JPH1059702A - 窒化ホウ素及びその製造方法 - Google Patents

窒化ホウ素及びその製造方法

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JPH1059702A
JPH1059702A JP22771596A JP22771596A JPH1059702A JP H1059702 A JPH1059702 A JP H1059702A JP 22771596 A JP22771596 A JP 22771596A JP 22771596 A JP22771596 A JP 22771596A JP H1059702 A JPH1059702 A JP H1059702A
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hexagonal boron
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Fuausuteinasu Fuauji
ファウスティナス ファウジ
Masato Tani
真佐人 谷
Masayoshi Suzue
正義 鈴江
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高純度、高結晶性の六方晶窒化ホウ素微細結
晶粉末及びその簡便安価な製造方法を提供する。 【解決手段】 平均粒子径が20〜200nmであり、平
均粒子径±30%以内に80重量%以上の粒子が含まれ
る六方晶窒化ホウ素微細結晶粉末は含ホウ素化合物と含
窒素化合物にアルカリ金属又はアルカリ土類金属の炭酸
塩、硫酸塩もしくは硝酸塩を混合し、非酸化性ガス雰囲
気下、1000℃〜1500℃で加熱することにより得
られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は六方晶窒化ホウ素
(以下h−BNと記す)及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】h−BNは、BN六角網面が積層した黒
鉛類似の構造を持ち、熱伝導性、電気絶縁性、耐熱性、
耐食性、化学安定性、潤滑性等に優れている。こうした
特性を生かし、粉末状態では固体潤滑剤や耐熱離型剤、
立方晶窒化ホウ素(c−BN)原料等として、また粉末
を焼結した成形体は溶解用ルツボ、電気絶縁材料、各種
電子材料等として用いられている。加えて、近年では、
その耐熱性と高熱伝導性が注目されコンピューター等の
放熱基板として更なる応用展開が期待されている。h−
BNにおいて絶縁性・放熱性を向上させるためには高純
度のh−BNであることが要求される。また、成形材料
としてのh−BNは、焼結性を向上させるため粒径が微
細で均一であることが望まれている。しかしながら、従
来、これらの特性を共に満足するh−BNを簡便且つ安
価に得る方法は知られていなかった。
【0003】従来、h−BNの工業的製造方法として
は、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物とメラミン、尿
素、ジシアンジアミド等の含窒素化合物をアンモニアガ
ス等の非酸化性ガス雰囲気で加熱し還元窒化する方法が
とられている。同法で得られる粉末は粗製h−BNとよ
ばれ、純度70〜90wt%程度の低結晶性のもので、粉
末X線回折のピークはブロードであり、結晶学的には乱
層構造窒化ホウ素(t−BN)に属するものである。こ
のものは耐水性、大気中での安定性に劣り、且つ絶縁
性、放熱性において十分なものではない。前記粗製h−
BNから純度98wt%以上の高純度h−BNを得るに
は、通常、窒素やアルゴン等の非酸化性ガス雰囲気にて
1700〜2100℃で加熱し、不純物を除去する方法
が取られる。この処理によると結晶化が進み、結晶性と
純度が向上するが、その形状は3−5μmの鱗片状とな
るため、焼結性が不十分で緻密な成形体が得られず、ま
た、樹脂や金属等に配合する充填材として用いる場合高
充填できないという欠点を有していた。加えて、前記方
法は高温処理を必要とするため製造コストが高いという
欠点を有している。
【0004】一方、高純度で微細な窒化ホウ素粉末を得
る方法としては、粗製h−BNに炭素質粉末を添加しア
ンモニアガス中1500℃以上で加熱処理し、0.5μm
以下の粒子を製造する方法が提案されている。(特開昭
61−256905号公報)しかしながら、同法は炭素
質粉末の均一添加が工業上困難であること、また従来物
に比較すれば粒径は均一微細であるものの、焼結体原料
用途等には一層の微細化が望まれること、高温加熱を必
要とし製造コストが高いこと等で未だ十分満足できる方
法ではなかった。又、初期段階で洗浄を徹底して純度を
上げる方法(特開平2−80308号、特開平3−11
5109号)も知られている。しかしながら、同法によ
り得られる微細な粒子は低結晶性もしくは乱層構造の窒
化ホウ素にとどまり、このものを高結晶性のh−BNと
するには1500℃以上での高温加熱を必要とする。と
ころが該加熱工程において結晶の微細性は損なわれてし
まう。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高純度、高
結晶性のh−BN微細結晶粉末及びその簡便安価な製造
方法の提供を課題とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は平均粒子径が2
0〜200nmであり、平均粒子径±30%以内に80重
量%以上の粒子が含まれることを特徴とするh−BNに
係る。又、本発明は、高純度、高結晶性である前記h−
BN、好ましくはX線回折図形において、(002)面
ピーク(c軸格子定数)が3.33〜3.36Å内にあ
り、(102)面ピークが、(002)面ピークに対し
て強度比100:3以上で出現するh−BNに係る。
又、本発明は含ホウ素化合物と含窒素化合物にアルカリ
金属又はアルカリ土類金属の炭酸塩、硫酸塩もしくは硝
酸塩を混合し、非酸化性ガス雰囲気下、1000℃〜1
500℃で加熱することを特徴とするh−BNの製造方
法に係る。本発明の提供するh−BNは、平均粒子径2
0〜200nm、好適には40〜80nmであり、平均粒子
径±30%以内に80重量%以上の粒子が含まれる極め
て微細な形状を有するとともに高純度、高結晶性である
から絶縁性、熱伝導性、潤滑性、焼結性等に優れた極め
て有用性の高い材料である。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明のh−BNの製造に際して
は、まず含ホウ素化合物と含窒素化合物にアルカリ金属
又はアルカリ土類金属の炭酸塩、硫酸塩もしくは硝酸塩
を混合する。本発明において含ホウ素化合物としては、
オルトホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸等のホウ酸類、三
酸化二ホウ素、二酸化二ホウ素、三酸化四ホウ素、五酸
化四ホウ素等の酸化ホウ素類、三塩化ホウ素等の塩化ホ
ウ素類、ホウ砂(ホウ酸ナトリウム)、ホウ酸アンモニ
ウム、ジボラン、ホウフッ化カリウム等を例示できる。
これらは二種以上を併用してもよい。本発明において、
含窒素化合物としては、メラミン、アンメリン、アンメ
リド、メラム、メロン、ジシアンジアミド、尿素等の化
合物を例示できる。中でもメラミンが好ましい。これら
は二種以上を併用してもよい。
【0008】本発明において、アルカリ金属又はアルカ
リ土類金属の炭酸塩、硫酸塩もしくは硝酸塩としては、
カリウム、ナトリウム、リチウム、バリウム、ストロン
チウム、カルシウム等の炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩を例示
できる。中でもアルカリ金属の炭酸塩、特に炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウムが好ましい。これらは二種以上を併
用してもよい。含ホウ素化合物と含窒素化合物の混合比
率としては、ホウ素:窒素のモル比で1:10〜10:
1程度、好ましくは1:2〜2:1程度、更に好ましく
は当モル量とするのがよい。含ホウ素化合物と含窒素化
合物の合計量に対するアルカリ金属又はアルカリ土類金
属の炭酸塩、硫酸塩もしくは硝酸塩の配合割合として
は、前者1重量部に対して後者を0.01〜3重量部程
度、好ましくは0.1〜0.5重量部程度配合するのがよ
い。配合にあたっては、ヘンシェルミキサー、スーパー
ミキサー等を用いることができる。
【0009】得られた混合物を非酸化性ガス雰囲気下、
温度1000℃〜1500℃、好ましくは1000℃〜
1200℃で15分〜24時間程度、好ましくは1〜6
時間程度焼成することにより本発明のh−BNを得るこ
とができる。非酸化性ガス雰囲気としては、窒素ガス、
アルゴンガス、アンモニアガス等の雰囲気を例示でき
る。加熱温度が1000℃を下回ると結晶性、純度が不
十分となる虞があり、好ましくない。また加熱温度が1
500℃を超えても本発明のh−BNを得ることができ
るが経済的に不利である。得られたh−BNは、アルカ
リ金属イオン、アルカリ土類金属イオン等を除去するた
め水洗もしくは希塩酸等による希酸洗浄を行ってもよ
い。
【0010】
【作用】本発明において、極めて微細で高純度、高結晶
度のh−BNが得られる機構は必ずしも明らかではない
が、本発明者等は以下の如き複合作用であると考える。
第一に、加熱反応時にアルカリ金属炭酸塩等から発生す
る炭酸ガスやアンモニアガスが反応領域をnmレベルで分
断し、BN網面の発達を抑制する。第二にBN網面同士は
その面積が小さいほど積層・秩序化は低温で起きる。第
三にアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属はボレート
となり低温での層間秩序促進剤として働く。斯くの如き
作用にて、本発明によれば、従来得られなかった高純度
で均一微細なh−BNが廉価な低温加熱にて製造でき
る。
【0011】
【実施例】以下に実施例及び比較例を示し、本発明を更
に詳細に説明する。 実施例1 メラミンとオルトホウ酸と炭酸カリウムを1:1:0.
5の重量比率で混合し、窒素雰囲気中1200℃、2時
間加熱処理し、放冷した後、温水中で水冷・乾燥した。
得られた化合物は、純度99.5%、平均粒子径43.7
4nm、標準偏差が7.39nm(平均値の17%)の均一
な粒子状白色粉末で、そのX線回折チャートを示す図1
より、(002)面ピークがシャープに示され、(10
2)面ピークがはっきり出現する高結晶性のh−BNで
あった。尚、図1において、ターゲット=Cu、λ=2
dsinθ、λ=1.54Åであり、(002)面ピークは
3.34Åにある。また、結晶子サイズLcは2000
Å以上である。図2にh−BN粉末のTEM写真、図3
にh−BN粉末の粒度分布を示す。
【0012】実施例2 炭酸カリウムに代えて炭酸ナトリウムを用いた他は実施
例1と同様にして、純度99.3%、平均粒子径61.5
nmで、標準偏差が11.6nm(平均値の19%)の均一
な高結晶性h−BNを得ることができた。 実施例3 炭酸カリウムに代えて炭酸カルシウムを用いる以外は実
施例1と同一の工程を行った結果、純度99.2%、平
均粒子径67.9nm、標準偏差15.4nm(平均値の23
%)の高結晶性h−BNを得た。 実施例4 実施例1で得られたh−BN粉末を充填剤としてPPS
(ポリフェニレンサルファイド)樹脂中にヘンシェルミ
キサーで3分間混合した後、直径30mm二軸同方向混練
押出機(300℃、60rpm)で混練実験を行った結
果、充填率60wt%までの混練が可能であった。また得
られた充填率60wt%の試料につき、レーザーフラッシ
ュ法にて熱伝導率を測定したところ、2.5W/m・Kで
あった。
【0013】比較例1 市販品h−BN(電気化学株式会社製、h−BN GP
グレード)につき、X線回折、SEM・TEM観察を行
ったところ、高結晶性のh−BNだが、平均粒径3〜5
μmのリン片状粉末であった。図4にX線回折チャー
ト、図5にSEM写真、図6にTEM写真を示す。 比較例2 メラミンとオルトホウ酸を1:1の重量比率で混合し、
窒素雰囲気中で1200℃、2時間加熱処理し、放冷し
た後、温水中で水洗・乾燥した。得られた化合物は純度
88wt%、図8のSEM写真より0.3〜3μmの不均
一なリン片状白色粉末で、図7に示すX線回折結果よ
り、低結晶性のt−BN(いわゆる粗製h−BN)であ
った。即ち、(102)面ピークは現れず、(002)
面ピークは3.35Å、結晶子サイズLcは50Åであ
る。次いで同粉末とKBO2を1200℃の窒素雰囲気
にて加熱したところ、X線回折ではh−BNであるが、
図9のSEM写真では平均粒径3〜5μmのリン片状粉
末を得た。
【0014】比較例3 比較例1のh−BN粉末を充填剤としてPPS(ポリフ
ェニレンサルファイド)樹脂中にヘンシェルミキサーで
3分間混合した後、直径30mm二軸同方向混練押出機
(300℃、60rpm)で混練実験を行った結果、充填
率40wt%までの混練が可能であったが、同量を超える
混練は不可能であった。また得られた40wt%の試料に
つきレーザーフラッシュ法にて熱伝導率を測定したとこ
ろ、1.5W/m・Kであった。
【0015】
【発明の効果】本発明によれば、高純度、高結晶性のh
−BN微細結晶粉末及びその簡便安価な製造方法が得ら
れる。なお本発明の用途は実施例に限られず、他用途に
おいても従来にない効果が得られる。例えば潤滑剤用途
としては従来のリン片状のものより潤滑油との分散性に
優れるため良質の潤滑特性が得られる。セラミック複合
体に潤滑性を付与する場合も他セラミック粒子との混合
焼結が容易である。成形体用途においては、加圧加熱成
形を行うときに従来のリン片状h−BNでは配向が起き
ていたが、本発明品を用いた場合は等方性でかつ緻密な
成形体を得ることができる。c−BN原料としても従来
品のリン片状h−BNに比べc−BNへの転換率の向上
が認められた。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例1で得られたh−BNのX線回折チャ
ートである。
【図2】 実施例1で得られたh−BNのTEM写真で
ある。
【図3】 実施例1で得られたh−BNの粒度分布を示
すグラフである。
【図4】 比較例1の市販h−BNのX線回折チャート
である。
【図5】 比較例1の市販h−BNのSEM写真であ
る。
【図6】 比較例1の市販h−BNのTEM写真であ
る。
【図7】 比較例2で得られたt−BNのX線回折チャ
ートである。
【図8】 比較例2で得られたt−BNのSEM写真で
ある。
【図9】 比較例2で得られたh−BNのSEM写真で
ある。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平均粒子径が20〜200nmであり、平
    均粒子径±30%以内に80重量%以上の粒子が含まれ
    ることを特徴とする六方晶窒化ホウ素。
  2. 【請求項2】 平均粒子径が40〜80nmであり、平均
    粒子径±30%以内に80重量%以上の粒子が含まれる
    請求項1記載の六方晶窒化ホウ素。
  3. 【請求項3】 X線回折図形において、(002)面ピ
    ークが3.33〜3.36Å内にあり、(102)面ピー
    クが、(002)面ピークに対して強度比100:3以
    上で出現する請求項1〜2記載の六方晶窒化ホウ素。
  4. 【請求項4】 純度98%以上である請求項1〜3記載
    の六方晶窒化ホウ素。
  5. 【請求項5】 含ホウ素化合物と含窒素化合物にアルカ
    リ金属又はアルカリ土類金属の炭酸塩、硫酸塩もしくは
    硝酸塩を混合し、非酸化性ガス雰囲気下、1000℃〜
    1500℃で加熱することを特徴とする請求項1〜3記
    載の六方晶窒化ホウ素の製造方法。
  6. 【請求項6】 含ホウ素化合物がホウ酸又は無水ホウ酸
    であり、含窒素化合物がメラミンである請求項5記載の
    六方晶窒化ホウ素の製造方法。
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