JPH10509975A - 炎症処置用の置換ビフェニル化合物 - Google Patents

炎症処置用の置換ビフェニル化合物

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JPH10509975A JP8518855A JP51885595A JPH10509975A JP H10509975 A JPH10509975 A JP H10509975A JP 8518855 A JP8518855 A JP 8518855A JP 51885595 A JP51885595 A JP 51885595A JP H10509975 A JPH10509975 A JP H10509975A
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ビー. レイツ,デビッド
リ,ジングリン
ビー. ノートン,モニカ
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ジー.ディー.サール アンド カンパニー
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、炎症および炎症関連障害の処置に使用するための一群の置換ビフェニル化合物に関する。特に重要な化合物は、下記式IIIで定義される化合物またはその医薬として許容される塩である: 式中、R11〜R13はそれぞれ独立して、ヒドリド、ハロ、低級アルキル、低級ハロアルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、低級ジアルキルアミノおよび低級ハロアルコキシから選択され;あるいはR11およびR12は一緒になって、−O(CH2)nO−(ここでnは1〜2である)を形成している。

Description

【発明の詳細な説明】 炎症処置用の置換ビフェニル化合物 発明の分野 本発明は抗炎症薬剤の分野にあり、特に炎症および炎症に関連する疾患、例え ば関節炎を処置するための化合物、製剤および方法に関する。 発明の背景 プロスタグランジン類は炎症プロセスで重要な役割を演じ、プロスタグランジ ン類の産生、特にPGG2、PGH2およびPGE2の産生の抑制は抗炎症性医薬 の発見に共通の目標であった。しかしながら、プロスタグランジン誘発痛みおよ び炎症プロセスに付随する浮腫の軽減に活性である慣用の非ステロイド系抗炎症 薬(NSAID類)はまた、炎症プロセスに関連しない別のプロスタグランジン 調節プロセスにも影響を及ぼす点で活性である。従って、慣用のNSAID類の 大部分は、これらを高用量で使用すると、それらの治療効果を制限する重篤な副 作用、例えば生命を脅かす潰瘍を生じさせることがある。NSAID類に代わる ものとして、コルチコステロイド類の使用がある。これらは、特に長期間治療に 用いられると、さらに激烈でさえある副作用を有する。 従来のNSAID類は、ヒトのアラキドン酸/プロスタグランジン経路で酵素 を阻害することによってプロスタグランジンの産生を抑制することが見出されて いる。このような酵素にはシクロオキシゲナーゼ(COX)が包含される。炎症 に関連して誘発される酵素(すなわち、「シクロオキシゲナーゼ−2(COX− 2)」または「プロスタグランジンG/HシンターゼII」)にかかわる最近の 発見は、炎症をさらに効果的に軽減し、かつまた激烈な副作用の種類および程度 を減少させる実行可能な抑制目標を提供するものである。 置換ビフェニル化合物は写真材料の成分として報告されている。シムラ(Sh imura)等に対する米国特許第5,238,790号は、写真材料における 分散剤としてビフェニル化合物の使用を開示している。セト(Seto)等に対 する米国特許第5,294,530号は、フェーディング防止剤としてビ フェニル化合物を含有する写真材料を開示している。 ヒムラー(Himmler)等に対する米国特許第4,990,647号は、 不斉ビアリール化合物の製造方法を開示している。 置換ビフェニル化合物がアンギオテンシンII拮抗剤として活性を有すること は報告されている。ヘテロ環状基−置換ビフェニル化合物は、キム(D.Kim )等によって開示されている[Bioorg.Med.Chem.Lett., 4,41〜44(1994)]。アルデキイ(Ardecky)等に対する米国 特許第5,254,546号は、テトラゾール置換ビフェニル化合物を開示して いる。アレン(Allen)等に対する米国特許第5,240,928号は、ア ミノスルホニル−置換ビフェニル化合物を開示している。 最近、ターフェニル化合物が抗炎症薬として開示されている[R.Copel and等によるMed.Chem.Res.,5,384〜393(1995) ]。 発明の開示 炎症関連疾患の処置に有用な一群の化合物は、下記式Iで定義される化合物ま たはその医薬として許容される塩である: 式中、Aはアリールおよびヘテロアリールから選択され、この基Aは置換基と して、アルキル、ハロ、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ハロアルキル、ア ミノ、アルキルアミノ、カルボキシル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、 アルコキシアルキル、ヒドロキシルおよびメルカプトから選択される1個または 2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立して、ヒドリド、ハ ロおよびアルコキシから選択され;そしてR5〜R9はそれぞれ独立して、ヒドリ ド、アルキル、ハロ、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ハロアルキル、 アミノ、アルキルアミノ、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシア ルキル、ヒドロキシル、メルカプト、アミノスルホニルおよびアルキルスルホニ ルから選択される。 式Iで表わされる化合物は、これらに制限されないものとして、対象の炎症の 処置におよびまた炎症関連疾患の処置に、例えば痛みおよび頭痛の処置に鎮痛剤 として、あるいは発熱の処置に解熱剤として有用である。例えば、本発明の化合 物は、これらに制限されないものとして、リウマチ性関節炎、脊椎関節症、尿酸 性関節炎、変形性関節炎、全身性紅斑性狼瘡および若年性関節炎を包含する関節 炎の処置に有用である。本発明の化合物は、喘息、気管支炎、月経性痙攣、膣炎 、滑液のう炎および皮膚関連症状、例えば乾癬、湿疹、火傷および皮膚炎などの 処置に有用である。本発明の化合物はまた、胃腸疾患、例えば炎症性腸疾病、ク ローン病、胃炎、過敏性腸症候群および潰瘍性大腸炎の処置に、およびまた癌、 例えば結腸癌の予防または処置に有用である。本発明の化合物はまた、血管系疾 患、偏頭痛、結節性動脈周囲炎、甲状腺炎、再生不良性貧血、ホジキン氏病、硬 化症、リウマチ熱、タイプI糖尿病、重症筋無力症、多発性硬化症、サルコイド ーシス、ネフローゼ症候群、ベーチェット症候群、多乳房症、歯肉炎、過敏症、 損傷後に発症する浮腫、心筋虚血などの病気における炎症の処置に有用である。 本発明の化合物はまた、例えば網膜炎、網膜症、ブドウ膜症などの眼病の処置に および眼組織に対する急性損傷の処置に有用である。本発明の化合物はまた、肺 の炎症、例えばウィルス感染および嚢胞性線維症に付随する肺炎症の処置にも有 用である。本発明の化合物はまた、中枢神経系障害、例えばアルツハイマー病お よび痴呆の処置に有用である。本発明の化合物はまた、相当に少ない有害な副作 用を有するという追加の利点を伴う抗炎症薬として、例えば関節炎の処置に有用 である。これらの化合物はまた、アレルギー性鼻炎、呼吸困難症候群、内毒素シ ョック症候群、動脈硬化症および卒中、虚血および外傷から発症する中枢神経系 損傷の処置に有用である。 ヒトの処置に有用であることに加えて、これらの化合物はまた、これらに制限 されないものとして、ウマ、イヌ、ネコ、ヒツジおよびブタなどの家畜および愛 玩動物を包含する哺乳動物の処置にも有用である。 本発明の化合物はまた、部分的にまたは完全に、別種の慣用の抗炎症薬の代わ りに使用することができ、例えばステロイド類、NSAID類、5−リポキシゲ ナーゼ抑制薬、LTB4拮抗薬およびLTA4ヒドロラーゼ抑制薬などと共に、共 働治療に使用することもできる。 適当なLTA4抑制薬には、中でも、エブセレン(ebselen)、バイエ ル(Bayer)のBay−x−1005、チバガイギー(Ciba Geig y)の化合物CGS−25019C、レオデンマーク(Leo Denmark )の化合物ETH−615、リリイ(Lilly)の化合物LY−293111 、オノ(Ono)の化合物ONO−4057、テルモ(Terumo)の化合物 TMK−688、リリイ(Lilly)の化合物LY−213024、2640 86および292728、オノ(Ono)の化合物ONO−LB457、サール (Searle)の化合物SC−53228、カルシトロール(calcitr ol)、リリイ(Lilly)の化合物LY−210073、LY−22398 2、LY−233469およびLY−255283、オノ(Ono)の化合物O NO−LB−448、サール(Searle)の化合物SC−41930、SC −50605およびSC−51146およびエスケイ アンド エフ(SK&F )の化合物SKF−104493が包含される。好ましくは、このLTA4抑制 薬は、エブセレン、バイエルのBay−x−1005、チバガイギーの化合物C GS−25019C、レオデンマークの化合物ETH−615、リリイの化合物 LY−293111、オノの化合物ONO−4057およびテルモの化合物TM K−688である。 適当な5−LO抑制薬には、中でも、マソプロコール(masoprocol )、テニダップ(tenidap)、ジロイトン(zileuton)、プラン ロカスト(pranlukast)、テポキサリン(tepoxalin)、リ ロピロックス(rilopirox)、フレゼラスチン(flezelasti ne)塩酸塩、エナザドレム(enazadrem)リン酸塩およびブナプロラ スト(bunaprolast)が包含される。 本発明は好ましくは、シクロオキシゲナーゼ−1よりもシクロオキシゲナーゼ −2を選択的に抑制する化合物を包含する。好ましくは、これらの化合物は、約 0.2μMよりも小さいシクロオキシゲナーゼ−2 IC50を有し、かつまたシ クロオキシゲナーゼ−1抑制に対するシクロオキシゲナーゼ−2抑制の選択比は 少なくとも50であり、さらに好ましくは少なくとも100である。さらにより 好ましくは、これらの化合物は約1μMより大きい、さらに好ましくは10μM より大きいシクロオキシゲナーゼ−1 IC50を有する。このような好適な選択 性は、NSAID誘発副作用の発現を減少させる能力を示すことができる。 好適群の化合物は、式Iにおいて、Aがフェニル、ナフチル、5−員ヘテロア リールおよび6−員ヘテロアリールから選択され、この基Aは置換基として、低 級アルキル、ハロ、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、シアノ、低級ハロアル キル、アミノ、低級アルキルアミノ、低級ジアルキルアミノ、低級ハロアルコキ シ、低級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシアルキル、ヒドロキシルおよびメ ルカプトから選択される1個または2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4 はそれぞれ独立して、ヒドリドおよびハロから選択され;あるいはR2およびR3 は一緒になって、−O(CH2)nO−(ここで、nは1または2である)を形 成しており;そしてR5〜R9はそれぞれ独立して、ヒドリド、低級アルキル、ハ ロ、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、シアノ、低級ハロアルキル、アミノ、 低級アルキルアミノ、低級ジアルキルアミノ、低級ハロアルコキシ、低級ヒドロ キシアルキル、低級アルコキシアルキル、ヒドロキシル、メルカプト、アミノス ルホニルおよび低級アルキルスルホニルから選択される化合物またはその医薬と して許容される塩である。 さらに好ましい一群の化合物は、式Iにおいて、Aがフェニル、ナフチル、5 −員ヘテロアリールおよび6−員ヘテロアリールから選択され、この基Aは置換 基として、低級アルキル、ハロ、低級アルコキシ、低級ハロアルキルおよび低級 ジアルキルアミノから選択される1個または2個以上の基を有していてもよく; R1〜R4はそれぞれ独立して、ヒドリドおよびハロから選択され;あるいはR2 およびR3は一緒になって、−O(CH2)nO−(ここで、nは1または2であ る)を形成しており;そしてR5、R6、R8およびR9はそれぞれ、ヒドリドであ り;そしてR7はアミノスルホニルおよび低級アルキルスルホニルか ら選択される化合物またはその医薬として許容される塩である。 式I内には、Aがフェニル、ナフチル、5−員ヘテロアリールおよび6−員ヘ テロアリールから選択され、この基Aは置換基として、低級アルキル、ハロ、低 級アルコキシ、低級ハロアルキルおよび低級ジアルキルアミノから選択される1 個または2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立して、ヒド リドおよびハロから選択され;あるいはR2およびR3は一緒になって、−OCH2 O−を形成しており;そしてR7はアミノスルホニルである化合物またはその医 薬として許容される塩からなる付属群の化合物がある。 特に重要な化合物群は、式Iにおいて、Aがフェニル、チエニル、フリル、ピ ラゾリル、ピロリル、チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、イソチア ゾリル、トリアゾリルおよびピリジルから選択され、この基Aは置換基として、 メチル、エチル、フルオロ、クロロ、ブロモ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ 、n−ブトキシ、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ、フルオロメチル、ジフ ルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、トリフルオロメチル、ジクロロエチル 、ジクロロフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル 、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロエチル、ジフル オロプロピル、ジクロロプロピル、N−エチル−N−メチルアミノ、N,N−ジ メチルアミノおよびN,N−ジエチルアミノから選択される1個または2個以上 の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立して、ヒドリド、フルオロ、 クロロおよびブロから選択され;あるいはR2およびR3は一緒になって、−OC H2O−を形成しており;R5、R6、R8およびR9は、ヒドリドであり;そして R7はアミノスルホニルである化合物またはその医薬として許容される塩からな る。 式I内には、Aがフェニル、ナフチル、5−員ヘテロアリールおよび6−員ヘ テロアリールから選択され、この基Aは置換基として、低級アルキル、ハロ、低 級アルコキシ、低級ハロアルキルおよび低級ジアルキルアミノから選択される1 個または2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立して、ヒド リドおよびハロから選択され;あるいはR2およびR3は一緒になって、−OCH2 O−を形成しており;そしてR7は低級アルキルスルホニルである化 合物またはその医薬として許容される塩からなる第二の付属群の化合物がある。 特に重要な化合物の一群は、式Iにおいて、Aがフェニル、チエニル、フリル 、ピラゾリル、ピロリル、チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、イソ チアゾリル、トリアゾリルおよびピリジルから選択され、この基Aは置換基とし て、メチル、エチル、フルオロ、クロロ、ブロモ、メトキシ、エトキシ、プロポ キシ、n−ブトキシ、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ、フルオロメチル、 ジフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、トリフルオロメチル、ジクロロエ チル、ジクロロフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメ チル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロエチル、ジ フルオロプロピル、ジクロロプロピル、N−エチル−N−メチルアミノ、N,N −ジメチルアミノおよびN,N−ジエチルアミノから選択される1個または2個 以上の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立して、ヒドリド、フルオ ロ、クロロおよびブロから選択され;あるいはR2およびR3は一緒になって、− OCH2O−を形成しており;R5、R6、R8およびR9は、ヒドリドであり;そ してR7はメチルスルホニルである化合物またはその医薬として許容される塩か らなる。 式I内の特に重要な特定の化合物の一群は下記の化合物およびその医薬として 許容される塩からなる: 4−(2−ビフェニル)ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホン アミド; 4−[2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−(4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4−ジメチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド ; 4−[2−(3−メトキシ−4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(3−フルオロ−4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホン アミド; 4−[2−(4−メチル−3−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベン ゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−メチルフェニル)フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミ ド; 4−[2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスル ホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(4−メトキシ−3−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−メトキシフェニル]フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(4−フルオロ−3−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスル ホンアミド; 4−[2−(3,4−ジフルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミ ド; 4−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(4−フルオロ−3−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−フルオロフェニル]フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホン アミド; 4−[2−(4−クロロ−3−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(3,4−ジクロロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド ; 4−[2−(4−クロロ−3−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベン ゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−クロロ−3−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホン アミド; 4−[2−(3−メチル−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベン ゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−メトキシ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−フルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベン ゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4−ジ(トリフルオロメチル)フェニル]フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド; 4−[2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−トリフルオロメチルフェ ニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−メチルフェニル]フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−メトキシフェニル]フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−フルオロフェニル]フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−トリフルオロメチルフェ ニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,4−ジ(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジメチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド ; 4−[2−(3,5−ジメトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミ ド; 4−[2−(3,5−ジフルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミ ド; 4−[2−(3,5−ジクロロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド ; 4−[2−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェニル]フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4,5−トリメチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホン アミド; 4−[2−(3,5−ジメトキシ−4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジフルオロ−4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンス ルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−4−メチルフェニル]フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)−4−メチルフェニル] フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−(3,4,5−トリメトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−4−メトキシフェニル]フ ェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)−4−メトキシフェニル ]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジメチル−4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジメトキシ−4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド; 4−[2−(3,4,5−トリフルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−4−フルオロフェニル]フ ェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)−4−フルオロフェニル ]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジメチルフェニル)フェニル]ベンゼンス ルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジフルオロフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−(3,4,5−トリクロロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホン アミド; 4−[2−[4−クロロ−3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェニル]フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−クロロ−3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)フェニル] フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジメチル−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジメトキシ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4,5−トリ(トリフルオロメチル)フェニル]フェニル] ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)−4−トリフルオロメチ ルフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジメチル−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル] フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジメトキシ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル ]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジフルオロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル ]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジクロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル] フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3,5−ジ(トリフルオロメ チル)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,4,5−トリ(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−(6−フェニル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)ベンゼンスル ホンアミド; 4−[6−(3−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5−イ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−クロロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−メトキシフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5−イ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−トリフルオロメチルフェニル)−1,3−ベンゾジオキソー ル−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,4−ジメチルフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−フルオロ−4−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジオキソ ール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジオキソー ル−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−メトキシ−4−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジオキソ ール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−メチル−3−トリフルオロメチルフェニル)−1,3−ベン ゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−メチルフェニル]−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−メトキシフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5−イ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジオキソ ール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)−1,3−ベンゾジオキ ソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−1,3−ベンゾジオキソ ール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,4−ジメトキシフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール− 5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−メトキシ−3−トリフルオロメチルフェニル)−1,3−ベ ンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−メトキシフェニル]−1 ,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−フルオロフェニル]−1,3−ベンゾジオキソール−5−イ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジオキソ ール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,4−ジフルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール− 5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソ ール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−フルオロ−3−メトキシフェニル)−1,3−ベンゾジオキ ソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−フルオロ−3−トリフルオロメチルフェニル)−1,3−ベ ンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−フルオロフェニル]−1 ,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−クロロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジオキソー ル−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−クロロ−3−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソ ール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,4−ジクロロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−クロロ−3−メトキシフェニル)−1,3−ベンゾジオキソ ール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−クロロ−3−トリフルオロメチルフェニル)−1,3−ベン ゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−クロロ−3−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−トリフルオロメチルフェニル)−1,3−ベンゾジオキソー ル−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−メチル−4−トリフルオロメチルフェニル)−1,3−ベン ゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−フルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル)−1,3−ベ ンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−クロロ−4−トリフルオロメチルフェニル)−1,3−ベン ゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−メトキシ−4−トリフルオロメチルフェニル)−1,3−ベ ンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3,4−ジ(トリフルオロメチル)フェニル]−1,3−ベンゾ ジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−トリフルオロメチルフェ ニル]−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−メチルフェニル]−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−フルオロフェニル]−1 ,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−メトキシフェニル]−1 ,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−トリフルオロメチルフェ ニル]−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3,4−ジ(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−1,3−ベ ンゾジオキソール-5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジメチルフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジフルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール− 5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジクロロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジメトキシフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール− 5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェニル]−1,3−ベンゾ ジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−1,3−ベ ンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,4,5−トリメチルフェニル)−1,3−ベンゾジオキソー ル−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジフルオロ−4−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジクロロ−4−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジオ キソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジメトキシ−4−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−4−メチルフェニル]−1 ,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3,5−ジ(N,N−ジメチルフミノ)−4−メチルフェニル] −1,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジメチル−4−メトキシェニル)−1,3−ベンゾジオ キソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)−1,3−ベンゾ ジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,4,5−トリメトキシフェニル)−1,3−ベンゾジオキソ ール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−4−メトキシフェニル]− 1,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)−4−メトキシフェニル ]−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,4,5−トリメチルフェニル)−1,3−ベンゾジオキソー ル−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジフルオロ−4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾ ジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジクロロ−4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジメトキシ−4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾ ジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−4−フルオロフェニル]− 1,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)−4−フルオロフェニル ]−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−クロロ−3,5−ジメチルフェニル)−1,3−ベンゾジオ キソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−クロロ−3,5−ジフルオロフェニル)−1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,4,5−トリクロロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソー ル−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[4−クロロ−3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェニル]−1 ,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[4−クロロ−3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)フェニル] −1,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジメチル−4−トリフルオロメチルフェニル)−1,3 −ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル)−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェニル)−1,3 −ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジメトキシ−4−トリフルオロメチルフェニル)−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3,4,5−トリ(トリフルオロメチル)フェニル]−1,3− ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)−4−トリフルオロメチ ルフェニル]−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミ ド; 4−[6−[3,5−ジメチル−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル] −1,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3,5−ジフルオロフェニル ]−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3,5−ジクロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル] −1,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3,5−ジメトキシ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル ]−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3,5−ジ(トリフルオロメ チル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホン アミド; 4−[6−[3,4,5−トリ(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−(4,5−ジフルオロ−2−ビフェニル)ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−メチルフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロフェニル)−4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−トリフルオロメチルフェニル)フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル ]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジメチルフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−フルオロ−4−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−メトキシ−4−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メチル−3−トリフルオロメチルフェ ニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−メ チルフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)フ ェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジメトキシフェニル)フェニル] ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メトキシ−3−トリフルオロメチルフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−メ トキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジフルオロフェニル)フェニル] ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロ−3−メトキシフェニル)フ ェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロ−3−トリフルオロメチルフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−フ ルオロフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロフェニル)−4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4−ジクロロフェニル)−4,5−ジフルオロフェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−トリフルオロメチルフェニル)−4,5−ジフ ルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−クロロ−3−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−4, 5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−(トリフルオロメチル)フェニル)フ ェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−メチル−4−トリフルオロメチルフェ ニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−フルオロ−4−トリフルオロメチルフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−トリフルオロメチルフェニル)−4,5−ジフ ルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−メトキシ−4−(トリフルオロメチル )フェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,4−ジ(トリフルオロメチル)フェニ ル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−ト リフルオロメチルフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル ]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−メ チルフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−フ ルオロフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−4, 5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−メ トキシフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−( トリフルオロロメチル)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,4−ジ(N,N−ジメチルアミノ)フ ェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメチルフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジフルオロフェニル)フェニル] ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロフェニル)−4,5−ジフルオロフェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメトキシフェニル)フェニル] ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェニ ル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)フ ェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4,5−トリメチルフェニル)フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジフルオロ−4−メチルフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメトキシ−4−メチルフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−4− メチルフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)− 4−メチルフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル ) フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニ ル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4,5−トリメトキシフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−4− メトキシフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)− 4−メトキシフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメチル−4−フルオロフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4,5−ジフルオロフェニル)フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメトキシ−4−フルオロフェニ ル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−4− フルオロフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)− 4−フルオロフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジメチルフェニル)−4,5−ジフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジフルオロフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4,5−トリクロロフェニル)フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−クロロ−3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェニル]−4 ,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−クロロ−3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)フェニル] −4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメチル−4−(トリフルオロメ チル)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジフルオロ−4−(トリフルオロ メチル)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−(トリフルオロメチル)フェニル)−4 ,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメトキシ−4−(トリフルオロ メチル)フェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,4,5−トリ(トリフルオロメチル) フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)− 4−(トリフルオロメチル)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジメチル−4−(N,N−ジメチ ルアミノ)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジフルオロ−4−(N,N−ジメ チルアミノ)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジクロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル] −4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジメトキシ−4−(N,N−ジメ チルアミノ)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−4− (N,N−ジメチルアミノ)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,4,5−トリ(N,N−ジメチルアミ ノ)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−(3,4,5,6−テトラフルオロ−2−ビフェニル)ベンゼンスルホン アミド; 4−[2−(3−メチルフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−フルオロフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−メトキシフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[3,4,5,6−テトラフルオロ−2−(3−(トリフルオロメチル) フェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−3,4,5,6− テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−メチルフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4−ジメチルフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−フルオロ−4−メチルフェニル)−3,4,5,6−テトラ フルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−3,4,5,6−テトラフ ルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−メトキシ−4−メチルフェニル)−3,4,5,6−テトラ フルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−メチル−3−(トリフルオロメチル)フェニル)−3,4, 5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−メチルフェニル]−3, 4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−メトキシフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−メチル−4−メトキシフェニル)−3,4,5,6−テトラ フルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)−3,4,5,6−テト ラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−3,4,5,6−テトラ フルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−メトキシ−3−(トリフルオロメチル)フェニル)−3,4 ,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−メトキシフェニル]−3 ,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−フルオロフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)−3,4,5,6−テトラ フルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4−ジフルオロフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−3,4,5,6−テトラ フルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−フルオロ−3−メトキシフェニル)−3,4,5,6−テト ラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−フルオロ−3−(トリフルオロメチル)フェニル]−3,4 ,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−フルオロフェニル]−3 ,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−3,4,5,6−テトラフ ルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−フルオロフェニル)−3,4,5,6−テトラ フルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4−ジクロロフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−メトキシフェニル)−3,4,5,6−テトラ フルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−トリフルオロメチルフェニル)−3,4,5, 6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−クロロ−3−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−3, 4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[3,4,5,6−テトラフルオロ−2−[4−(トリフルオロメチル) フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−メチル−4−(トリフルオロメチル)フェニル)−3,4, 5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−フルオロ−4−(トリフルオロメチル)フェニル)−3,4 ,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−(トリフルオロメチル)フェニル)−3,4, 5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−メトキシ−4−(トリフルオロメチル)フェニル)−3,4 ,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,4−ジ(トリフルオロメチル)フェニル]−3,4,5,6 −テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−4−(トリフルオロメチル) フェニル]−3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミ ド; 4−[2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−3,4,5,6− テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−メチルフェニル]−3, 4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−フルオロフェニル]−3 ,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−3, 4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−メトキシフェニル]−3 ,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−(トリフルオロメチル) フェニル]−3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミ ド; 4−[2−[3,4−ジ(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−3,4,5 ,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジメチルフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジフルオロフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジメトキシフェニル)−3,4,5,6−テトラフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェニル]−3,4,5,6 −テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−3,4,5 ,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4,5−トリメチルフェニル)−3,4,5,6−テトラフ ルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジフルオロ−4−メチルフェニル)−3,4,5,6− テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メチルフェニル)−3,4,5,6−テ トラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジメトキシ−4−メチルフェニル)−3,4,5,6− テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−4−メチルフェニル]−3 ,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)−4−メチルフェニル]− 3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル)−3,4,5,6− テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)−3,4,5,6 −テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−3,4,5,6− テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4,5−トリメトキシフェニル)−3,4,5,6−テトラ フルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−4−メトキシフェニル]− 3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)−4−メトキシフェニル ]−3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジメチル−4−フルオロフェニル)−3,4,5,6− テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−3,4,5,6−テトラ フルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−フルオロフェニル)−3,4,5,6− テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジメトキシ−4−フルオロフェニル)−3,4,5,6 −テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−4−フルオロフェニル]− 3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)−4−フルオロフェニル ]−3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジメチルフェニル)−3,4,5,6−テ トラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジフルオロフェニル)−3,4,5,6− テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[3,4,5,6−テトラフルオロ−2−(3,4,5−トリクロロフェ ニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−3,4,5,6− テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−クロロ−3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェニル]−3 ,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−クロロ−3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)フェニル] −3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジメチル−4−(トリフルオロメチル)フェニル)−3 ,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジフルオロ−4−(トリフルオロメチル)フェニル)− 3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−(トリフルオロメチル)フェニル)−3 ,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジメトキシ−4−(トリフルオロメチル)フェニル)− 3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,4,5−トリ(トリフルオロメチル)フェニル]−3,4, 5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(N,N−ジメチルアミノ)−4−(トリフルオロメ チル)フェニル]−3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−[3,5−ジメチル−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル] −3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジフルオロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル ]−3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジクロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル] −3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジメトキシ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル ]−3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−4−(N,N−ジメチルア ミノ)フェニル]−3,4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−[3,4,5−トリ(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−3, 4,5,6−テトラフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−ヒドロキシメチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンア ミド; 4−[2−(4−メチルチオフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−シアノフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−アミノフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−ヒドロキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−(N−メチルアミノ)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(4−メトキシメチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミ ド; 4−[2−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−4,5−ジフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン−6−イル)−4 ,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(5−メチルピリジン−2−イル)フェニル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(6−メチルピリジン−3−イル)フェニル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(2−チエニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−フリル)フェニル]ベンゼンスルホン アミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−ヒドロキシメチルフェニル)フェニル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メチルチオフェニル)フェニル]ベン ゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−シアノフェニル)−4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−(4−アミノフェニル)−4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−ヒドロキシフェニル)フェニル]ベン ゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(N−メチルアミノ)フェニル]フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド;および 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メトキシメチルフェニル)フェニル] ベンゼンスルホンアミド。 式I内の特に重要な化合物の第二の群は下記の化合物およびその医薬として許 容される塩からなる: 2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−1−フェニルベンゼン; 1−(3−メチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベ ンゼン; 1−(3−メトキシフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル] ベンゼン; 1−(3−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル] ベンゼン; 1−(3−クロロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベ ンゼン; 1−(4−メチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベ ンゼン; 1−(3,4−ジメチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニ ル]ベンゼン; 1−(3−メトキシ−4−メチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル )フェニル]ベンゼン; 1−(3−フルオロ−4−メチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル )フェニル]ベンゼン; 1−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル) フェニル]ベンゼン; 1−(4−メトキシフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル] ベンゼン; 1−(3−メチル−4−メトキシフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル )フェニル]ベンゼン; 1−(3,4−ジメトキシフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェ ニル]ベンゼン; 2−フルオロ−1−メトキシ−4−[2−[4−(メチルスルホニル)フェニ ル]フェニル]ベンゼン; 2−クロロ−1−メトキシ−4−[2−[4−(メチルスルホニル)フェニル ]フェニル]ベンゼン; 1−(4−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル] ベンゼン; 1−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル )フェニル]ベンゼン; 1−(4−フルオロ−3−メトキシフェニル)−2−[4−(メチルスルホニ ル)フェニル]ベンゼン; 1−(3,4−ジフルオロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェ ニル]ベンゼン; 2−クロロ−1−フルオロ−4−[2−[4−(メチルスルホニル)フェニル ]フェニル]ベンゼン; 1−(4−クロロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベ ンゼン; 1−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル) フェニル]ベンゼン; 1−(4−クロロ−3−メトキシフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル )フェニル]ベンゼン: 1−(4−クロロ−3−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル )フェニル]ベンゼン; 1−(3,4−ジクロロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニ ル]ベンゼン; 1−(3,5−ジメチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニ ル]ベンゼン; 1−(3,5−ジメトキシフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェ ニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジフルオロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェ ニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジクロロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニ ル]ベンゼン; 1−(3,4,5−トリメチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル) フェニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジメトキシ−4−メチルフェニル)−2−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジフルオロ−4−メチルフェニル)−2−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジクロロ−4−メチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホ ニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル)−2−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3,4,5−トリメトキシフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル )フェニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)−2−[4−(メチルス ルホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−2−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジメチル−4−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジメトキシ−4−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルス ルホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル )フェニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジクロロ−4−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(4−クロロ−3,5−ジメチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホ ニル)フェニル]ベンゼン; 1−(4−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−2−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(4−クロロ−3,5−ジフルオロフェニル)−2−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3,4,5−トリクロロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル) フェニル]ベンゼン; 6−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−5−フェニル−1,3−ベンゾ ジオキソール; 5−(3−メチルフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニル]− 1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニル] −1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3−クロロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニル]− 1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3−メトキシフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニル] −1,3−ベンゾジオキソール; 5−(4−メチルフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニル]− 1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,4−ジメチルフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニ ル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3−フルオロ−4−メチルフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル )フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル) フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3−メトキシ−4−メチルフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル )フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(4−メトキシフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニル] −1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3−メチル−4−メトキシフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル )フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)−6−[4−(メチルスルホニ ル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル )フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,4−ジメトキシフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェ ニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(4−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニル] −1,3−ベンゾジオキソール; 5−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル )フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,4−ジフルオロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェ ニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル )フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(4−フルオロ−3−メトキシフェニル)−6−[4−(メチルスルホニ ル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(4−クロロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニル]− 1,3−ベンゾジオキソール; 5−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル) フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(4−クロロ−3−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル )フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,4−ジクロロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニ ル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(4−クロロ−3−メトキシフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル )フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,5−ジメチルフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニ ル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,5−ジフルオロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェ ニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,5−ジクロロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニ ル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,5−ジメトキシフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェ ニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,4,5−トリメチルフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル) フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,5−ジフルオロ−4−メチルフェニル)−6−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,5−ジクロロ−4−メチルフェニル)−6−[4−(メチルスルホ ニル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,5−ジメトキシ−4−メチルフェニル)−6−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル)−6−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)−6−[4−(メチルス ルホニル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−6−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,4,5−トリメトキシフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル )フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,5−ジメチル−4−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル )フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,5−ジクロロ−4−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,5−ジメトキシ−4−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルス ルホニル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(4−クロロ−3,5−ジメチルフェニル)−6−[4−(メチルスルホ ニル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(4−クロロ−3,5−ジフルオロフェニル)−6−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(3,4,5−トリクロロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル) フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 5−(4−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−6−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 1,2−ジフルオロ−5−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−4−フェ ニルベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3−メチルフェニル)−5−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3−フルオロフェニル)−5−[4−(メチルス ルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(3−クロロフェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3−メトキシフェニル)−5−[4−(メチルス ルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(4−メチルフェニル)−5−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,4−ジメチルフェニル)−5−[4−(メチ ルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3−フルオロ−4−メチルフェニル)−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4− (メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3−メトキシ−4−メチルフェニル)−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(4−メトキシフェニル)−5−[4−(メチルス ルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)−5−[ 4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,4−ジメトキシフェニル)−5−[4−(メ チルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(4−フルオロフェニル)−5−[4−(メチルス ルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,4−ジフルオロフェニル)−5−[4−(メ チルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(4−フルオロ−3−メトキシフェニル)−5−[ 4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(4−クロロフェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4− (メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(4−クロロ−3−フルオロフェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(3,4−ジクロロフェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4−(メチ ルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(4−クロロ−3−メトキシフェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,5−ジメチルフェニル)−5−[4−(メチ ルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,5−ジフルオロフェニル)−5−[4−(メ チルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(3,5−ジクロロフェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4−(メチ ルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,5−ジメトキシフェニル)−5−[4−(メ チルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,4,5−トリメチルフェニル)−5−[4− (メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,5−ジフルオロ−4−メチルフェニル)−5 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(3,5−ジクロロ−4−メチルフェニル)−1,2−ジフルオロ−5− [4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,5−ジメトキシ−4−メチルフェニル)−5 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル)−5 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)− 5−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−1,2−ジフルオロ−5 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,4,5−トリメトキシフェニル)−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(3,5−ジメチル−4−フルオロフェニル)−1,2−ジフルオロ−5 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(3,5−ジクロロ−4−フルオロフェニル)−1,2−ジフルオロ−5 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,5−ジメトキシ−4−フルオロフェニル)− 5−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(4−クロロ−3,5−ジメチルフェニル)−1,2−ジフルオロ−5− [4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(4−クロロ−3,5−ジフルオロフェニル)−1,2−ジフルオロ−5 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,4,5−トリクロロフェニル)−5−[4− (メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(4−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1,2−ジフルオロ−5 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 5−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]フェ ニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 2−クロロ−4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フ ェニル]フェニル]−N,N−ジメチルベンゼンアミン; 6−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−2 ,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン; 1,2−ジクロロ−4−(4−フルオロフェニル)−5−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 2−[4,5−ジフルオロ−4´−(メチルスルホニル)−(1,1´−ビフ ェニル)−2−イル]−5−メチルピリジン; 5−[4,5−ジフルオロ−4´−(メチルスルホニル)−(1,1´−ビフ ェニル)−2−イル]−2−メチルピリジン;および 1,2−ジフルオロ−5−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−4−(2 −チアゾリル)ベンゼン。 式I内には、下記式IIで表わされる格別に重要な化合物あるいはその医薬と して許容される塩の付属群がある: 式中、Aは、 から選択され、R2およびR3はそれぞれ独立して、ヒドリドおよびハロから選択 され;あるいはR2およびR3は一緒になって、−OCH2O−を形成しており; R10〜R14はそれぞれ独立して、ヒドリド、低級アルキル、ハロ、低級アルコキ シ、低級ハロアルキルおよび低級ジアルキルアミノから選択され;あるいはR11 およびR12は一緒になって、−O(CH2)nO−(ここで、nは1〜2である )を形成しており;そしてR7は低級アルキルスルホニルおよびアミノスルホニ ルから選択される。 式I内には、下記式IIIで表わされる格別に重要な化合物あるいはその医薬 として許容される塩の第二の付属群がある: 式中、R11〜R13はそれぞれ独立して、ヒドリド、ハロ、低級アルコキシ、低 級ハロアルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、低級ジアルキルアミノおよび低 級ハロアルコキシから選択され;あるいはR11およびR12は一緒になって、−O (CH2)nO−(ここで、nは1〜2である)を形成している。 式I内には、下記式IVで表わされる格別に重要な化合物あるいはその医薬と して許容される塩の第三の付属群がある: 式中、YはCR11またはNであり;ZはCR10またはNであり;R10〜R12は それぞれ独立して、ヒドリドおよび低級アルキルから選択され;R7はアミノス ルホニルまたはメチルスルホニルである;ただしYおよびZの一方はNである。 「ヒドリド」の用語は、1個の水素原子(H)を表わす。このヒドリド基は、 例えば酸素原子に結合して、ヒドロキシル基を形成することができ、あるいは2 個のヒドリド基が炭素原子に結合して、メチレン(−CH2−)基を形成するこ とができる。単独で、あるいは「ハロアルキル」および「アルキルスルホニル」 などのように別の用語内で、「アルキル」の用語が使用されている場合に、この アルキル基は炭素原子1個〜約20個、好ましくは炭素原子1個〜約12個を有 する直鎖状または分枝鎖状基を包含する。さらに好ましいアルキル基は炭素原子 1個〜約10個を有する「低級アルキル」基である。最も好ましいアルキル基は 炭素原子1個〜約6個を有する低級アルキル基である。このような基の例には、 メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、se c−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソアミル、ヘキシルなどが包含さ れる。 「ハロ」の用語はハロゲン、例えばフッ素、塩素、臭素またはヨウ素原子を意 味する。「ハロアルキル」の用語は、アルキル炭素原子のいずれか1個または2 個以上が前記定義のハロにより置換されている基を包含する。詳細には、モノハ ロアルキル、ジハロアルキルおよびポリハロアルキル基が包含される。一例とし て、モノハロアルキルはその基内にヨウド、ブロモ、クロロまたはフルオロ原子 を有することができる。ジハロアルキル基およびポリハロアルキル基は2個また は3個以上の同一ハロ原子または相違するハロ基の組合わせを有することができ る。「低級ハロアルキル」は、炭素原子1〜6個を有する基を包含する。ハロア ルキル基の例には、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、 クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタ フルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロ フルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチルおよ びジクロロプロピルが包含される。「ヒドロキシアルキル」の用語は、炭素原子 1個〜約10個を有し、そのいずれか1個が1個または2個以上のヒドロキシル 基により置換されている直鎖状または分枝鎖状アルキル基を包含する。さらに好 ましくは、ヒドロキシアルキル基は炭素原子1〜6個を有しかつまた1個または 2個以上のヒドロキシル基を有する「低級ヒドロキシアルキル」基である。この ような基の例は、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、 ヒドロキシブチルおよびヒドロキシヘキシルを包含する。「アルコキシ」の用語 は、そのアルキル部分に炭素原子1個〜約10個を有する直鎖状または分枝鎖状 基のオキシ含有基、例えばメトキシ基を包含する。さらに好ましくは、アルコキ シ基は炭素原子1〜6個を有する「低級アルコキシ」基である。このような基の 例は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、tert−ブトキシ、メチ レンジオキシおよびエチレンジオキシを包含する。「アルコキシアルキル」の用 語は、アルキル基に結合している1個または2個以上のアルコキシ基を有するア ルキル基、すなわちモノアルコキシアルキルおよびジアルコキシアルキルを形成 している基を包含する。さらに好ましくは、アルコキシアルキル基は炭素原子1 〜6個を有しかつまた1個または2個のアルコキシ基を有する「低級アルコキシ アルキル」基である。このような基の例は、メトキシメチル、メトキシエチル、 エトキシエチル、メトキシブチルおよびメトキシプロピルを包含する。「アルコ キシ」基は1個または2個以上のハロ原子、例えばフルオロ、クロロまたはブロ モによりさらに置換されていて、「ハロアルコキシ」および「低級ハロアルコキ シ」基を形成することもできる。このような基の例は、フルオロメトキシ、クロ ロメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロエトキシ、フルオロエトキシ およびフルオロプロポキシを包含する。「アリール」の用語は、単独でまたは組 み合わされて、1個、2個または3個の環を含有する炭素環状芳香族系を意味し 、これらの環は一緒に側鎖状に結合しているかまたは縮合していることができる 。「アリール」の用語は、フェニル、ナフチル、テトラヒドロナフチル、インダ ンおよびビフェニルなどの芳香族基を包含する。「ヘテロ環」の用語は、飽和、 部分的飽和および不飽和のヘテロ原子含有環形成基を包含し、ここでヘテロ原子 は窒素、硫黄および酸素から選択することができる。飽和ヘテロ環基の例には、 1〜4個の窒素原子を含有する飽和3〜6員ヘテロ一環状基[例えば、ピロリジ ニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニルなど];1〜2個の酸素原 子 および1〜3個の窒素原子を含有する飽和3〜6員ヘテロ一環状基[例えば、モ ルホリニルなど];1〜2個の硫黄原子および1〜3個の窒素原子を含有する飽 和3〜6員ヘテロ一環状基[例えば、チアゾリジニルなど]が包含される。部分 的飽和ヘテロ環状基の例には、ジヒドロチオフェン、ジヒドロピラン、ジヒドロ フランおよびジヒドロチアゾールが包含される。「ヘテロアリール」の用語は、 不飽和ヘテロ環状基を包含する。ヘテロアリール基の例には、1〜4個の窒素原 子を含有する不飽和5〜6員ヘテロ一環状基、例えばピロリル、ピロリニル、イ ミダゾリル、ピラゾリル、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジル、ピリミ ジル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル[例えば、4H−1,2,4− トリアゾリル、1H−1,2,3−トリアゾリル、2H−1,2,3−トリアゾ リルなど]、テトラゾリル[例えば、1H−テトラゾリル、2H−テトラゾリル など]など;1〜5個の窒素原子を含有する不飽和縮合ヘテロ環状基、例えばイ ンドリル、イソインドリル、インドリジニル、ベンズイミダゾリル、キノリル、 イソキノリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、テトラゾロピリダジニル[ 例えば、テトラゾロ[1,5−b]ピリダジニルなど]など;酸素原子を含有す る不飽和3〜6員ヘテロ一環状基、例えばピラニル、2−フリル、3−フリルな ど;硫黄原子を含有する不飽和5〜6員ヘテロ一環状基、例えば2−チエニル、 3−チエニルなど;1〜2個の酸素原子および1〜3個の窒素原子を含有する不 飽和5〜6員ヘテロ一環状基、例えばオキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサ ジアゾリル[例えば1,2,4−オキサジアゾリル、1,3,4−オキサジアゾ リル、1,2,5−オキサジアゾリルなど]など;1〜2個の酸素原子および1 〜3個の窒素原子を含有する不飽和縮合ヘテロ環状基[例えばベンズオキサゾリ ル、ベンズオキサジアゾリルなど]など;1〜2個の硫黄原子および1〜3個の 窒素原子を含有する不飽和5〜6員ヘテロ一環状基、例えばチアゾリル、チアジ アゾリル[例えば1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、 1,2,5−チアジアゾリルなど]など;1〜2個の硫黄原子および1〜3個の 窒素原子を含有する不飽和縮合ヘテロ環状基[例えばベンゾチアゾリル、ベンゾ チアジアゾリルなど]など;が包含される。この用語にはまた、そのヘテロ環状 基がアリール基と縮合している基が包含される。このような縮合二環状基の例に は、ベンゾフラン、ベンゾチオフェンなどが包含される。好適ヘテロアリール基 は5〜10員の縮合したまたは縮合していない基を包含する。さらに好ましいヘ テロアリール基の例には、ベンゾフリル、2,3−ジヒドロベンゾフラン、ベン ゾチエニル、インドリル、ジヒドロインドリル、クロマニル、ベンゾピラン、チ オクロマニル、ベンゾチオピラン、ベンゾジオキソリル、ベンゾジオキサニル、 ピリジル、チエニル、ピラゾリル、イソオキサゾリル、ピロリル、チアゾリル、 オキサゾリル、フリルおよびピラジニルが包含される。単独で、またはアルキル スルホニルなどのように他の用語と結合して使用されている「スルホニル」の用 語はそれぞれ、2価の基−SO2−を意味する。「アルキルスルホニル」は、ス ルホニル基に結合している前記定義のとおりのアルキル基を包含する。さらに好 ましいアルキルスルホニル基は、炭素原子1〜6個を有する「低級アルキルスル ホニル」基である。このような低級アルキルスルホニル基の例は、メチルスルホ ニル、エチルスルホニルおよびプロピルスルホニルを包含する。「スルファミル 」、「アミノスルホニル」および「スルホンアミジル」の用語は、アミン基によ り置換されていて、スルホンアミド(−SO2NH2)を形成しているスルホニル 基を意味する。単独で、または「カルボキシアルキル」などのように他の用語と 組合わせて使用されている語として、「カルボキシ」または「カルボキシル」の 用語は、−CO2Hを意味する。「アルキルチオ」の用語は、二価の硫黄原子に 結合している1個〜約10個の炭素原子を有する直鎖状または分枝鎖状アルキル 基を包含する。さらに好ましいアルキルチオ基は、炭素原子1〜6個のアルキル 基を有する「低級アルキルチオ」基である。このような低級アルキルチオ基の例 には、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオおよびヘキシルチオ がある。「アルキルアミノ」の用語は、1個または2個のアルキル基により置換 されていて、N−アルキルアミノおよびN,N−ジアルキルアミノ基をそれぞれ 形成しているアミノ基を意味する。好適アルキルアミノ基は、炭素原子1〜6個 を有するアルキル部分を有する「低級アルキルアミノ」である。例には、N−メ チルアミノ、N−エチルアミノ、N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチルア ミノなどがある。 本発明は、治療有効量の式Iで表わされる化合物を少なくとも1種の医薬上で 許容される担体、助剤または稀釈剤とともに含有する炎症または炎症付随疾患、 例えば関節炎を処置するための医薬製剤を包含する。 本発明はまた、対象における炎症または炎症付随疾患の治療処置方法、炎症ま たは炎症付随疾患を有するか、または炎症または炎症付随疾患を患い易い対象を 式Iで表わされる化合物の治療有効量で処置することからなる方法を包含する。 式Iで表わされる化合物の一族にはまた、その医薬として許容される塩が包含 される。「医薬として許容される塩」の用語は、アルカリ金属塩の形成におよび また遊離酸または遊離塩基の付加塩の形成に慣用の塩類を包含する。この塩の種 類には、それが医薬上で許容されるものであるかぎり、制限はない。式Iで表わ される化合物の適当な医薬として許容される酸付加塩は、無機酸または有機酸か ら製造することができる。このような無機酸の例には、塩酸、臭化水素酸、ヨウ 化水素酸、硝酸、炭酸、硫酸およびリン酸がある。適当な有機酸は、脂肪族、環 状脂肪族、芳香族、芳香族脂肪族、ヘテロ環状、炭素環状およびスルホン酸系の 有機酸の群から選択することができ、この例には、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、 コハク酸、グリコール酸、グルコン酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、ア スコルビン酸、グルクロン酸、マレイン酸、フマール酸、ピルビン酸、アスパラ ギン酸、グルタミン酸、安息香酸、アントラニル酸、メシル酸、サリチル酸、4 −ヒドロキシ安息香酸、フェニル酢酸、マンデル酸、エンボン酸(パモ酸)、メ タンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、パントテン酸、2− ヒドロキシエタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、スルファニル酸、シクロヘ キシルアミノスルホン酸、ステアリン酸、アルギン酸、β−ヒドロキシ酪酸、ガ ラクタル酸およびガラクツロン酸がある。式Iで表わされる化合物の適当な医薬 として許容される塩基付加塩には、アルミニウム、カルシウム、リチウム、マグ ネシウム、カリウム、ナトリウムおよびアエンから製造される金属塩、あるいは N,N´−ジベンジルエチレンジアミン、クロロプロカイン、コリン、ジエタノ ールアミン、エチレンジアミン、メグルミン(N−メチルグルカミン)およびプ ロカインから製造される有機塩が包含される。これらの塩はいずれも、式Iで表 わされる対応する化合物から慣用の手段によって製造することができ、例えば式 Iで表わされる化合物を相当する酸または塩基と反応させることによって製造す ることができる。 一般合成経路 本発明の化合物は、下記の合成経路I〜XIXに従い合成することができる。 これらの合成経路において、R1〜R14置換基は、別段の記載がないかぎり、上 記式I〜IVについて定義されているとおりである。米国特許出願Serial No.08/346,433を引用して組み入れる。 合成経路I 合成経路Iは、市販のフェニルブロマイド化合物からの所望の置換基を有する フェニルボロン酸化合物1および2を製造するための3工程法を示している。工 程1において、−78℃においてTHF中でハロゲン−金属交換させ、対応する 有機リチウム試薬を生成させる。工程2において、この有機リチウム試薬をトリ メチルボレートと反応させ、対応するメチルエステルを生成させる。工程3にお いて、水性水酸化ナトリウムにより加水分解させ、置換フェニルボロン酸化合物 1および2をそれぞれ得る。 合成経路II 合成経路IIは、市販のフェニルブロマイド化合物から所望の置換基を有する フェニルボロン酸化合物1および2を製造するための別の3工程法を示している 。工程1において、THF中で還流の下にヨウ素触媒の存在のもとにマグネシウ ム金属と反応させ、対応するグリニヤール試薬を生成させる。工程2において、 このグリニヤール試薬をトリメチルボレートと反応させ、対応するメチルエステ ルを生成させる。工程3において、水性水酸化ナトリウムにより加水分解させ、 置換フェニルボロン酸化合物1および2をそれぞれ得る。 合成経路III 合成経路IIIは、市販の1,2−ジブロモベンゼン化合物および相当して置 換されているフェニルボロン酸化合物1(この化合物は合成経路IおよびIIで 製造される)からの置換2−ブロモ−ビフェニル中間体3の製造方法を示してい る。スズキ等により開発された方法[Synth.Commun.,11,51 3(1981)]に類似したカプリング方法を使用して、1,2−ジブロモベン ゼン化合物を、トルエン/エタノール中で還流下にPd0触媒、例えばテトラキ ス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)および2M炭酸ナトリウムの存 在のもとに化合物1と反応させ、対応する置換2−ブロモビフェニル中間体3を 生成させる。 合成経路IV 合成経路IVは、市販の1,2−ジブロモベンゼン化合物および相当して置換 されているフェニルボロン酸化合物2(この化合物は合成経路IおよびIIで製 造される)からの置換2−ブロモ−ビフェニル中間体4の製造方法を示している 。スズキ等により開発された方法に類似したカプリング方法を使用して(合成経 路III)、1,2−ジブロモベンゼン化合物を、トルエン/エタノール中で還 流下にPd0触媒、例えばテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム( 0)および2M炭酸ナトリウムの存在のもとに化合物2と反応させ、対応する置 換2−ブロモビフェニル中間体4を生成させる。 合成経路V 合成経路Vは、2−ブロモ−ビフェニル中間体3(この化合物は合成経路II Iで製造される)および相当して置換されているフェニルボロン酸化合物2(こ の化合物は合成経路IおよびIIで製造される)からの1,2−ジアリールベン ゼン抗炎症薬5の製造を示している。スズキ等により開発された方法に類似した カプリング方法を使用して(合成経路III)、中間体3を、トルエン/エタノ ール中で還流下にPd0触媒、例えばテトラキス(トリフェニルホスフィン)パ ラジウム(0)および2M炭酸ナトリウムの存在のもとに化合物2と反応させ、 本発明の対応する1,2−ジアリールベンゼン抗炎症薬5を生成させる。 合成経路VI 合成経路VIは、2−ブロモビフェニル中間体4(この化合物は合成経路IV で製造される)および相当して置換されているフェニルボロン酸化合物1(この 化合物は合成経路IおよびIIで製造される)からの1,2−ジアリールベンゼ ン抗炎症薬5の製造を示している。スズキ等により開発された方法に類似したカ プリング方法を使用して(合成経路III)、中間体4を、トルエン/エタノー ル中で還流下にPd0触媒、例えばテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラ ジウム(0)および2M炭酸ナトリウムの存在のもとに化合物1と反応させ、本 発明の対応する1,2−ジアリールベンゼン抗炎症薬5を生成させる。 合成経路VII 合成経路VIIは、市販の1,2−ジブロモベンゼン化合物および相当して置 換されているフェニルボロン酸化合物1および2(この化合物は合成経路Iおよ びIIで製造される)から1,2−ジアリールベンゼン抗炎症薬5を製造するた めの別の1工程方法を示している。スズキ等により開発された方法に類似したカ プリング方法を使用して(合成経路III)、1,2−ジブロモベンゼン化合物 1および2の等量混合物を、トルエン/エタノール中で還流下にPd0触媒、例 えばテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)および2M炭酸ナ トリウムの存在のもとに反応させ、本発明の対応する1,2−ジアリールベンゼ ン抗炎症薬5を生成させる。 合成経路VIII 合成経路VIIIは、相当する2−ブロモビフェニル中間体3(この化合物は 合成経路IIIで製造される)および化合物4(この化合物は合成経路IVで製 造される)から2−アリールフェニルボロン酸化合物6および7を製造するため の3工程法を示している。工程1において、−78℃においてTHF中でハロゲ ン−金属交換させ、対応する有機リチウム試薬を生成させる。工程2において、 この有機リチウム試薬をトリメチルボレートと反応させ、対応するメチルエステ ルを生成させる。工程3において、水性水酸化ナトリウムにより加水分解させ、 置換フェニルボラン酸化合物6および7をそれぞれ得る。 合成経路IX 合成経路IXは、市販の置換フェニルブロマイド化合物および2−アリール− フェニルボラン酸化合物6(この化合物は合成経路VIIIで製造される)から の1,2−ジアリールベンゼン抗炎症薬5の製造方法を示している。スズキ等に より開発された方法に類似したカプリング方法を使用して(合成経路III)、 置換フェニルブロマイド化合物を、トルエン/エタノール中で還流下にPd0触 媒、例えばテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)および2M 炭酸ナトリウムの存在のもとに化合物6と反応させ、本発明の対応する1,2− ジアリールベンゼン抗炎症薬5を生成させる。 合成経路X 合成経路Xは、市販の置換フェニルブロマイド化合物および2−アリール−フ ェニルボロン酸化合物7(この化合物は合成経路VIIIで製造される)からの 1,2−ジアリールベンゼン抗炎症薬5の製造方法を示している。スズキ等によ り開発された方法に類似したカプリング方法を使用して(合成経路III)、置 換フェニルブロマイド化合物を、トルエン/エタノール中で還流下にPd0触媒 、例えばテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)および2M炭 酸ナトリウムの存在のもとに化合物7と反応させ、本発明の対応する1,2−ジ アリールベンゼン抗炎症薬5を生成させる。 合成経路XI 合成経路XIは、市販のピリジン化合物8からの3−ブロモピリジン化合物9 の製造方法を示している。スズキ等により開発された方法に類似した方法を使用 して(米国特許第5,155,177号)、ピリジン化合物8を、アルミニウム クロライドの存在下に臭素と反応させて、3−ブロモピリジン化合物9を生成さ せる。 合成経路XII 合成経路XIIは、3−ブロモピリジン化合物9(この化合物は合成経路XI から製造される)からのピリジルスズ中間体10の製造方法を示している。工程 1において、−78℃においてTHF中でハロゲン−リチウム交換させ、対応す る有機リチウム試薬を生成させる。工程2において、この有機リチウム試薬をト リメチルスズクロライドと反応させ、対応するピリジルスズ中間体10を生成さ せる。 合成経路XIII 合成経路XIIIは、2−ブロモ−ビフェニル中間体3(この化合物は合成経 路IIIで製造される)および対応して置換されているピリジルスズ中間体10 (この化合物は合成経路XIIで製造される)からの1,2−ジアリールベンゼ ン抗炎症薬11の製造方法を示している。化合物3と化合物10とをトルエン中 で還流下にPd0触媒、例えばテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウ ム(0)の存在のもとに反応させ、本発明の対応する1,2−ジアリールベンゼ ン抗炎症薬11を生成させる。 合成経路XIV 合成経路XIVは、2−アリール−フェニルボロン酸化合物6(この化合物は 合成経路VIIIで製造される)および市販のブロモピリジン化合物12からの 1,2−ジアリールベンゼン抗炎症薬13の製造方法を示している。化合物6と 化合物12とをトルエン/エタノール中で還流下にPd0触媒、例えばテトラキ ス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)および2M炭酸ナトリウムの存 在のもとに反応させ、本発明の対応する1,2−ジアリールベンゼン抗炎症薬1 3を生成させる。 合成経路XV 合成経路XVは、2−アリール−フェニルボロン酸化合物6(この化合物は合 成経路VIIIで製造される)および市販の2−ブロモフラン化合物14からの 1,2−ジアリールベンゼン抗炎症薬15の製造方法を示している。化合物6と 化合物14とをトルエン/エタノール中で還流下にPd0触媒、例えばテトラキ ス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)および2M炭酸ナトリウムの存 在のもとに反応させ、本発明の対応する1,2−ジアリールベンゼン抗炎症薬1 5を生成させる。 合成経路XVI 合成経路XVIは、2−アリールーフェニルボロン酸化合物6(この化合物は 合成経路VIIIで製造される)および市販の3−ブロモフラン化合物16から の1,2−ジアリールベンゼン抗炎症薬17の製造方法を示している。化合物6 と化合物16とをトルエン/エタノール中で還流下にPd0触媒、例えばテトラ キス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)および2M炭酸ナトリウムの 存在のもとに反応させ、本発明の対応する1,2−ジアリールベンゼン抗炎症薬 17を生成させる。 合成経路XVII 合成経路XVIIは、2−アリール−フェニルボロン酸化合物6(この化合物 は合成経路VIIIで製造される)および市販の2−ブロモチオフェン化合物1 8からの1,2−ジアリールベンゼン抗炎症薬19の製造方法を示している。化 合物6と化合物18とをトルエン/エタノール中で還流下にPd0触媒、例えば テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)および2M炭酸ナトリ ウムの存在のもとに反応させ、本発明の対応する1,2−ジアリールベンゼン抗 炎症薬19を生成させる。 合成経路XVIII 合成経路XVIIIは、2−アリール−フェニルボロン酸化合物6(この化合 物は合成経路VIIIで製造される)および市販の3−ブロモチオフェン化合物 20からの1,2−ジアリールベンゼン抗炎症薬21の製造方法を示している。 化合物6と化合物20とをトルエン/エタノール中で還流下にPd0触媒、例え ばテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)および2M炭酸ナト リウムの存在のもとに反応させ、本発明の対応する1,2−ジアリールベンゼン 抗炎症薬21を生成させる。 合成経路XIX 合成経路XIXは、それらの対応するメチルスルホン化合物22からスルホン アミド抗炎症薬22を製造する3工程法を示している。ハング(Huang)等 により開発された方法(Tetrahedron Lett.,35,7201 (1994)]と類似の方法を使用して、メチルスルホン化合物22のTHF溶 液を、−78℃において、塩基、例えばn−BuLi、n−C37MgClなど により処理して、対応するカルバニオン化合物を生成させる。工程2において、 このアニオンを、−78℃において、有機ボラン、例えばトリエチルボラン、ト リブチルボランなどで処理し、室温まで温め、次いで還流下に撹拌する。ボロン 化学の別法では、例えばハロアルキルトリアルキルシラン化合物による室温にお けるアルキル化、引続くシリルアルキル分離剤による処理を包含する。工程3に おいて、酢酸ナトリウムおよびヒドロキシアミン−O−スルホン酸の水性溶液を 添加し、本発明の対応するスルホンアミド抗炎症薬23(化合物5において、R12 =SO2NH2)を得る。 下記の例は式I〜IVで表わされる化合物の製造方法の詳細な説明を包含する 。これらの詳細な説明は本発明の一部分を構成する上記一般合成方法の範囲内に あり、これを例示する役目を果たす。これらの詳細な説明は例示の目的でのみ示 すものであって、本発明の範囲を制限しようとするものではない。別段の記載が ないかぎり、部は全部が重量部であり、温度は摂氏度である。HRMSは高分解 質量スペクトル分析の略語である。「ND」の用語は、「測定されなかった」こ とを示す。別段の記載がないかぎり、NMRデータは全て、1H NMRからの データである。 例1 1−(4−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル] ベンゼン 工程1:1−ブロモ−2−(4−フルオロフェニル)ベンゼンの製造 窒素雰囲気下に、Pd(PPh34 1.2g(1.0ミリモル)を、トルエ ン42ml、エタノール42mlおよび2M Na2CO3 42ml中の4−フ ルオロフェニルボロン酸3.0g(21ミリモル)および1,2−ジブロモベン ゼン[アルドリッチ(Aldrich)]9.9g(42ミリモル)の撹拌溶液 に添加した。3時間激しく撹拌した後に、溶媒を減圧で除去した。この残留物を 酢酸エチルに溶解した。生成する溶液を水で洗浄し、次いでMgSO4上で乾燥 させた。ヘキサンを使用するシリカゲルクロマトグラフイ(Waters Pr ep−500A)により精製し、1−ブロモ−2−(4−フルオロフェニル)ベ ンゼン4.35g(81%)を無色油状物として得た;NMR(CDCl3)δ 7.07〜7.26(m,3H)、7.27〜7.44(m,4H)、7.67 (d,J=8Hz,1H)。 工程2:4−メチルチオフェニルボロン酸の製造 窒素雰囲気下に、無水テトラヒドロフラン(THF)1500ml中の4−ブ ロモチオアニソール[ランカスター(Lancaster)]30g(150ミ リモル)の撹拌溶液に、−78℃で、n−BuLi(ヘキサン中の1.6M)1 13ml(181ミリモル)を添加した。30分後に、トリメチルボレート51 ml(450ミリモル)を添加した。この反応混合物を室温まで温め、一夜にわ たり撹拌した。生成する溶液を10%NaOH300mlにより処理し、1時間 激しく撹拌した。THFを減圧で除去し、pHを4〜5に調整し、固形物を濾過 により採取した。この固形物を水およびヘキサンで繰り返し洗浄した。減圧で乾 燥させ、4−メチルチオフェニルボロン酸21g(83%)を無色固形物として 得た;NMR(DMSO−d6)δ2.47(s,3H)、7.20(d,J= 8Hz,2H)、7.71(d,J=8Hz,2H)、7.96(s,2H)。 工程3:1−(4−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルチオ)フェニル] ベンゼンの製造 窒素雰囲気下に、Pd(PPh34 200mgを、トルエン7ml、エタノ ール7mlおよび2M Na2CO3 7ml中の1−ブロモ−2−(4−フルオ ロフェニル)ベンゼン(工程1)500mg(2.0ミリモル)および4−メチ ルチオフェニルボロン酸(工程2)500mg(3.0ミリモル)の撹拌溶液に 添加した。一夜にわたり還流下に激しく撹拌した後に、溶媒を減圧で除去した。 この残留物を酢酸エチルに溶解した。生成する溶液を水で洗浄し、次いでMgS O4上で乾燥させた。溶出剤として酢酸エチル/ヘキサン(2:98)を使用す るシリカゲルクロマトグラフイ(Waters LC−2000)により精製し 、1−(4−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルチオ)フェニル]ベンゼ ン550mgを半固形物として得た;NMR(CDCl3)δ2.46(s,3 H)、6.92(t,J=8Hz,2H)、7.02〜7.14(m,6H)、 7.37〜7.42(m,4H)。MS(EI):m/e[相対強度(rel intensity)] 294(100)、279(39)、277(56) 、246(74)、227(40)、190(43)、190(38)、140 (44)。 工程4:1−(4−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェ ニル]ベンゼンの製造 メチレンクロライド10ml中の粗製1−(4−フルオロフェニル)−2−[ 4−(メチルチオ)フェニル]ベンゼン(工程3)550mg(1.9ミリモル )の撹拌溶液に、室温において、3−クロロペルオキシ安息香酸(約55%)1 .3g(4.1ミリモル)をゆっくり添加した。撹拌を20分間継続し、次いで Na2SO3 1gを添加した。この反応混合物をさらに10分間撹拌し、次いで 溶媒を減圧で除去した。この残留物を酢酸エチルに溶解し、生成する溶液を 飽和NaHCO3で2回洗浄し、次いでMgSO4上で乾燥させた。酢酸エチル/ ヘキサンから再結晶させ、1−(4−フルオロフェニル)−2−[4−(メチル スルホニル)フェニル]ベンゼン437mg(94%)を無色固形物として得た :融点:178.0〜179.0℃;NMR(CDCl3)δ3.05(s,3 H)、6.93(t,J=8Hz,2H)、7.03〜7.09(m,2H)、 7.32(d,J=8Hz,2H)、7.38〜7.50(m,4H)、7.8 0(d,J=8Hz,2H)。MS(FAB):m/e 333(M+Li)。 分析:C1915FO2Sに対する計算値:C,69.86;H,4.60;F, 5.79。実測値:C,69.74;H,4.72;F,5.51。 例2 4−[2−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド 工程1:2−(4−フルオロフェニル)フェニルボロン酸の製造 合成経路VIIIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−2−(4−フ ルオロフェニル)ベンゼン(例1、工程1)4.35g(17.3ミリモル)を 2−(4−フルオロフェニル)フェニルボロン酸に変換した:NMR(CDCl3 )δ4.27(s,2H)、7.09〜7.20(m,2H)、7.25〜7 .32(m,1H)、7.34〜7.53(m,4H)、7.90(d,J=8 Hz,1H)。 工程2:4−[2−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミ ドの製造 合成経路IXに概略を示した一般方法に従い、2−(4−フルオロフェニル) フェニルボロン酸(工程1)1.5g(6.9ミリモル)を、4−ブロモベンゼ ンスルホンアミド[ランカスター]2.5g(10.4ミリモル)と反応させた 。 酢酸エチル/ヘキサン(3:7)を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(Wa ters LC−2000)により精製し、次いで酢酸エチル/ヘキサンから再 結晶させ、4−[2−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンア ミド1.04g(46%)を無色固形物として得た:融点:187.3〜188 .2℃;NMR(CDCl3)δ4.83(s,2H)、6.92(t,J=9 Hz,2H)、7.02〜7.11(m,2H)、7.27(d,J=9Hz, 2H)、7.36〜7.50(m,4H)、7.78(d,J=8Hz,2H) 。MS(EI):m/e(相対強度) 327(75)、245(100);H RMS:C1814FNO2Sに対する計算値:327.0729;実測値:32 7.0743。分析:C1814FNO2Sに対する計算値:C,66.04;H ,4.31;N,4.28。実測値:C,65.86;H,4.51;N,4. 34。 例3 4−[2−(4−クロロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド 工程1:1−ブロモ−2−(4−クロロフェニル)ベンゼンの製造 合成経路IIIに概略を示した一般方法に従い、1,2−ジブロモベンゼン9 .0g(38ミリモル)を4−クロロフェニルボロン酸(ランカスター)3.0 g(19ミリモル)と反応させた。ヘキサンを使用するシリカゲルクロマトグラ フイ(Waters Prep−500A)により精製し、1−ブロモ−2−( 4−クロロフェニル)ベンゼン4.39g(84%)を無色油状物として得た: NMR(CDCl3)δ7.18〜7.26(m,1H)、7.28〜7.44 (m,6H)、7.68(dd,J=1.5,8Hz,1H)。 工程2:2−(4−クロロフェニル)フェニルボロン酸の製造 合成経路VIIIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−2−(4−ク ロロフェニル)ベンゼン(工程)4.39g(16.4ミリモル)を2−(4− クロロフェニル)フェニルボロン酸に変換した:NMR(CDCl3)δ4.2 0(s,2H)、7.19〜7.55(m,7H)、7.89(d,J=8Hz ,1H)。 工程3:4−[2−(4−クロロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド の製造 合成経路IXに概略を示した一般方法に従い、2−(4−クロロフェニル)フ ェニルボロン酸(工程2)1.6g(6.9ミリモル)を4−ブロモベンゼンス ルホンアミド1.8g(7.6ミリモル)と反応させた。酢酸エチル/ヘキサン (3:7)を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(Waters LC−20 00)により精製し、次いで酢酸エチル/ヘキサンから再結晶させ、4−[2− (4−クロロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド1.59g(67% )を無色固形物として得た:融点:206.2〜207.0℃;NMR(CDC l3)δ4.77(s,2H)、7.04(d,J=9Hz,2H)、7.16 〜7.31(m,4H)、7.36〜7.51(m,4H)、7.80(d,J =9Hz,2H)。MS(EI):m/e(相対強度) 343(100)、3 08(13)、262(21)、228(82);HRMS:C1814ClNO2 Sに対する計算値:343.0434;実測値:343.0434。分析:C1 814ClNO2Sに対する計算値:C,62.88;H,4.10;N,4.0 7。実測値:C,62.66;H,4.36;N,4.09。 例4 2−フルオロ−1−メトキシ−4−[2−(4−メチルスルホニル)フェニル ] フェニル]ベンゼン 工程1:1−ブロモ−2−[4−(メチルチオ)フェニル]ベンゼンの製造 合成経路IVに概略を示した一般方法に従い、1,2−ジブロモベンゼン33 g(140ミリモル)を、4−メチルチオフェニルボロン酸(例1、工程2)1 2g(70ミリモル)と反応させた。ヘキサンを使用するシリカゲルクロマトグ ラフイにより精製し、1−ブロモ−2−[4−(メチルチオ)フェニル]ベンゼ ン17.2g(89%)を無色油状物として得た:NMR(CDCl3)δ2. 53(s,3H)、7.16〜7.23(m,1H)、7.28〜7.39(m ,6H)、7.66(d,J=8Hz,1H)。 工程2:1−ブロモ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼンの製 造 例1の工程4に記載の合成方法に従い、1−ブロモ−2−[4−(メチルチオ )フェニル]ベンゼン(工程1)17.1g(61.3ミリモル)を、その対応 するスルホンに酸化させた。酢酸エチル/ヘキサン(3:7)を使用するシリカ ゲルクロマトグラフイ(Waters Prep−500A)により精製し、1 −ブロモ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン16.2g(8 5%)を無色固形物として得た:融点:168.2〜169.5℃;NMR(C DCl3)δ3.12(s,3H)、7.23〜7.33(m,2H)、7.4 0(d,J=1.5,8Hz,1H)、7.61(d,J=8Hz,2H)、7 .70(dd,J=1.5,8Hz,1H)、8.01(d,J=9Hz,2H )。 工程3:3−フルオロ−4−メトキシフェニルボロン酸の製造 合成経路Iに概略を示した一般方法に従い、4−ブロモ−2−フルオロアニソ ール15g(73ミリモル)を、3−フルオロ−4−メトキシフェニルボロン酸 に変換した;NMR(CDCl3)δ3.75(s,3H)、6.80(d,J =8Hz,1H)、7.36〜7.48(m,2H)。 工程4:2−フルオロ−1−メトキシ−4−[2−[4−(メチルスルホニル) フェニル]フェニル]ベンゼンの製造 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−2−[4−(メチ ルスルホニル)フェニル]ベンゼン(工程2)5.0g(16ミリモル)を、3 −フルオロ−4−メトキシフェニルボロン酸(工程3)4.1g(24ミリモル )と反応させた。酢酸エチル/ヘキサン(35:65)を使用するシリカゲルク ロマトグラフイ(Waters Prep−500A)により精製し、次いで酢 酸エチル/ヘキサンから再結晶させ、2−フルオロ−1−メトキシ−4−[2− [4−(メチルスルホニル)フェニル]フェニル]ベンゼン4.82g(88% )を無色固形物として得た:融点:136.2〜136.6℃;NMR(CDC l3)δ3.06(s,3H)、3.87(s,3H)、6.72〜6.89( m,3H)、7.31〜7.51(m,6H)、7.81(d,J=9Hz,2 H)。MS(EI):m/e(相対強度) 356(100)、262(28) 、246(22);HRMS:C2017FO3Sに対する計算値:356.08 82;実測値:356.0881。分析:C2017FO3Sに対する計算値:C ,67.40;H,4.81;F,5.33。実測値:C,67.24;H,4 .83;F,5.25。 例5 2−クロロ−1−メトキシ−4−[2−[4−(メチルスルホニル)フェニル] フェニル]ベンゼン 工程1:4−ブロモ−2−クロロアニソールの製造 窒素雰囲気下に、硫酸ジメチル7.3ml(77ミリモル)を、新鮮なアセト ン75ml中の4−ブロモ−2−クロロフェノール10g(48ミリモル)およ び粉末状K2CO3 5.4g(38ミリモル)の撹拌懸濁液に添加した。2時間 還流させた後に、この反応混合物を室温まで冷却させ、濾過し、次いで減圧で濃 縮した。この残留物を酢酸エチルに溶解し、生成する溶液を水で洗浄し、次いで MgSO4上で乾燥させた。減圧で濃縮させ、4−ブロモ−2−クロロアニソー ル10.2g(96%)を無色固形物として得た:融点:68.5〜70.5℃ ;NMR(CDCl3)δ3.88(m,3H)、6.80(d,J=9Hz, 1H)、7.33(dd,J=2,9Hz,1H)、7.50(d,J=2Hz ,1H)。 工程2:3−クロロ−4−メトキシフェニルボロン酸の製造 合成経路Iに概略を示した一般方法に従い、4−ブロモ−2−クロロアニソー ル(工程1)10.2g(46.2ミリモル)を3−クロロ−4−メトキシフェ ニルボロン酸に変換した:NMR(CDCl3)δ3.83(s,3H)、6. 57(s,2H)、6.83(d,J=8Hz,1H)、7.64(dd,J= 1.5,8Hz,1H)、7.77(d,J=1.5Hz,1H)。 工程3:2−クロロ−1−メトキシ−4−[2−[4−(メチルスルホニル)フ ェニル]フェニル]ベンゼンの製造 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−2−[4−(メチ ルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例4、工程2)4.0g(13ミリモル) を、3−クロロ−4−メトキシフェニルボロン酸(工程2)2.86g(15. 4ミリモル)と反応させた。酢酸エチル/ヘキサン(35:65)を使用するシ リカゲルクロマトグラフイ(Waters PrepLC−500A)により精 製し、次いで酢酸エチル/ヘキサンから再結晶させ、2−クロロ−1−メトキシ −4−[2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]フェニル]ベンゼン3.3 1g(69%)を無色固形物として得た:融点:161.5〜162.3℃;N MR(CDCl3)δ3.05(s,3H)、3.88(s,3H)、6.75 (d,J=9Hz,1H)、6.87(dd,J=1.5,9Hz,1H)、7 .17(d,J=2Hz,1H)、7.34(d,J=9Hz,2H)、7.3 7〜7.51(m,4H)、7.82(d,J=8Hz,2H)。MS(EI) :m/e(相対強度) 372(100)、243(24);HRMS:C2017 ClO3Sに対する計算値:372.0587;実測値:372.0557。 分析:C2017ClO3Sに対する計算値:C,64.43;H,4.60;C l,9.51。実測値:C,64.17:H,4.56;Cl,9.63。 例6 4−[2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスル ホンアミド 工程1:4−[2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼ ンスルホンアミドの製造 窒素雰囲気下に、プロピルマグネシウムクロライド(Et2O中の1.6M) 5.8ml(9.2ミリモル)を、0℃において、無水テトラヒドロフラン9. 6ml中の2−フルオロ−1−メトキシ−4−[2−[4−(メチルスルホニル )フェニル]フェニル]ベンゼン(例4、工程4の表題の化合物)3.0g(8 .4ミリモル)の撹拌溶液に添加した。生成する溶液を室温まで温め、次いで3 0分間撹拌した。この反応混合物を0℃に冷却させ、次いでトリエチルボラン( THF中の1.0M)12.6ml(12.6ミリモル)を添加した。この反応 混合物を室温まで温め、次いで90分間撹拌した後に、40時間還流の下に撹拌 した。この反応混合物を0℃に冷却させ、次いで酢酸ナトリウム6.4g(78 ミリモル)、ヒドロキシルアミン−O−スルホン酸3.8g(34ミリモル)お よび水11mlで処理した。この反応混合物を室温までゆっくり温めながら、撹 拌を継続した。この反応混合物を水で稀釈し、次いで酢酸エチルにより3回抽出 した。酢酸エチル抽出液を集め、ブラインで洗浄し、次いでMgSO4上で乾燥 させた。酢酸エチル/ヘキサン(3:7)を使用するシリカゲルクロマトグラフ イ(Waters LC−2000)により精製し、次いで酢酸エチル/ヘキサ ンから再結晶させ、4−[2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド2.0g(67%)を無色固形物として得た:融点 :143.5〜145.5℃;NMR(CDCl3)δ3.96(s,3H)、 4. 90(s,2H)、6.74〜6.90(m,3H)、7.29(d,J=9H z,2H)、7.35〜7.48(m,4H)、7.79(d,J=9Hz,2 H)。MS(FAB):m/e 364(M+Li);HRMS:C1916FN O3Sに対する計算値:357.0835;実測値:357.0809。分析: C1916FNO3S(0.20酢酸エチルおよび0.13 H2O)に対する計算 値:C,63.04;H,4.77;N,3.71。実測値:C,63.03; H,4.59;N,3.52。 例7 4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、2−クロロ−1−メトキシ−4 −[2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]フェニル]ベンゼン(例5の表 題の化合物)2.5g(6.7ミリモル)を、その対応するスルホンアミドに変 換した。酢酸エチル/ヘキサン(3:7)を使用するシリカゲルクロマトグラフ イ(Waters LC−2000)により精製し、次いで酢酸エチル/ヘキサ ンから再結晶させ、4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)フェニル ]ベンゼンスルホンアミド1.31g(52%)を無色固形物として得た:融点 :179.5〜180.2℃;NMR(CDCl3)δ3.87(s,3H)、 4.76(s,2H)、6.75(d,J=9Hz,1H)、6.86(dd, J=2,9Hz,1H)、7.20(d,J=3Hz,1H)、7.29(d, J=9Hz,2H)、7.35〜7.47(m,4H)、7.79(d,J=8 Hz,2H)。MS(EI):m/e(相対強度) 373(100)、258 (17)、243(29);HRMS:C1916ClNO3Sに対する計算値: 373.0539;実測値:373.0587。分析:C1916ClNO3Sに 対する計算値:C,61.04;H,4.31;N,3.75。実測値:C,6 0.76;H,4.28;N,3.48。 例8 1−(4−クロロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベ ンゼン 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−2−[4−(メチ ルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例4、工程2)2.3g(7.4ミリモル )を、4−クロロフェニルボロン酸1.7g(11ミリモル)と反応させた。酢 酸エチル/ヘキサン(1:3)を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(Wat ers Prep−500A)により精製し、次いで酢酸エチル/ヘキサンから 再結晶させ、1−(4−クロロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フ ェニル]ベンゼン1.90g(74%)を無色固形物として得た:融点:180 .2〜180.6℃;NMR(CDCl3)δ3.06(s,3H)、7.04 (d,J=8Hz,2H)、7.21(d,J=8Hz,2H)、7.33(d ,J=9Hz,2H)、7.38〜7.51(m,4H)、7.81(d,J= 8Hz,2H)。MS(EI):m/e(相対強度) 342(34)、228 (100);HRMS:C1915ClO3Sに対する計算値:342.0481 ;実測値:342.0484。分析:C1915ClO3Sに対する計算値:C, 66.56;H,4.41;Cl,10.34。実測値:C,66.45;H, 4.48;Cl,10.63。 例9 4−[2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]フェニル]ベンゼンスル ホンアミド 工程1:4−(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸の製造 合成経路Iに概略を示した一般方法に従い、4−ブロモベンゾトリフルオライ ド8.9g(39ミリモル)を4−(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸に 変換した。 工程2:1−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]−2−[4−(メチルス ルホニル)フェニル]ベンゼンの製造 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−2−[4−(メチ ルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例4、工程2)4.0g(13ミリモル) を、4−(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸(工程1)3.8g(20ミ リモル)と反応させた。酢酸エチル/ヘキサン(1:3)を使用するシリカゲル クロマトグラフイ(Waters Prep−500A)により精製し、次いで 酢酸エチル/ヘキサンから再結晶させ、1−[4−(トリフルオロメチル)フェ ニル]−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン3.80g(77 %)を無色固形物として得た:融点:172.8〜173.5℃;NMR(CD Cl3)δ3.06(s,3H)、7.23(d,J=8Hz,2H)、7.3 3(d,J=9Hz,2H)、7.41〜7.46(m,2H)、7.48〜7 .54(m,4H)、7.81(d,J=9Hz,2H)。MS(ES):m/ e383(M+Li);HRMS:C201532Sに対する計算値:376. 0745;実測値:376.0776。 工程3:4−[2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]フェニル]ベンゼ ンスルホンアミドの製造 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、1−[4−(トリフルオロメチ ル)フェニル]−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(工程2 )2.62g(6.96ミリモル)を、その対応するスルホンアミドに変換した 。酢酸エチル/ヘキサン(3:7)を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(W aters Prep−500A)により精製し、次いで酢酸エチル/ヘキサン から再結晶させ、4−[2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]フェニル ]ベンゼンスルホンアミド1.85g(70%)を無色固形物として得た:融点 :187.5〜187.8℃;NMR(CDCl3)δ4.79(s,2H)、 7.20〜7.31(m,4H)、7.38〜7.54(m,6H)、7.80 (d,J=8Hz,2H)。MS(EI):m/e(相対強度) 377(14 )、297(25)、228(100);HRMS:C19143NO2Sに対す る計算値:377.0697;実測値:377.0737。分析:C19143 NO2Sに対する計算値:C,60.47;H,3.74;N,3.71。実測 値:C,60.43;H,3.97;N,3.48。 例10 2−クロロ−1−フルオロ−4−[2−[4−(メチルスルホニル)フェニル] フェニル]ベンゼン 工程1:2−クロロ−1−フルオロ−4−[2−[4−(メチルスルホニル)フ ェニル]フェニル]ベンゼンの製造 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−2−[4−(メチ ルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例4、工程2)6.43g(20.6ミリ モル)を、3−クロロ−4−フルオロフェニルボロン酸5.37g(30.9ミ リモル)と反応させた。酢酸エチル/ヘキサン(1:3)を使用するシリカゲル クロマトグラフイ(Waters Prep−500A)により精製し、2−ク ロロ−1−フルオロ−4−[2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]フェニ ル]ベンゼン6.64g(89%)を無色固形物として得た:融点:179.5 〜181.1℃;NMR(CDCl3)δ3.06(s,3H)、6.86〜6 .93(m,1H)、6.98(t,J=8Hz,1H)、7.19(dd,J =2,7Hz,1H)、7.33(d,J=8Hz,2H)、7.38〜7.5 3(m,4H)、7.84(d,J=9Hz,2H)。MS(FAB):m/e 367(M+Li);HRMS:C1914ClFO2Sに対する計算値:360 .0387;実測値:360.0401。分析:C1914ClFOSに対する計 算値:C,63.25;H,3.91;F,5.27。実測値:C,62.92 ;H,4.02;F,5.19。 例11 1,2−ジフルオロ−4−(4−フルオロフェニル)−5−[4−(メチルス ルホニル)フェニル]ベンゼン 工程1:1,2−ジフルオロ−4−(4−フルオロフェニル)−5−[4−(メ チルチオ)フェニル]ベンゼンの製造 窒素雰囲気下に、Pd(PPh34 3g(2.6ミリモル)を、トルエン1 00ml、エタノール100mlおよび2M Na2CO3 100ml中の1, 2−ジブロモ−4,5−ジフルオロベンゼン(アルドリッチ)5.0g(18ミ リモル)、4−メチルチオフェニルボロン酸(例1、工程2)4.2g(25ミ リモル)および4−フルオロフェニルボロン酸3.1g(22ミリモル)の撹拌 溶液に添加した。一夜にわたり還流下に激しく撹拌した後に、溶媒を減圧で除去 し、残留物を酢酸エチルに溶解した。生成する溶液を水で洗浄し、次いで MgSO4上で乾燥させた。シリカゲルクロマトグラフイにより精製し、1,2 −ジフルオロ−4−(4−フルオロフェニル)−5−[4−(メチルチオ)フェ ニル]ベンゼンを半固形物として得た。この生成物はさらに精製することなく使 用した。 工程2:1,2−ジフルオロ−4−(4−フルオロフェニル)−5−[4−(メ チルスルホニル)フェニル]ベンゼンの製造 メチレンクロライド125ml中の粗製1,2−ジフルオロ−4−(4−フル オロフェニル)−5−[4−(メチルチオ)フェニル]ベンゼン(工程1)6. 34g(約18ミリモル)の撹拌溶液に、0℃において、3−クロロペルオキシ 安息香酸14.6g(54ミリモル)をゆっくり添加した。90分間撹拌した後 に、この反応混合物を追加のメチレンクロライドにより稀釈し、5%NaOHで 3回洗浄し、次いでMgSO4上で乾燥させた。酢酸エチル/ヘキサン(1:3 )を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(Waters Prep−500A )により精製し、酢酸エチル/ヘキサンから再結晶させ、1,2−ジフルオロ− 4−(4−フルオロフェニル)−5−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベ ンゼン2.81g(43%)を無色固形物として得た:融点:172.8〜17 3.5℃;NMR(CDCl3)δ3.05(s,3H)、6.94(t,J= 8Hz,2H)、6.98〜7.06(m,2H)、7.21〜7.31(m, 4H)、7.81(d,J=8Hz,2H)。MS(FAB):m/e 369 (M+Li);HRMS:C191332Sに対する計算値:362.0588 ;実測値:362.0586。分析:C191332Sに対する計算値:C,6 2.98;H,3.62;F,15.73。実測値:C,62.96;H,3. 70;F,15.76。 例12 4−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、2−クロロ−1−フルオロ−4 −[2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]フェニル]ベンゼン(例10の 表題の化合物)5.0g(14ミリモル)を、その対応するスルホンアミドに変 換した。酢酸エチル/ヘキサン(28:72)を使用するシリカゲルクロマトグ ラフイ(Waters Prep−500A)により精製し、次いで酢酸エチル /ヘキサンから再結晶させ、4−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル) フェニル]ベンゼンスルホンアミド1.47g(29%)を無色固形物として得 た:融点:192.5〜193.2℃;NMR(CDCl3)δ6.36(s, 2H)、6.68〜6.76(m,1H)、6.81(t,J=9Hz,1H) 、7.06(d,J=8Hz,2H)、7.17〜7.32(m,5H)、7. 63(d,J=8Hz,2H)。MS(FAB):m/e 368(M+Li) ;HRMS:C1813ClFNO2Sに対する計算値:361.0340;実測 値:361.0338。分析:C1813ClFNO2Sに対する計算値:C,5 9.75;H,3.62;N,3.87。実測値:C,59.80;H,3.9 1;N,4.05。 例13 4−[3,4−ジフルオロ−6−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、1,2−ジフルオロ−4−(4 −フルオロフェニル)−5−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン( 例11の表題の化合物)2.65(7.32ミリモル)を、その対応するスル ホンアミドに変換した。酢酸エチル/ヘキサン(1:3)を使用するシリカゲル クロマトグラフイ(Waters LC−2000)により精製し、次いで酢酸 エチル/ヘキサンから再結晶させ、4−[3,4−ジフルオロ−6−(4−フル オロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド1.37g(52%)を無色 固形物として得た:融点:190.2〜191.5℃;NMR(CDCl3)δ 4.77(s,2H)、6.94(t,J=8Hz,2H)、6.98〜7.0 6(m,2H)、7.17〜7.28(m,4H)、7.79(d,J=8Hz ,2H)。MS(FAB):m/e 370(M+Li);HRMS:C1812 3NO2Sに対する計算値:363.0541;実測値:363.0576。分 析:C18123NO2Sに対する計算値:C,59.50;H,3.33;N, 3.85。実測値:C,59.52;H,3.57;N,3.68。 例14 1−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン 工程1:1−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオロ−2 −[4−(メチルチオ)フェニル]ベンゼンの製造 合成経路VIIに概略を示した一般方法に従い、1,2−ジブロモ−4,5− ジフルオロベンゼン4.1g(15ミリモル)、4−メチルチオフェニルボロン 酸(例1、工程2)3.0g(18ミリモル)および3−クロロ−4−フルオロ フェニルボロン酸2.9g(16.5ミリモル)を反応させた。シリカゲルクロ マトグラフイにより精製し、1−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4, 5−ジフルオロ−2−[4−(メチルチオ)フェニル]ベンゼン3.5gを半固 形物として得た。この生成物はさらに精製することなく使用した。 工程2:1−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオロ−2 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼンの製造 例11の工程2に記載の合成方法に従い、粗製1−(3−クロロ−4−フルオ ロフェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルチオ)フェニル]ベン ゼン(工程1)3.50g(約15ミリモル)を、その対応するスルホンアミド に酸化した。酢酸エチル/ヘキサン(1:3)を使用するシリカゲルクロマトグ ラフイ(Waters Prep−500A)により精製し、次いで酢酸エチル /ヘキサンから再結晶させ、1−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4, 5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン1.66 g(28%)を無色固形物として得た:融点:172.2〜172.5℃;NM R(CDCl3)δ3.05(s,3H)、6.82〜6.89(m,1H)、 6.99(t,J=9Hz,1H)、7.14(dd,J=2,8Hz,1H) 、7.20〜7.32(m,4H)、7.84(d,J=8Hz,2H)。MS (EI):m/e(相対強度)396(22)、317(12)、282(10 0)、262(25)、243(10);HRMS:C1912ClF32Sに対 する計算値:396.0199;実測値:396.0203。分析:C1912C lF32Sに対する計算値:C,57.51;H,3.05;F,14.36。 実測値:C,57.31;H,2.99;F,14.48。 例15 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−フルオロフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド 工程1:1,2,3,4−テトラフルオロ−5−(4−フルオロフェニル)−6 −[4−(メチルチオ)フェニル]ベンゼンの製造 窒素雰囲気下に、Pd(PPh34 1gを、トルエン80ml、エタノール 50mlおよび2M Na2CO3 35ml中の1,2−ジブロモ−3,4,5 ,6−テトラフルオロベンゼン(アルドリッチ)4.85g(15.8ミリモル )、4−フルオロフェニルボロン酸2.65g(18.9ミリモル)および4− メチルチオフェニルボロン酸(例1、工程2)3.17g(18.9ミリモル) の撹拌溶液に添加した。一夜にわたり還流下に激しく撹拌した後に、溶媒を減圧 で除去した。この残留物を酢酸エチルに溶解し、水で洗浄し、次いでMgSO4 上で乾燥させた。減圧で濃縮し、1,2,3,4−テトラフルオロ−5−(4− フルオロフェニル)−6−[4−(メチルチオ)フェニル]ベンゼン7.3gを 黄色油状物として得た。この生成物はさらに精製することなく使用した。 工程2:1,2,3,4−テトラフルオロ−5−(4−フルオロフェニル)−6 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼンの製造 メチレンクロライド40ml中の粗製1,2,3,4−テトラフルオロ−5− (4−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルチオ)フェニル]ベンゼン(工 程1)7.3gの撹拌溶液に、−10℃において、3−クロロペルオキシ安息香 酸15g(43.5ミリモル)をゆっくり添加した。酢酸エチル/ヘキサン(1 :5)を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(MPLC)により精製し、さら にアセトニトリル/水/TFA(48:52:0.05)を使用する逆相クロマ トグラフイ(Waters DeltaPrep−3000)により精製し、1 ,2,3,4−テトラフルオロ−5−(4−フルオロフェニル)−6−[4−( メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン1.2g(両工程の総合収率 19%) を無色固形物として得た:融点:134.0〜135.0℃;NMR(CDCl3 )δ3.05(s,3H)、6.91〜7.03(m,4H)、7.26(d ,J=8.5Hz,2H)、7.84(d,J=8.5Hz,2H)。MS(F AB):m/e 405(M+Li);HRMS:C191152Sに対する計 算値:398.0400;実測値:398.0393。 工程3:4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−フルオロフェニル) フェニル]ベンゼンスルホンアミドの製造 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、1,2,3,4−テトラフルオ ロ−5−(4−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニル ]ベンゼン(工程2)1.1g(2.76ミリモル)を、その対応するスルホン アミドに変換した。酢酸エチル/ヘキサン(1:5)を使用するシリカゲルクロ マトグラフイ(MPLC)により精製し、4−[2,3,4,5−テトラフルオ ロ−6−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド80mg (7%)を無色固形物として得た:融点:202.0〜203.0℃;NMR( CDCl3)δ4.78(広いs,2H)、6.92〜7.04(m,4H)、 7.21(d,J=8.5Hz,2H)、7.82(d,J=8.5Hz,2H )。MS(FAB):m/e 406(M+Li);分析:C18105NO2S に対する計算値:C,53.76;H,2.59;N,3.48。実測値:C, 53.73;H,2.40;N,3.44。 例16 4−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、1−(3−クロロ−4−フルオ ロフェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル ]ベンゼン(例14の表題の化合物)2.00g(5.04ミリモル)を、その 対応するスルホンアミドに変換した。アセトニトリル/水/TFA(48:52 :0.05)を使用する逆相クロマトグラフイ(Waters DeltaPr ep−3000)により精製し、次いで酢酸エチル/ヘキサンから再結晶させ、 4−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4,5−ジ フルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド500mg(25%)を無色固形物 として得た:融点:162.5〜162.8℃;NMR(CDCl3)δ4.8 0(s,2H)、6.81〜6.88(m,1H)、6.99(t,J=9Hz ,1H)、7.15〜7.28(m,5H)、7.83(d,J=8Hz,2H )。MS(FAB):m/e 404(M+Li);HRMS:C1811ClF3 NO2Sに対する計算値:397.0151;実測値:397.0152;分析 :C1811ClF3NO2Sに対する計算値:C,54.35;H,2.79;N ,3.52。実測値:C,54.57;H,3.00;N,3.42。 例17 5−(4−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニル] −1,3−ベンゾジオキソール 工程1:5−(4−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルチオ)フェニル] −1,3−ベンゾジオキソールの製造 窒素雰囲気下に、Pd(PPh34 1gを、トルエン70ml、エタノール 40mlおよび2M Na2CO3 30ml中の5,6−ジブロモ−1,3−ベ ンゾジオキソール(ランカスター)4g(14.3ミリモル)、4−フルオロフ ェニルボロン酸2.4g(17.2ミリモル)および4−メチルチオフェニルボ ロン酸(例1、工程2)2.87g(17.2ミリモル)の撹拌溶液に添加した 。一夜にわたり還流下に激しく撹拌した後に、溶媒を減圧で除去した。この残留 物を酢酸エチルに溶解し、水で洗浄し、次いでNa2SO4上で乾燥させた。減圧 で濃縮し、5−(4−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルチオ)フェ ニル]−1,3−ベンゾジオキソール6.9gを半固形物として得た。この生成 物はさらに精製することなく使用した。 工程2:5−(4−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェ ニル]−1,3−ベンゾジオキソールの製造 メチレンクロライド30ml中の5−(4−フルオロフェニル)−6−[4− (メチルチオ)フェニル]−1,3−ベンゾジオキソール(工程1)6.9gの 撹拌溶液に、−10℃において、3−クロロペルオキシ安息香酸(約55%)1 2g(38.2ミリモル)をゆっくり添加した。酢酸エチル/ヘキサン(1:4 )を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(MPLC)により精製し、さらにア セトニトリル/水/TFA(45:55:0.05)を使用する逆相クロマトグ ラフイ(Waters DeltaPrep−3000)により精製し、5−( 4−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−1,3 −ベンゾジオキソール200mg(両工程の総合収率4%)を無色固形物として 得た:融点:173.0〜174.0℃;NMR(CDCl3)δ3.04(s ,3H)、6.06(s,2H)、6.86〜6.92(m,4H)、6.96 〜7.03(m,2H)、7.23〜7.27(m,2H)、7.76(d,J =8.5Hz,2H)。MS(FAB):m/e 377(M+Li);HRM S:C2015FO4Sに対する計算値:370.0675;実測値:370.0 680。分析:C2015FO4S(0.25H2O)に対する計算値:C,64. 08;H,4.17。実測値:C,64.08;H,4.15。 例18 1−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン 工程1:1−ブロモ−4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルチオ)フェニル] ベンゼンの製造 合成経路IVに概略を示した一般方法に従い、1,2−ジブロモ−4,5−ジ フルオロベンゼン40g(147ミリモル)を、4−メチルチオフェニルボロン 酸(例1、工程2)12.3g(73ミリモル)と反応させた。ヘキサンを使用 するシリカゲルクロマトグラフイにより精製し、1−ブロモ−4,5−ジフルオ ロ−2−[4−(メチルチオ)フェニル]ベンゼン40.3gを黄色油状物とし て得た。この生成物はさらに精製することなく使用した。 工程2:1−ブロモ−4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フ ェニル]ベンゼンの製造 例1の工程4に記載の合成方法に従い、1−ブロモ−4,5−ジフルオロ−2 −[4−(メチルチオ)フェニル]ベンゼン(工程1)40.3g(約73ミリ モル)を、その対応するスルホンに酸化させた。酢酸エチル/ヘキサン(1:3 )を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(Waters Prep−500A )により精製し、1−ブロモ−4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホ ニル)フェニル]ベンゼン17.4g(68%)を無色固形物として得た:融点 :158.5〜159.5℃;NMR(CDCl3)δ3.12(s,3H)、 7.13〜7.21(m,1H)、7.50〜7.60(m,3H)、8.02 (d,J=9Hz,2H)。 工程3:1−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロ−2 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼンの製造 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−4,5−ジフルオ ロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(工程2)4.4g( 13ミリモル)を、3−クロロ−4−メトキシフェニルボロン酸(例5、工程2 )3.1g(17ミリモル)と反応させた。酢酸エチル/ヘキサン(3:7)を 使用するシリカゲルクロマトグラフイ(Waters Prep−500A)に より精製し、次いで酢酸エチル/ヘキサンから再結晶させ、1−(3−クロロ− 4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル )フェニル]ベンゼン4.47g(95%)を無色固形物として得た:融点: 147.5〜148.5℃;NMR(CDCl3)δ3.05(s,3H)、3 .88(s,3H)、6.75(d,J=9Hz,1H)、6.83(dd,J =2,9Hz,1H)、7.10(d,J=2Hz,1H)、7.17〜7.3 2(m,4H)、7.83(d,J=9Hz,2H)。MS(EI):m/e( 相対強度) 408(33)、314(15)、294(52)、279(63 )、251(100);分析:C2015ClF23S(0.27酢酸エチル)に 対する計算値:C,58.53;H,3.99;F,8.79。実測値:C,5 8.75;H,3.71;F,8.52。 例19 1,2−ジフルオロ−4−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)−5− [4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−4,5−ジフルオ ロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例18、工程2)3 .0g(8.6ミリモル)を、3−フルオロ−4−メトキシフェニルボロン酸( 例4、工程3)1.9g(11ミリモル)と反応させた。酢酸エチル/ヘキサン (1:3)を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(Waters Prep− 500A)により精製し、次いで酢酸エチル/ヘキサンから再結晶させ、1,2 −ジフルオロ−4−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)−5−[4−(メ チルスルホニル)フェニル]ベンゼン3.19g(94%)を無色固形物として 得た:融点:159.2〜159.7℃;NMR(CDCl3)δ3.05(s ,3H)、3.87(s,3H)、6.63〜6.85(m,3H)、7.16 〜7.32(m,4H)、7.82(d,J=8Hz,2H)。MS(EI): m/e(相対強度)392(49)、313(15)、298(48)、269 (100)、249(79)。分析:C201533S(0.26酢酸エチル) に対する計算値:C,60.85;H,4.15;F,13.71。実測値:C ,61.33;H,3.90;F,13.40。 例20 4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、1−(3−クロロ−4−メトキ シフェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル ]ベンゼン(例18の表題の化合物)4.00g(9.78ミリモル)を、その 対応するスルホンアミドに変換した。酢酸エチル/ヘキサン(1:3)を使用す るシリカゲルクロマトグラフイ(MPLC)により精製し、次いで酢酸エチル/ ヘキサンから再結晶させ、4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)− 4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド0.86g(21%)を 無色固形物として得た:融点:70℃(分解);NMR(CDCl3)δ3.8 7(s,3H)、4.84(s,2H)、6.75(d,J=9Hz,1H)、 6.82(dd,J=2,9Hz,1H)、7.14(d,J=2Hz,1H) 、7.16〜7.28(m,4H)、7.81(d,J=8Hz,2H)。MS (EI):m/e(相対強度) 409(22)、294(15)、279(2 8)、251(100)、231(20)。分析:C1914ClF2NO3Sに対 する計算値:C,55.68;H,3.44;N,3.42。実測値:C,55 .42;H,3.48;N,3.33。 例21 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)フ ェニル]ベンゼンスルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、1,2−ジフルオロ−4−(3 −フルオロ−4−メトキシフェニル)−5−[4−(メチルスルホニル)フェニ ル]ベンゼン(例19の表題の化合物)2.50g(6.38ミリモル)を、そ の対応するスルホンアミドに変換した。酢酸エチル/ヘキサン(1:3)を使用 するシリカゲルクロマトグラフイ(MPLC)により精製し、次いで酢酸エチル /ヘキサンから再結晶させ、4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−フルオロ− 4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド0.82g(33% )を無色固形物として得た:融点:132.2〜132.8℃;NMR(CDC l3)δ3.87(s,3H)、4.85(s,2H)、6.71〜6.85( m,3H)、7.15〜7.27(m,4H)、7.81(d,J=9Hz,2 H)。MS(EI):m/e(相対強度) 393(32)、298(21)、 282(25)、269(100)、249(46)。分析:C19143NO3 Sに対する計算値:C,58.01;H,3.59;N,3.56。実測値:C ,57.75;H,3.48;N,3.48。 例22 4−[6−(4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5−イ ル]ベンゼンスルホンアミド 工程1:5−ブロモ−6−(4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソ ールの製造 窒素雰囲気下に、Pd(PPh34 1.1gを、トルエン100ml、エタ ノール60mlおよび2M Na2CO3 40ml中の5,6−ジブロモ−1, 3−ベンゾジオキソール10.4g(37.2ミリモル)および4−フルオロフ ェニルボロン酸2.6g(18.6ミリモル)の撹拌溶液に添加した。一夜にわ たり還流下に激しく撹拌した後に、溶媒を減圧で除去した。この残留物を酢酸エ チルに溶解し、水で洗浄し、次いでNa2SO4上で乾燥させた。溶出剤としてヘ キサンを使用するシリカゲルクロマトグラフイ(Waters Prep−50 0A)により精製し、5−ブロモ−6−(4−フルオロフェニル)−1,3−ベ ンゾジオキソール3.9g(71%)を無色固形物として得た;融点:86.0 〜87.5℃;NMR(CDCl3)δ6.02(s,2H)、6.77(s, 1H)、7.04〜7.13(m,3H)、7.28〜7.35(m,2H)。 工程2:[6−(4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5− イル]ボロン酸の製造 窒素雰囲気下に、無水THF30ml中の5−ブロモ−6−(4−フルオロフ ェニル)−1,3−ベンゾジオキソール(工程1)3.9g(13.2ミリモル )の撹拌溶液に、−78℃において、n−BuLi(ヘキサン中2.5M)6. 3ml(15.8ミリモル)を添加した。30分後に、トリメチルボレート4. 5 ml(39.4ミリモル)を添加した。この反応混合物を室温に温め、次いで3 時間撹拌し、次いで5%NaOH 60mlを添加した。この反応混合物をさら に60分間撹拌し、THFを減圧で除去し、次いでpHを約4に調整した。この 残留物を酢酸エチルに溶解し、生成する溶液をNa2SO4上で乾燥させ、次いで 減圧で濃縮し、[6−(4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール −5−イル]ボロン酸1.7g(50%)を淡黄色固形物として得た;NMR( CDCl3)δ4.00(広いs,2H)、6.06(s,2H)、6.75( s,1H)、7.08〜7.17(m,2H)、7.26(s,1H)、7.3 1〜7.39(m,2H)。 工程3:4−[6−(4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール− 5−イル]ベンゼンスルホンアミドの製造 窒素雰囲気下に、Pd(PPh34 500mgを、トルエン30ml、エタ ノール20mlおよび2M Na2CO3 15ml中の[6−(4−フルオロフ ェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)ボロン酸(工程2)1.5 5g(6.0ミリモル)および4−ブロモベンゼンスルホンアミド(ランカスタ ー)1.09g(4.62ミリモル)の撹拌溶液に添加した。還流下に6時間激 しく撹拌した後に、溶媒を減圧で除去し、残留物を酢酸エチルに溶解した。生成 する溶液を水で洗浄し、次いでNa2SO4上で乾燥させた。酢酸エチル/ヘキサ ン(3:7)を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(MPLC)により精製し 、4−[6−(4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5−イ ル]ベンゼンスルホンアミド1.3g(76%)を無色固形物として得た;融点 :191.0〜192.5℃;NMR(CDCl3)δ4.80(s,2H)、 6.06(s,2H)、6.83〜6.92(m,4H)、6.97〜7.06 (m,2H)、7.20(d,J=8.5Hz,2H)、7.74(d,J=8 .5Hz,2H)。MS(FAB):m/e 372(M+H)。分析:C1914 FNO4Sに対する計算値:C,61.45;H,3.80;N,3.77。 実測値:C,61.48;H,3.92;N,3.68。 例23 1,2−ジフルオロ−4−(4−メチルフェニル)−5−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−4.5−ジフルオ ロ−2−[(4−メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例18、工程2)2 .56g(7.37ミリモル)を、4−メチルフェニルボロン酸1.35g(9 .93ミリモル)と反応させた。酢酸エチル/ヘキサン(3:7)を使用するシ リカゲルクロマトグラフイ(MPLC)により精製し、1,2−ジフルオロ−4 −(4−メチルフェニル)−5−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼ ン2.55g(97%)を無色固形物として得た;融点:147.0〜148. 0℃;NMR(CDCl3)δ2.32(s,3H)、3.05(s,3H)、 6.92(d,J=8Hz,2H)、7.03(d,J=8Hz,2H)、7. 17〜7.32(m,4H)、7.79(d,J=8Hz,2H)。MS(FA B):m/e365(M+Li)。分析:C201622Sに対する計算値:C ,67.03;H,4.50。実測値:C,67.18;H,4.48。 例24 5−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスメホニル)フェニル]フェ ニル]−1,3−ベンゾジオキソール 工程1:(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)ボロン酸の製造 例1の工程2に記載の合成方法に従い、5−ブロモ−1,3−ベンゾジオキソ ール(アルドリッチ)15.2g(75.6ミリモル)を、無色固形物として、 (1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)ボロン酸に変換した;NMR(CD Cl3)δ5.98(s,2H)、6.88(t,J=8Hz,1H)、7.2 6〜7.41(m,2H)、7.80(広いs,2H)。 工程2:5−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル] フェニル]−1,3−ベンゾジオキソールの製造 合成経路Iに記載の一般方法に従い、1−ブロモ−4,5−ジフルオロ−2− [4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例18、工程2)2.24g (6.45ミリモル)を、(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)ボロン酸 (工程1)1.39g(8.38ミリモル)と反応させた。酢酸エチル/ヘキサ ン(1:4)を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(MPLC)により精製し 、5−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]フェ ニル]−1,3−ベンゾジオキソール2.47g(99%)を無色固形物として 得た;融点:110.0〜111.0℃;NMR(CDCl3)δ3.05(s ,3H)、5.95(s,2H)、6.47〜6.52(m,2H)、6.67 (d,J=8.5Hz,1H)、7.16〜7.24(m,2H)、7.32( d,J=8.5Hz,2H)、7.82(d,J=8.5Hz,2H)。MS( FAB):m/e395(M+Li)。分析:C201424Sに対する計算値 :C,61.85;H,3.63。実測値:C,61.92;H,3.66。 例25 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、1,2−ジフルオロ−4−(4 −メチルフェニル)−5−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例 23の表題の化合物)2.43g(6.78ミリモル)を、その対応するスルホ ンアミドに変換した。酢酸エチル/ヘキサン(1:5)を使用するシリカゲルク ロマトグラフイ(MPLC)により精製し、4−[4,5−ジフルオロ−2−( 4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド1.90g(78%) を無色固形物として得た:融点:103.0〜104.0℃;NMR(CDCl3 )δ2.32(s,3H)、4.81(s,2H)、6.93(d,J=8H z,2H)、7.04(d,J=8Hz,2H)、7.16〜7.29(m,4 H)、7.78(d,J=8.5Hz,2H)。MS(EI):m/e 359 (26)、279(33)、278(41)、264(100)、251(36 )、119(62)、80(70)、64(56)。分析:C19152NO2S に対する計算値:C,63.50;H,4.21;N,3.90。実測値:C, 63.55;H,4.24;N,3.80。 例26 4−[2−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−4,5−ジフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、5−[4,5−ジフルオロ−2 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]フェニル]−1,3−ベンゾジオキソ ール(例24の表題の化合物)2.34g(6.02ミリモル)を、その対応す るスルホンアミドに変換した。酢酸エチル/ヘキサン(3:7)を使用するシリ カゲルクロマトグラフイ(MPLC)により精製し、4−[2−(1,3−ベン ゾジオキソール−5−イル)−4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホン アミド1.84g(78%)を無色固形物として得た:融点:142.0〜14 3.0℃;NMR(CDCl3)δ4.83(s,2H)、5.95(s,2H )、6.49〜6.54(m,2H)、6.69(d,J=8Hz,1H)、7 .15〜7.30(m,4H)、7.81(d,J=8Hz,2H)。MS(E I):m/e 389(18)、308(14)、251(100)、231( 43)。分析:C19132NO4S(0.19 H2O)に対する計算値:C,5 8.09;H,3.43;N,3.57。実測値:C,58.11;H,3.5 1;N,3.48。 例27 1−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4− メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン 工程1:3−クロロ−4−メチルフェニルボロン酸の製造 合成経路Iに記載の一般方法に従い、4−ブロモ−2−クロロトルエン11. 1g(54ミリモル)を、3−クロロ−4−メチルフェニルボロン酸に無色固形 物として変換した;NMR(CDCl3)δ2.47(s,3H)、7.37( d,J=8Hz,1H)、7.98(d,J=8Hz,1H)、8.08(s, 1H)。 工程2:1−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロ−2− [4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼンの製造 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−4.5−ジフルオ ロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例18、工程2)2 .49g(7.17ミリモル)を、3−クロロ−4−メチルフェニルボロン酸( 工程1)1.59g(9.33ミリモル)と反応させた。酢酸エチル/ヘキサン (1:5)を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(MPLC)により精製し、 1−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4−( メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン2.65g(94%)を無色固形物とし て得た;融点:138.0〜139.0℃;NMR(CDCl3)δ2.34( s,3H)、3.05(s,3H)、6.75(dd,J=2,8Hz,1H) 、7.03〜7.10(m,2H)、7.18〜7.26(m,2H)、7.2 9(d,J=8Hz,2H)、7.83(d,J=8Hz,2H)。MS(FA B):m/e399(M+Li)。分析:C2015ClF22Sに対する計算値 :C,61.15;H,3.85。実測値:C,61.12;H,3.82。 例28 2−クロロ−4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フ ェニル]フェニル]−N,N−ジメチルベンゼンアミン 工程1:4−ブロモ−2−クロロ−N,N−ジメチルアニリンの製造 窒素雰囲気下に、DMF200ml中の4−ブロモ−2−クロロアニリン12 .8g(62ミリモル)および粉末状K2CO3 42.8g(310ミリモル) の撹拌溶液に、ヨウドメタン11.6ml(186ミリモル)を添加した。酢酸 エチル/ヘキサン(5:95)を使用するシリカゲルクロマトグラフイ (Waters Prep−500A)により精製し、4−ブロモ−2−クロロ −N,N−ジメチルアニリン11.3g(78%)を無色液体として得た;NM R(CDCl3)δ2.79(s,6H)、6.92(d,J=9Hz,1H) 、7.25〜7.34(m,1H)、7.49(d,J=2Hz,1H)。 工程2:3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニルボラン酸の製造 合成経路Iに記載の一般方法に従い、4−ブロモ−2−クロロ−N,N−ジメ チルアニリン(工程1)11.3g(48.2ミリモル)を、3−クロロ−4− (N,N−ジメチルアミノ)フェニルボロン酸に無色固形物として変換した;N MR(CDCl3)δ2.93(s,6H)、7.12(d,J=8Hz,1H )、8.01(d,J=8Hz,1H)、8.12(s,1H)。 工程3:2−クロロ−4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニ ル)フェニル]フェニル]−N,N−ジメチルベンゼンアミンの製造 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−4,5−ジフルオ ロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例18、工程2)2 .25g(6.48ミリモル)を、3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ )フェニルボロン酸(工程2)1.68g(8.42ミリモル)と反応させた。 酢酸エチル/ヘキサン(3:7)を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(MP LC)により精製し、2−クロロ−4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メ チルスルホニル)フェニル]フェニル]−N,N−ジメチルベンゼンアミン2. 65g(97%)を無色固形物として得た;融点:129.0〜130.0℃; NMR(CDCl3)δ2.81(s,6H)、3.05(s,3H)、6.7 6〜6.91(m,2H)、7.08(d,J=2Hz,1H)、7.17〜7 .26(m,2H)、7.31(d,J=8.5Hz,2H)、7.83(d, J=8.5Hz,2H)。MS(FAB):m/e428(M+Li)。分析: C2118ClF2NO2Sに対する計算値:C,59.79;H,4.30;N, 3.32。実測値:C,59.40;H,4.29;N,3.24。 例29 4−[2−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、1−(3−クロロ−4−メチル フェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル] ベンゼン(例27の表題の化合物)2.54g(6.47ミリモル)を、その対 応するスルホンアミドに変換した。酢酸エチル/ヘキサン(1:5)を使用する シリカゲルクロマトグラフイ(MPLC)により精製し、4−[2−(3−クロ ロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンア ミド1.80g(71%)を無色固形物として得た:融点:139.0〜140 .0℃;NMR(CDCl3)δ2.33(s,3H)、4.81(s,2H) 、6.74(dd,J=2,8Hz,1H)、7.04(d,J=8Hz,1H )、7.12(d,J=2Hz,1H)、7.17〜7.25(m,4H)、7 .80(d,J=8Hz,2H)。MS(FAB):m/e 400(M+Li )。分析:C19142ClNO2Sに対する計算値:C,57.95;H,3. 58;N,3.56。実測値:C,57.91;H,3.55;N,3.54。 例30 4−[2−[3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−4, 5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、2−クロロ−4−[4,5−ジ フルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]フェニル]−N,N−ジ メチルベンゼンアミン(例28の表題の化合物)2.50g(5.93ミリモル )を、その対応するスルホンアミドに変換した。酢酸エチル/ヘキサン(3:7 )を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(MPLC)により精製し、4−[2 −[3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−4,5−ジフル オロフェニル]ベンゼンスルホンアミド1.75g(70%)を無色固形物とし て得た:融点:193.0〜194.0℃;NMR(CDCl3)δ2.83( s,6H)、4.80(s,2H)、6.79(dd,J=2,9Hz,1H) 、6.87〜6.95(m,1H)、7.13(d,J=2Hz,1H)、7. 17〜7.29(m,4H)、7.82(d,J=8Hz,2H)。MS(FA B):m/e 429(M+Li)。分析:C2017ClF222S(0.2 7H2O)に対する計算値:C,56.16;H,4.13;N,6.55。実 測値:C,56.16;H,4.02;N,6.39。 例31 1,2−ジフルオロ−4−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン 工程1:4−フルオロ−4−メチルフェニルボロン酸の製造 合成経路Iに記載の一般方法に従い、4−ブロモ−2−フルオロトルエンを、 4−フルオロ−3−メチルフェニルボロン酸に変換した;NMR(CDCl3) δ2.39(d,J=2Hz,3H)、7.13(t,J=9Hz,1H)、7 . 99〜8.08(m,2H)。 工程2:1,2−ジフルオロ−4−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)−5 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼンの製造 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−4.5−ジフルオ ロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例18、工程2)を 、4−フルオロ−3−メチルフェニルボロン酸(工程1)と反応させ、1,2− ジフルオロ−4−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)−5−[4−(メチル スルホニル)フェニル]ベンゼンを無色固形物として得た;融点:167.2〜 167.5℃;NMR(CDCl3)δ2.19(d,J=2Hz,3H)、3 .04(s,3H)、6.71〜6.78(m,1H)、6.84(t,J=9 Hz,1H)、6.92(dd,J=2,8Hz,1H)、7.18〜7.32 (m,4H)、7.81(d,J=8Hz,2H);MS(FAB):m/z3 83(M+Li)+。HRMS:M+に対する計算値:376.0745、実測値 :376.0752。分析:C201532Sに対する計算値:C,63.82 ;H,4.02;F,15.14。実測値:C,64.00;H,3.95;F ,14.96。 例32 4−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4− (メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン 工程1:4−クロロ−3−メチルフェニルボロン酸の製造 合成経路Iに記載の一般方法に従い、5−ブロモ−2−クロロトルエンを、4 −クロロ−3−メチルフェニルボロン酸に変換した;NMR(CDCl3)δ2 . 31(s,3H)、7.35(d,J=8Hz,1H)、7.59(d,J=8 Hz,1H)、7.71(s,1H)、8.10(広いs,2H)。 工程2:4−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−1,2−ジフルオロ−5− [4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼンの製造 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−4.5−ジフルオ ロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例18、工程2)を 、4−クロロ−3−メチルフェニルボロン酸(工程1)と反応させ、4−(4− クロロ−3−メチルフェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼンを無色固形物として得た;融点:151.5〜15 2.2℃;NMR(CDCl3)δ2.29(s,3H)、3.05(s,3H )、6.73(dd,J=2,8Hz,1H)、6.98(d,J=2Hz,2 H)、7.16(d,J=9Hz,1H)、7.19〜7.32(m,4H)、 7.82(d,J=9Hz,2H)。MS(FAB):m/z399(M+Li )+;HRMS:M+に対する計算値:392.0449、実測値:392.04 37。分析:C2015ClF22Sに対する計算値:C,61.15;H,3. 85;F,9.67。実測値:C,61.04;H,3.79;F,9.55。 例33 1,2−ジフルオロ−4−(3,4−ジメチルフェニル)−5−[4−(メチ ルスルホニル)フェニル]ベンゼン 工程1:3,4−ジメチルフェニルボロン酸の製造 合成経路Iに記載の一般方法に従い、4−ブロモ−o−キシレンを、3,4− ジメチルフェニルボロン酸に変換した;NMR(CDCl3)δ2.19(s, 6H)、7.07(d,J=8Hz,1H)、7.45〜7.54(m,2H) 、7.84(広いs,2H)。 工程2:1,2−ジフルオロ−4−(3,4−ジメチルフェニル)−5−[4− (メチルスルホニル)フェニル]ベンゼンの製造 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−4.5−ジフルオ ロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例18、工程2)を 、3,4−ジメチルフェニルボロン酸(工程1)と反応させ、1,2−ジフルオ ロ−4−(3,4−ジメチルフェニル)−5−[4−(メチルスルホニル)フェ ニル]ベンゼンを無色固形物として得た;融点:125.1〜125.8℃;N MR(CDCl3)δ2.16(s,3H)、2.23(s,3H)、3.04 (s,3H)、6.69(dd,J=2,8Hz,1H)、6.86(s,1H )、6.95(d,J=8Hz,1H)、7.16〜7.26(m,3H)、7 .29(d,J=9Hz,1H)、7.79(d,J=9Hz,2H);MS( FAB):m/z379(M+Li)+;HRMS:M+に対する計算値:372 .0996、実測値:372.0978。分析:C201822Sに対する計算 値:C,67.73;H,4.87;F,10.20。実測値:C,67.93 ;H,4.92;F,9.82。 例34 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、1,2−ジフルオロ−4−(4 −フルオロ−3−メチルフェニル)−5−[4−(メチルスルホニル)フェニル ] ベンゼン(例31)を、4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロ−3− メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミドに無色固形物として変換し た;融点:151.5〜152.0℃;NMR(CDCl3)δ2.18(d, J=2Hz,3H)、4.84(s,2H)、6.70〜6.78(m,1H) 、6.83(t,J=9Hz,1H)、6.94(dd,J=2,8Hz,1H )、7.15〜7.29(m,4H)、7.79(d,J=8Hz,2H);M S(FAB):384(M+Li)+。HRMS:M+に対する計算値:377. 0697、実測値:377.0720。分析:C1914NF32Sに対する計算 値:C,60.47;H,3.74;N,3.71。実測値:C,60.07; H,3.84;N,3.62。 例35 1,2−ジフルオロ−4−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン 工程1:4−ブロモ−2−メチルアニソールの製造 窒素雰囲気下に、THF300ml中の4−ブロモ−2−メチルフェノール3 8.9g(208ミリモル)およびK2CO3粉末43.1g(312ミリモル) の撹拌した懸濁液に、ヨウドメタン39ml(624ミリモル)を添加した。こ の混合物を一夜にわたり加熱還流させ、次いで室温に冷却させた。無機塩を濾別 し、次いで有機溶媒を減圧で除去した。この残留物を酢酸エチルに溶解し、水お よびブラインで洗浄し、次いでMgSO4上で乾燥させた。酢酸エチル/ヘキサ ン(5:95)を使用するシリカゲルプラグにより精製し、4−ブロモ−2−メ チルアニソール28g(67%)を無色固形物として得た;融点:65.0〜6 6.0℃;NMR(CDCl3)δ2.18(s,3H)、3.80(s,3H )、6.67(d,J=9Hz,1H)、7.22〜7.28(m,2H)。 工程2:4−メトキシ−3−メチルフェニルボロン酸の製造 合成経路Iに記載の一般方法に従い、4−ブロモ−2−メチルアニソールを、 4−メトキシ−3−メチルフェニルボロン酸に変換した;NMR(CDCl3) δ2.33(s,3H)、3.92(s,3H)、6.96(d,J=8Hz, 1H)、7.98(s,1H)、8.03(d,J=8Hz,1H)。 工程3:1,2−ジフルオロ−4−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)−5 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼンの製造 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−4.5−ジフルオ ロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例18、工程2)を 、4−メトキシ−3−メチルフェニルボロン酸(工程2)と反応させ、1,2− ジフルオロ−4−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)−5−[4−(メチル スルホニル)フェニル]ベンゼンを無色固形物として得た;融点:160.5〜 161.5℃;NMR(CDCl3)δ2.11(s,3H)、3.04(s, 3H)、3.79(s,3H)、6.63(d,J=9Hz,1H)、6.74 (dd,J=2,9Hz,1H)、6.85(d,J=2Hz,1H)、7.1 5〜7.27(m,3H)、7.30(d,J=8Hz,1H)、7.80(d ,J=8Hz,2H);MS(FAB):m/z395(M+Li)+;HRM S:M+に対する計算値:388.0945、実測値:388.0940。分析 :C211823Sに対する計算値:C,64.94;H,4.67;F,9. 78。実測値:C,64.59;H,4.84;F,9.52。 例36 4−[2−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、4−(4−クロロ−3−メチル フェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4−(メチルスルホニル)フェニル] ベンゼン(例32)を、4−[2−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−4, 5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミドに無色固形物として変換した ;融点:141.5〜142.8℃;NMR(CDCl3)δ2.29(s,3 H)、4.89(s,2H)、6.73(dd,J=2,8Hz,1H)、7. 00(d,J=2Hz,1H)、7.15(d,J=8Hz,1H)、7.17 〜7.27(m,5H)、7.80(d,J=9Hz,1H);MS(FAB) :m/z 400(M+Li)+;HRMS:M+に対する計算値:393.04 02、実測値:393.0416。分析:C1914NF2ClO2Sに対する計算 値:C,57.95;H,3.58;N,3.56。実測値:C,57.73; H,3.55;N,3.48。 例37 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジメチルフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、1,2−ジフルオロ−4−(3 ,4−ジメチルフェニル)−5−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼ ン(例33)を、4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジメチルフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミドに無色固形物として変換した;融点:13 2.8〜133.9℃;NMR(CDCl3)δ2.16(s,3H)、2.2 2(s,3H)、4.83(s,2H)、6.68(dd,J=2,8Hz, 1H)、6.88(s,1H)、6.94(d,J=8Hz,1H)、7.15 〜7.28(m,4H)、7.77(d,J=8Hz,2H);MS(FAB) :m/z 380(M+Li)+;HRMS:M+に対する計算値:373.09 48、実測値:373.0972。分析:C2017NF22Sに対する計算値: C,64.33;H,4.59;N,3.75。実測値:C,64.20;H, 4.58;N,3.72。 例38 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド 工程1:4−ブロモ−2,6−ジクロロアニソールの製造 例35の工程1に記載のメチル化方法に従い、4−ブロモ−2,6−ジクロロ フェノールをメチル化し、4−ブロモ−2,6−ジクロロアニソールを無色固形 物として得た;融点:67.0〜68.0℃;NMR(CDCl3)δ3.88 (s,3H)、7.45(s,2H)。 工程2:3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニルボロン酸の製造 合成経路Iに記載の一般方法に従い、4−ブロモ−2,6−ジクロロアニソー ルを、3,5−ジクロロ−メトキシフェニルボロン酸に変換した;NMR(CD Cl3)δ3.83(s,3H)、7.73(s,2H)。 工程3:4−(2−ブロモ−4,5−ジフルオロフェニル)ベンゼンスルホンア ミドの製造 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−4,5−ジフルオ ロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例18、工程2)を 、 4−[2−ブロモ−4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミドに無 色固形物として変換した;NMR(CDCl3)δ4.87(s,2H)、7. 12〜7.21(m,1H)、7.49〜7.58(m,3H)、8.00(d ,J=9Hz,2H)。 工程4:4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジ フルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミドの製造 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、3,5−ジクロロ−4−メトキ シフェニルボロン酸(工程2)を4−(2−ブロモ−4,5−ジフルオロフェニ ル)ベンゼンスルホンアミド(工程3)と反応させ、4−[2−(3,5−ジク ロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホ ンアミドを無色固形物として得た;融点:145.5〜146.0℃;NMR( CDCl3)δ3.89(s,3H)、4.78(s,2H)、6.98(s, 2H)、7.18〜7.29(m,4H)、7.85(d,J=8Hz,2H) ;MS(FAB):m/z450(M+Li)+;HRMS:(M+H)+に対す る計算値:444.0039、実測値:444.0052。分析:C1913NC l223Sに対する計算値:C,51.37;H,2.95;F,3.15。 実測値:C,51.59;H,3.03;F,3.15。 例39 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−トキシフェニル−3−メチルフェニ ル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、1,2−ジフルオロ−4−(4 −メトキシ−3−メチルフェニル)−5−[4−(メチルスルホニル)フェニル ] ベンゼン(例35)を、4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メトキシ−3− メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミドに無色固形物として変換し た;融点:120.0〜121.8℃;NMR(CDCl3)δ2.11(s, 3H)、3.79(s,3H)、4.84(s,2H)、6.63(d,J=9 Hz,1H)、6.74(dd,J=2,9Hz,1H)、6.88(d,J= 2Hz,2H)、7.13〜7.28(m,4H)、7.78(d,J=8Hz ,2H);MS(FAB):m/z 396(M+Li)+;HRMS:M+に対 する計算値:389.0897、実測値:389.0921。分析:C2017N F23Sに対する計算値:C,61.69;H,4.40;N,3.60。実測 値:C,61.79;H,4.37;N,3.67。 例40 1,2−ジフルオロ−4−(3,4−ジメトキシフェニル)−5−[4−(メ チルスルホニル)フェニル]ベンゼン 工程1:3,4−ジメトキシフェニルボロン酸の製造 合成経路Iに記載の一般方法に従い、1−ブロモ−3,4−ジメトキシベンゼ ンを3,4−ジメトキシフェニルボロン酸に変換した;NMR(CDCl3)δ 3.98(s,3H)、4.02(s,3H)、7.02(d,J=9Hz,1 H)、7.69(s,1H)、7.86(d,J=9Hz,1H)。 工程2:1,2−ジフルオロ−4−(3,4−ジメトキシフェニル)−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼンの製造 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−4.5−ジフルオ ロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例18、工程2)を 、 3,4−ジメトキシフェニルボロン酸(工程1)と反応させ、1,2−ジフルオ ロ−4−(3,4−ジメトキシフェニル)−5−[4−(メチルスルホニル)フ ェニル]ベンゼンを無色固形物として得た;融点:140.0〜141.0℃; NMR(CDCl3)δ3.04(s,3H)、3.61(s,3H)、3.8 6(s,3H)、6.48(d,J=2Hz,1H)、6.65(dd,J=2 ,8Hz,1H)、6.75(d,J=8Hz,1H)、7.17〜7.29( m,2H)、7.31(d,J=8Hz,2H)、7.81(d,J=8Hz, 2H);MS(FAB):m/z411(M+Li)+;HRMS:M+に対する 計算値:404.0894、実測値:404.0893。分析:C211824 S(0.24 H2O)に対する計算値:C,61.70;H,4.51。実測値 :C,61.69;H,4.56。 例41 6−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−2, 3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン 工程1:2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン−6−ボロン酸の製造 合成経路Iに記載の一般方法に従い、3,4−エチレンジオキシブロモベンゼ ンを2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン−6−ボロン酸に変換した; NMR(CDCl3)δ4.27〜4.36(m,4H)、6.97(d,J= 9Hz,1H)、7.67〜7.72(m,2H)。 工程2:6−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル] −2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシンの製造 合成経路VIに概略を示した一般方法に従い、1−ブロモ−4.5−ジフルオ ロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン(例18、工程2)を 、2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン−6−ボロン酸(工程1)と反 応させ、6−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル ]−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシンを無色固形物として得た;融 点:82.0〜83.0℃;NMR(CDCl3)δ3.05(s,3H)、4 .21〜4.26(m,4H)、6.43(dd,J=2,8Hz,1H)、6 .61(d,J=2Hz,1H)、6.68(d,J=8Hz,1H)、7.1 4〜7.24(m,2H)、7.31(d,J=8Hz,2H)、7.81(d ,J=8Hz,2H);MS(FAB):m/z409(M+Li)+;HRM S:M+に対する計算値:402.0737、実測値:402.0749。分析 :C211624S(0.17ヘキサン)に対する計算値:C,63.41;H ,4.44。実測値:C,63.50;H,4.28。 例42 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジメトキシフェニル)フェニル] ベンゼンスルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、1,2−ジフルオロ−4−(3 ,4−ジメトキシフェニル)−5−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベン ゼン(例40)を、4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,4−ジメトキシフェ ニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミドに無色固形物として変換した;融点: 157.0〜158.0℃;NMR(CDCl3)δ3.61(s,3H)、3 .86(s,3H)、4.77(s,2H)、6.46(d,J=2Hz,1H )、 6.65(dd,J=2,8Hz,1H)、6.75(d,J=8Hz,1H) 、7.16〜7.30(m,4H)、7.79(d,J=8Hz,2H);MS (FAB):m/z 412(M+Li)+;HRMS:M+に対する計算値:4 05.0846、実測値:405.0870。分析:C2017NF24S(0. 35 H2O)に対する計算値:C,58.33;H,4.33;N,3.40。 実測値:C,58.34;H,4.23;N,3.31。 例43 4−[2−(2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン−6−イル)−4, 5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、6−[4,5−ジフルオロ−2 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾ ジオキシン(例41)を、4−[2−(2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオ キシン−6−イル)−4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミドに 無色固形物として変換した;融点:107.0〜108.0℃;NMR(CDC l3)δ4.22〜4.26(m,4H)、4.75(s,2H)、6.43( dd,J=2,8Hz,1H)、6.62(d,J=2Hz,1H)、6.68 (d,J=8Hz,1H)、7.13〜7.30(m,4H)、7.80(d, J=8Hz,2H);MS(FAB):m/z 410(M+Li)+;HRM S:M+に対する計算値:403.0690、実測値:403.0697。分析 :C2015NO42Sに対する計算値:C,59.55;H,3.75;N,3 .47。実測値:C,59.89;H,3.99;N,3.20。 例44 1,2−ジクロロ−4−(4−フルオロフェニル)−5−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン 工程1:ベンジルトリメチルアンモニウムテトラクロロヨウデートの製造 カジゲッシ(Kajigaeshi)の方法[Tetrahedron Le tt.,29,7201〜7204(1988)]に従い、CH2Cl2 300 ml中のICl3 23.3g(100ミリモル)の撹拌溶液に、ベンジルトリメ チルアンモニウムクロライド18.6g(100ミリモル)を添加した。生成物 を採取し、減圧で乾燥させ、ベンジルトリメチルアンモニウムテトラクロロヨウ デート38.4g(92%)を明るい黄色固形物として得た;融点:105.5 〜127.5℃。 工程2:1,2−ジクロロ−4,5−ジメトキシベンゼンの製造 カジゲッシ(Kajigaeshi)の方法[Chem.Lett.,415 〜418(1989)]に従い、HOAc100ml中の1,2−ジメトキシベ ンゼン6.3g(45.5ミリモル)の撹拌溶液に、ベンジルトリメチルアンモ ニウムテトラクロロヨウデート(工程1)38g(91ミリモル)を添加し、こ の反応混合物を室温で2時間撹拌した。減圧で濃縮し、得られた残留物をトルエ ンに溶解した。生成する溶液を水性Na2SO4で洗浄し、次いでMgSO4上で 乾燥させた。ヘキサンから再結晶させ、1,2−ジクロロ−4,5−ジメトキシ ベンゼン6.0g(64%)を無色固形物として得た;融点:81.0〜82. 5℃;NMR(CDCl3)δ3.86(s,6H)、6.91(s,2H)。 工程3:1,2−ジクロロカテコールの製造 窒素雰囲気下に、BBr3(CH2Cl2中1.0M)83.4ml(83.4 ミリモル)を、0℃において、CH2Cl2 200ml中の1,2−ジクロロ− 4,5−ジメトキシベンゼン(工程2)5.75g(27.8ミリモル)の撹拌 溶液に添加し、この反応混合物を室温で2時間撹拌した。減圧で濃縮し、得られ た残留物を酢酸エチルに溶解した。生成する溶液をブラインで洗浄し、次いでN a2SO4上で乾燥させた。酢酸エチル/ヘキサン(5:95)から再結晶させ、 1,2−ジクロロカテコール5.0g(96%)を灰色固形物として得た;融点 :113.0〜114.5℃;NMR(CDCl3)δ5.18(s,2H)、 6.98(s,2H)。 工程4:1,2−ジクロロ−4,5−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)ベ ンゼンの製造 窒素雰囲気下に、ピリジン8.4ml(104ミリモル)およびトリフリック アンハイドライド(triflic anhydride)9.0ml(53. 5ミリモル)を、0℃において、CH2Cl2 40ml中の1,2−ジクロロカ テコール(工程3)3.72g(20.8ミリモル)に添加し、この反応混合物 を室温で7日間撹拌した。この混合物を氷−水中に注ぎ入れ、CH2Cl2により 抽出し、この抽出液を集め、Na2SO4上で乾燥させた。酢酸エチル/ヘキサン (5:95)を使用するシリカゲルプラグにより精製し、1,2−ジクロロ−4 ,5−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)ベンゼン7.9g(86%)を黄 色油状物として得た;NMR(CDCl3)δ7.62(s,2H)。 工程5:1,2−ジクロロ−4−[4−(メチルチオ)フェニル]−5−(トリ フルオロメタンスルホニル)ベンゼンの製造 窒素雰囲気下に、Pd(PPh34 5g(4.3ミリモル)を、トルエン9 0ml中の1,2−ジクロロ−4,5−ビス(トリフルオロメタンスルホニル) ベンゼン(工程4)7.9g(17.8ミリモル)、4−メチルチオフェニルボ ロン酸(例1、工程2)3.0g(18ミリモル)および無水K2CO3粉末7. 4g(54ミリモル)の撹拌溶液に添加した。この反応混合物を48時間還流の 下に撹拌し、次いでCH2Cl2により稀釈した。生成する溶液を水およびブライ ンで洗浄し、次いでMgSO4上で乾燥させた。酢酸エチル/ヘキサン(5: 95〜30:70)を使用するシリカゲルプラグにより精製し、1,2−ジクロ ロ−4−[4−(メチルチオ)フェニル]−5−(トリフルオロメタンスルホニ ル)ベンゼン4.8g(56%)を無色固形物として得た;NMR(CDCl3 )δ2.54(s,3H)、7.33(s,4H)、7.50(s,1H)、7 .56(s,1H)。 工程6:1,2−ジクロロ−4−(4−フルオロフェニル)−5−[4−(メチ ルスルホニル)フェニル]ベンゼンの製造 窒素雰囲気下に、Pd(PPh34480mg(0.42ミリモル)を、トル エン20ml中の1,2−ジクロロ−4−[4−(メチルチオ)フェニル]−5 −(トリフルオロメタンスルホニル)ベンゼン(工程5)1.64g(3.93 ミリモル)、4−フルオロフェニルボロン酸1.1g(7.9ミリモル)および 無水K2CO3粉末1.6g(11.6ミリモル)の撹拌溶液に添加した。この反 応混合物を7日間還流の下に激しく撹拌し、次いで室温に冷却させた。この反応 混合物を酢酸エチルにより稀釈した。生成する溶液を水で洗浄し、次いでMgS O4上で乾燥させた。酢酸エチル/ヘキサン(5:95)を使用するシリカゲル プラグにより精製し、得られた油状残留物を次いで、CH2Cl2 15ml中に 溶解した。生成する溶液を0℃において、3−クロロ過安息香酸(MCPBA) (70%)1.4g(11.8ミリモル)で処理し、この反応混合物を室温で一 夜にわたり撹拌した。過剰のMCPBAを0℃でNa2SO4の添加により静め、 次いで室温で30分間撹拌した。この混合物をCH2Cl2により稀釈し、生成す る溶液を水およびブラインで洗浄し、次いでNa2SO4上で乾燥させた。酢酸エ チル/ヘキサン(3:7)を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(MPLC) により精製し、1,2−ジクロロ−4−(4−フルオロフェニル)−5−[4− (メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン505mg(33%)を無色固形物と して得た;融点:143.5〜144.5℃;NMR(CDCl3)δ3.05 (s,3H)、6.95(d,J=9Hz,2H)、6.99〜7.07(m, 2H)、7.30(d,J=9Hz,2H)、7.52(d,J=9Hz,2H )、7.83(d,J=9Hz,2H);MS(CI):m/z 395(M+ H)+;HRMS:(M++Li)+に対する計算値:401.01 57、実測値:401.0142。分析:C19132SFCl2に対する計算値 :C,57.73;H,3.31;F,4.81;Cl,17.94。実測値: C,57.89;H,3.45;F,4.81;Cl,17.56。 例45 2−[4,5−ジフルオロ−4´−(メチルスルホニル)−(1,1´−ビフ ェニル)−2−イル]−5−メチルピリジン 工程1:4,5−ジフルオロ−2−[(4−メチルチオ)フェニル]フェニルボ ロン酸の製造 窒素雰囲気下に、無水THF 12ml中の1−ブロモ−4,5−ジフルオロ −2−[4−(メチルチオ)フェニル]ベンゼン(例18、工程1)3.87g (12.3ミリモル)およびマグネシウム片300mg(12.3ミリモル)の 混合物に、ジブロモエタン1mlを添加した。この反応混合物を5時間、加熱還 流させ、0℃に冷却させ、トリメチルボレート2.8ml(24.6ミリモル) で処理し、次いで一夜にわたり撹拌した。10%NaOH 10mlを添加した 後に、この溶液を3時間撹拌し、pH4に酸性にし、次いで酢酸エチルにより3 回抽出した。この抽出液を集め、MgSO4上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮し 、4,5−ジフルオロ−2−[(4−メチルチオ)フェニル]フェニルボロン酸 2.7g(78%)を淡黄色半固形物として得た。 工程2:2−[4,5−ジフルオロ−4´−(メチルスルホニル)−(1,1´ −ビフェニル)−2−イル]−5−メチルピリジンの製造 窒素雰囲気下に、Pd(PPh34 1g(0.86ミリモル)を、トルエン 25ml、エタノール25mlおよび2M Na2CO325ml中の4,5−ジ フルオロ−2−[(4−メチルチオ)フェニル]フェニルボロン酸(工程1) 2.7g(9.6ミリモル)および2−ブロモ−5−メチルピリジン1.7g( 9.8ミリモル)の撹拌溶液に添加した。この反応混合物を48時間還流の下に 撹拌し、次いで溶媒を減圧で除去した。この残留物を酢酸エチルに溶解し、生成 する溶液を水およびブラインで洗浄し、次いでNa2SO4上で乾燥させた。酢酸 エチル/ヘキサン(15:85)を使用するシリカゲルプラグにより精製し、得 られた半固体状残留物を次いで、THF 15mlとCH3OH 15mlとの 混合溶剤中に溶解した。H2O 15m中のカリウムペルオキシモノスルフェー ト(OXONE)(登録商標名)3.5g(5.7ミリモル)の溶液をゆっくり 添加し、次いで撹拌を室温で3時間継続した。過剰のOXONE(登録商標名) を、Na2SO3 2gの添加によって分解させた。減圧で濃縮し、得られた残留 物を酢酸エチルに溶解した。生成する溶液をブラインで洗浄し、次いでNa2S O4上で乾燥させた。酢酸エチル/ヘキサン(45:55)を使用するシリカゲ ルクロマトグラフイ(MPLC)により精製し、2−[4,5−ジフルオロ−4 ´−(メチルスルホニル)−(1,1´−ビフェニル)−2−イル]−5−メチ ルピリジン1.0g(29%)を無色泡状物として得た;NMR(CDCl3) δ2.32(s,3H)、3.05(s,3H)、6.76(d,J=8Hz, 1H)、7.17〜7.36(m,4H)、7.35(t,J=9Hz,1H) 、7.82(d,J=9Hz,2H)、8.42(s,1H);MS(FAB) :m/z 360(M+H)+;HRMS:(M++Li)+に対する計算値:3 60.0870、実測値:360.0885。分析:C1915NO2SF2に対す る計算値:C,63.50;H,4.21;N,3.90;F,10.57。実 測値:C,63.28;H,4.30;N,3.65;F,10.24。 例46 4−[4,5−ジフルオロ−2−(5−メチルピリジン−2−イル)フェニル] ベンゼンスルホンアミド 合成経路XIに概略を示した一般方法に従い、2−[4,5−ジフルオロ−4 ´−(メチルスルホニル)−(1,1´−ビフェニル)−2−イル]−5−メチ ルピリジン(例45)を、4−[4,5−ジフルオロ−2−(5−メチルピリジ ン−2−イル)フェニル]ベンゼンスルホンアミドに無色泡状物として変換した ;NMR(CDCl3)δ2.55(s,3H)、4.91(s,2H)、6. 81(d,J=8Hz,1H)、7.18〜7.31(m,3H)、7.35( d,J=8Hz,1H)、7.50〜7.59(m,1H)、7.82(d,J =9Hz,2H)、8.47(s,1H);MS(FAB):m/z 361( M+H)+。HRMS:(M+Li)+に対する計算値:369.0904、実測 値:367.0904。分析:C181422SF2(0.13ヘキサン)に対 する計算値:C,60.73;H,4.30;N,7.13。実測値:C,60 .47;H,4.54;N,7.13。 例47 5−[4,5−ジフルオロ−4´−(メチルスルホニル)−(1,1´−ビフ ェニル)−2−イル]−2−メチルピリジン 工程1:5−ブロモ−2−メチルピリジンの製造 リッツ(Reitz)の方法[米国特許第5,155,177号]に従い、窒 素雰囲気下に、2−メチルピリジン23.7ml(240ミリモル)中のAlC l3 76.6g(576ミリモル)の撹拌した懸濁液に、100℃において、 臭素12.3ml(238ミリモル)をゆっくり添加した。この反応混合物を一 夜にわたり100℃に加熱し、室温まで冷却させ、次いで氷水中にゆっく り注ぎ入れた。水性Na2SO3を添加して、過剰の臭素を分解させ、次いで50 %水性NaOHを添加して、アルミニウム塩を溶解させた。この混合物をエチル エーテルにより抽出し(3回)、次いでMgSO4上で乾燥させた。酢酸エチル /ヘキサン(15:85)を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(Water s PrepLC−500A)により精製し、5−ブロモ−2−メチルピリジン 8.6g(21%)を淡褐色油状物として得た;NMR(CDCl3)δ2.4 8(s,3H)、7.02(d,J=9Hz,1H)、7.65(dd,J=2 ,9Hz,1H)、8.52(d,J=2Hz,1H)。 工程2:2−メチル−5−(トリメチルスズ)ピリジンの製造 窒素雰囲気下に、n−ブチルリチウム(ヘキサン中2.5M)14ml(35 ミリモル)を、−78℃において、無水THF300ml中の5−ブロモ−2− メチルピリジン5.2g(30ミリモル)の撹拌溶液に添加した。10分後に、 無水THF 5ml中のトリメチルスズクロライド7.2g(36ミリモル)を 添加した。この反応混合物を室温まで温め、一夜にわたり撹拌した。減圧で濃縮 させ、得られた残留物を酢酸エチルに溶解した。生成する溶液をブラインで洗浄 し、次いでNa2SO4上で乾燥させた。酢酸エチル/ヘキサン(1:3)を使用 するシリカゲルクロマトグラフイ(Waters PrepLC−500A)に より精製し、2−メチル−5−(トリメチルスズ)ピリジン2.0g(29%) を黄色油状物として得た;NMR(CDCl3)δ0.31(s,9H)、2. 52(s,3H)、7.11(d,J=8Hz,1H)、7.65(dd,J= 2,8Hz,1H)、8.49(s,1H)。 工程3:5−[4,5−ジフルオロ−4´−(メチルスルホニル)−(1,1´ −ビフェニル)−2−イル]−2−メチルピリジンの製造 窒素雰囲気下に、Pd(PPh34 100mg(0.1ミリモル)を、トル エン5ml中の1−ブロモ−4,5−ジフルオロ−2−[(4−メチルスルホニ ル)フェニル]ベンゼン(例18、工程2)200mg(0.6ミリモル)およ び2−メチル−5−(トリメチルスズ)ピリジン(工程2)300mg(1.2 ミリモル)の撹拌溶液に添加した。この反応混合物を16時間還流の下に撹拌し 、次いで室温に冷却させた。減圧で濃縮し、得られた残留物を酢酸エチルに溶 解した。生成する溶液を水およびブラインで洗浄し、次いでNa2SO4上で乾燥 させた。酢酸エチル/ヘキサン(1:1)を使用するシリカゲルクロマトグラフ イ(MPLC)により精製し、5−[4,5−ジフルオロ−4´−(メチルスル ホニル)一(1,1´−ビフェニル)−2−イル]−2−メチルピリジン70m g(32%)を淡褐色固形物として得た;融点:141.0〜142.5℃;N MR(CDCl3)δ2.52(s,3H)、3.04(s,3H)、7.02 (d,J=8Hz,1H)、7.19〜7.32(m,5H)、7.82(d, J=8Hz,2H)、8.24(s,1H);MS(FAB):m/z 360 (M+H)+;HRMS:(M+H)+に対する計算値:360.0870、実測 値:360.0862。分析:C1915NO2SF2(0.33H2O)に対する 計算値:C,62.45;H,4.24;N,3.84。実測値:C,62.4 6;H,4.32;N,3.83。 例48 4−[4,5−ジフルオロ−2−(6−メチルピリジン−3−イル)フェニル] ベンゼンスルホンアミド 窒素雰囲気下に、Pd(PPh34150mgを、トルエン20ml中の4− (2−ブロモ−4,5−ジフルオロフェニル)ベンゼンスルホンアミド(例38 、工程3)800mg(2.3ミリモル)および2−メチル−5−(トリメチル スズ)ピリジン(例47、工程2)1.0g(4.6ミリモル)の撹拌溶液に添 加した。この反応混合物を16時間還流の下に撹拌し、次いで溶媒を減圧の下に 除去した。この残留物を酢酸エチルに溶解し、生成する溶液を水およびブライン で洗浄し、次いでMgSO4上で乾燥させた。酢酸エチル/ヘキサン(1: 1)を使用するシリカゲルクロマトグラフイ(MPLC)により、次いで逆相ク ロマトグラフイ(Waters DeltaPrep)により精製し、4−[4 ,5−ジフルオロ−2−(6−メチルピリジン−3−イル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド540mg(65%)を無色固形物として得た;融点:>96℃ (分解);NMR(CDCl3)δ2.55(s,3H)、5.10(s,2H )、7.09(d,J=8Hz,1H)、7.20〜7.28(m,4H)、7 .32(dd,J=2,9Hz,1H)、7.81(d,J=9Hz,2H)、 8.21(d,J=2Hz,1H);MS(FAB):m/z 361(M+H )+;HRMS:(M+H)+に対する計算値:361.0822、実測値:36 1.0823。分析:C181422SF2に対する計算値:C,59.99; H,3.92;N,7.77;F,10.54。実測値:C,59.72;H, 4.05;N,7.64;F,10.46。 生物学的評価 ラットカラゲニン足蹠浮腫試験 基本的に、ウインター(Winter)等により開示された材料、試薬および 方法[Proc.Soc.Exp.Biol.Med.,111,544(19 62)]を使用して、カラゲニン足蹠浮腫試験を行った。雄スプラギュー−ダウ レイ(Sprague−Dawley)ラットを、各群毎に平均体重をできるだ け近くして選択した。これらのラットは、試験前の16時間にわたり水に自由に 接近できるようにして飼育した。これらのラットに、0.5%メチルセルロース および0.025%界面活性剤を含有する媒質中に懸濁した被験化合物または媒 質単独を経口投与した(1ml)。1時間後に、カラゲニン/無菌0.9%塩類 溶液の1%溶液0.1mlを足蹠注射により投与し、注射した方の足の容積を、 デジタルインジケーターを備えた圧力変換器に連結されている置換肢体容積計( displacement plethysmometer)により測定した。 カラゲニンを注射して3時間後に、足の容積を再度測定した。薬物処置動物群に おける平均足膨潤をプラセボ処置動物群における平均足膨潤と比較し、浮腫の抑 制パーセンテージを決定した[オッターネス(Otterness)およびブリ ベン(Bliven)による非ステロイド系抗炎症薬、NSAIDS類を試験す るための実験室モデル(Laboratory Models for Tes ting NSAIDS,in Non−Steroidal Anti−In flammatory Drugs)、ロンバルジノ(J.Lombardin o)編集、1985]。この抑制%はこの方法で測定された対照足容積からの減 少%を示すものであり、本発明による選択された化合物に関するデータを表Iに まとめて示す。 ラットカラゲニン−誘発鎮痛試験 このラットカラゲニン−誘発鎮痛試験は、基本的にハーグリーブス(Harg reaves)等により開示された材料、試薬および方法[Pein,32,7 7(1988)]を使用して行った。雄スプラギュー−ダウレイ(Spragu e−Dawley)ラットを、ラットカラゲニン足蹠浮腫試験に関して上記した とおりに処置した。カラゲニン注射後の3時間の時点で、床下から位置が変えら れる照射熱源として高強度ランプを備えた透明な床を有する特製のプレキシガラ ス製容器にラットを入れた。最初の20分間の後に、注射した方の足または対側 の注射していない方の足のどちらかに対して熱刺激を開始した。足の引込み挙動 により光が中断されると、光電子電池がランプを消し、タイマーを止めた。ラッ トがその足を引込めるまでの時間を、対照群および薬物処置群について測定し、 痛覚過敏による足引込み挙動の抑制パーセントを測定した。この結果を表Iに示 す。 インビトロCOX IおよびCOX II活性の評価 本発明の化合物は、COX IIのインビトロ抑制を示した。例に示されてい る本発明の化合物のCOX II抑制活性を下記の方法により測定した。 a.組換えCOXバクロウイルス(baculoviruses)の調製 オライリイ(D.R.O´Reilly)等の方法[バクロウイルス発現ベク ター(Baculovirus Expression Vectors):実 験室マニュアル(A Laboratory Manual),(1992)]と 同様の方法で、ヒトまたはマウスのCOX−1あるいはヒトまたはマウスのCO X−2のどちらかのコード領域を含む2.0kb断片を、バクロウイルストラン スファーベクターpVL1393[インビトロゲン(Invitrogen)] のBamH1部位中にクローン形成して、COX−1およびCOX−2にかかわ るバクロウイルストランスファーベクターを発現させた。バクロウイルストラン スファーベクターDNA 4μgをリン酸カルシウム法により線状バクロウイル スプラスミドDNA200ngとともにSF9昆虫細胞(2×108)中にトラ ンスフェクションすることによって、組換えバクロウイルスを単離した。この方 法については、サマース(M.D.Summers)およびスミス(G.E.S mith)によるバクロウイルスベクターおよび昆虫細胞培養法に関わる方法の 手引き(A Manual of Methods for Baculovi rus Vectors and Insect Cell Culture Precedures),(Texas Agric.Exp.Station Bull.),1555(1987)を参照することができる。組換えウイル スは、3ラウンドのプラーク精製によって精製し、高力価(107〜108pfu /ml)のウイルスストックを調製した。大規模生産の場合に、SF9昆虫細胞 は、感染多重度(multiplicity of infection)が0 .1であるように、組換えバクロウイルス ストックを用いて、10リットル発 酵槽(0.5×106/ml)で感染させた。72時間後に、これらの細胞を遠 心分離し、この細胞ペレットを、1%3−[(3−クロラミドプロピル)ジメチ ルアンモニオ]−1−プロパンスルホネート(CHAPS)含有トリス(Tri s)/ショ糖(50mM:25%、pH8) 中でホモジネート形成した。このホモジネートを、10,000xGで30分間 遠心分離し、生成した上清を−80℃で保存し、その後にCOX活性について評 価した。 b.COX−IおよびCOX−II活性の評価 COX活性は、放出されたプロスタグランジンを検出するためのELISAを 用いて、生成PGE2/μg蛋白質/時間として評価した。対応するCOX酵素 を含有するCHAPS−可溶化昆虫細胞膜を、エピネフィリン、フェノールおよ びヘムを含有するリン酸カリウム緩衝液(50mM、pH8.0)中でアラキド ン酸(10μM)の添加の下に、インキュベートした。被験化合物は、アラキド ン酸を添加する前の10〜20分間、酵素とともに予備インキュベートした。こ のアラキドン酸と酵素との間の反応はいずれも、37℃/室温で10分後に、こ の反応混合物40μlをELISA緩衝液160μlおよびインドメタシン25 μM中に移すことによって停止させた。生成されたPGE2は、標準ELISA 技法[カイマンケミカル(Cayman Chemical)]によって測定し た。この結果を表IIに示す。 この組合わせ治療の活性化合物を、1種または2種以上の無毒性で医薬上で許 容される担体および(または)希釈剤および(または)助剤(ここで、これらを 総合して、「担体」材料と記す)および所望により、別の活性成分とともに含有 する一群の医薬製剤がまた、本発明の範囲内に包含される。本発明の活性化合物 は、いずれか適当な経路で、好ましくは投与経路に適する医薬製剤の形態でかつ また意図する処置に有効な用量で投与することができる。本発明の活性化合物お よび製剤は、例えば経口投与、血管内投与、腹腔内投与、皮下投与、筋肉内投与 または局所投与することができる。 経口投与の場合に、この医薬製剤は、例えば錠剤、カプセル剤、懸濁液または 液体の形態であることができる。この医薬製剤は好ましくは、特定量の活性成分 を含有する用量単位の形態に調製することができる。このような用量単位の例に は、錠剤またはカプセル剤がある。活性成分はまた、製剤として注射により投与 することができ、この場合には、例えば塩類溶液、デキストロースまたは水を適 当な担体として使用することができる。 治療活性の化合物の投与量および本発明の化合物および(または)製剤による 疾病症状を処置するための投与量計画は、対象の年齢、体重、性別および医療状 態、病気の重篤度、投与の経路および頻度、およびまた使用される特定の化合物 を包含する種々の因子に依存し、従って広く変えることができる。本発明の医薬 製剤は、約0.1〜2000mgの範囲、好ましくは約0.5〜500mgの範 囲、最も好ましくは約1〜100mgの範囲で活性成分を含有することができる 。一日薬用量は、約0.01〜100mg/体重kg、好ましくは約0.5〜約 20mg/体重kg、最も好ましくは約0.1〜10mg/体重kgが適当であ る。この一日薬用量は、一日のうち1〜4回の投薬量で投与することができる。 乾癬およびその他の皮膚疾患の場合には、本発明の化合物の局所用製剤を、一 日あたり2〜4回、被患領域に好ましく施用することができる。 眼または他の外部組織、例えば口および皮膚の炎症の場合には、活性成分を総 量で、例えば0.075〜30重量/重量%、好ましくは0.2〜20重量/重 量%、最も好ましくは0.4〜15重量/重量%の量で含有する本発明の製剤を 、好ましくは局所用軟膏またはクリームとして、あるいは座薬として施用する。 軟 膏に調製する場合に、活性成分はパラフィン軟膏基剤または水混和性軟膏基剤と ともに使用することができる。別法として、活性成分はまた、水中油型クリーム 基剤とともにクリームとして調剤することができる。所望により、このクリーム 基剤の水性相は、例えば少なくとも30重量/重量%の多価アルコール、例えば プロピレングリコール、ブタン−1,3−ジオール、マンニトール、ソルビトー ル、グリセロール、ポリエチレングリコールおよびその混合物を含有することが できる。局所用製剤は、活性成分の皮膚またはその他の被患領域を通る吸収また は浸透を強める化合物を含有していることが望ましい。このような皮膚浸透強化 剤の例には、ジメチルスルホキシドおよび関連類縁体が包含される。本発明の化 合物はまた、経皮用具によって投与することもできる。好ましくは、局所投与は 、貯蔵体および有孔膜型または各種固形マトリックス型の貼付剤を用いて達成す ることができる。どちらの場合も、活性成分は、貯蔵体またはマイクロカプセル から膜を通して摂取者の皮膚または粘膜と接触している活性剤浸透性接着剤中に 連続的に放出される。活性成分が皮膚を通して吸収されると、この活性成分は制 御されている既定の流速で摂取者に投与される。マイクロカプセルの場合に、カ プセル封入剤がまた、膜として機能することができる。 本発明のエマルジョンの油相は、公知成分から公知方法に従い構成することが できる。この相は単に乳化剤からなることもできるが、脂肪またはオイルと少な くとも1種の乳化剤との混合物、または脂肪およびオイルの両方と少なくとも1 種の乳化剤との混合物からなることもできる。安定剤としても作用する親油性乳 化剤とともに、親水性乳化剤を含有していると好ましい。オイルおよび脂肪の両 方を含有しているものもまた好ましい。同時に、乳化剤(1種または2種以上) は安定剤(1種または2種以上)と一緒になって、または安定剤(1種または2 種以上)を含有せずにいわゆる乳化性ワックスを構成しており、またワックスが オイルおよび脂肪と一緒になって、クリーム製剤の油性分散相を形成している、 いわゆる乳化性軟膏基剤を構成している。本発明の製剤で使用するのに適する乳 化剤およびエマルジョン安定剤には、中でも、ツイーン(Tween)60、ス パン(Span)80、セトステアリルアルコール、ミリスチルアルコール、グ リセリルモノステアレートおよびラウリル硫酸ナトリウムが包含される。 本発明の製剤に適するオイルまたは脂肪の選択は、所望の化粧品的性質の獲得 に基づいている。この理由は、本発明の化合物がエマルジョン型医薬製剤に使用 されるオイル類の大部分に対して非常に低い溶解性を有するからである。従って 、本発明によるクリームは好ましくは、チューブまたはその他の容器からの漏出 を回避するのに適する粘ちょう度を有し、脂っぽくなく、無染色性であるべきで ある。直鎖状または分枝鎖状の一塩基性または二塩基性アルキルエステル、例え ばジイソアジペート、イソセチルステアレート、ココナツ脂肪酸のプロピレング リコールジエステル、イソプロピルミリステート、デシルオレエート、イソプロ ピルパルミテート、ブチルステアレート、2−エチルヘキシルパルミテートまた は分枝鎖状エステルの配合物を使用することができる。これらは要求される性質 に依存して、単独でまたは組合わせて使用することができる。別様では、高融点 を有する脂質、例えば白色軟質パラフィンおよび(または)液状パラフィン、あ るいはその他の鉱油を使用することもできる。 眼に局所投与するのに適する製剤には、活性成分が適当な担体中に、特に活性 成分用の水性溶剤中に溶解または懸濁されている点眼剤が包含される。このよう な製剤において、本発明の抗炎症活性成分は、0.5〜20重量/重量%、有利 には0.5〜10重量/重量%、特に約1.5重量/重量%の濃度で存在させる と好ましい。 治療の目的に対しては、この組合わせ発明の活性化合物は通常、指示投与経路 に適する1種または2種以上の助剤と組合わせることができる。経口投与の場合 には、化合物を乳糖、ショ糖、デンプン粉末、アルカン酸のセルロースエステル 、セルロースアルキルエステル、タルク、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシ ウム、酸化マグネシウム、リン酸および硫酸のナトリウムおよびカルシウム塩、 ゼラチン、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルピロリドン、およ び(または)ポリビニルアルコールと混合し、次いで投与に都合が良いように錠 剤またはカプセル剤に形成することができる。このようなカプセル剤または錠剤 は、制御放出剤を含有することができ、例えばヒドロキシプロピルメチルセルロ ース中に活性化合物を分散させて、制御放出性を得ることができる。非経口投与 用の製剤は、水性または非水性の等張無菌注射溶液または懸濁液の形態であるこ とが できる。これらの溶液および懸濁液は、経口投与用製剤における使用について前 記されている1種または2種以上の担体または稀釈剤を含有する無菌の粉末また は顆粒から調製することができる。本発明の化合物は、水、ポリエチレングリコ ール、プロピレングリコール、エタノール、トウモロコシ油、綿実油、落花生油 、ゴマ油、ベンジルアルコール、塩化ナトリウム、および(または)各種緩衝液 中に溶解することができる。その他の助剤および投与形式は、調剤技術で充分に 、かつまた広く知られている。 本発明を特定の態様について説明したが、これらの詳細な説明は制限しようと するものと解釈されるべきではない。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】1996年10月31日 【補正内容】 最近、ターフェニル化合物が抗炎症薬として開示されている[R.Copel and等によるMed.Chem.Res.,5,384〜393(1995) ]。 US−A5,344,991には、シクロオキシゲナーゼ−2阻害物質として ジアリールシクロペンテン化合物が記載されている。1994年7月21日付け で発行されたWO94/15932には、シクロオキシゲナーゼ−2阻害物質と して置換チオフェン化合物、フラン化合物およびピロール化合物が記載されてい る。 発明の開示 式中、Aはアリールおよびヘテロアリールから選択され、この基Aは置換基と して、アルキル、ハロ、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ハロアルキル、ア ミノ、アルキルアミノ、カルボキシル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、 アルコキシアルキル、ヒドロキシルおよびメルカプトから選択される1個または 2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立して、ヒドリド、ハ ロおよびアルコキシから選択され;そしてR5〜R9はそれぞれ独立して、ヒドリ ド、アルキル、ハロ、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ハロアルキル、アミ ノ、アルキルアミノ、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキ ル、ヒドロキシル、メルカプト、アミノスルホニルおよびアルキルスルホニルか ら選択される、ただしR7はアミノスルホニルまたはメチルスルホニルである。 「ヒドリド」の用語は、1個の水素原子(H)を表わす。このヒドリド基は、 例えば酸素原子に結合して、ヒドロキシル基を形成することができ、あるいは2 個のヒドリド基が炭素原子に結合して、メチレン(−CH2−)基を形成するこ とができる。単独で、あるいは「ハロアルキル」および「アルキルスルホニル」 などのように別の用語内で、「アルキル」の用語が使用されている場合に、この アルキル基は炭素原子1〜20個、好ましくは炭素原子1〜12個を有する直鎖 状または分枝鎖状基を包含する。さらに好ましいアルキル基は炭素原子1〜10 個を有する「低級アルキル」基である。最も好ましいアルキル基は炭素原子1〜 6個を有する低級アルキル基である。このような基の例には、メチル、エチル、 n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、te rt−ブチル、ペンチル、イソアミル、ヘキシルなどが包含される。 「ヒドロキシアルキル」の用語は、炭素原子1〜10個を有し、そのいずれか 1個が1個または2個以上のヒドロキシル基により置換されている直鎖状または 分枝鎖状アルキル基を包含する。さらに好ましくは、ヒドロキシアルキル基は炭 素原子1〜6個を有しかつまた1個または2個以上のヒドロキシル基を有する「 低級ヒドロキシアルキル」基である。このような基の例は、ヒドロキシメチル、 ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチルおよびヒドロキシヘ キシルを包含する。「アルコキシ」の用語は、そのアルキル部分に炭素原子1〜 10個を有する直鎖状または分枝鎖状基のオキシ含有基、例えばメトキシ基を包 含する。さらに好ましくは、アルコキシ基は炭素原子1〜6個を有する「低級ア ルコキシ」基である。このような基の例は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、 ブトキシ、tert−ブトキシ、メチレンジオキシおよびエチレンジオキシを包 含する。 治療活性の化合物の投与量および本発明の化合物および(または)製剤による 疾病症状を処置するための投与量計画は、対象の年齢、体重、性別および医療状 態、病気の重篤度、投与の経路および頻度、およびまた使用される特定の化合物 を包含する種々の因子に依存し、従って広く変えることができる。本発明の医薬 製剤は、0.1〜2000mgの範囲、好ましくは0.5〜500mgの範囲、 最も好ましくは1〜100mgの範囲で活性成分を含有することができる。一日 薬用量は、0.01〜100mg/体重kg、好ましくは0.5〜20mg/体 重kg、最も好ましくは0.0〜10mg/体重kgが適当である。この一日薬 用量は、一日のうち1〜4回の投薬量で投与することができる。 請求の範囲 1.下記式Iで表わされる化合物またはその医薬として許容される塩: 式中、Aはアリールおよびヘテロアリールから選択され、この基Aは置換基と して、アルキル、ハロ、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ハロアルキル、ア ミノ、アルキルアミノ、カルボキシル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、 アルコキシアルキル、ヒドロキシルおよびメルカプトから選択される1個または 2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立して、ヒドリド、ハ ロおよびアルコキシから選択され;そしてR5〜R9はそれぞれ独立して、ヒドリ ド、アルキル、ハロ、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ハロアルキル、アミ ノ、アルキルアミノ、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキ ル、ヒドロキシル、メルカプト、アミノスルホニルおよびアルキルスルホニルか ら選択され、ただしR7はアミノスルホニルまたはメチルスルホニルである。 2.Aがフェニル、ナフチル、5−員ヘテロアリールおよび6−員ヘテロアリー ルから選択され、この基Aは置換基として、C1〜C10アルキル、ハロ、C1〜C6 アルコキシ、C1〜C6アルキルチオ、シアノ、C1〜C6ハロアルキル、アミノ 、C1〜C6アルキルアミノ、C1〜C6ジアルキルアミノ、C1〜C6ハロアルコキ シ、C1〜C6ヒドロキシアルキル、C1〜C6アルコキシアルキル、ヒドロキシル およびメルカプトから選択される1個または2個以上の基を有していてもよく; R1〜R4はそれぞれ独立して、ヒドリドおよびハロから選択され;あるいはR2 およびR3は一緒になって、−O(CH2)nO−(ここで、nは1または2であ る)を形成しており;そしてR5〜R9はそれぞれ独立して、ヒドリド、C1〜C1 0 アルキル、ハロ、C1〜C6アルコキシ、C1〜C6アル キルチオ、シアノ、C1〜C6ハロアルキル、アミノ、C1〜C6アルキルアミノ、 C1〜C6ジアルキルアミノ、C1〜C6ハロアルコキシ、C1〜C6ヒドロキシアル キル、C1〜C6アルコキシアルキル、ヒドロキシル、メルカプト、アミノスルホ ニルおよびC1〜C6アルキルスルホニルから選択される化合物またはその医薬と して許容される塩である請求項1に記載の化合物。 3.Aがフェニル、ナフチル、5−員ヘテロアリールおよび6−員ヘテロアリー ルから選択され、この基Aは置換基として、C1〜C10アルキル、ハロ、C1〜C6 アルコキシ、C1〜C6ハロアルキルおよびC1〜C6ジアルキルアミノから選択 される1個または2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立し て、ヒドリドおよびハロから選択され;あるいはR2およびR3は一緒になって、 −O(CH2)nO−(ここで、nは1または2である)を形成しており;そし てR5、R6、R8およびR9はそれぞれ、ヒドリドであり;そしてR7はアミノス ルホニルおよびメチルスルホニルから選択される化合物またはその医薬として許 容される塩である請求項2に記載の化合物。 4.Aがフェニル、ナフチル、5−員ヘテロアリールおよび6−員ヘテロアリー ルから選択され、この基Aは置換基として、C1〜C10アルキル、ハロ、C1〜C6 アルコキシ、C1〜C6ハロアルキルおよびC1〜C6ジアルキルアミノから選択 される1個または2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立し て、ヒドリドおよびハロから選択され;あるいはR2およびR3は一緒になって、 −OCH2O−を形成しており;そしてR7はアミノスルホニルである化合物また はその医薬として許容される塩である請求項3に記載の化合物。 5.Aがフェニル、チエニル、フリル、ピラゾリル、ピロリル、チアゾリル、オ キサゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、トリアゾリルおよびピリジル から選択され、この基Aは置換基として、メチル、エチル、フルオロ、クロロ、 ブロモ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、n−ブトキシ、メチレンジオキシ、 エチレンジオキシ、フルオロメチル、ジフルオロメチル、ジフルオロクロロメチ ル、トリフルオロメチル、ジクロロエチル、ジクロロフルオロメチル、クロロメ チル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフル オロプロピル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロプロピル、N −エチル−N−メチルアミノ、N,N−ジメチルアミノおよびN,N−ジエチル アミノから選択される1個または2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4は それぞれ独立して、ヒドリド、フルオロ、クロロおよびブロモから選択され;あ るいはR2およびR3は一緒になって、−OCH2O−を形成しており;R5、R6 、R8およびR9はヒドリドであり;そしてR7はアミノスルホニルである化合物 またはその医薬として許容される塩である請求項4に記載の化合物。 6.下記の化合物およびそれらの医薬として許容される塩からなる群から選択さ れる請求項5に記載の化合物: 4−[2−(4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−フルオロ−4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホン アミド; 4−[2−(4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスル ホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4−ジフルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミ ド; 4−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(4−クロロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(3,4−ジクロロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド ; 4−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホン アミド; 4−[2−(3−フルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベン ゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−[3−フルオロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5−イ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,4−ジフルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール− 5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソ ール-5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−フルオロフェニル]−1 ,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジフルオロ−4−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジクロロ−4−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジオ キソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)−1,3−ベンゾ ジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−フルオロ−4−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)フ ェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジフルオロフェニル)フェニル] ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロ−3−メトキシフェニル)フ ェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロフェニル)−4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4−ジクロロフェニル)−4,5−ジフルオロフェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジメトキシフェニル)フェニル] ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル ]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−メ チルフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−フ ルオロフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−4, 5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−メ トキシフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−4,5−ジフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン−6−イル)−4 ,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(5−メチルピリジン−2−イル)フェニル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(6−メチルピリジン−3−イル)フェニル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4,5−トリメチルフェニル)フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジメチルフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジフルオロ−4−メチルフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメトキシ−4−メチルフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニ ル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4,5−トリメトキシフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメチル−4−フルオロフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4,5−トリフルオロフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメトキシ−4−フルオロフェニ ル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジメチルフェニル)−4,5−ジフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジフルオロフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4,5−トリクロロフェニル)フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジメチル−4−(N,N−ジメチ ルアミノ)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジフルオロ−4−(N,N−ジメ チルアミノ)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジクロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル] −4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−メチルフェニル)フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(3−フルオロ−4−メチルフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(3−クロロ−4−メチルフェ ニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−メトキシフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−メトキシ−3−メチルフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(3−フルオロ−4−メトキシ フェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(3−クロロ−4−メトキシフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(3,4−ジメトキシフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−フルオロフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−フルオロ−3−メチルフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(3,4−ジフルオロフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(3−クロロ−4−フルオロフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド;および 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−フルオロ−3−メトキシ フェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド。 7.下記の化合物およびそれらの医薬として許容される塩からなる群から選択さ れる請求項5に記載の化合物: 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジメチルフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジメトキシフェニル)フェニル] ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン−6−イル)−4 ,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(5−メチルピリジン−2−イル)フェニル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(6−メチルピリジン−3−イル)フェニル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスル ホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホン アミド; 4−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−フルオロフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)フ ェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5−イ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−4,5−ジフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド;および 4−[2−[3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−4, 5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド。 8.化合物が、4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−クロロ−4−フルオロフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミドまたはその医薬として許容される塩 である請求項5に記載の化合物。 9.化合物が、4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミドまたはその医薬として許容される塩である請求項5に記載 の化合物。 10.Aがフェニル、ナフチル、5−員ヘテロアリールおよび6−員ヘテロアリ ールから選択され、この基Aは置換基として、C1〜C10アルキル、ハロ、C1〜 C6アルコキシ、C1〜C6ハロアルキルおよびC1〜C6ジアルキルアミノから選 択される1個または2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立 して、ヒドリドおよびハロから選択され;あるいはR2およびR3は一緒になって 、−O(CH2)O−を形成しており;そしてR7はメチルスルホニルである化合 物またはその医薬として許容される塩である請求項3に記載の化合物。 11.Aがフェニル、チエニル、フリル、ピラゾリル、ピロリル、チアゾリル、 オキサゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、トリアゾリルおよびピリジ ルから選択され、この基Aは置換基として、メチル、エチル、フルオロ、クロロ 、ブロモ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、n−ブトキシ、メチレンジオキシ 、エチレンジオキシ、フルオロメチル、ジフルオロメチル、ジフルオロクロロメ チル、トリフルオロメチル、ジクロロエチル、ジクロロフルオロメチル、クロロ メチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフ ルオロプロピル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロプロピル、 N−エチル−N−メチルアミノ、N,N−ジメチルアミノおよびN,N−ジエチ ルアミノから選択される1個または2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4 はそれぞれ独立して、ヒドリド、フルオロ、クロロおよびブロから選択され;あ るいはR2およびR3は一緒になって、−OCH2O−を形成しており;R5、R6 、R8およびR9は、ヒドリドであり;そしてR7はメチルスルホニルである化合 物またはその医薬として許容される塩である請求項10に記載の化合物。 12.下記の化合物およびそれらの医薬として許容される塩からなる群から選択 される請求項11に記載の化合物: 1,2−ジフルオロ−4−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4− (メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,4−ジメチルフェニル)−5−[4−(メチ ルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,4−ジメトキシフェニル)−5−[4−(メ チルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 6−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−2 ,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン; 1,2−ジクロロ−4−(4−フルオロフェニル)−5−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 2−[4,5−ジフルオロ−4´−(メチルスルホニル)−(1,1´−ビフ ェニル)−2−イル]−5−メチルピリジン; 5−[4,5−ジフルオロ−4´−(メチルスルホニル)−(1,1´−ビフ ェニル)−2−イル]−2−メチルピリジン; 1−(4−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル] ベンゼン; 1−(4−クロロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベ ンゼン; 2−クロロ−1−メトキシ−4−[2−[4−(メチルスルホニル)フェニル ]フェニル]ベンゼン; 2−フルオロ−1−メトキシ−4−[2−[4−(メチルスルホニル)フェニ ル]フェニル]ベンゼン; 2−クロロ−1−フルオロ−4−[2−[4−(メチルスルホニル)フェニル ]フェニル]ベンゼン; 5−(4−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニル] −1,3−ベンゾジオキソール; 1,2−ジフルオロ−4−(4−フルオロフェニル)−5−[4−(メチルス ルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(4−メチルフェニル)−5−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)−5−[ 4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロ−2 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロ− 2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 5−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]フェ ニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 1−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4− (メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン;および 2−クロロ−4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フ ェニル]フェニル]−N,N−ジメチルベンゼンアミン。 13.式II: 式中、Aは、 から選択され;R2およびR3はそれぞれ独立して、ヒドリドおよびハロから選択 され;あるいはR2およびR3は一緒になって、−OCH2O−を形成しており; R10〜R14はそれぞれ独立して、ヒドリド、C1〜C10アルキル、ハロ、C1〜C6 アルコキシ、C1〜C6ハロアルキルおよびC1〜C6ジアルキルアミノから選択 され;あるいはR11およびR12は一緒になって、−O(CH2)nO−(ここで 、nは1〜2である)を形成しており;そしてR7はメチルスルホニルおよびア ミノスルホニルから選択される、 で表わされる化合物あるいはその医薬として許容される塩。 14.式III: 式中、R11〜R13はそれぞれ独立して、ヒドリド、ハロ、C1〜C6アルコキシ 、C1〜C6ハロアルキル、アミノ、C1〜C6アルキルアミノ、C1〜C6ジアルキ ルアミノおよびC1〜C6ハロアルコキシから選択され;あるいはR11およびR12 は一緒になって、−O(CH2)nO−(ここで、nは1〜2である)を形成し ている、 で表わされる化合物あるいはその医薬として許容される塩。 15.式IV: 式中、YはCR11またはNであり;ZはCR10またはNであり;R10〜R12は それぞれ独立して、ヒドリドおよびC1〜C10アルキルから選択され;R7はアミ ノスルホニルまたはメチルスルホニルである;ただしYおよびZの一方はNであ る、で表わされる化合物あるいはその医薬として許容される塩。 16.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項1に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 17.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項2に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 18.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項3に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 19.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項4に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 20.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項5に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 21.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項6に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 22.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項7に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 23.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項8に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 24.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項9に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 25.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項10に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 26.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項11に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 27.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項12に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 28.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項13に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 29.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項14に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 30.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項15に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 31.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項1に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 32.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項2に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 33.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項3に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 34.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項4に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 35.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項5に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 36.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項6に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 37.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項7に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 38.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項8に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 39.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項9に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 40.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項10に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 41.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項11に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 42.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項12に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 43.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項13に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 44.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項14に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 45.患者における炎症または炎症関連障害を処置するための医薬の製造におけ る請求項15に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 46.炎症を処置するための請求項31に記載の使用。 47.炎症関連障害を処置するための請求項31に記載の使用。 48.炎症関連障害が関節炎である請求項47に記載の使用。 49.炎症関連障害が痛みである請求項47に記載の使用。 50.炎症関連障害が発熱である請求項47に記載の使用。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI A61K 31/335 ABE A61K 31/335 ABE 31/36 ABG 31/36 ABG 31/44 AAH 31/44 AAH C07C 311/16 C07C 311/16 311/29 311/29 317/22 317/22 C07D 213/34 C07D 213/34 317/56 317/56 319/18 319/18 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,SZ,U G),AL,AM,AT,AU,BB,BG,BR,B Y,CA,CH,CN,CZ,DE,DK,EE,ES ,FI,GB,GE,HU,IS,JP,KE,KG, KP,KR,KZ,LK,LR,LT,LU,LV,M D,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL ,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK, TJ,TM,TT,UA,UG,US,UZ,VN (72)発明者 リ,ジングリン アメリカ合衆国 63017 ミズーリ州チェ スターフィールド,レイルト ドライブ 14550,アパートメント 306 (72)発明者 ノートン,モニカ ビー. アメリカ合衆国 37341 テネシー州ハリ スン,オールド フェアリー ランディン グ 6414

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.下記式Iで表わされる化合物またはその医薬として許容される塩: 式中、Aはアリールおよびヘテロアリールから選択され、この基Aは置換基と して、アルキル、ハロ、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ハロアルキル、ア ミノ、アルキルアミノ、カルボキシル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、 アルコキシアルキル、ヒドロキシルおよびメルカプトから選択される1個または 2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立して、ヒドリド、ハ ロおよびアルコキシから選択され;そしてR5〜R9はそれぞれ独立して、ヒドリ ド、アルキル、ハロ、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ハロアルキル、アミ ノ、アルキルアミノ、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキ ル、ヒドロキシル、メルカプト、アミノスルホニルおよびアルキルスルホニルか ら選択される。 2.Aがフェニル、ナフチル、5−員ヘテロアリールおよび6−員ヘテロアリー ルから選択され、この基Aは置換基として、低級アルキル、ハロ、低級アルコキ シ、低級アルキルチオ、シアノ、低級ハロアルキル、アミノ、低級アルキルアミ ノ、低級ジアルキルアミノ、低級ハロアルコキシ、低級ヒドロキシアルキル、低 級アルコキシアルキル、ヒドロキシルおよびメルカプトから選択される1個また は2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立して、ヒドリドお よびハロから選択され;あるいはR2およびR3は一緒になって、−O(CH2) nO−(ここで、nは1または2である)を形成しており;そしてR5〜R9はそ れぞれ独立して、ヒドリド、低級アルキル、ハロ、低級アルコ キシ、低級アルキルチオ、シアノ、低級ハロアルキル、アミノ、低級アルキルア ミノ、低級ジアルキルアミノ、低級ハロアルコキシ、低級ヒドロキシアルキル、 低級アルコキシアルキル、ヒドロキシル、メルカプト、アミノスルホニルおよび 低級アルキルスルホニルから選択される化合物またはその医薬として許容される 塩である請求項1に記載の化合物。 3.Aがフェニル、ナフチル、5−員ヘテロアリールおよび6−員ヘテロアリー ルから選択され、この基Aは置換基として、低級アルキル、ハロ、低級アルコキ シ、低級ハロアルキルおよび低級ジアルキルアミノから選択される1個または2 個以上の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立して、ヒドリドおよび ハロから選択され;あるいはR2およびR3は一緒になって、 −O(CH2)nO−(ここで、nは1または2である)を形成しており;そし てR5、R6、R8およびR9はそれぞれ、ヒドリドであり;そしてR7はアミノス ルホニルおよび低級アルキルスルホニルから選択される化合物またはその医薬と して許容される塩である請求項2に記載の化合物。 4.Aがフェニル、ナフチル、5−員ヘテロアリールおよび6−員ヘテロアリー ルから選択され、この基Aは置換基として、低級アルキル、ハロ、低級アルコキ シ、低級ハロアルキルおよび低級ジアルキルアミノから選択される1個または2 個以上の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立して、ヒドリドおよび ハロから選択され;あるいはR2およびR3は一緒になって、−OCH2O−を形 成しており;そしてR7はアミノスルホニルである化合物またはその医薬として 許容される塩である請求項3に記載の化合物。 5.Aがフェニル、チエニル、フリル、ピラゾリル、ピロリル、チアゾリル、オ キサゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、トリアゾリルおよびピリジル から選択され、この基Aは置換基として、メチル、エチル、フルオロ、クロロ、 ブロモ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、n−ブトキシ、メチレンジオキシ、 エチレンジオキシ、フルオロメチル、ジフルオロメチル、ジフルオロクロロメチ ル、トリフルオロメチル、ジクロロエチル、ジクロロフルオロメチル、クロロメ チル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフル オロプロピル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロプロピル、N −エチル−N−メチルアミノ、N,N−ジメチルアミノおよびN,N−ジエチル アミノから選択される1個または2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4は それぞれ独立して、ヒドリド、フルオロ、クロロおよびブロモから選択され;あ るいはR2およびR3は一緒になって、−OCH2O−を形成しており;R5、R6 、R8およびR9はヒドリドであり;そしてR7はアミノスルホニルである化合物 またはその医薬として許容される塩である請求項4に記載の化合物。 6.下記の化合物およびそれらの医薬として許容される塩からなる群から選択さ れる請求項5に記載の化合物: 4−[2−(4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−フルオロ−4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホン アミド; 4−[2−(4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスル ホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4−ジフルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミ ド; 4−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(4−クロロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(3,4−ジクロロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド ; 4−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホン アミド; 4−[2−(3−フルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベン ゼンスルホンアミド; 4−[2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−[3−フルオロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5−イ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,4−ジフルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール− 5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソ ール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−フルオロフェニル]−1 ,3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−[3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジフルオロ−4−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジクロロ−4−メチルフェニル)−1,3−ベンゾジオ キソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)−1,3−ベンゾ ジオキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−フルオロ−4−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)フ ェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジフルオロフェニル)フェニル] ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロ−3−メトキシフェニル)フ ェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロフェニル)−4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,4−ジクロロフェニル)−4,5−ジフルオロフェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジメトキシフェニル)フェニル] ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル ]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−メ チルフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−フ ルオロフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−4, 5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(N,N−ジメチルアミノ)−3−メ トキシフェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−4,5−ジフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン−6−イル)−4 ,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(5−メチルピリジン−2−イル)フェニル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(6−メチルピリジン−3−イル)フェニル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4,5−トリメチルフェニル)フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジメチルフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジフルオロ−4−メチルフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメトキシ−4−メチルフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニ ル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4,5−トリメトキシフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメチル−4−フルオロフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4,5−トリフルオロフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,5−ジメトキシ−4−フルオロフェニ ル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジメチルフェニル)−4,5−ジフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジフルオロフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4,5−トリクロロフェニル)フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジメチル−4−(N,N−ジメチ ルアミノ)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−[3,5−ジフルオロ−4−(N,N−ジメ チルアミノ)フェニル]フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−[3,5−ジクロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル] −4,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−メチルフェニル)フェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(3−フルオロ−4−メチルフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(3−クロロ−4−メチルフェ ニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−メトキシフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−メトキシ−3−メチルフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(3−フルオロ−4−メトキシ フェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(3−クロロ−4−メトキシフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(3,4−ジメトキシフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−フルオロフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−フルオロ−3−メチルフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(3,4−ジフルオロフェニル )フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(3−クロロ−4−フルオロフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド;および 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−フルオロ−3−メトキシ フェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド。 7.下記の化合物およびそれらの医薬として許容される塩からなる群から選択さ れる請求項5に記載の化合物: 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジメチルフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオ ロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3,4−ジメトキシフェニル)フェニル] ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン−6−イル)−4 ,5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(5−メチルピリジン−2−イル)フェニル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(6−メチルピリジン−3−イル)フェニル ]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(4−クロロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスル ホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル]ベンゼンスルホン アミド; 4−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼンスルホ ンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−フルオロフェニル)フェニル]ベンゼ ンスルホンアミド; 4−[2,3,4,5−テトラフルオロ−6−(4−フルオロフェニル)フェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロフェ ニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)フ ェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[6−(4−フルオロフェニル)−1,3−ベンゾジオキソール−5−イ ル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[4,5−ジフルオロ−2−(4−メチルフェニル)フェニル]ベンゼン スルホンアミド; 4−[2−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−4,5−ジフルオロ フェニル]ベンゼンスルホンアミド; 4−[2−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロフェニ ル]ベンゼンスルホンアミド;および 4−[2−[3−クロロ−4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]−4, 5−ジフルオロフェニル]ベンゼンスルホンアミド。 8.化合物が、4−[4,5−ジフルオロ−2−(3−クロロ−4−フルオロフ ェニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミドまたはその医薬として許容される塩 である請求項5に記載の化合物。 9.化合物が、4−[2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)フェニル]ベ ンゼンスルホンアミドまたはその医薬として許容される塩である請求項5に記載 の化合物。 10.Aがフェニル、ナフチル、5−員ヘテロアリールおよび6−員ヘテロアリ ールから選択され、この基Aは置換基として、低級アルキル、ハロ、低級アルコ キシ、低級ハロアルキルおよび低級ジアルキルアミノから選択される1個または 2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4はそれぞれ独立して、ヒドリドおよ びハロから選択され;あるいはR2およびR3は一緒になって、−O(CH2)O −を形成しており;そしてR7は低級アルキルスルホニルである化合物またはそ の医薬として許容される塩である請求項3に記載の化合物。 11.Aがフェニル、チエニル、フリル、ピラゾリル、ピロリル、チアゾリル、 オキサゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、トリアゾリルおよびピリジ ルから選択され、この基Aは置換基として、メチル、エチル、フルオロ、クロロ 、ブロモ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、n−ブトキシ、メチレンジオキシ 、エチレンジオキシ、フルオロメチル、ジフルオロメチル、ジフルオロクロロメ チル、トリフルオロメチル、ジクロロエチル、ジクロロフルオロメチル、クロロ メチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフ ルオロプロピル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロプロピル、 N−エチル−N−メチルアミノ、N,N−ジメチルアミノおよびN,N−ジエチ ルアミノから選択される1個または2個以上の基を有していてもよく;R1〜R4 はそれぞれ独立して、ヒドリド、フルオロ、クロロおよびブロモから選択され; あるいはR2およびR3は一緒になって、−OCH2O−を形成しており;R5、R6 、R8およびR9は、ヒドリドであり;そしてR7はメチルスルホニルである化合 物またはその医薬として許容される塩である請求項10に記載の化合物。 12.下記の化合物およびそれらの医薬として許容される塩からなる群から選択 される請求項11に記載の化合物: 1,2−ジフルオロ−4−(4−フルオロ−3−メチルフェニル)−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 4−(4−クロロ−3−メチルフェニル)−1,2−ジフルオロ−5−[4− (メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,4−ジメチルフェニル)−5−[4−(メチ ルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)−5−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3,4−ジメトキシフェニル)−5−[4−(メ チルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 6−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−2 ,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン; 1,2−ジクロロ−4−(4−フルオロフェニル)−5−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 2−[4,5−ジフルオロ−4´−(メチルスルホニル)−(1,1´−ビフ ェニル)−2−イル]−5−メチルピリジン; 5−[4,5−ジフルオロ−4´−(メチルスルホニル)−(1,1´−ビフ ェニル)−2−イル]−2−メチルピリジン; 1−(4−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル] ベンゼン; 1−(4−クロロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベ ンゼン; 2−クロロ−1−メトキシ−4−[2−[4−(メチルスルホニル)フェニル ]フェニル]ベンゼン; 2−フルオロ−1−メトキシ−4−[2−[4−(メチルスルホニル)フェニ ル]フェニル]ベンゼン; 2−クロロ−1−フルオロ−4−[2−[4−(メチルスルホニル)フェニル ]フェニル]ベンゼン; 5−(4−フルオロフェニル)−6−[4−(メチルスルホニル)フェニル] −1,3−ベンゾジオキソール; 1,2−ジフルオロ−4−(4−フルオロフェニル)−5−[4−(メチルス ルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(4−メチルフェニル)−5−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1,2−ジフルオロ−4−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)−5−[ 4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4 −(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロ−2 −[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 1−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)−4,5−ジフルオロ− 2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン; 5−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]フェ ニル]−1,3−ベンゾジオキソール; 1−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−4,5−ジフルオロ−2−[4− (メチルスルホニル)フェニル]ベンゼン;および 2−クロロ−4−[4,5−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フ ェニル]フェニル]−N,N−ジメチルベンゼンアミン。 13.式II: 式中、Aは、 から選択され;R2およびR3はそれぞれ独立して、ヒドリドおよびハロから選択 され;あるいはR2およびR3は一緒になって、−OCH2O−を形成しており; R10〜R14はそれぞれ独立して、ヒドリド、低級アルキル、ハロ、低級アルコキ シ、低級ハロアルキルおよび低級ジアルキルアミノから選択され;あるいはR11 およびR12は一緒になって、−O(CH2)nO−(ここで、nは1〜2である )を形成しており;そしてR7は低級アルキルスルホニルおよびアミノスルホニ ルから選択される、 で表わされる化合物あるいはその医薬として許容される塩。 14.式III: 式中、R11〜R13はそれぞれ独立して、ヒドリド、ハロ、低級アルコキシ、低 級ハロアルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、低級ジアルキルアミノおよび低 級ハロアルコキシから選択され;あるいはR11およびR12は一緒になって、−O (CH2)nO−(ここで、nは1〜2である)を形成している、 で表わされる化合物あるいはその医薬として許容される塩。 15.式IV: 式中、YはCR11またはNであり;ZはCR10またはNであり;R10〜R12は それぞれ独立して、ヒドリドおよび低級アルキルから選択され;R7はアミノス ルホニルまたはメチルスルホニルである;ただしYおよびZの一方はNである、 で表わされる化合物あるいはその医薬として許容される塩。 16.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項1に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 17.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項2に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 18.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項3に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 19.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項4に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 20.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項5に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 21.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項6に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 22.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項7に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 23.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項8に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 24.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項9に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 25.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項10に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 26.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項11に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 27.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項12に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 28.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項13に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 29.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項14に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 30.治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項15に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 31.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項1に記載 の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 32.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項2に記載 の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 33.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項3に記載 の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 34.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項4に記載 の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 35.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項5に記載 の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 36.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項6に記載 の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 37.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項7に記載 の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 38.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項8に記載 の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 39.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項9に記載 の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 40.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項10に記 載の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 41.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項11に記 載の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 42.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項12に記 載の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 43.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項13に記 載の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 44.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項14に記 載の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 45.患者における炎症または炎症関連障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を患う可能性がある患者を治療有効量の請求項15に記 載の化合物またはその医薬として許容される塩で処置することからなる方法。 46.炎症の処置に使用する請求項31に記載の方法。 47.炎症関連障害の処置に使用する請求項31に記載の方法。 48.炎症関連障害が関節炎である請求項47に記載の方法。 49.炎症関連障害が痛みである請求項47に記載の方法。 50.炎症関連障害が発熱である請求項47に記載の方法。
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