JP2001237306A - 基板ハンド、搬送装置、検査装置および平面基板収納装置 - Google Patents

基板ハンド、搬送装置、検査装置および平面基板収納装置

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JP2001237306A
JP2001237306A JP2000048660A JP2000048660A JP2001237306A JP 2001237306 A JP2001237306 A JP 2001237306A JP 2000048660 A JP2000048660 A JP 2000048660A JP 2000048660 A JP2000048660 A JP 2000048660A JP 2001237306 A JP2001237306 A JP 2001237306A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハ搬送中のウエハ破損を防止することが
できる搬送装置の提供。 【解決手段】 搬送装置は、基板面が垂直となるように
ウエハWを把持するハンド5と、ハンド5に把持された
ウエハWの基板面がウエハ移動方向に対して平行となる
ように搬送する搬送ロボット4とから成り、ハンド5に
垂直保持されたウエハWの表面を光軸Jが水平な対物レ
ンズ3aを有する顕微鏡で観察する。その結果、ウエハ
Wが自重や搬送中の空気抵抗により撓むことが無く、ウ
エハ破損を防止することができる。さらに、ウエハWが
ハンド5で保持された状態において観察を行うので、検
査工程におけるウエハ受け渡し回数の低減が図れ、ウエ
ハ受け渡し時におけるウエハ破損の発生を低減すること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンウエハや
ガラス基板等の平面基板を搬送する際に用いられる基板
ハンドや搬送装置、およびそれらを備える検査装置、さ
らには前記検査装置で用いられる平面基板収納装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】半導体製造過程では、シリコンウエハ上
に形成された回路の検査が適宜行われている。例えば、
シリコンウエハ上に回路パターンが形成され、ウエハの
裏面研削がされた後に、顕微鏡装置等を用いてシリコン
ウエハの外観検査を行うことにより回路パターンの良否
評価を行うことがある。このような顕微鏡装置では、ウ
エハを顕微鏡観察するための顕微鏡観察ステージや目視
検査用のマクロ観察ステージが設けられている。これら
の観察ステージ上へのウエハの搬送には、顕微鏡装置に
備えられているウエハ用搬送装置が用いられる。
【0003】ウエハ用搬送装置には真空を利用してウエ
ハを吸着する吸着ハンドが設けられており、ウエハカセ
ットに水平に収納されたウエハの裏面を吸着ハンドで吸
着し、ウエハを水平状態にして観察ステージまで搬送す
る。各観察ステージにも真空を利用した吸着装置が設け
られており、ウエハを吸着ハンドから観察ステージに受
け渡す際には、図11(a)に示すようにウエハWを観
察ステージ100(マクロ観察用ステージ)の上方に搬
送した後、図11(b)のように吸着ハンド101を徐
々に降下させる。ウエハWが観察ステージ100に近接
したらならば吸着ハンド101の真空吸着を解除し、さ
らに、図11(c)に示すように吸着ハンド101を降
下させ、ウエハWを観察ステージ100の吸着装置に吸
着させて観察ステージ100へ装着する。
【0004】逆に、観察ステージ100から吸着ハンド
101にウエハWを受け渡す場合には、観察ステージ1
00に保持されているウエハWの下方から吸着ハンド1
01を上昇させ、吸着ハンド101がウエハWの裏面に
近接したならば観察ステージ100の吸着装置による吸
着を解除し、吸着ハンド101を上昇させて吸着ハンド
101にウエハWを吸着保持させる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、裏面研削さ
れた後のウエハWの厚さは0.2〜0.3(mm)程度とか
なり薄く、ときには0.1(mm)程度まで研削されること
がある。このようにウエハWは非常に薄いため、吸着ハ
ンド101でウエハWを水平に保持して搬送する際に、
ウエハWが自重により撓んで破損することがあった。ウ
エハ径は年々大きくなる傾向にあり、近年のように30
0(mm)近くにまでなると、撓みによる破損が発生しやす
くなる。特に、吸着ハンド101と観察ステージ100
間のウエハ受け渡しの際には、受け渡し時のショックで
ウエハWの破損が生じやすいという問題があった。
【0006】また、ウエハ表面には回路パターンを保護
するための保護膜が形成されるが、この保護膜や上述し
た裏面研削に起因する「反り」がウエハWに生じ、吸着
ハンド101や観察ステージ100における真空吸着の
際に吸着保持ミスが生じやすく、ウエハ破損を招いてい
た。
【0007】本発明の目的は、ウエハ搬送中のウエハ破
損を防止することができる基板ハンド、搬送装置および
それらを備えた検査装置、さらには前記検査装置等で使
用される平面基板収納装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】発明の実施の形態を示す
図1,図2および図7に対応付けて説明する。 (1)図2に対応付けて説明すると、請求項1の発明
は、平面基板Wの保持に使用される基板ハンド5に適用
され、平面基板Wの縁部をその表裏両面から挟むように
把持することにより上述の目的を達成する。 (2)図1および図7に対応付けて説明すると、請求項
2の発明は、平面基板Wを搬送する搬送装置に適用さ
れ、基板面が鉛直面内に延在するように平面基板Wを垂
直に保持する保持手段5と、保持手段5により保持され
た平面基板Wの基板面を移動方向に対して平行に維持し
つつ搬送する搬送手段4とを備えて上述の目的を達成す
る。 (3)請求項3の発明は、請求項2に記載の搬送装置に
おいて、請求項1に記載の基板ハンド5を保持手段とし
て用いたものである。 (4)請求項4の発明は、平面基板Wの外観を観察して
検査を行う検査装置に適用され、請求項2または請求項
3のいずれかに記載の搬送装置4,5と、対物光学系3
aの光軸Jが水平となっていて、搬送装置4,5の保持
手段5により垂直に保持された平面基板Wを観察する顕
微鏡3とを備えて上述の目的を達成する。 (5)請求項5の発明による平面基板収納装置は、複数
の平面基板Wを垂直状態で収納する基板カセット2と、
平面基板Wの基板端面の一部に当接する当接部7gを有
する押し上げ治具7aと、押し上げ治具7aを基板カセ
ット2に収納された各平面基板Wの真下に位置決めする
位置決め装置7cと、押し上げ治具7aを鉛直上下方向
に駆動して平面基板Wの一部を基板カセット2の上方に
突出させる駆動装置7bとを備えて上述の目的を達成す
る。
【0009】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が発明の実施の形態に限定されるものではない。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図1〜図10を参照して本
発明の実施の形態を説明する。図1は本発明による検査
装置の一実施の形態を示す図であり、半導体チップが形
成されたシリコンウエハ等の観察に用いられる顕微鏡検
査装置1の概略構成を示す斜視図である。ウエハカセッ
ト2には検査用のウエハWが複数収納されており、各ウ
エハWは基板面が垂直面内に延在するように垂直に収納
されている。顕微鏡検査装置1にはウエハWの外観を観
察するための顕微鏡3が備えられており、3aは対物レ
ンズ、3bは接眼レンズである。対物レンズ3aは光軸
Jが水平となるように設けられている。
【0011】顕微鏡検査装置1には検査オペレータが検
査する際の操作スイッチ(不図示で)が設けられてお
り、それらの操作スイッチを操作して顕微鏡検査装置1
に設けられた搬送ロボット4を操作する。なお、上述し
た操作スイッチには、後述する顕微鏡観察用操作スイッ
チ、マクロ観察用操作スイッチ、ウエハ取出操作スイッ
チ、手動操作スイッチなどが設けられている。オペレー
タが顕微鏡観察用操作スイッチを操作すると、搬送ロボ
ット4は、ウエハカセット2に収納されたウエハWの1
枚をアーム4aの先端に取り付けられたハンド5を用い
て取り出し、そのウエハWを顕微鏡3の対物レンズ3a
の光軸J上の所定位置に配置する。
【0012】このとき、搬送ロボット4のアーム4aが
二点鎖線P1で示す位置まで駆動されたならば、手動操
作によりアーム4aを微小駆動させてウエハWを図1に
示すように光軸J方向(Z方向)および光軸Jに垂直な
X,Y方向に移動し、ウエハWの位置決めを行う。顕微
鏡観察では、ウエハWに形成されたチップの中の特定部
分を観察し、色やパターン形状から良否を判定する。
【0013】なお、ウエハWの位置決めを行う際には、
顕微鏡3内に設けられたイメージローテーター(プリズ
ムが利用される)を用いて接眼レンズ3bで観察される
観察像を回転し、ウエハWの光軸Jに関する回転補正を
手動で行う。また、ウエハWのマクロ観察をする場合、
マクロ観察用操作スイッチ(不図示)を操作すると、搬
送ロボット4はアーム4aを二点鎖線P2で示す位置に
駆動する。マクロ観察では、搬送されたウエハWの表面
にマクロ照明6から出射される均一な平行光を斜めに照
射し、ウエハWからの散乱光を観察してウエハW上の保
護膜の状態を評価する。
【0014】このとき、手動操作によりアーム4aを駆
動して、ハンド5に保持されたウエハWをR1方向に回
転したり、R2方向に傾ける等して観察を行う。ウエハ
Wをハンド5で掴む際には、ウエハカセット2に収納さ
れたウエハWをアシスト装置7で上方に押し上げて、ウ
エハWをウエハカセット2の上方に突出させる。
【0015】図2はハンド5を詳細に示す図であり、
(a)はウエハWを正面から見た図、(b)は(a)の
B矢視図、(c)はハンド5に設けられたフィンガー5
aを示す図である。ハンド5にはウエハWを把持するた
めのフィンガー5aが一対設けられており、一対のフィ
ンガー5aはフィンガー駆動部5bに設けられたアクチ
ュエータ(不図示)により図2(b)のように、実線位
置と二点鎖線位置との間で水平方向に駆動される。フィ
ンガー5aを駆動するアクチュエータには、エアシリン
ダや、モータと送りネジを利用したものなどが用いられ
る。
【0016】ハンド5はアーム4aの先端部に設けられ
た回転部4bに取り付けられており、回転部4bは不図
示のアクチュエータによりアーム4aに対してR1方向
に回転することができる。さらに回転部4bに固定され
たハンド5は、アーム4aと回転部4bとの連結部に設
けられたアクチュエータ(不図示)により、回転部4b
と一体にR2方向に駆動することができる。図2(c)
はフィンガー5aの一つを示したものであり、フィンガ
ー5aに把持されるウエハWの側から見た図である。フ
ィンガー5aに形成されたU字形状の切り欠き5cの縁
部分には溝5dが形成されており、切り欠き5cの円弧
部分の曲率はウエハWの縁の曲率とほぼ等しく形成され
ている。図2(b)のように一対のフィンガー5aを閉
じると、ウエハWがフィンガー5aの溝5d内に把持さ
れる。
【0017】図1のウエハカセット2に収納されたウエ
ハWをハンド5で把持して取り出す際には、前述したよ
うにアシスト装置7によりウエハWをウエハカセット2
の外側に押し出し、押し出されたウエハWの縁部をフィ
ンガー5aで把持する。図3(a)はアシスト装置7を
示す斜視図である。アシスト装置7にはウエハWを押し
上げるためのアシストプレート7aが設けられており、
アシストプレート7aは垂直駆動部7bにより垂直方向
に上下駆動され、この垂直駆動部7bは水平駆動部7c
により水平方向に駆動される。アシストプレート7aの
上端面は円弧形状(ウエハWの縁の曲率とほぼ等しい曲
率を有する)を成しており、図3(b)の断面図に示す
ように上端面にはV字形状の溝7dが形成されている。
ウエハWを上方に押し上げる際には、ウエハカセット2
に垂直収納されたウエハWの端面下部が溝7dに填り込
んだ状態となる。
【0018】図4および図5はウエハカセット2に収納
されたウエハWをハンド5を用いて取り出す際の手順を
示した図であり、図4の(a)〜(c)、図5の(a)
〜(c)の順に取り出し動作が行われる。まず、ウエハ
取出操作用スイッチ(不図示)を操作すると、ハンド5
は検査すべきウエハW1の真上に移動される。その後、
フィンガー5aが開かれるとともに、水平駆動装置7d
を図示右方向に駆動して垂直駆動部7bに設けられたア
シストプレート7aをウエハW1の真下まで移動させる
(図4(a))。次に、図4(b)に示すように、垂直
駆動部7bによりアシストプレート7aを上方に駆動し
てウエハW1を押し上げ、開いたフィンガー5aの間に
ウエハW1を挿入する。
【0019】ウエハW1が一対のフィンガー5aの間に
挿入されたならば、図4(c)のようにフィンガー5a
を閉じてウエハW1を把持する。次いで、図5(a)の
ようにアーム4aを上方に駆動してハンド5に把持され
たウエハW1をウエハカセット2から完全に取り出す。
その後、マクロ観察または顕微鏡観察用操作スイッチが
操作されると、上述したようにウエハW1が所定の観察
位置に搬送される。このとき、アシストプレート7aの
位置は、図5(a)のように上端位置に保持したままで
も良いし、下端位置(図4(a)参照)まで下げてしま
っても良い。なお、ウエハカセット2から観察位置まで
の搬送方法については後述する。ウエハW1の観察が終
了し、ウエハW1をウエハカセット2へ戻す操作スイッ
チが操作されると、ハンド5に把持されたウエハW1は
ウエハカセット2の所定位置(図5(a)に示す位置)
まで搬送され、ハンド5を降下させる。
【0020】ウエハW1の一部がウエハカセット2内に
収納されてアシストプレート7aの溝7d(図3参照)
上にウエハW1が載置されたならば、フィンガー5aを
開いた後にアシストプレート7aを降下させて、ウエハ
W1をウエハカセット2内に完全に収納する。その後、
隣のウエハW2の真上にハンド5を移動させるととも
に、水平駆動装置7cを駆動してアシストプレート7a
をウエハW2の真下まで移動させ、ウエハW2の取り出
し・搬送・観察が同様に行われる。
【0021】次に、搬送方法について説明する。図6,
7は搬送方法を説明する図であり、図6は検査装置の側
面図、図7は平面図である。図6の二点鎖線で示すよう
に、ウエハWをハンド5で把持してウエハカセット2か
ら垂直に取り出したならば、搬送ロボット4の回転軸J
2の回りにアーム4aを角度θ1だけ回転させてウエハ
Wをマクロ観察位置P2に搬送する(図7)。なお、ウ
エハWの面が搬送方向からずれた状態にウエハカセット
2が装着される場合には、回転軸J2に関してアーム4
a全体を回転させる前に、搬送ロボット4の回転中心J
2とウエハWの中心O(図2参照)とを結ぶ直線J3と
基板面とが直交するように、アーム4aの先端に設けら
れた回転部4bを回転させる。すなわち、ウエハWは中
心Oが回転中心J2を中心とする円弧を描くように搬送
され、その搬送中にはウエハWの基板面は円弧の接線方
向(ウエハWの移動方向)に延在するように保持され
る。
【0022】アーム4aをマクロ観察位置P2に移動し
たならば、ウエハW表面からの反射光Lが観察者のアイ
ポイントに入射するように、回転部4b(図6参照)を
駆動してウエハWを角度θ2だけ回転させる。マクロ観
察が終了したならば、ウエハWを角度(−θ2)だけ回
転させて直線J3とウエハWの基板面とを直交させ、ア
ーム4aをさらに角度θ3だけ回転して顕微鏡観察位置
P1に移動させる。図7に示した場合には、さらにアー
ム4aを駆動してウエハWを図示右方向に微小駆動して
所定位置に位置決めする。図6はウエハWが対物レンズ
3aの光軸J上に位置決めされた様子を示したものであ
り、このとき、ウエハWの基板面が光軸Jに対して傾い
ていたならば、アーム4aの回転部4bを回転駆動して
基板面が光軸Jと直交するように手動補正する。顕微鏡
観察が終了したならば、アーム4aを角度(−θ1−θ
3)だけ回転させた後に、ウエハカセット2の所定位置
にウエハWを収納する。
【0023】なお、上述した実施の形態では、マクロ観
察、顕微鏡観察の順にウエハWの観察を行ったが、逆の
順で観察を行っても良いし、何れか一方の観察だけを行
うようにしても良い。
【0024】図8はハンド5の変形例を示す図であり、
(a)はハンド5をウエハ正面から見た図であり、
(b)は(a)のD−D断面図である。ハンド5に設け
られた一対のフィンガー5fは図の左右方向に開閉動作
をするものであり、フィンガー5fを閉じるとウエハW
の基板端面にフィンガー5fの円弧部5gが当接し、基
板端面を挟むようにしてウエハWを把持する。図8
(b)に示すように、円弧部5gはV溝形状を有してお
り、ウエハWはその端部がV溝に填り込むようにして把
持される。
【0025】なお、ウエハWを把持した際にウエハWに
過剰な力が掛からないように、フィンガー5fの閉位置
が設定されている。例えば、ウエハ端面とV溝との間に
若干隙間ができるように設定し、フィンガー5fのウエ
ハ中心Oより下側の部分でウエハWが落下しないように
把持するようにしても良い。
【0026】図9,10は図8に示すハンド5を用いて
ウエハWをウエハカセット2から取り出して保持する動
作を示す図であり、図9の(a)〜(c)および図11
の(a)、(b)の順で動作が行われる。まず、図9
(a)に示すようにフィンガー5fを開いた状態でハン
ド5aをウエハWの真上に降下させたならば、図9
(b)のようにアシストプレート7aを上方に移動させ
てウエハカセット2内のウエハWを押し上げる。図9
(c)はアシストプレート7aが上端位置まで移動した
様子を示す図であり、ウエハWはその基板中心Oがウエ
ハカセット2の上端より上方となる位置まで押し上げら
れる。次いで、図10(a)のようにフィンガー5fを
閉じてウエハWを把持した後に、ハンド5を垂直上方に
移動させてウエハWをウエハカセット2から取り出すと
ともに、アシストプレート7aを下方に移動させる。
【0027】なお、図9(a),(b)のようにウエハ
Wがウエハカセット2内にある場合には、ウエハWの左
右両端部がウエハカセット2の内側面に形成された溝2
aに填り込んでいて、ウエハWは垂直状態に維持されて
いる。しかし、図9(c)に示すように、ウエハWがア
シストプレート7aにより押し上げられてその一部がウ
エハカセット2から押し出された状態では、ウエハWの
左右両端部が溝2aから外れてしまうおそれがある。そ
こで、本実施の形態では、アシストプレート7aの端部
をウエハWの形状に合わせた円弧状に形成し、その端面
にV溝7gを形成してV溝7g内にウエハWが填り込む
ようにした。そのため、図9(c)のような状態でも、
アシストプレート7aによってウエハWを垂直に保持す
ることができる。
【0028】上述した本実施の形態では、次のような利
点を有している。 (1)図2に示すようにハンド5に設けられたフィンガ
ー5aでウエハWを表裏両面から挟んで把持したり、図
8のようにフィンガー5fでウエハ端面を挟むようにし
て把持しているので、ウエハWに反り等が有った場合で
も、ウエハWを確実に保持することができる。 (2)ウエハWをウエハカセット2からの取り出して再
度収納するまでの一連の動作(搬送、観察)の間、ウエ
ハWは常に垂直に保持されているため自重で撓むような
ことがなく、ウエハWの破損を防止することができる。
また、搬送時にはウエハWの基板面を移動方向に対して
平行に保つように移動させるので、空気抵抗によるウエ
ハWの変形に起因する破損を防止することができる。ま
た、このようにウエハWを搬送することにより搬送スピ
ードを従来より増加させることができ、検査プロセスの
効率アップを図ることができる。 (3)ハンド5にウエハWを保持した状態で、マクロ観
察や顕微鏡観察を行うようにしているので、従来のよう
にハンド5と観察ステージとのウエハWの受け渡しが不
要となるため受け渡し回数が減少し、受け渡し時のトラ
ブル(吸着保持エラー、受け渡しミスによるウエハWの
破損など)を低減することができる。 (4)ウエハカセット2とハンド5との間でウエハWを
垂直状態で受け渡しをする際に、アシストプレート7a
によりウエハWの一部をウエハカセット2の上方に押し
出すようにしているため、ハンド5によるウエハWの保
持および観察後のウエハWのウエハカセット2への収納
を確実に行うことができる。
【0029】なお、本実施の形態において、ウエハWの
「垂直」状態とは、厳密に垂直ということではなく、平
面基板であるウエハWが自重で撓むことによる問題が回
避できる程度に「ほぼ垂直」であれば良いことを意味し
ている。同様に、「平行」についても、ウエハWの移動
中の空気抵抗による問題が回避できる程度に「ほぼ並
行」であれば良い。
【0030】上述した実施の形態では、シリコンウエハ
Wを顕微鏡で観察する装置を例に説明したが、これ以外
の装置に用いられる搬送装置や基板ハンドにも本発明を
適用することができる。また、対象物としては、シリコ
ンウエハの他に液晶パネルののガラス基板等があり、基
板の形状(円形、矩形)に関わらず薄い基板の保持・搬
送に効果的である。
【0031】以上説明した実施の形態と特許請求の範囲
の要素との対応において、ウエハWは平面基板を、ハン
ド5は基板ハンドおよび保持手段を、ロボット4は搬送
手段を、ハンド5および搬送ロボット4は搬送装置を、
対物レンズ3aは対物光学系を、ウエハカセット2は基
板カセットを、アシストプレート7aは押し上げ治具
を、垂直駆動部7bは駆動装置を、水平駆動部7dは位
置決め装置をそれぞれ構成する。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、平面基板の縁部を表裏両面から挟むように把持
するので、平面基板に反りが生じても基板ハンドで確実
に保持することができる。請求項2〜請求項4の発明に
よれば、平面基板は常に垂直に保持されているため自重
で撓むようなことがなく、さらに、搬送中は平面基板の
基板面を移動方向に対して平行に保つように移動させる
ので、空気抵抗による平面基板の変形に起因する破損を
防止することができる。特に、請求項4の発明では、対
物光学系の光軸を水平とし、保持手段により垂直保持さ
れた平面基板を顕微鏡で観察するようにしたので、平面
基板の受け渡し回数を減らすことができ、受け渡し時に
おける基板保持エラーや受け渡しミスによる平面基板の
破損などをを低減することができる。請求項5の発明に
よれば、垂直状態で基板カセットに収納された平面基板
を、押し上げ治具により基板カセット上方に突出させる
ことができるので、基板ハンド等により平面基板を基板
カセットから取り出す際に、スムーズに取り出すことが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による検査装置の一実施の形態を示す図
であり、顕微鏡検査装置の概略構成を示す斜視図であ
る。
【図2】ハンド5を詳細に示す図であり、(a)はウエ
ハWを正面から見た図、(b)は(a)のB矢視図、
(c)はハンド5に設けられたフィンガー5aを示す図
である。
【図3】アシスト装置7を示す図であり、(a)は斜視
図、(b)はアシストプレート7aの先端部の断面図。
【図4】ウエハカセット2からウエハ取り出し動作を示
す図であり、(a)〜(c)の順に動作が行われる。
【図5】図4に続くウエハ取り出し動作を示す図であ
り、(a)〜(c)の順に動作が行われる。
【図6】搬送方法を説明する図であり、装置の側面図。
【図7】搬送方法を説明する図であり、装置の平面図。
【図8】ハンド5の変形例を示す図であり、(a)はウ
エハWの正面から見た図、(b)は(a)のD−D断面
図。
【図9】図8のハンド5を用いてウエハカセット2から
ウエハWを取り出す際の動作を説明する図であり、
(a)〜(c)の順に動作が行われる。
【図10】図9に続く動作を示す図であり、(a),
(b)の順に動作が行われる。
【図11】従来の装置におけるウエハ受け渡し動作を説
明する図であり、(a)〜(c)の順に動作が行われ
る。
【符号の説明】
1 顕微鏡検査装置 2 ウエハカセット 3 顕微鏡 3a 対物レンズ 3b 接眼レンズ 4 搬送ロボット 5 ハンド 5a,5f フィンガー 7 アシスト装置 7a アシストプレート 7b 垂直駆動部 7c 水平駆動部 W,W1,W2 ウエハ
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/66 H01L 21/66 J Fターム(参考) 3C007 DS01 ES03 ES09 ET08 EU01 EV07 EV27 EW20 HS27 NS09 NS17 3F061 AA01 BA03 BA09 BB08 BC01 BD04 BE12 BE47 DB04 DB06 DD07 4M106 AA01 BA11 CA38 DG03 DG11 DG18 DG19 5F031 CA02 DA01 FA07 FA11 FA18 GA15 GA16 GA30 GA45 GA47 MA33 PA13 PA18 PA20

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平面基板の保持に使用される基板ハンド
    において、 前記平面基板の縁部をその表裏両面から挟むように把持
    することを特徴とする基板ハンド。
  2. 【請求項2】 平面基板を搬送する搬送装置において、 基板面が鉛直面内に延在するように前記平面基板を垂直
    に保持する保持手段と、 前記保持手段により保持された前記平面基板の基板面を
    移動方向に対して平行に維持しつつ搬送する搬送手段と
    を備えることを特徴とする搬送装置。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の搬送装置において、 請求項1に記載の基板ハンドを前記保持手段として用い
    たことを特徴とする搬送装置。
  4. 【請求項4】 平面基板の外観を観察して検査を行う検
    査装置において、 請求項2または請求項3のいずれかに記載の搬送装置
    と、 対物光学系の光軸が水平となっていて、前記搬送装置の
    保持手段により垂直に保持された前記平面基板を観察す
    る顕微鏡とを備えることを特徴とする検査装置。
  5. 【請求項5】 複数の平面基板を垂直状態で収納する基
    板カセットと、 前記平面基板の基板端面の一部に当接する当接部を有す
    る押し上げ治具と、 前記押し上げ治具を前記基板カセットに収納された各平
    面基板の真下に位置決めする位置決め装置と、 前記押し上げ治具を鉛直上下方向に駆動して前記平面基
    板の一部を前記基板カセットの上方に突出させる駆動装
    置とを備えることを特徴とする平面基板収納装置。
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