JPH105527A - 排ガス処理装置 - Google Patents
排ガス処理装置Info
- Publication number
- JPH105527A JPH105527A JP8160075A JP16007596A JPH105527A JP H105527 A JPH105527 A JP H105527A JP 8160075 A JP8160075 A JP 8160075A JP 16007596 A JP16007596 A JP 16007596A JP H105527 A JPH105527 A JP H105527A
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- JP
- Japan
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- waste gas
- exhaust gas
- wall surface
- removal tube
- adsorbents
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- Treating Waste Gases (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、処理効率の向上を図ることができ
る排ガス処理装置を提供することにある。 【解決手段】本発明の排ガス処理装置１は、円筒状の除
外筒１１にクリーンルームからの排ガスを供給するため
の導入口１２と、有害物の除去処理が施された排ガスを
大気に放出するための排出口１３とが上下に設けられて
いる。除外筒１１の内部には、複数の孔を有する板状の
パンチングプレート１５，１６により上下から挟み込ま
れた吸着材１４が充填されている。本発明の除外筒１１
はその内壁面の全面に、突起１７が設けられているの
で、除外筒１１の内壁面側では、吸着材１４が突起１７
による凹部に入り込み中央部と同様な密状態ができ排ガ
スが流れにくくなる。この結果、除外筒１１の内部で中
央部と内壁面側で排ガスの流速がほぼ同一となり、均一
な排ガス流路が形成できるので、吸着材１４を全体とし
て有効に利用することができる。
る排ガス処理装置を提供することにある。 【解決手段】本発明の排ガス処理装置１は、円筒状の除
外筒１１にクリーンルームからの排ガスを供給するため
の導入口１２と、有害物の除去処理が施された排ガスを
大気に放出するための排出口１３とが上下に設けられて
いる。除外筒１１の内部には、複数の孔を有する板状の
パンチングプレート１５，１６により上下から挟み込ま
れた吸着材１４が充填されている。本発明の除外筒１１
はその内壁面の全面に、突起１７が設けられているの
で、除外筒１１の内壁面側では、吸着材１４が突起１７
による凹部に入り込み中央部と同様な密状態ができ排ガ
スが流れにくくなる。この結果、除外筒１１の内部で中
央部と内壁面側で排ガスの流速がほぼ同一となり、均一
な排ガス流路が形成できるので、吸着材１４を全体とし
て有効に利用することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造のプロ
セスにおいて排出されるガスを処理する排ガス処理装置
に関し、特に処理効率を向上することができる排ガス処
理装置に関する。
セスにおいて排出されるガスを処理する排ガス処理装置
に関し、特に処理効率を向上することができる排ガス処
理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造のプロセスの中のＣＶＤ（Ch
emical Vaper Deposition） プロセスでは、シラン（Ｓ
ｉＨ4），ジクロルシラン（ＳｉＨ2Ｃｌ2）等のシラン
系ガスやアンモニア（ＮＨ3）ガスが使用され、目的の
結晶成長や膜生成が行われるとクリーンルームから排ガ
スとして大気中に排出される。
emical Vaper Deposition） プロセスでは、シラン（Ｓ
ｉＨ4），ジクロルシラン（ＳｉＨ2Ｃｌ2）等のシラン
系ガスやアンモニア（ＮＨ3）ガスが使用され、目的の
結晶成長や膜生成が行われるとクリーンルームから排ガ
スとして大気中に排出される。
【０００３】しかし、クリーンルームから排出されるこ
れらのガスは有毒物質であるため、大気中に放出する前
に排ガス処理装置で除去処理が施されている。従来の排
ガス処理装置を利用した有毒物質の除去は、図３に示す
ように、混合器２内にクリーンルームからの排ガスを導
入管５を介して送り込むとともに、酸素（Ｏ2）を送り
込み排ガスが酸化させる。そして、混合器２内の酸化作
用で生成された反応物をフィルター３で除去した後、さ
らに未反応の排ガスを筒状の排ガス処理装置１に送り込
んでいる。排ガス処理装置１には吸着材が充填されてお
り、未反応排ガスが通過することで有害物質の除去処理
が施される。このとき、未反応排ガスを確実に除去処理
をするため、排ガスの流速を遅くし滞留時間を長くして
る。最後に排ガス処理装置１と通過した排ガスをポンプ
４により大気中に放出している。
れらのガスは有毒物質であるため、大気中に放出する前
に排ガス処理装置で除去処理が施されている。従来の排
ガス処理装置を利用した有毒物質の除去は、図３に示す
ように、混合器２内にクリーンルームからの排ガスを導
入管５を介して送り込むとともに、酸素（Ｏ2）を送り
込み排ガスが酸化させる。そして、混合器２内の酸化作
用で生成された反応物をフィルター３で除去した後、さ
らに未反応の排ガスを筒状の排ガス処理装置１に送り込
んでいる。排ガス処理装置１には吸着材が充填されてお
り、未反応排ガスが通過することで有害物質の除去処理
が施される。このとき、未反応排ガスを確実に除去処理
をするため、排ガスの流速を遅くし滞留時間を長くして
る。最後に排ガス処理装置１と通過した排ガスをポンプ
４により大気中に放出している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述の排ガス処理装置
１は、図４（ａ）に示すように、円筒状の除外筒１１に
排ガスの導入口１２及び排出口１３が設けられており、
その内部では吸着材１４が複数の孔を有する板状のパン
チングプレート１５，１６により上下から挟み込まれて
いる。
１は、図４（ａ）に示すように、円筒状の除外筒１１に
排ガスの導入口１２及び排出口１３が設けられており、
その内部では吸着材１４が複数の孔を有する板状のパン
チングプレート１５，１６により上下から挟み込まれて
いる。
【０００５】この構造の排ガス処理装置１では、図４
（ｂ）に示すように、除外筒１１の内壁面が平坦面で形
成されているので、内壁面側では吸着材１４の密度が粗
となり、導入口１２から導入された排ガスは、図４
（ａ）の矢印に示すように、除外筒１１の内壁面側では
流れやすく、中央に向かうに従い流れにくくなり、排ガ
スの流路が不均一となっていた。
（ｂ）に示すように、除外筒１１の内壁面が平坦面で形
成されているので、内壁面側では吸着材１４の密度が粗
となり、導入口１２から導入された排ガスは、図４
（ａ）の矢印に示すように、除外筒１１の内壁面側では
流れやすく、中央に向かうに従い流れにくくなり、排ガ
スの流路が不均一となっていた。
【０００６】その結果、矢印に示す排ガスの流路では、
吸着材１４と排ガスとが常時触れているので除去処理に
有効に寄与するが、逆に短時間に破過してしまい、流路
以外の未破過の領域があるにも関わらず、排ガス処理装
置１の交換を余儀なくされていた。本発明の目的は、上
述した問題点に鑑み、処理効率の向上を図ることができ
る排ガス処理装置を提供することにある。
吸着材１４と排ガスとが常時触れているので除去処理に
有効に寄与するが、逆に短時間に破過してしまい、流路
以外の未破過の領域があるにも関わらず、排ガス処理装
置１の交換を余儀なくされていた。本発明の目的は、上
述した問題点に鑑み、処理効率の向上を図ることができ
る排ガス処理装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために次のような構成をとる。すなわち、本発明
の排ガス処理装置は、内部に吸着材が充填された除外筒
を有する排ガス処理装置において、前記除外筒の内壁面
に突起を設けたことを特徴とするものである。本発明に
よれば、除外筒の内壁面に突起を設けて排ガスを流れに
くくしているので、除外筒の中央部と内壁面側との流れ
易さを均一にすることができ、吸着材の除去効率を向上
させることができる。
成するために次のような構成をとる。すなわち、本発明
の排ガス処理装置は、内部に吸着材が充填された除外筒
を有する排ガス処理装置において、前記除外筒の内壁面
に突起を設けたことを特徴とするものである。本発明に
よれば、除外筒の内壁面に突起を設けて排ガスを流れに
くくしているので、除外筒の中央部と内壁面側との流れ
易さを均一にすることができ、吸着材の除去効率を向上
させることができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を、図面を
参照しつつ具体的に説明する。尚、従来と同一部分や相
当部分には同一の符号を付している。本発明の排ガス処
理装置１は、図１（ａ）に示すように、円筒状の除外筒
１１には、クリーンルームからの排ガスを供給するため
の導入口１２と、有害物の除去処理が施された排ガスを
大気に放出するための排出口１３とが上下に設けられて
いる。除外筒１１は、耐薬品性や気密性が要求されるの
で、例えば、ＳＵＳ等の材料が使用される。
参照しつつ具体的に説明する。尚、従来と同一部分や相
当部分には同一の符号を付している。本発明の排ガス処
理装置１は、図１（ａ）に示すように、円筒状の除外筒
１１には、クリーンルームからの排ガスを供給するため
の導入口１２と、有害物の除去処理が施された排ガスを
大気に放出するための排出口１３とが上下に設けられて
いる。除外筒１１は、耐薬品性や気密性が要求されるの
で、例えば、ＳＵＳ等の材料が使用される。
【０００９】除外筒１１の内部には、複数の孔を有する
板状のパンチングプレート１５，１６により上下から挟
み込まれた吸着材１４が充填されている。吸着材１４と
しては活性炭等のそれ自体が除去能力を有するものの
他、白金等の触媒作用を有するものが使用されている。
本発明の除外筒１１はその内壁面の全面に、突起１７が
設けられているので、図１（ｂ）に示すように、除外筒
１１の内壁面側では、吸着材１４が突起１７による凹部
に入り込み中央部と同様な密状態ができ排ガスが流れに
くくなる。この結果、除外筒１１の内部で中央部と内壁
面側で排ガスの流速がほぼ同一となり、均一な排ガス流
路が形成できるので、吸着材１４を全体として有効に利
用することができる。
板状のパンチングプレート１５，１６により上下から挟
み込まれた吸着材１４が充填されている。吸着材１４と
しては活性炭等のそれ自体が除去能力を有するものの
他、白金等の触媒作用を有するものが使用されている。
本発明の除外筒１１はその内壁面の全面に、突起１７が
設けられているので、図１（ｂ）に示すように、除外筒
１１の内壁面側では、吸着材１４が突起１７による凹部
に入り込み中央部と同様な密状態ができ排ガスが流れに
くくなる。この結果、除外筒１１の内部で中央部と内壁
面側で排ガスの流速がほぼ同一となり、均一な排ガス流
路が形成できるので、吸着材１４を全体として有効に利
用することができる。
【００１０】除外筒１１の内壁面側に設けられる突起
は、使用される吸着材の大きさ形状に近い加工が可能な
ら、図２（ａ）に示す半球状の突起１７ａや、同図
（ｂ）に示す内壁面にＳＵＳ材等で形成された吸着剤の
ダミー１７ｂをコート材１８で接着させた場合でも良
い。また、使用される吸着材の大きさ形状に近い加工が
困難な場合、同図（ｃ）に示すように、吸着剤に比して
大きな波形の突起１７ｃを形成し、除外筒１１の内壁面
を通過する排ガスの経路を長くしても良い。いずれの場
合においても、、排ガスの流路をより均一にすることが
できる。
は、使用される吸着材の大きさ形状に近い加工が可能な
ら、図２（ａ）に示す半球状の突起１７ａや、同図
（ｂ）に示す内壁面にＳＵＳ材等で形成された吸着剤の
ダミー１７ｂをコート材１８で接着させた場合でも良
い。また、使用される吸着材の大きさ形状に近い加工が
困難な場合、同図（ｃ）に示すように、吸着剤に比して
大きな波形の突起１７ｃを形成し、除外筒１１の内壁面
を通過する排ガスの経路を長くしても良い。いずれの場
合においても、、排ガスの流路をより均一にすることが
できる。
【００１１】
【発明の効果】以上、説明したように本発明による排ガ
ス処理装置によれば、除外筒の内壁面側で吸着材が突起
による凹部に入り込み中央部と同様な密状態ができ排ガ
スが流れにくくなり、除外筒の内部で中央部と内壁面側
で排ガスの流速がほぼ同一となる。この結果、除外筒の
内部で均一な排ガス流路が形成できるのでき、吸着材を
全体として有効に利用することができる。
ス処理装置によれば、除外筒の内壁面側で吸着材が突起
による凹部に入り込み中央部と同様な密状態ができ排ガ
スが流れにくくなり、除外筒の内部で中央部と内壁面側
で排ガスの流速がほぼ同一となる。この結果、除外筒の
内部で均一な排ガス流路が形成できるのでき、吸着材を
全体として有効に利用することができる。
【図１】本発明の排ガス処理装置を示す説明図。
【図２】本発明の排ガス処理装置に形成される突起形状
を示す説明図。
を示す説明図。
【図３】排ガス処理システムを示す説明図。
【図４】従来の排ガス処理装置を示す説明図。
１ 排ガス処理装置 １１ 除外筒 １２ 導入口 １３ 排出口 １４ 吸着材 １５，１６ パンチングプレート １７ 突起
Claims (1)
- 【請求項１】内部に吸着材が充填された除外筒を有する
排ガス処理装置において、前記除外筒の内壁面に突起を
設けたことを特徴とする排ガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8160075A JPH105527A (ja) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | 排ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8160075A JPH105527A (ja) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | 排ガス処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH105527A true JPH105527A (ja) | 1998-01-13 |
Family
ID=15707343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8160075A Pending JPH105527A (ja) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | 排ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH105527A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007296458A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Nippon Muki Co Ltd | ケミカルフィルタユニット |
| US7305631B1 (en) | 2002-09-30 | 2007-12-04 | Danger, Inc. | Integrated motion sensor for a data processing device |
| JP2011183294A (ja) * | 2010-03-08 | 2011-09-22 | Nippon Limonite:Kk | 脱硫装置 |
| JP2015147182A (ja) * | 2014-02-06 | 2015-08-20 | 東京瓦斯株式会社 | 浄化器 |
-
1996
- 1996-06-20 JP JP8160075A patent/JPH105527A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7305631B1 (en) | 2002-09-30 | 2007-12-04 | Danger, Inc. | Integrated motion sensor for a data processing device |
| JP2007296458A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Nippon Muki Co Ltd | ケミカルフィルタユニット |
| JP2011183294A (ja) * | 2010-03-08 | 2011-09-22 | Nippon Limonite:Kk | 脱硫装置 |
| JP2015147182A (ja) * | 2014-02-06 | 2015-08-20 | 東京瓦斯株式会社 | 浄化器 |
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