert−ブチルまた
はネオペンチル、シクロプロピル、シクロプロピルメチ
ル、シクロブチル、シクロブチルメチル、シクロペンチ
ル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシル、シクロヘ
キシルメチル、ノルボルニル、ノルボルニルメチル、メ
ンチル、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、アン
トリル、ベンジル、フェチネル等が挙げられる。
【0015】本発明において、一般式[2]のシクロペ
ンテノンの合成方法は、例えば、クロトン酸エステルを
ポリリン酸で環化脱水する方法(J.−M.Coni
a,Bull.Soc.Chem.France,8−
9,2981(1970)やピロン誘導体をp−トルエ
ンスルホン酸で脱水する方法(F.X.Kohl,J.
Organomet.Chem.,243,119(1
983))等が挙げられる。例えば、このシクロペンテ
ノンとしては、シクロペンテノン、2−メチル−2−2
−シクロペンテノン、3−メチル−2−シクロペンテノ
ン、4−メチル−2−シクロペンテノン、5−メチル−
2−シクロペンテノン、2−メチル−3−シクロペンテ
ノン、3−メチル−3−シクロペンテノン、2,3−ジ
メチル−2−シクロペンテノン、3,4−ジメチル−2
−シクロペンテノン、4,5−ジメチル−2−シクロペ
ンテノン、2,4−ジメチル−2−シクロペンテノン、
2,4−ジメチル−2−シクロペンテノン、3,5−ジ
メチル−2−シクロペンテノン、2,3−ジメチル−3
−シクロペンテノン、3,4−ジメチル−3−シクロペ
ンテノン、2,4−ジメチル−3−シクロペンテノン、
2,3,4−トリメチル−2−シクロペンテノン、2,
3,5−トリメチル−2−シクロペンテノン、2,4,
5−トリメチル−2−シクロペンテノン、3,4,5−
トリメチル−2−シクロペンテノン、2,3,4−トリ
メチル−3−シクロペンテノン、2,3,5−トリメチ
ル−3−シクロペンテノン、2,3,4,5−テトラメ
チル−2−シクロペンテノン、2,3,4,5−テトラ
メチル−3−シクロペンテノン、3−t−ブチル−2−
シクロペンテノン、3−t−ブチル−3−シクロペンテ
ノン、3,4−ジ−t−ブチル−2−シクロペンテノ
ン、3−メチル−4−ジ−t−ブチル−2−シクロペン
テノン、3−メチル−4−フェニル−2−シクロペンテ
ノン、3−メチル−4−フェニル−3−シクロペンテノ
ン、3,4−ジフェニル−2−シクロペンテノン、3−
メチル−4−フェニル−2−シクロペンテノン、2,
3,4,5−テトラフェニル−2−シクロペンテノン、
3−メチル−4−トリメチルシリル−2−シクロペンテ
ノン等が挙げられる。
ンテノンの合成方法は、例えば、クロトン酸エステルを
ポリリン酸で環化脱水する方法(J.−M.Coni
a,Bull.Soc.Chem.France,8−
9,2981(1970)やピロン誘導体をp−トルエ
ンスルホン酸で脱水する方法(F.X.Kohl,J.
Organomet.Chem.,243,119(1
983))等が挙げられる。例えば、このシクロペンテ
ノンとしては、シクロペンテノン、2−メチル−2−2
−シクロペンテノン、3−メチル−2−シクロペンテノ
ン、4−メチル−2−シクロペンテノン、5−メチル−
2−シクロペンテノン、2−メチル−3−シクロペンテ
ノン、3−メチル−3−シクロペンテノン、2,3−ジ
メチル−2−シクロペンテノン、3,4−ジメチル−2
−シクロペンテノン、4,5−ジメチル−2−シクロペ
ンテノン、2,4−ジメチル−2−シクロペンテノン、
2,4−ジメチル−2−シクロペンテノン、3,5−ジ
メチル−2−シクロペンテノン、2,3−ジメチル−3
−シクロペンテノン、3,4−ジメチル−3−シクロペ
ンテノン、2,4−ジメチル−3−シクロペンテノン、
2,3,4−トリメチル−2−シクロペンテノン、2,
3,5−トリメチル−2−シクロペンテノン、2,4,
5−トリメチル−2−シクロペンテノン、3,4,5−
トリメチル−2−シクロペンテノン、2,3,4−トリ
メチル−3−シクロペンテノン、2,3,5−トリメチ
ル−3−シクロペンテノン、2,3,4,5−テトラメ
チル−2−シクロペンテノン、2,3,4,5−テトラ
メチル−3−シクロペンテノン、3−t−ブチル−2−
シクロペンテノン、3−t−ブチル−3−シクロペンテ
ノン、3,4−ジ−t−ブチル−2−シクロペンテノ
ン、3−メチル−4−ジ−t−ブチル−2−シクロペン
テノン、3−メチル−4−フェニル−2−シクロペンテ
ノン、3−メチル−4−フェニル−3−シクロペンテノ
ン、3,4−ジフェニル−2−シクロペンテノン、3−
メチル−4−フェニル−2−シクロペンテノン、2,
3,4,5−テトラフェニル−2−シクロペンテノン、
3−メチル−4−トリメチルシリル−2−シクロペンテ
ノン等が挙げられる。
【0016】これらのシクロペンテノンと酸触媒の存在
下で反応させるスルホニルヒドラジドとしては、例え
ば、メタンスルホニルヒドラジド、ベンゼンスルホニル
ヒドラジド、またはp−トルエンスルホニルヒドラジド
等が挙げられる。これらシクロペンテノンとスルホニル
ヒドラジドは等モル反応であるが、どちらかを過剰にし
て反応を行ってもよい。
下で反応させるスルホニルヒドラジドとしては、例え
ば、メタンスルホニルヒドラジド、ベンゼンスルホニル
ヒドラジド、またはp−トルエンスルホニルヒドラジド
等が挙げられる。これらシクロペンテノンとスルホニル
ヒドラジドは等モル反応であるが、どちらかを過剰にし
て反応を行ってもよい。
【0017】また、酸触媒としては、塩酸などが好まし
く用いられ、例えば、塩酸を酸触媒として用いた場合そ
の濃度は、エタノール等のアルコール系またはテトラヒ
ドロフラン等のエーテル系溶媒中に0.001〜1規定
濃度、好ましくは0.01〜0.5規定濃度である。ま
た、反応温度は室温〜還流温度である。
く用いられ、例えば、塩酸を酸触媒として用いた場合そ
の濃度は、エタノール等のアルコール系またはテトラヒ
ドロフラン等のエーテル系溶媒中に0.001〜1規定
濃度、好ましくは0.01〜0.5規定濃度である。ま
た、反応温度は室温〜還流温度である。
【0018】本発明において、上記の反応工程で生成し
た一般式[3]で表されるヒドラゾン化合物を周期表第
1族の金属からなる有機金属と反応させた後、分解して
シクロペンタジエンを生成させる工程で用いられる上記
有機金属金属としては、メチルリチウム、エチルリチウ
ム、n−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、
フェニルリチウム、シクロペンタジエニルリチウム、シ
クロペンタジエニルナトリウムまたはシクロペンタジエ
ニルカリウム等が例示される。このヒドラゾン化合物に
対して上記有機金属の使用量はヒドラゾン1当量に対し
て上記有機金属が好ましくは2当量以上である。反応
は、好ましくはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサンまたはデカリン等の脂肪族炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素、またはジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル等
の溶媒中で行い、反応温度は好ましくは−80℃〜還流
温度である。この反応の終了後、水、アルコール等で分
解して生成したシクロペンタジエンは溶剤から分離さ
れ、精製される。また、二量化してジシクロペンタンジ
エンを形成している場合は、加熱分解してシクロペンタ
ジエンにすることもできる。
た一般式[3]で表されるヒドラゾン化合物を周期表第
1族の金属からなる有機金属と反応させた後、分解して
シクロペンタジエンを生成させる工程で用いられる上記
有機金属金属としては、メチルリチウム、エチルリチウ
ム、n−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、
フェニルリチウム、シクロペンタジエニルリチウム、シ
クロペンタジエニルナトリウムまたはシクロペンタジエ
ニルカリウム等が例示される。このヒドラゾン化合物に
対して上記有機金属の使用量はヒドラゾン1当量に対し
て上記有機金属が好ましくは2当量以上である。反応
は、好ましくはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサンまたはデカリン等の脂肪族炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素、またはジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル等
の溶媒中で行い、反応温度は好ましくは−80℃〜還流
温度である。この反応の終了後、水、アルコール等で分
解して生成したシクロペンタジエンは溶剤から分離さ
れ、精製される。また、二量化してジシクロペンタンジ
エンを形成している場合は、加熱分解してシクロペンタ
ジエンにすることもできる。
【0019】
【実施例】以下に実施例を示しさらに本発明を説明する
が、本発明はこれら実施例に制限されるものではない。 実施例1 1,2−ジメチルシクロペンタジエエンの合成 180mlのエタノールに3,4−ジメチル−2−シク
ロペンテノン18.7g(170mmol)とトシルヒ
ドラジン33.6g(180mmol)とを溶解した溶
液に2mlの濃塩酸を加え、2時間還流した。この反応
物を濃縮し、析出した結晶を濾別、少量のエタノールで
洗浄し、減圧乾燥して19.2gの無色結晶のヒドラゾ
ン化合物を得た。分析値を以下に示す。1 HーNMR(270MHZ,CDC13,TMS基準)
δ;7.85(2H),7.30(2H),7.27
(1H),5.88(1H),2.72(1H),2.
70(1H),2.42(3H),1.93(1H),
1,87(3H),1.07(3H) ;融点146℃ このヒドラゾン18.4g(66mmol)をジエチル
エーテル100mlに懸濁させ、0℃、窒素雰囲気下で
125ml(175mmol)のメチルリチウムジエチ
ルエーテル溶液を1時間で滴化した。その後、室温で一
晩攪拌した。10mlの水を加え、さらに50mlの塩
化アンモニウム飽和水溶液を加えた。オレンジ色の有機
相を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を除去し、水素化カルシウムの存在下に180℃で加熱
し、蒸留して100〜140℃で2.81gの無色液体
を得た。分析値を以下に示す。1 H−NMR(270MHZ,CDC13,TMS基準)
δ;6.24,6.01(2H),2.87,2.80
(2H),1.94,1.87(6H) 実施例2 1,2,3,4−テトラメチル−1,3−シクロペンタ
ジエンの合成 40mlのエタノールに1,2,3,4−テトラメチル
−2−シクロペンテノン5.53g(40mmol)と
トシルヒドラジン7.83g(42mmol)を溶解し
た溶液に0.2mlの濃塩酸を加え、2時間還流した。
この反応物を濃縮し、析出した結果を濾別、少量のエタ
ノールで洗浄し、減圧乾燥して6.81gの無色結晶の
ヒドラゾン化合物を得た。分析値を以下に示す。1 H−NMR(90MHZ,CDC13,TMS基準)
δ;7.86(2H),7.29(2H),7.07
(1H),2.42(3H),2.32−2,05(2
H),1.77(3H),1.65(3H),1.08
(3H),0.98(3H) ;融点157℃ このヒドラゾン6.78g(22mmol)をジエチル
エーテル30mlに懸濁させ、0℃、窒素雰囲気下で5
2ml(55mmol)のメチルリチウムジエチルエー
テル溶液を1時間で滴下した。その後、室温で一晩攪拌
した。5mlの水を加え、さらに20mlの塩化アンモ
ニウム飽和水溶液を加えた。オレンジ色の有機相を分離
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を除去
し、水素化カルシウムの存在下で蒸留して141℃で
1.57gの無色液体を得た。分析値を以下に示す。1 H−NMR(270MHZ,CDC13,TMS基準)
δ;2.70(2H),1.88(6H),1.78
(6H)
が、本発明はこれら実施例に制限されるものではない。 実施例1 1,2−ジメチルシクロペンタジエエンの合成 180mlのエタノールに3,4−ジメチル−2−シク
ロペンテノン18.7g(170mmol)とトシルヒ
ドラジン33.6g(180mmol)とを溶解した溶
液に2mlの濃塩酸を加え、2時間還流した。この反応
物を濃縮し、析出した結晶を濾別、少量のエタノールで
洗浄し、減圧乾燥して19.2gの無色結晶のヒドラゾ
ン化合物を得た。分析値を以下に示す。1 HーNMR(270MHZ,CDC13,TMS基準)
δ;7.85(2H),7.30(2H),7.27
(1H),5.88(1H),2.72(1H),2.
70(1H),2.42(3H),1.93(1H),
1,87(3H),1.07(3H) ;融点146℃ このヒドラゾン18.4g(66mmol)をジエチル
エーテル100mlに懸濁させ、0℃、窒素雰囲気下で
125ml(175mmol)のメチルリチウムジエチ
ルエーテル溶液を1時間で滴化した。その後、室温で一
晩攪拌した。10mlの水を加え、さらに50mlの塩
化アンモニウム飽和水溶液を加えた。オレンジ色の有機
相を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を除去し、水素化カルシウムの存在下に180℃で加熱
し、蒸留して100〜140℃で2.81gの無色液体
を得た。分析値を以下に示す。1 H−NMR(270MHZ,CDC13,TMS基準)
δ;6.24,6.01(2H),2.87,2.80
(2H),1.94,1.87(6H) 実施例2 1,2,3,4−テトラメチル−1,3−シクロペンタ
ジエンの合成 40mlのエタノールに1,2,3,4−テトラメチル
−2−シクロペンテノン5.53g(40mmol)と
トシルヒドラジン7.83g(42mmol)を溶解し
た溶液に0.2mlの濃塩酸を加え、2時間還流した。
この反応物を濃縮し、析出した結果を濾別、少量のエタ
ノールで洗浄し、減圧乾燥して6.81gの無色結晶の
ヒドラゾン化合物を得た。分析値を以下に示す。1 H−NMR(90MHZ,CDC13,TMS基準)
δ;7.86(2H),7.29(2H),7.07
(1H),2.42(3H),2.32−2,05(2
H),1.77(3H),1.65(3H),1.08
(3H),0.98(3H) ;融点157℃ このヒドラゾン6.78g(22mmol)をジエチル
エーテル30mlに懸濁させ、0℃、窒素雰囲気下で5
2ml(55mmol)のメチルリチウムジエチルエー
テル溶液を1時間で滴下した。その後、室温で一晩攪拌
した。5mlの水を加え、さらに20mlの塩化アンモ
ニウム飽和水溶液を加えた。オレンジ色の有機相を分離
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を除去
し、水素化カルシウムの存在下で蒸留して141℃で
1.57gの無色液体を得た。分析値を以下に示す。1 H−NMR(270MHZ,CDC13,TMS基準)
δ;2.70(2H),1.88(6H),1.78
(6H)
【0020】
【発明の効果】本発明の方法を実施することにより特定
の構造のシクロペンタジエンを収率良く製造することが
可能であり、工業的に極めて価値がある。
の構造のシクロペンタジエンを収率良く製造することが
可能であり、工業的に極めて価値がある。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式[1] 【化1】 (式中、R1,R2,R3およびR4は互に独立して水素、
炭素数1〜20の炭化水素基または炭素数1〜20のケ
イ素含有炭化水素基から選ばれる。)で表されるシクロ
ペンタジエンの製造方法であって、その製造方法は一般
式[2] 【化2】 (式中、R1,R2,R3,およびR4は一般式[1]にお
けると同じ意味を有する。)で表されるシクロペンテノ
ンとスルホニルヒドラジドとを酸触媒の存在下に反応さ
せて一般式[3] 【化3】 (式中、R1,R2,R3およびR4は一般式[1]におけ
ると同じ意味を有し、R 5は炭素数1〜20の炭化水素
基から選ばれる。)で表されるヒドラゾン化合物とする
工程と、該ヒドラゾン化合物を周期表第1族の金属から
なる有機金属と反応させた後、分解して一般式[1]の
シクロペンタジエンを生成させる工程とからなることを
特徴とする製造方法。 - 【請求項2】 R1,R2,R3およびR4がメチルである
請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 R1とR4が水素、R2とR3がメチルであ
る請求項1に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21566196A JPH1059873A (ja) | 1996-08-15 | 1996-08-15 | シクロペンタジエンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21566196A JPH1059873A (ja) | 1996-08-15 | 1996-08-15 | シクロペンタジエンの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1059873A true JPH1059873A (ja) | 1998-03-03 |
Family
ID=16676091
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21566196A Pending JPH1059873A (ja) | 1996-08-15 | 1996-08-15 | シクロペンタジエンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1059873A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008519060A (ja) * | 2004-11-08 | 2008-06-05 | ジェム ファーマシューティカルズ, エルエルシー | 13−デオキシアントラサイクリン類を調製するための組成物及び方法 |
-
1996
- 1996-08-15 JP JP21566196A patent/JPH1059873A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008519060A (ja) * | 2004-11-08 | 2008-06-05 | ジェム ファーマシューティカルズ, エルエルシー | 13−デオキシアントラサイクリン類を調製するための組成物及び方法 |
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