JPH1047949A - ウエハー形状測定装置 - Google Patents
ウエハー形状測定装置Info
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- JPH1047949A JPH1047949A JP20262496A JP20262496A JPH1047949A JP H1047949 A JPH1047949 A JP H1047949A JP 20262496 A JP20262496 A JP 20262496A JP 20262496 A JP20262496 A JP 20262496A JP H1047949 A JPH1047949 A JP H1047949A
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- wafer
- annular holder
- sensor
- holding
- holder
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ウエハーに重力による撓みを発生させることな
く保持し、センサーを１回走査させることで、ウエハー
本来の平面度、反り、厚み等の形状を正確に測定できる
ようにする。 【解決手段】被測定物であるウエハーの周縁部を保持す
る保持機構を備えた環状ホルダーと、該環状ホルダーを
回転自在に鉛直に静圧支持してなる固定部材と、上記環
状ホルダーに保持したウエハーの形状を測定する検出部
材と、該検出部材をウエハー上で走査させる静圧方式の
スライド装置によりウエハー形状測定装置を構成する。
く保持し、センサーを１回走査させることで、ウエハー
本来の平面度、反り、厚み等の形状を正確に測定できる
ようにする。 【解決手段】被測定物であるウエハーの周縁部を保持す
る保持機構を備えた環状ホルダーと、該環状ホルダーを
回転自在に鉛直に静圧支持してなる固定部材と、上記環
状ホルダーに保持したウエハーの形状を測定する検出部
材と、該検出部材をウエハー上で走査させる静圧方式の
スライド装置によりウエハー形状測定装置を構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンウエハー
等の平板状をした薄肉のウエハー形状（平坦度、反り、
厚み）を測定するために使用するウエハー形状測定装置
に関するものである。
等の平板状をした薄肉のウエハー形状（平坦度、反り、
厚み）を測定するために使用するウエハー形状測定装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体装置の製造工程等において
使用されているウエハー形状測定装置は、図７に示すよ
うなシリコンウエハー１００の中央部を真空チャック等
の保持部材１０１でもって保持させ、該保持部材１０１
の回転軸１０２を転がり式の回転軸受１０３を介して回
転させることによりウエハー１００を水平面上で回転さ
せるとともに、コ字状部の先端に２つのセンサー１１０
をそれぞれ備えるアーム１１１を転がり式の直動軸受１
１２を介して移動させることにより上記センサー１１０
でもってウエハー１００を挟むように走査させ、ウエハ
ー１００の平坦度、反り、厚み等の形状を測定するよう
にしたものがあった。
使用されているウエハー形状測定装置は、図７に示すよ
うなシリコンウエハー１００の中央部を真空チャック等
の保持部材１０１でもって保持させ、該保持部材１０１
の回転軸１０２を転がり式の回転軸受１０３を介して回
転させることによりウエハー１００を水平面上で回転さ
せるとともに、コ字状部の先端に２つのセンサー１１０
をそれぞれ備えるアーム１１１を転がり式の直動軸受１
１２を介して移動させることにより上記センサー１１０
でもってウエハー１００を挟むように走査させ、ウエハ
ー１００の平坦度、反り、厚み等の形状を測定するよう
にしたものがあった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、図７に示す
ウエハー形状測定装置では以下のような課題があった。
ウエハー形状測定装置では以下のような課題があった。
【０００４】１）自重撓みによる誤差 ウエハー１００の中央部を保持して水平面上で回転させ
る構造であることから、ウエハー１００の周縁部が自重
により撓み測定誤差を生じるといった課題があった。特
に、この現象はウエハー１００が大口径になるほど顕著
となり、反りの測定において大きな誤差要因となってい
た。
る構造であることから、ウエハー１００の周縁部が自重
により撓み測定誤差を生じるといった課題があった。特
に、この現象はウエハー１００が大口径になるほど顕著
となり、反りの測定において大きな誤差要因となってい
た。
【０００５】２）ウエハー１００の保持方法による誤差 ウエハー１００の中央部を保持するようにした構成であ
ることから、保持部材１０１との接触面積が大きすぎる
とその平面度に倣ってウエハー１００に反りが発生し、
逆に、保持部材１０１との接触面積が小さすぎると回転
時にウエハー１００の周縁部が振動するというように正
確な測定ができなかった。
ることから、保持部材１０１との接触面積が大きすぎる
とその平面度に倣ってウエハー１００に反りが発生し、
逆に、保持部材１０１との接触面積が小さすぎると回転
時にウエハー１００の周縁部が振動するというように正
確な測定ができなかった。
【０００６】３）保持部材１０１との当接部分における
ウエハー１００の厚み測定できない。
ウエハー１００の厚み測定できない。
【０００７】ウエハー１００の中央部を保持部材１０１
で保持した構造であることから、厚み測定等においては
保持部材１０１との当接部分におけるウェハー１００の
厚みを測定することができず、一度、保持部材１０１の
位置をずらした上で再度測定し直さなければならない、
というように手間がかかり非効率的であった。しかも、
保持部材１０１の位置をずらして測定し直す場合、自重
による撓みが大きくなることから、正確な測定ができな
くなるといった課題もあった。
で保持した構造であることから、厚み測定等においては
保持部材１０１との当接部分におけるウェハー１００の
厚みを測定することができず、一度、保持部材１０１の
位置をずらした上で再度測定し直さなければならない、
というように手間がかかり非効率的であった。しかも、
保持部材１０１の位置をずらして測定し直す場合、自重
による撓みが大きくなることから、正確な測定ができな
くなるといった課題もあった。
【０００８】４）転がり式軸受１０３、１１２による誤
差 保持部材１０１の回転機構やセンサー１１０の直動機構
に使用されている転がり式の軸受１０３、１１２は、回
転要素である球や円筒コロが接触面と点接触あるいは線
接触しているために微振動が発生し易く測定誤差の要因
となっていた。
差 保持部材１０１の回転機構やセンサー１１０の直動機構
に使用されている転がり式の軸受１０３、１１２は、回
転要素である球や円筒コロが接触面と点接触あるいは線
接触しているために微振動が発生し易く測定誤差の要因
となっていた。
【０００９】このように、シリコンウエハー１００等の
平板状をした薄肉の被測定物を水平面上で回転させて測
定する従来のウエハー形状測定装置ではさまざまな測定
誤差要因があり、測定精度を向上させることが非常に難
しいものであった。
平板状をした薄肉の被測定物を水平面上で回転させて測
定する従来のウエハー形状測定装置ではさまざまな測定
誤差要因があり、測定精度を向上させることが非常に難
しいものであった。
【００１０】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明は上記課
題に鑑み、被測定物であるウエハーの周縁部を保持する
保持機構を備えた環状ホルダーと、該環状ホルダーを回
転自在に鉛直に静圧支持してなる固定部材と、上記環状
ホルダーに保持したウエハーの形状を測定する検出部材
と、該検出部材をウエハー上で走査させる静圧方式のス
ライド装置とからウエハー形状測定装置を構成したもの
である。
題に鑑み、被測定物であるウエハーの周縁部を保持する
保持機構を備えた環状ホルダーと、該環状ホルダーを回
転自在に鉛直に静圧支持してなる固定部材と、上記環状
ホルダーに保持したウエハーの形状を測定する検出部材
と、該検出部材をウエハー上で走査させる静圧方式のス
ライド装置とからウエハー形状測定装置を構成したもの
である。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を説明す
る。図１は本発明に係るウエハー形状測定装置の一例を
示す斜視図であり、被測定物であるウエハーの周縁部を
保持する保持機構を備えたリング状の環状ホルダー１
と、該環状ホルダー１の周縁部を静圧支持する３つの固
定部材２と、上記環状ホルダー１の外周面に刻設する溝
１ａにワイヤ７を張架させ、環状ホルダー１の回転およ
び停止を制御するスピンドルモータ５及びプーリー６
と、上記ウエハーの形状を測定する検出部材としてのセ
ンサー４と、該センサー４をウエハー上で走査させるス
ライド装置３とから構成してある。
る。図１は本発明に係るウエハー形状測定装置の一例を
示す斜視図であり、被測定物であるウエハーの周縁部を
保持する保持機構を備えたリング状の環状ホルダー１
と、該環状ホルダー１の周縁部を静圧支持する３つの固
定部材２と、上記環状ホルダー１の外周面に刻設する溝
１ａにワイヤ７を張架させ、環状ホルダー１の回転およ
び停止を制御するスピンドルモータ５及びプーリー６
と、上記ウエハーの形状を測定する検出部材としてのセ
ンサー４と、該センサー４をウエハー上で走査させるス
ライド装置３とから構成してある。
【００１２】次に、図１に示すウエハー形状測定装置の
各構成部材について詳細に説明する。
各構成部材について詳細に説明する。
【００１３】図２は本発明に係るウエハー形状測定装置
の測定部を示す斜視図であり、図３は図２のＸ−Ｘ線断
面図である。
の測定部を示す斜視図であり、図３は図２のＸ−Ｘ線断
面図である。
【００１４】上記環状ホルダー１は、ウエハーの外径と
同等またはそれより大きな内径を有する内孔１１を有
し、該内孔１１にはウエハーを保持するためのフランジ
部１２を等間隔に３つ突設させてある。また、上記フラ
ンジ部１２に対応する環状ホルダー１の表面にはクリッ
プ等のクランプ部材１３を配置してあり、上記環状ホル
ダー１のフランジ部１２とクランプ部材１３とでウエハ
ーの周縁部を挾持して保持するようにしてある。
同等またはそれより大きな内径を有する内孔１１を有
し、該内孔１１にはウエハーを保持するためのフランジ
部１２を等間隔に３つ突設させてある。また、上記フラ
ンジ部１２に対応する環状ホルダー１の表面にはクリッ
プ等のクランプ部材１３を配置してあり、上記環状ホル
ダー１のフランジ部１２とクランプ部材１３とでウエハ
ーの周縁部を挾持して保持するようにしてある。
【００１５】このように、ウエハーの周縁部を３点で保
持することによりセンサー４をウエハー上で１回走査さ
せるだけでウエハーの全面を測定することが可能とな
る。
持することによりセンサー４をウエハー上で１回走査さ
せるだけでウエハーの全面を測定することが可能とな
る。
【００１６】なお、図１に示す環状ホルダー１ではウエ
ハーを保持するフランジ部１２とクランプ部材１３をそ
れぞれ３つずつ設けた例を示したが、ウエハーを正確に
保持できれば３つ以上設けたものであっても構わない。
また、ウエハーの周縁部における厚みについて測定する
必要がない時には、ウエハーをより確実に保持するため
に環状ホルダー１の内孔１１に沿ってリング状のフラン
ジ部１２を突設させても良い。
ハーを保持するフランジ部１２とクランプ部材１３をそ
れぞれ３つずつ設けた例を示したが、ウエハーを正確に
保持できれば３つ以上設けたものであっても構わない。
また、ウエハーの周縁部における厚みについて測定する
必要がない時には、ウエハーをより確実に保持するため
に環状ホルダー１の内孔１１に沿ってリング状のフラン
ジ部１２を突設させても良い。
【００１７】さらに、上記環状ホルダー１を静圧支持す
る３つの固定部材２は、基台５０の凸壁部５１に等間隔
に配設してあり、各固定部材２の凹部２１に環状ホルダ
ー１の周縁部を把持させて環状ホルダー１を鉛直に保持
するようにしてある。また、上記固定部材２の凹部２１
の内壁面２１ａには環状ホルダー１との間隙に圧縮流体
を噴出するための供給孔２３と、該供給孔２３より噴出
された圧縮流体により環状ホルダー１との間隙に静圧流
体層を形成するための圧力発生溝２２を形成してあり、
上記固定部材２の供給孔２３に圧縮流体を供給すること
により環状ホルダー１を鉛直面上で回転自在に静圧支持
するようにしてある。
る３つの固定部材２は、基台５０の凸壁部５１に等間隔
に配設してあり、各固定部材２の凹部２１に環状ホルダ
ー１の周縁部を把持させて環状ホルダー１を鉛直に保持
するようにしてある。また、上記固定部材２の凹部２１
の内壁面２１ａには環状ホルダー１との間隙に圧縮流体
を噴出するための供給孔２３と、該供給孔２３より噴出
された圧縮流体により環状ホルダー１との間隙に静圧流
体層を形成するための圧力発生溝２２を形成してあり、
上記固定部材２の供給孔２３に圧縮流体を供給すること
により環状ホルダー１を鉛直面上で回転自在に静圧支持
するようにしてある。
【００１８】このように、本発明では環状ホルダー１に
より保持するウエハーを鉛直に配置してあることから、
ウエハーに重力による撓みを生じることがなく、ウエハ
ー本来の形状測定を可能とすることができる。しかも、
環状ホルダー１と固定部材２の凹部２１との間には静圧
流体層を形成して環状ホルダー１を静圧支持してあるこ
とから、ウエハーの形状測定に悪影響を与えるような微
振動を生じることなく、小さな駆動力で環状ホルダー１
を滑らかに回転させることができる。
より保持するウエハーを鉛直に配置してあることから、
ウエハーに重力による撓みを生じることがなく、ウエハ
ー本来の形状測定を可能とすることができる。しかも、
環状ホルダー１と固定部材２の凹部２１との間には静圧
流体層を形成して環状ホルダー１を静圧支持してあるこ
とから、ウエハーの形状測定に悪影響を与えるような微
振動を生じることなく、小さな駆動力で環状ホルダー１
を滑らかに回転させることができる。
【００１９】一方、ウエハーの形状を測定するセンサー
４は、基台５０の凸壁部５１に環状ホルダー１とともに
並設するスライド装置３に取着してあり、該スライド装
置３の構造は図４（ａ）、（ｂ）に示すように、角柱状
の固定部３１と、該固定部３１を囲繞する可動部３２、
および該可動部３２に設けた前記環状ホルダー１の直径
と同等あるいはそれよりも長い窪みを有するコ字状の支
持部材３３とからなり、上記支持部材３３の先端にセン
サー４を取着してある。また、上記固定部３１と可動部
３２との間には若干の隙間を設けてあり、上記可動部３
２の内壁面３２ａには固定部３１と可動部３２との隙間
に圧縮流体を噴出するための供給孔３５と、該供給孔３
５より噴出された圧縮流体により静圧流体層を形成する
ための圧力発生溝３４を形成してある。
４は、基台５０の凸壁部５１に環状ホルダー１とともに
並設するスライド装置３に取着してあり、該スライド装
置３の構造は図４（ａ）、（ｂ）に示すように、角柱状
の固定部３１と、該固定部３１を囲繞する可動部３２、
および該可動部３２に設けた前記環状ホルダー１の直径
と同等あるいはそれよりも長い窪みを有するコ字状の支
持部材３３とからなり、上記支持部材３３の先端にセン
サー４を取着してある。また、上記固定部３１と可動部
３２との間には若干の隙間を設けてあり、上記可動部３
２の内壁面３２ａには固定部３１と可動部３２との隙間
に圧縮流体を噴出するための供給孔３５と、該供給孔３
５より噴出された圧縮流体により静圧流体層を形成する
ための圧力発生溝３４を形成してある。
【００２０】そして、上記可動部３２の供給孔３５に圧
縮流体を供給して可動部３２を固定部３１上で静圧支持
するとともに、リニアモータなどの駆動手段（不図示）
により可動部３２を移動させ、支持部材３３の先端に取
着するセンサー４でウエハーを保持した環状ホルダー１
を挟み込むことにより、ウエハーの平坦度や反り、さら
には厚みを１回の走査で測定することができる。
縮流体を供給して可動部３２を固定部３１上で静圧支持
するとともに、リニアモータなどの駆動手段（不図示）
により可動部３２を移動させ、支持部材３３の先端に取
着するセンサー４でウエハーを保持した環状ホルダー１
を挟み込むことにより、ウエハーの平坦度や反り、さら
には厚みを１回の走査で測定することができる。
【００２１】なお、図１に示すウエハー形状測定装置に
は、ウエハーを収納するためのウエハマガジン１０と、
該ウエハマガジン１０からのウエハーの取り出しと収納
を行うとともに、ウエハーを所定位置まで移動させるた
めの真空吸引方式の搬送アーム８、ならびに基台５０の
凸壁部５１に配置され、上記搬送アーム８とのウエハー
の受け渡しを行うとともに、環状ホルダー１まで搬送す
るための真空吸引方式の搬送アーム９を具備させてあ
る。
は、ウエハーを収納するためのウエハマガジン１０と、
該ウエハマガジン１０からのウエハーの取り出しと収納
を行うとともに、ウエハーを所定位置まで移動させるた
めの真空吸引方式の搬送アーム８、ならびに基台５０の
凸壁部５１に配置され、上記搬送アーム８とのウエハー
の受け渡しを行うとともに、環状ホルダー１まで搬送す
るための真空吸引方式の搬送アーム９を具備させてあ
る。
【００２２】次に、図１に示すウエハー形状測定装置に
よるウエハーの測定手順を示す。
よるウエハーの測定手順を示す。
【００２３】まず、搬送アーム８によりウエハマガジン
１０からウエハーを取り出して環状ホルダー１の前方ま
で移動させたあと垂直に反転させる。そして、上記ウエ
ハーを搬送アーム９に受け渡したあと、鉛直に配置する
環状ホルダー１のフランジ部１２と当接するまで搬送し
たあと、クランプ部材１３でもってウエハーの周縁部を
挾持し、ウエハーを環状ホルダー１の中央に保持させ
る。この時、環状ホルダー１と固定部材２の凹部２１と
の間には圧縮流体を供給し、予め環状ホルダー１を回転
自在に鉛直に静圧支持してある。
１０からウエハーを取り出して環状ホルダー１の前方ま
で移動させたあと垂直に反転させる。そして、上記ウエ
ハーを搬送アーム９に受け渡したあと、鉛直に配置する
環状ホルダー１のフランジ部１２と当接するまで搬送し
たあと、クランプ部材１３でもってウエハーの周縁部を
挾持し、ウエハーを環状ホルダー１の中央に保持させ
る。この時、環状ホルダー１と固定部材２の凹部２１と
の間には圧縮流体を供給し、予め環状ホルダー１を回転
自在に鉛直に静圧支持してある。
【００２４】そして、ウエハーを保持した環状ホルダー
１をスピンドルモータ５により回転させるとともに、静
圧支持したスライド装置３の可動部３２を移動させ、支
持部材３３の先端に取着するセンサー４をウエハー上で
走査させることによりウエハーの平坦度、反り、厚み等
の形状を測定することができる。
１をスピンドルモータ５により回転させるとともに、静
圧支持したスライド装置３の可動部３２を移動させ、支
持部材３３の先端に取着するセンサー４をウエハー上で
走査させることによりウエハーの平坦度、反り、厚み等
の形状を測定することができる。
【００２５】このように、本発明に係るウエハー形状測
定装置は、ウエハーを鉛直に保持するようにしてあるこ
とから重力による撓みを生じることがなく、ウエハー本
来の形状を測定することができる。また、環状ホルダー
１の内径はウエハーの外径と同等またはそれより大きく
し、ウエハーの周縁部を保持するようにしてあることか
ら、センサー４を１回走査させるだけでウエハーの全面
を測定することができ、測定時間を大幅に短縮すること
ができる。
定装置は、ウエハーを鉛直に保持するようにしてあるこ
とから重力による撓みを生じることがなく、ウエハー本
来の形状を測定することができる。また、環状ホルダー
１の内径はウエハーの外径と同等またはそれより大きく
し、ウエハーの周縁部を保持するようにしてあることか
ら、センサー４を１回走査させるだけでウエハーの全面
を測定することができ、測定時間を大幅に短縮すること
ができる。
【００２６】しかも、環状ホルダー１およびスライド装
置３の可動部３２は共に静圧軸受機構にて回転および移
動させるようにしてあることから、従来の転がり式軸受
のような摩耗や摺動抵抗によるガタ付きを生じることが
なく、ウエハーおよびセンサー４に微振動を発生させる
ことがない。その為、ウエハーを保持する環状ホルダー
１を小さな力で滑らかに回転させることができるととも
に、ウエハー本来の形状を正確に測定することができ
る。
置３の可動部３２は共に静圧軸受機構にて回転および移
動させるようにしてあることから、従来の転がり式軸受
のような摩耗や摺動抵抗によるガタ付きを生じることが
なく、ウエハーおよびセンサー４に微振動を発生させる
ことがない。その為、ウエハーを保持する環状ホルダー
１を小さな力で滑らかに回転させることができるととも
に、ウエハー本来の形状を正確に測定することができ
る。
【００２７】次に、本発明の他の実施形態について説明
する。図５は本発明に係るウエハー形状測定装置の測定
部の他の例を示す斜視図であり、図６は図５のＺ−Ｚ線
断面図である。
する。図５は本発明に係るウエハー形状測定装置の測定
部の他の例を示す斜視図であり、図６は図５のＺ−Ｚ線
断面図である。
【００２８】この測定部は、ウエハーの保持機構を真空
吸引構造としたもので、環状ホルダー１の表面に環状の
リング溝１ｂを刻設するとともに、環状ホルダー１のフ
ランジ部１２に吸引口１ｃを穿設し、該吸引口１ｃは上
記環状ホルダー１のリング溝１ｂと貫通孔１ｄを介して
連通させてある。また、上記環状ホルダー１を静圧支持
する３つの固定部材２には上記環状ホルダー１のリング
溝１ｂを覆うようなリング体２４を設けてあり、該リン
グ体２４に設けた排気孔２５より真空ポンプ（不図示）
でもって真空吸引することで、環状ホルダー１のフラン
ジ部１２に保持したウエハーを吸着保持するようにして
ある。
吸引構造としたもので、環状ホルダー１の表面に環状の
リング溝１ｂを刻設するとともに、環状ホルダー１のフ
ランジ部１２に吸引口１ｃを穿設し、該吸引口１ｃは上
記環状ホルダー１のリング溝１ｂと貫通孔１ｄを介して
連通させてある。また、上記環状ホルダー１を静圧支持
する３つの固定部材２には上記環状ホルダー１のリング
溝１ｂを覆うようなリング体２４を設けてあり、該リン
グ体２４に設けた排気孔２５より真空ポンプ（不図示）
でもって真空吸引することで、環状ホルダー１のフラン
ジ部１２に保持したウエハーを吸着保持するようにして
ある。
【００２９】このように、ウエハーの保持機構を真空吸
引構造とすることにより、図１に示すクランプ方式に比
べてさらにウエハーの傷付きを抑えることができるとと
もに、ウエハーの測定を完全に自動化することができ
る。
引構造とすることにより、図１に示すクランプ方式に比
べてさらにウエハーの傷付きを抑えることができるとと
もに、ウエハーの測定を完全に自動化することができ
る。
【００３０】なお、本発明に係るウエハー形状測定装置
において、ウエハーの保持機構としては、上述したもの
以外にウエハーを傷付けることなく保持することができ
れば、どのような保持機構をもったものでも良いことは
言うまでもない。
において、ウエハーの保持機構としては、上述したもの
以外にウエハーを傷付けることなく保持することができ
れば、どのような保持機構をもったものでも良いことは
言うまでもない。
【００３１】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、被測定
物であるウエハーの周縁部を保持する保持機構を備えた
環状ホルダーと、該環状ホルダーを回転自在に鉛直に静
圧支持してなる固定部材と、上記環状ホルダーに保持し
たウエハーの形状を測定する検出部材と、該検出部材を
ウエハー上で走査させる静圧方式のスライド装置とから
ウエハー形状測定装置を構成したことにより、ウエハー
に重力による撓みを生じることがない。また、環状ホル
ダー１の内径はウエハーの外径と同等またはそれより大
きくし、ウエハーの周縁部を保持するようにしてあるこ
とから、センサーを１回走査させるだけでウエハーの全
面を測定することができ、測定時間を大幅に短縮するこ
とができる。
物であるウエハーの周縁部を保持する保持機構を備えた
環状ホルダーと、該環状ホルダーを回転自在に鉛直に静
圧支持してなる固定部材と、上記環状ホルダーに保持し
たウエハーの形状を測定する検出部材と、該検出部材を
ウエハー上で走査させる静圧方式のスライド装置とから
ウエハー形状測定装置を構成したことにより、ウエハー
に重力による撓みを生じることがない。また、環状ホル
ダー１の内径はウエハーの外径と同等またはそれより大
きくし、ウエハーの周縁部を保持するようにしてあるこ
とから、センサーを１回走査させるだけでウエハーの全
面を測定することができ、測定時間を大幅に短縮するこ
とができる。
【００３２】しかも、環状ホルダーおよびスライド装置
の可動部は共に静圧軸受機構にて回転および移動させる
ようにしてあることから、従来の転がり式軸受のような
摩耗や摺動抵抗に伴うガタ付きを生じることがなく、ウ
エハーおよびセンサーに微振動を発生させることがな
い。その為、ウエハーを保持する環状ホルダーを小さな
力で滑らかに回転させることができるとともに、ウエハ
ー本来の形状を正確に測定することができる。
の可動部は共に静圧軸受機構にて回転および移動させる
ようにしてあることから、従来の転がり式軸受のような
摩耗や摺動抵抗に伴うガタ付きを生じることがなく、ウ
エハーおよびセンサーに微振動を発生させることがな
い。その為、ウエハーを保持する環状ホルダーを小さな
力で滑らかに回転させることができるとともに、ウエハ
ー本来の形状を正確に測定することができる。
【図１】本発明に係るウエハー形状測定装置の一例を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図２】図１の測定部を示す斜視図である。
【図３】図２のＸ Ｘ線断面図である。
【図４】図１のスライド装置を示す図であり、（ａ）は
斜視図、（ｂ）はそのＹ−Ｙ線断面図である。
斜視図、（ｂ）はそのＹ−Ｙ線断面図である。
【図５】本発明に係るウエハー形状測定装置における測
定部の他の例を示す斜視図である。
定部の他の例を示す斜視図である。
【図６】図５のＺ Ｚ線断面図である。
【図７】従来のウエハー形状測定装置の概略を示す正面
図である。
図である。
１・・・環状ホルダー、 ２・・・固定部材、 ３・・
・スライド装置、４・・・センサー、 ５・・・スピン
ドルモータ、 ６・・・プーリー、７・・・ワイヤー、
８・・・搬送アーム、 ９・・・搬送アーム、１０・
・・ウエハマガジン
・スライド装置、４・・・センサー、 ５・・・スピン
ドルモータ、 ６・・・プーリー、７・・・ワイヤー、
８・・・搬送アーム、 ９・・・搬送アーム、１０・
・・ウエハマガジン
Claims (1)
- 【請求項１】被測定物であるウエハーの周縁部を保持す
る保持機構を備えた環状ホルダーと、該環状ホルダーを
回転自在に鉛直に静圧支持してなる固定部材と、上記環
状ホルダーに保持したウエハーの形状を測定する検出部
材と、該検出部材をウエハー上で走査させる静圧方式の
スライド装置とからなり、前記ウエハーを鉛直に保持し
て形状を測定するようにしたことを特徴とするウエハー
形状測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20262496A JP3492859B2 (ja) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | ウエハー形状測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20262496A JP3492859B2 (ja) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | ウエハー形状測定装置 |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003011326A Division JP3512789B2 (ja) | 2003-01-20 | 2003-01-20 | ウエハー形状測定装置 |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1047949A true JPH1047949A (ja) | 1998-02-20 |
| JP3492859B2 JP3492859B2 (ja) | 2004-02-03 |
Family
ID=16460450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20262496A Expired - Fee Related JP3492859B2 (ja) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | ウエハー形状測定装置 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3492859B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001237306A (ja) * | 2000-02-25 | 2001-08-31 | Nikon Corp | 基板ハンド、搬送装置、検査装置および平面基板収納装置 |
| US6367159B1 (en) | 1998-06-08 | 2002-04-09 | Kuroda Precision Industries, Ltd. | Method and apparatus for measuring surface shape of thin element |
| JP2002195823A (ja) * | 2000-12-26 | 2002-07-10 | Tosoh Quartz Corp | 平面度測定装置 |
| AT409681B (de) * | 2000-02-11 | 2002-10-25 | Thallner Erich | Vorrichtung zur fixierung von halbleitersubstraten in einer zueinander ausgerichteten sollage |
| JP2007188975A (ja) * | 2006-01-11 | 2007-07-26 | Sony Corp | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
| JP2008510141A (ja) * | 2004-08-11 | 2008-04-03 | リハイトン エレクトロニクス インク | 導電性シート材料のシート電荷密度と移動度の測定のための装置及び取り扱いシステム |
| US8207748B2 (en) | 2004-08-11 | 2012-06-26 | Lehighton Electronics, Inc. | Device and handling system for measurement of mobility and sheet charge density |
| CN112710262A (zh) * | 2020-12-07 | 2021-04-27 | 临沂市金立机械有限公司 | 一种被动盘自动识别装配机 |
| CN114993233A (zh) * | 2022-08-03 | 2022-09-02 | 山东拓庄医疗设备有限公司 | 一种医疗设备核磁共振安全操作生产检测设备 |
| WO2024041322A1 (en) * | 2022-08-25 | 2024-02-29 | Tcl Zhonghuan Renewable Energy Technology Co., Ltd. | Surface flatness detecting device for single crystal square rod |
-
1996
- 1996-07-31 JP JP20262496A patent/JP3492859B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6367159B1 (en) | 1998-06-08 | 2002-04-09 | Kuroda Precision Industries, Ltd. | Method and apparatus for measuring surface shape of thin element |
| AT409681B (de) * | 2000-02-11 | 2002-10-25 | Thallner Erich | Vorrichtung zur fixierung von halbleitersubstraten in einer zueinander ausgerichteten sollage |
| JP2001237306A (ja) * | 2000-02-25 | 2001-08-31 | Nikon Corp | 基板ハンド、搬送装置、検査装置および平面基板収納装置 |
| JP2002195823A (ja) * | 2000-12-26 | 2002-07-10 | Tosoh Quartz Corp | 平面度測定装置 |
| JP2008510141A (ja) * | 2004-08-11 | 2008-04-03 | リハイトン エレクトロニクス インク | 導電性シート材料のシート電荷密度と移動度の測定のための装置及び取り扱いシステム |
| US8207748B2 (en) | 2004-08-11 | 2012-06-26 | Lehighton Electronics, Inc. | Device and handling system for measurement of mobility and sheet charge density |
| JP2007188975A (ja) * | 2006-01-11 | 2007-07-26 | Sony Corp | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
| CN112710262A (zh) * | 2020-12-07 | 2021-04-27 | 临沂市金立机械有限公司 | 一种被动盘自动识别装配机 |
| CN114993233A (zh) * | 2022-08-03 | 2022-09-02 | 山东拓庄医疗设备有限公司 | 一种医疗设备核磁共振安全操作生产检测设备 |
| CN114993233B (zh) * | 2022-08-03 | 2022-10-25 | 山东拓庄医疗设备有限公司 | 一种医疗设备核磁共振安全操作生产检测设备 |
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