JPH1048546A - ビーム位置ずれ検知装置 - Google Patents

ビーム位置ずれ検知装置

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JPH1048546A
JPH1048546A JP20577896A JP20577896A JPH1048546A JP H1048546 A JPH1048546 A JP H1048546A JP 20577896 A JP20577896 A JP 20577896A JP 20577896 A JP20577896 A JP 20577896A JP H1048546 A JPH1048546 A JP H1048546A
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JP
Japan
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light
light beam
main scanning
scanning direction
detecting
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Application number
JP20577896A
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English (en)
Inventor
Shuichi Yamazaki
修一 山崎
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】光源からの各光ビームが主走査方向に十分に離
れていない場合には各ビーム毎に分離して同期信号を発
することができない。 【解決手段】 主走査方向に所定の間隔をおいて配置さ
れた光検知手段22a、22bと、2つの光ビームを順
番に1つずつ点灯させて光検知手段22a、22bに順
番に1つずつ検知させ光検知手段22a、22bからの
検知信号の時間差を求め、1つの光ビームを点灯させて
光検知手段22a、22bに検知させて光検知手段22
a、22bからの検知信号の時間差を前記時間差から引
いて前記光ビームの主走査方向の位置ずれを検知する手
段24、25を備えたもの。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザプリンタ、デ
ジタル複写機などの画像形成装置のビーム位置ずれ検知
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】デジタル複写機、レーザプリンタ等の画
像形成装置においては、光走査装置を書き込み系に用
い、この光走査装置にて光源からの画像情報で変調され
た光ビームによって感光体等の走査対象物を走査して走
査対象物に画像情報の書き込みを行うと共に、画像領域
外に設けられた、上記光ビームを受光する同期検知セン
サの出力信号に基づいて上記光ビームの主走査方向の同
期をとっている。
【0003】従来、画像形成装置は光走査装置により感
光体上を1本の光ビームで走査するのが一般的である
が、感光体上を1本の光ビームで走査する場合よりも書
き込み速度を速くするために感光体上を複数本の光ビー
ムで同時に走査するように構成したマルチビーム型の光
走査装置が実用化されている。
【0004】このような複数本のレーザビームを用いる
光走査装置を有する画像形成装置においては、それぞれ
のレーザビーム毎に同期信号を設定して個別に半導体レ
ーザの変調を制御することが走査位置のずれを回避する
ために必要となる。これは、種々の方式が提案されてお
り、例えば図6に示すように1つの同期検知センサPD
により上記複数本のレーザビーム(例えば半導体レーザ
からなる光源LD1、LD2からの2本のレーザビーム
1、2)を検知して同期信号を発する方式が考えられて
いる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記画像形成装置の光
走査装置では、図7に示すように光源LD1、LD2か
らの光ビーム1、2が主走査方向に十分に離れていない
場合には同期検知センサPDの出力信号は光源LD1か
らのレーザビーム2に対する出力信号と光源LD2から
のレーザビーム2に対する出力信号とが部分的に重なっ
てしまい、レーザビーム1、2毎に分離して同期信号を
発することができなくなって各レーザビーム1、2毎に
同期検知を行うことができなくなる。
【0006】また、レーザビーム1、2のピッチ(副走
査方向の間隔)は環境条件によって変化する可能性があ
るので、レーザビーム1、2のピッチを検知して一定に
補正する必要がある。本発明は、各光ビーム毎に同期検
知を確実に行うことができ、各光ビーム間のピッチを検
知することができるビーム位置ずれ検知装置を提供する
ことを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に係る発明は、複数個の光ビームを副走査
方向に所定のピッチをおいて感光体に照射する光源と、
この光源から前記感光体への複数個の光ビームを偏向し
て主走査する偏向手段とを有し、画像信号に基づいて前
記光ビームを変調して前記感光体に光書き込みを行う画
像形成装置のビーム位置ずれ検知装置において、主走査
方向に所定の間隔をおいて配置され前記複数個の光ビー
ムのうち第1の光ビームと第2の光ビームを検知する2
個の光検知手段と、前記第1の光ビーム及び第2の光ビ
ームを順番に1つずつ点灯させて前記2個の光検知手段
に前記第1の光ビーム及び第2の光ビームを順番に1つ
ずつ検知させ、このとき前記2個の光検知手段から得ら
れる検知信号の時間差t2を求め、前記第1の光ビーム
を点灯させて前記2個の光検知手段に検知させ、このと
き前記2個の光検知手段から得られる検知信号の時間差
1を求めて検知信号の時間差t1を前記検知信号の時間
差t2から引いて前記2個の光ビームの主走査方向の位
置ずれを検知するビーム主走査方向位置ずれ検知手段を
備えたものであり、この位置ずれ値を用いることにより
各光ビーム毎に同期検知を確実に行うことができる。
【0008】請求項2に係る発明は、複数個の光ビーム
を副走査方向に所定のピッチをおいて感光体に照射する
光源と、この光源から前記感光体への複数個の光ビーム
を偏向して主走査する偏向手段とを有し、画像信号に基
づいて前記光ビームを変調して前記感光体に光書き込み
を行う画像形成装置のビーム位置ずれ検知装置におい
て、主走査方向に所定の間隔をおいて配置され前記複数
個の光ビームのうち第1の光ビームと第2の光ビームを
検知する2個の光検知手段と、前記第1の光ビーム及び
第2の光ビームを順番に1つずつ点灯させて前記2個の
光検知手段に前記第1の光ビーム及び第2の光ビームを
順番に1つずつ検知させ前記2個の光検知手段からの検
知信号の時間差を求めてこの時間差から前記2個の光検
知手段の主走査方向距離の主走査時間を引いて前記第1
の光ビーム及び第2の光ビームの主走査方向の位置ずれ
を検知するビーム主走査方向位置ずれ検知手段とを備え
たものであり、この位置ずれ値を用いることにより各光
ビーム毎に同期検知を確実に行うことができる。
【0009】請求項3に係る発明は、請求項1または2
記載のビーム位置ずれ検知装置において、前記ビーム主
走査方向位置ずれ検知手段により検知した前記第1の光
ビーム及び第2の光ビームの主走査方向の位置ずれと前
記2個の光ビームの間の距離とから前記第1の光ビーム
及び第2の光ビームの副走査方向のピッチを検知するビ
ームピッチ検知手段を備えたものであり、各光ビーム間
のピッチを検知することができる。
【0010】
【発明の実施の形態】図2は請求項1に係る発明を応用
した画像形成装置の一実施形態における光走査装置を示
し、図3は同走査装置の一部を示す。この実施形態は書
き込み系として用いられる光走査装置を有するデジタル
複写機、レーザプリンタ等の画像形成装置の一実施形態
であり、図3に示すようにこの実施形態の光源装置は例
えば2個の半導体レーザからなる光源10、11からの
光ビームを合成して出射する光源装置である。2個の半
導体レーザ10、11は、同一平面上に配列され、共に
p−n接合面に垂直な方向が所定の軸方向X0、X1にそ
れぞれ一致している。
【0011】半導体レーザ10、11から出射された光
ビームはそれぞれコリメータレンズ12、13及びアパ
ーチャ部材16、17のアパーチャを通過することによ
り平行光束に整形される。アパーチャ部材16のアパー
チャを通過した光束14は基準となる光束としてビーム
合成プリズムからなるビーム合成手段19を透過する。
アパーチャ部材17のアパーチャを通過した光束は、1
/2波長板18により偏光面が90度回転し、ビーム合
成プリズム19に入射してその斜面19aで内面反射さ
れ、さらに偏光ビームスプリッタ面19bで反射されて
基準となる光束14の光軸近傍に合成されて光束14と
共に2本の光ビームとして出射される。
【0012】この際に、半導体レーザ11とコリメータ
レンズ13とをわずかに偏心させることで2本の光ビー
ム14、15がビーム合成プリズム19から主走査方向
に所定の角度αだけ隔てて出射されるようにし、記録面
上で主走査方向に間隔Lだけ隔てて当該光源装置全体を
光軸回りに回転させることで副走査ピッチを可変するこ
とが可能である。なお、光源装置は、上記のように2個
の半導体レーザを用いた構成の他に、光源を1チップ内
に独立に変調可能な複数の発光点を有する半導体レーザ
アレイで構成してもよい。
【0013】図2に示すように電源装置23内のビーム
合成プリズム19からの主走査方向に所定の角度αだけ
隔てた光ビーム14、15はポリゴンミラーからなる偏
向手段20により共通に偏向を受けて図示しない光学系
を介して感光体、例えば感光体ドラム21に照射される
ことにより感光体ドラム21を感光する。ポリゴンミラ
ー20はポリゴンモータからなる駆動手段により回転駆
動されて光ビーム14、15を感光体ドラム21上で主
走査方向に走査する。
【0014】感光体ドラム21は、図示しないが、モー
タからなる駆動手段により副走査方向に移動(回転駆
動)されて帯電手段により均一に帯電された後にポリゴ
ンミラー20からの光ビーム14、15が照射されるこ
とで画像データが1ラインずつ順次に書き込まれて静電
潜像が形成され、この静電潜像が現像手段により現像さ
れて転写手段によりシートに転写される。この場合、感
光体ドラム21は、第1ビームとしての光ビーム14に
より奇数ラインに1ライン分の画像データが書き込ま
れ、第2ビームとしての光ビーム15により偶数ライン
に1ライン分の画像データが書き込まれる。
【0015】同期検知センサからなる光検知手段22
は、走査領域内の画像領域外に配置され、ポリゴンミラ
ー20からの光ビーム14、15により走査領域内の画
像領域外で走査される。この同期検知センサ22は図5
(a)に示すように主走査方向に所定の間隔をおいて配
置された2つの同期検知センサ22a、22bからな
る。この2つの同期検知センサ22a、22bは、それ
ぞれ半導体レーザ10から上述の如くコリメータレンズ
12及びアパーチャ部材16のアパーチャ、ビーム合成
プリズム19、ポリゴンミラー20及び図示しない光学
系を介して入射する光ビーム14を検知して同期検知信
号を発生し、かつ、半導体レーザ11から上述の如くコ
リメータレンズ13及びアパーチャ部材17のアパーチ
ャ、1/2波長板18、ビーム合成プリズム19、ポリ
ゴンミラー20及び図示しない光学系を介して入射する
光ビーム15を検知して同期検知信号を発生する。
【0016】図1はこの実施形態の回路構成を示す。制
御手段としてのMPU24は、画像処理ユニット25か
らカウンタ値を取り込み、画像処理ユニット25を制御
する。半導体レーザ駆動回路26は画像処理ユニット2
5からの変調信号により半導体レーザ10を駆動して発
光させ、半導体レーザ駆動回路27は画像処理ユニット
25からの変調信号により半導体レーザ11を駆動して
発光させる。ここに、MPU24及び画像処理ユニット
25はビーム位置ずれ検知装置を兼ねている。
【0017】図4に示すように画像処理ユニット25
は、ラッチ回路28、29、コンパレータ30、31、
オア回路32、33、カウンタ34、クロック発生器3
5、36、書込クロック発生回路37、38、主走査カ
ウンタ39、40、スイッチ回路41、42、ディレー
制御回路43からなる。通常の画像処理時には、出力す
べき画像データのうち奇数ラインの画像データが1ライ
ン分ずつ順次にオア回路32を介して半導体レーザ駆動
回路26に入力されて半導体レーザ駆動回路26がその
画像データにより半導体レーザ10を駆動し、偶数ライ
ンの画像データが1ライン分ずつ順次にオア回路33を
介して半導体レーザ駆動回路27に入力されて半導体レ
ーザ駆動回路27がその画像データにより半導体レーザ
11を駆動する。
【0018】通常の画像処理時には、スイッチ回路41
が同期検知センサ22a側に切り替わって同期検知セン
サ22aからの同期検知信号が書込クロック発生回路3
7及び主走査カウンタ39に入力され、スイッチ回路4
2がディレー制御回路43側に切り替わって同期検知セ
ンサ22aからの同期検知信号がディレー制御回路43
を介して書込クロック発生回路38及び主走査カウンタ
40に入力される。
【0019】通常の画像処理時には、半導体レーザ10
の書き込み開始位置を決める同期検知は、半導体レーザ
10による同期検知センサ22aの同期検知信号により
制御される(書込クロックWCLK1の位相同期及び主
走査カウンタ39のリセットが同期検知センサ22aか
らの同期検知信号により行われる)。また、半導体レー
ザ11の書き込み開始位置を決める同期検知は、半導体
レーザ10による同期検知センサ22aの同期検知信号
が半導体レーザ10と半導体レーザ11の主走査方向の
位置ずれ量に相当する時間だけ遅延したディレー制御回
路43からの信号により制御される(書込クロックWC
LK2の位相同期及び主走査カウンタ40のリセットが
ディレー制御回路43からの信号により行われる)。
【0020】ビーム位置ずれ検出時においては、図5に
示すt1計測時には、スイッチ回路41が同期検知セン
サ22b側に切り替わって同期検知センサ22bからの
同期検知信号が書込クロック発生回路37及び主走査カ
ウンタ39に入力され、スイッチ回路42が同期検知セ
ンサ22b側に切り替わって同期検知センサ22bから
の同期検知信号が書込クロック発生回路38及び主走査
カウンタ40に入力される。
【0021】さらに、図5に示すt2計測時には、スイ
ッチ回路41が同期検知センサ22a側に切り替わって
同期検知センサ22aからの同期検知信号が書込クロッ
ク発生回路37及び主走査カウンタ39に入力され、ス
イッチ回路42が同期検知センサ22b側に切り替わっ
て同期検知センサ22bからの同期検知信号が書込クロ
ック発生回路38及び主走査カウンタ40に入力され
る。
【0022】書込クロック発生回路37はクロック発生
器36からのクロックに基づいて、同期検知センサ22
a又は22bからスイッチ回路41を介して入力される
同期検知信号に位相の同期した書込クロックWCLK1
を発生し、主走査カウンタ39が書込クロック発生回路
37からの書込クロックWCLK1をカウントする。ま
た、書込クロック発生回路38はクロック発生器36か
らのクロックに基づいて、同期検知センサ22aからデ
ィレー制御回路43を通って光ビーム14と光ビーム1
5の主走査方向の時間差だけ遅れてスイッチ回路42を
介して入力される同期検知信号又は同期検知センサ22
bからスイッチ回路42を介して入力される同期検知信
号に位相の同期した書込クロックWCLK2を発生し、
主走査カウンタ40が書込クロック発生回路38からの
書込クロックWCLK2をカウントする。ディレー制御
回路43のディレー時間はMPU24によって制御され
る。
【0023】主走査カウンタ39は、同期検知センサ2
2a又は22bからスイッチ回路41を介して入力され
る同期検知信号によりリセットされ、書込クロック発生
回路37からの書込クロックWCLK1によりインクリ
メントされる。主走査カウンタ40は、同期検知センサ
22aからディレー制御回路43を通って光ビーム14
と光ビーム15の主走査方向の時間差だけ遅れてスイッ
チ回路42を介して入力される同期検知信号又は同期検
知センサ22bからスイッチ回路42を介して入力され
る同期検知信号によりリセットされ、書込クロック発生
回路38からの書込クロックWCLK2によりインクリ
メントされる。
【0024】ラッチ回路28、29は光ビーム14、1
5が同期検知センサ22a、22bに達する直前に光ビ
ーム14、15を強制的に点灯させる主走査方向のアド
レスを決めるものであり、ラッチ回路28、29の設定
値はMPU24にて設定される。コンパレータ30、3
1は、ラッチ回路28、29の設定値と主走査カウンタ
39、40の値とをそれぞれ比較し、主走査カウンタ3
9、40の値がラッチ回路28、29の設定値より大き
くなると出力信号が高レベルとなる。コンパレータ3
0、31からの高レベルの出力信号はオア回路32、3
3を介して半導体レーザ駆動回路26、27に入力さ
れ、半導体レーザ駆動回路26、27が半導体レーザ1
0、11を強制的に点灯させる。
【0025】この強制的に点灯された半導体レーザ1
0、11からの光ビーム14、15が同期検知センサ2
2a、22bにより検知されて同期検知センサ22a、
22bから同期検知信号が出力される。同期検知センサ
22a又は22bからスイッチ回路41を介して出力さ
れる同期検知信号により主走査カウンタ39がリセット
されると、コンパレータ30の出力信号が低レベルにな
って半導体レーザ10が消灯する。
【0026】同期検知センサ22aからディレー制御回
路43、スイッチ回路42を介して出力される同期検知
信号又は同期検知センサ22bからスイッチ回路42を
介して入力される同期検知信号により主走査カウンタ4
0がリセットされると、コンパレータ31の出力信号が
低レベルになって半導体レーザ11が消灯する。このよ
うな半導体レーザ10、11を強制的に点灯させる時以
外は、オア回路32、33の他方の入力端子からの入力
画像データが半導体レーザ駆動回路26、27に入力さ
れて半導体レーザ駆動回路26、27がその画像データ
により半導体レーザ10、11を駆動し、半導体レーザ
10、11から画像データにより強度変調された光ビー
ムが出射されて感光体ドラム21に画像データが書き込
まれる。
【0027】図5に示すようにビーム位置ずれ検出時に
おけるt1計測時には、半導体レーザ10が同期検知セ
ンサ22aの直前で強制的に点灯されるようにラッチ回
路28の値がMPU24により設定され、半導体レーザ
11が同期検知センサ22bの位置より後で点灯するよ
うに大きな値がラッチ回路29にMPU24により設定
されて半導体レーザ11はこの時には強制的な点灯がさ
れない。
【0028】半導体レーザ駆動回路26はコンパレータ
30からオア回路32を介して入力される変調信号によ
り半導体レーザ10を駆動して点灯させ、2つの同期検
知センサ22a、22bは半導体レーザ10から上述の
如くコリメータレンズ12及びアパーチャ部材16のア
パーチャ、ビーム合成プリズム19、ポリゴンミラー2
0及び図示しない光学系を介して入射する光ビーム14
を検知して同期検知信号を発生する。
【0029】半導体レーザ10が同期検知センサ22a
の直前で強制的に点灯されて半導体レーザ10からのビ
ームが同期検知センサ22a、22bを走査し、同期検
知センサ22bからの同期検知信号により主走査カウン
タ39がリセットされて半導体レーザ10が消灯する。
【0030】次に、t2計測時には、半導体レーザ10
が同期検知センサ22aの直前で強制的に点灯されるよ
うにラッチ回路28の値がMPU24により設定され、
半導体レーザ11が同期検知センサ22aと同期検知セ
ンサ22bとの間で強制的に点灯されるようにラッチ回
路29の値がMPU24により設定される。半導体レー
ザ10が同期検知センサ22aの直前で強制的に点灯さ
れて半導体レーザ10からのビームが同期検知センサ2
2aを走査し、同期検知センサ22aからの同期検知信
号により主走査カウンタ39がリセットされて半導体レ
ーザ10が消灯する。半導体レーザ11が同期検知セン
サ22aと同期検知センサ22bとの間で強制的に点灯
されて半導体レーザ11からのビームが同期検知センサ
22bを走査し、同期検知センサ22bからの同期検知
信号により主走査カウンタ40がリセットされて半導体
レーザ11が消灯する。
【0031】ビーム位置ずれ検出時におけるスイッチ回
路41、42の状態は上述の通りである。カウンタ34
は、最初に光ビーム14を検知する同期検知センサ22
aからの同期検知信号によりクロックCLKのカウント
を開始し、その後光ビーム14を検知する同期検知セン
サ22bからの同期検知信号が入力されることによりク
ロックCLKのカウントを停止してカウント値をMPU
24へ出力する。
【0032】したがって、カウンタ34は同期検知セン
サ22aからの同期検知信号が入力された時点から同期
検知センサ22bからの同期検知信号が入力された時点
までの時間t1を計測することになる。このt1は、光ビ
ーム14が同期検知センサ22aから同期検知センサ2
2bまでの間を通過する時間に相当し、同期検知センサ
22aから同期検知センサ22bまでの間の主走査方向
の距離に対応した値となる。
【0033】その後、主走査カウンタ39が同期検知セ
ンサ22bからの同期検知信号によりリセットされる
と、コンパレータ30の出力信号が低レベルとなり、半
導体レーザ駆動回路26が半導体レーザ10を消灯させ
る。MPU24はカウンタ34のカウント値を取り込
む。
【0034】次に、MPU24は半導体レーザ10が同
期検知センサ22aの直前で点灯して半導体レーザ11
が同期検知センサ22aと同期検知センサ22bとの間
で点灯するように所定の主走査アドレスをラッチ回路2
8、29にラッチさせる。コンパレータ30はラッチ回
路28の値を主走査カウンタ39の値と比較して主走査
カウンタ39の値がラッチ回路28の値より大きくなる
と高レベルの出力信号を変調信号として出力する。した
がって、半導体レーザ駆動回路26はコンパレータ30
からオア回路32を介して入力される変調信号により半
導体レーザ10を駆動して点灯させ、この半導体レーザ
10からの光ビーム14が同期検知センサ22aにより
検知される。
【0035】この同期検知センサ22aからの同期検知
信号により主走査カウンタ39がリセットされ、半導体
レーザ10がオフされる。コンパレータ31はラッチ回
路29の値を主走査カウンタ40の値と比較して主走査
カウンタ40の値がラッチ回路29の値より大きくなる
と高レベルの出力信号を変調信号として出力する。した
がって、半導体レーザ駆動回路27はコンパレータ31
からオア回路33を介して入力される変調信号により半
導体レーザ11を駆動して点灯させ、この半導体レーザ
11からの光ビーム15が同期検知センサ22bにより
検知される。
【0036】カウンタ34は、光ビーム14を検知する
同期検知センサ22aからの同期検知信号によりクロッ
クCLKのカウントを開始し、その後光ビーム15を検
知する同期検知センサ22bからの同期検知信号が入力
されることによりクロックCLKのカウントを停止して
カウント値をMPU24へ出力する。
【0037】したがって、カウンタ34は同期検知セン
サ22aからの同期検知信号が入力された時点から同期
検知センサ22bからの同期検知信号が入力された時点
までの時間t2を計測することになる。このt2は、光ビ
ーム14が同期検知センサ22aで検知された時点から
光ビーム15が同期検知センサ22bで検知された時点
までの時間に相当し、同期検知センサ22aから同期検
知センサ22bまでの間の主走査方向の距離と半導体レ
ーザ10、11の間の主走査方向の距離との和の主走査
時間に相当することになる。
【0038】同期検知センサ22aからの同期検知信号
がスイッチ回路41を介して主走査カウンタ39のリセ
ット入力端子に入力されると、主走査カウンタ39がリ
セットされてコンパレータ30の出力信号が低レベルと
なり、半導体レーザ駆動回路26が半導体レーザ10を
消灯させる。光ビーム15による同期検知センサ22b
からの同期検知信号がスイッチ回路42を介して主走査
カウンタ40のリセット入力端子に入力されると、主走
査カウンタ40がリセットされてコンパレータ31の出
力信号が低レベルとなり、半導体レーザ駆動回路27が
半導体レーザ11を消灯させる。
【0039】MPU24は、カウンタ34のt2に相当
するカウント値を取り込み、このカウント値と先にカウ
ンタ34から取り込んだt1に相当するカウント値から
(t2−t1)=Δtを半導体レーザ10、11の主走査
方向の位置ずれに対応した時間として演算する。
【0040】MPU24は、画像データの書き込み時に
は、同期検知センサ22aからの同期検知信号に同期し
て奇数ラインの画像データを画像メモリなどから1ライ
ン分ずつオア回路32に入力して半導体レーザ10の同
期制御を行い、ディレー制御回路43により同期検知セ
ンサ22aからの同期検知信号よりΔtだけ遅れて偶数
ラインの画像データを画像メモリなどから1ライン分ず
つオア回路33に入力して半導体レーザ11の同期制御
を行う。
【0041】このように、この実施形態は、請求項1に
係る発明を応用した画像形成装置の一実施形態であっ
て、そのビーム位置ずれ検知装置は、複数個の光ビーム
14、15を副走査方向に所定のピッチをおいて感光体
21に照射する光源10、11と、この光源10、11
から前記感光体21への複数個の光ビーム14、15を
偏向して主走査する偏向手段20とを有し、画像信号に
基づいて前記光ビーム14、15を変調して前記感光体
21に光書き込みを行う画像形成装置のビーム位置ずれ
検知装置において、主走査方向に所定の間隔をおいて配
置され前記複数個の光ビーム14、15のうち第1の光
ビーム14と第2の光ビーム15を検知する2個の光検
知手段22a、22bと、前記第1の光ビーム14及び
第2の光ビーム15を順番に1つずつ点灯させて前記2
個の光検知手段22a、22bに前記第1の光ビーム1
4及び第2の光ビーム15を順番に1つずつ検知させ、
このとき前記2個の光検知手段22a、22bから得ら
れる検知信号の時間差t2を求め、前記第1の光ビーム
14を点灯させて前記2個の光検知手段22a、22b
に検知させ、このとき前記2個の光検知手段22a、2
2bから得られる検知信号の時間差t1を求めて検知信
号の時間差t1を前記検知信号の時間差t2から引いて前
記2個の光ビーム14、15の主走査方向の位置ずれを
検知するビーム主走査方向位置ずれ検知手段としてのM
PU24及び画像処理ユニット25を備えたので、光源
10、11からの光ビーム14、15が主走査方向に十
分に離れていなくても各光ビーム毎に同期検知を確実に
行うことができる。
【0042】上記実施形態において、光ビーム14が同
期検知センサ22aから同期検知センサ22bまでの間
を通過する時間t1は同期検知センサ22aから同期検
知センサ22bまでの間の主走査方向の距離と光ビーム
14、15の主走査速度から予め求めておくことが可能
である。そこで、請求項2に係る発明を応用した画像形
成装置の一実施形態は、上記実施形態において、MPU
24は、上述したt1を予め求めてメモリに格納してお
き、t1を求める動作を省略して上述のように求めたt2
からメモリ内のt1を引いてΔtを求めるようにしたも
のである。
【0043】このように、請求項2に係る発明を応用し
た画像形成装置の一実施形態のビーム位置ずれ検知装置
は、複数個の光ビーム14、15を副走査方向に所定の
ピッチをおいて感光体21に照射する光源10、11
と、この光源10、11から前記感光体21への複数個
の光ビーム14、15を偏向して主走査する偏向手段2
0とを有し、画像信号に基づいて前記光ビーム14、1
5を変調して前記感光体21に光書き込みを行う画像形
成装置のビーム位置ずれ検知装置において、主走査方向
に所定の間隔をおいて配置され前記複数個の光ビーム1
4、15のうち第1の光ビーム14と第2の光ビーム1
5を検知する2個の光検知手段22a、22bと、前記
第1の光ビーム14及び第2の光ビーム15を順番に1
つずつ点灯させて前記2個の光検知手段22a、22b
に前記第1の光ビーム14及び第2の光ビーム15を順
番に1つずつ検知させ前記2個の光検知手段22a、2
2bからの検知信号の時間差t2を求めてこの時間差t2
から前記2個の光検知手段22a、22bの主走査方向
距離の主走査時間t1を引いて前記第1の光ビーム14
及び第2の光ビーム15の主走査方向の位置ずれを検知
するビーム主走査方向位置ずれ検知手段としてのMPU
24及び画像処理ユニット25とを備えたので、光源1
0、11からの光ビーム14、15が主走査方向に十分
に離れていなくても各光ビーム毎に同期検知を確実に行
うことができる。
【0044】また、上記実施形態において、光源10、
11の間の距離が予め分かれば、この距離と上記Δtか
ら光ビーム14、15のピッチ(副走査方向の距離)を
求めることができる。そこで、請求項3に係る発明を応
用した画像形成装置の各実施形態は、上記各実施形態に
おいて、それぞれ、MPU24が、図8に示すように光
源10、11の間の距離を予め求めてそのデータLをメ
モリに格納しておき、上記Δtから求めた光ビーム1
4、15の主走査方向の距離をltとすると、光ビーム
14、15の副走査方向の距離pを次式により求め、 p=√(L2−lt2) この値を用いて光ビーム14、15の副走査方向の距離
pを一定値に補正するようにしたものである。
【0045】このように、請求項3に係る発明を応用し
た画像形成装置の一実施形態のビーム位置ずれ検知装置
は、請求項1または2記載のビーム位置ずれ検知装置に
おいて、前記ビーム主走査方向位置ずれ検知手段として
のMPU24及び画像処理ユニット25により検知した
前記第1の光ビーム14及び第2の光ビーム15の主走
査方向の位置ずれと前記2個の光ビーム14、15の間
の距離とから前記第1の光ビーム14及び第2の光ビー
ム15の副走査方向のピッチを検知するビームピッチ検
知手段としてのMPU24を備えたので、各光ビーム間
のピッチを検知することができる。なお、各請求項に係
る発明は、上記実施形態のビーム位置ずれ検知装置に限
定されるものではなく、例えば光ビーム14、15を3
本以上の光ビームとしてもよい。
【0046】
【発明の効果】以上のように請求項1に係る発明によれ
ば、複数個の光ビームを副走査方向に所定のピッチをお
いて感光体に照射する光源と、この光源から前記感光体
への複数個の光ビームを偏向して主走査する偏向手段と
を有し、画像信号に基づいて前記光ビームを変調して前
記感光体に光書き込みを行う画像形成装置のビーム位置
ずれ検知装置において、主走査方向に所定の間隔をおい
て配置され前記複数個の光ビームのうち第1の光ビーム
と第2の光ビームを検知する2個の光検知手段と、前記
第1の光ビーム及び第2の光ビームを順番に1つずつ点
灯させて前記2個の光検知手段に前記第1の光ビーム及
び第2の光ビームを順番に1つずつ検知させ、このとき
前記2個の光検知手段から得られる検知信号の時間差t
2を求め、前記第1の光ビームを点灯させて前記2個の
光検知手段に検知させ、このとき前記2個の光検知手段
から得られる検知信号の時間差t1を求めて検知信号の
時間差t1を前記検知信号の時間差t2から引いて前記2
個の光ビームの主走査方向の位置ずれを検知するビーム
主走査方向位置ずれ検知手段を備えたので、各光ビーム
毎に同期検知を確実に行うことができる。
【0047】請求項2に係る発明によれば、複数個の光
ビームを副走査方向に所定のピッチをおいて感光体に照
射する光源と、この光源から前記感光体への複数個の光
ビームを偏向して主走査する偏向手段とを有し、画像信
号に基づいて前記光ビームを変調して前記感光体に光書
き込みを行う画像形成装置のビーム位置ずれ検知装置に
おいて、主走査方向に所定の間隔をおいて配置され前記
複数個の光ビームのうち第1の光ビームと第2の光ビー
ムを検知する2個の光検知手段と、前記第1の光ビーム
及び第2の光ビームを順番に1つずつ点灯させて前記2
個の光検知手段に前記第1の光ビーム及び第2の光ビー
ムを順番に1つずつ検知させ前記2個の光検知手段から
の検知信号の時間差を求めてこの時間差から前記2個の
光検知手段の主走査方向距離の主走査時間を引いて前記
第1の光ビーム及び第2の光ビームの主走査方向の位置
ずれを検知するビーム主走査方向位置ずれ検知手段とを
備えたので、各光ビーム毎に同期検知を確実に行うこと
ができる。
【0048】請求項3に係る発明によれば、請求項1ま
たは2記載のビーム位置ずれ検知装置において、前記ビ
ーム主走査方向位置ずれ検知手段により検知した前記第
1の光ビーム及び第2の光ビームの主走査方向の位置ず
れと前記2個の光ビームの間の距離とから前記第1の光
ビーム及び第2の光ビームの副走査方向のピッチを検知
するビームピッチ検知手段を備えたので、各光ビーム間
のピッチを検知することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】請求項1に係る発明を応用した画像形成装置の
一実施形態の回路構成を示すブロック図である。
【図2】同実施形態における光走査装置を示す概略図で
ある。
【図3】同実施形態の走査装置の一部を示す斜視図であ
る。
【図4】同実施形態における画像処理ユニットの構成を
示すブロック図である。
【図5】同実施形態の光源及び同期検知センサを示す図
及び同実施形態の動作タイミングを示すタイミングチャ
ートである。
【図6】従来の画像処理装置の光源及び同期検知センサ
の配置例を示す概略図及びその同期検知センサ出力信号
を示す波形図である。
【図7】従来の画像処理装置の光源及び同期検知センサ
の他の配置例を示す概略図及びその同期検知センサ出力
信号を示す波形図である。
【図8】請求項3に係る発明を応用した画像形成装置の
一実施形態を説明するための図である。
【符号の説明】
10、11 光源 22a、22b 同期検知センサ 24 MPU 25 画像処理ユニット 26、27 半導体レーザ駆動回路

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数個の光ビームを副走査方向に所定のピ
    ッチをおいて感光体に照射する光源と、この光源から前
    記感光体への複数個の光ビームを偏向して主走査する偏
    向手段とを有し、画像信号に基づいて前記光ビームを変
    調して前記感光体に光書き込みを行う画像形成装置のビ
    ーム位置ずれ検知装置において、主走査方向に所定の間
    隔をおいて配置され前記複数個の光ビームのうち第1の
    光ビームと第2の光ビームを検知する2個の光検知手段
    と、前記第1の光ビーム及び第2の光ビームを順番に1
    つずつ点灯させて前記2個の光検知手段に前記第1の光
    ビーム及び第2の光ビームを順番に1つずつ検知させ、
    このとき前記2個の光検知手段から得られる検知信号の
    時間差t2を求め、前記第1の光ビームを点灯させて前
    記2個の光検知手段に検知させ、このとき前記2個の光
    検知手段から得られる検知信号の時間差t1を求めて検
    知信号の時間差t1を前記検知信号の時間差t2から引い
    て前記2個の光ビームの主走査方向の位置ずれを検知す
    るビーム主走査方向位置ずれ検知手段を備えたことを特
    徴とするビーム位置ずれ検知装置。
  2. 【請求項2】複数個の光ビームを副走査方向に所定のピ
    ッチをおいて感光体に照射する光源と、この光源から前
    記感光体への複数個の光ビームを偏向して主走査する偏
    向手段とを有し、画像信号に基づいて前記光ビームを変
    調して前記感光体に光書き込みを行う画像形成装置のビ
    ーム位置ずれ検知装置において、主走査方向に所定の間
    隔をおいて配置され前記複数個の光ビームのうち第1の
    光ビームと第2の光ビームを検知する2個の光検知手段
    と、前記第1の光ビーム及び第2の光ビームを順番に1
    つずつ点灯させて前記2個の光検知手段に前記第1の光
    ビーム及び第2の光ビームを順番に1つずつ検知させ前
    記2個の光検知手段からの検知信号の時間差を求めてこ
    の時間差から前記2個の光検知手段の主走査方向距離の
    主走査時間を引いて前記第1の光ビーム及び第2の光ビ
    ームの主走査方向の位置ずれを検知するビーム主走査方
    向位置ずれ検知手段とを備えたことを特徴とするビーム
    位置ずれ検知装置。
  3. 【請求項3】請求項1または2記載のビーム位置ずれ検
    知装置において、前記ビーム主走査方向位置ずれ検知手
    段により検知した前記第1の光ビーム及び第2の光ビー
    ムの主走査方向の位置ずれと前記2個の光ビームの間の
    距離とから前記第1の光ビーム及び第2の光ビームの副
    走査方向のピッチを検知するビームピッチ検知手段を備
    えたことを特徴とするビーム位置ずれ検知装置。
JP20577896A 1996-08-05 1996-08-05 ビーム位置ずれ検知装置 Pending JPH1048546A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108507671A (zh) * 2017-02-23 2018-09-07 中国计量大学 一种光学分析测试设备

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN108507671A (zh) * 2017-02-23 2018-09-07 中国计量大学 一种光学分析测试设备

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Effective date: 20040706