JPH02164048A - 半導体試料観察装置 - Google Patents
半導体試料観察装置Info
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- JPH02164048A JPH02164048A JP31976488A JP31976488A JPH02164048A JP H02164048 A JPH02164048 A JP H02164048A JP 31976488 A JP31976488 A JP 31976488A JP 31976488 A JP31976488 A JP 31976488A JP H02164048 A JPH02164048 A JP H02164048A
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- semiconductor
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- semiconductor sample
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 64
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 5
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体試料を観察する半導体試料観察装置
に関するものである。
に関するものである。
従来の半導体試料観察装置を第２図に基づいて説明する
。
。
この半導体試料観察装置は、第２図に示すように、試料
観察用顕微鏡２′と、半導体試料１を保持する試料ステ
ージ３′とを備えている。４′は試料ステージ３′を前
後左右に動かす試料ステージ移動装置を示している。
観察用顕微鏡２′と、半導体試料１を保持する試料ステ
ージ３′とを備えている。４′は試料ステージ３′を前
後左右に動かす試料ステージ移動装置を示している。
この半導体試料観察装置は、試料ステージ３′に保持さ
れた半導体試料ｌの表面を試料観察用顕微鏡２′を介し
矢印１０′の方向から観察する。
れた半導体試料ｌの表面を試料観察用顕微鏡２′を介し
矢印１０′の方向から観察する。
このとき、試料ステージ移動装置４′により試料ステー
ジ３′を前後左右に移動させ、半導体試料ｌの所望の位
置を観察している。
ジ３′を前後左右に移動させ、半導体試料ｌの所望の位
置を観察している。
しかし、従来の半導体試料観察装置においては、半導体
試料１が水平に配置されるため、半導体試料ｌの観察中
に、第２図に示すように、空気中の埃や観察者の動作に
より発生する異物１５が半導体試料１の表面に落下し付
着するという問題があった。これは、超微細加工が最大
の要点となる半導体装置製造において大きな問題となり
、歩留が大幅に低下する要因になるという問題があった
。
試料１が水平に配置されるため、半導体試料ｌの観察中
に、第２図に示すように、空気中の埃や観察者の動作に
より発生する異物１５が半導体試料１の表面に落下し付
着するという問題があった。これは、超微細加工が最大
の要点となる半導体装置製造において大きな問題となり
、歩留が大幅に低下する要因になるという問題があった
。
したがって、この発明の目的は、半導体試料観察中の埃
や異物の付着を大幅に減少させることができ、歩留の向
上を図ることのできる半導体試料観察装置を提供するこ
とである。
や異物の付着を大幅に減少させることができ、歩留の向
上を図ることのできる半導体試料観察装置を提供するこ
とである。
この発明の半導体試料観察装置は、半導体試料の表面を
観察するための試料観察用顕微鏡と、表面が垂直になる
ように半導体試料を保持する試料ステージとを備えた構
成としている。
観察するための試料観察用顕微鏡と、表面が垂直になる
ように半導体試料を保持する試料ステージとを備えた構
成としている。
この発明の構成によれば、試料ステージにより半導体試
料の表面を垂直方向保持し、半導体試料の表面を試料観
察用顕微鏡で観察するようにしたので、半導体試料の表
面の観測時において、空気中の埃や作業者の動作により
発生する異物の半導体試料表面への落下がなくなり、埃
や異物の半導体試料表面への付着が大幅に減少する。
料の表面を垂直方向保持し、半導体試料の表面を試料観
察用顕微鏡で観察するようにしたので、半導体試料の表
面の観測時において、空気中の埃や作業者の動作により
発生する異物の半導体試料表面への落下がなくなり、埃
や異物の半導体試料表面への付着が大幅に減少する。
この発明の半導体試料観察装置の一実施例を第１図に基
づいて説明する。
づいて説明する。
この半導体試料観察装置は、第１図に示すように、試料
観察用顕微鏡２と試料ステージ３とを備え、試料ステー
ジ３がウェハからなる半導体試料１を垂直姿勢に保持す
る。さらに、この半導体試料観察装置は、試料ステージ
３を矢印ａ、ｂに示すように、上下左右および前後に移
動させる試料ステージ移動装置４と、半導体試料１を収
納するカセット５と、カセット５を載せて移動するカセ
ット台６と、カセット台６を矢印Ｃの方向に移動させる
カセット台移動装置７と、半導体試料ｌを下方から保持
し試料ステージ３へ搬送する試料搬送袋ｒ！１８と、試
料搬送装置８を上下に移動する試料搬送駆動装置９と、
エアーフィルタ１１と、多数の排気孔１４を設けた台１
３とを備えている。
観察用顕微鏡２と試料ステージ３とを備え、試料ステー
ジ３がウェハからなる半導体試料１を垂直姿勢に保持す
る。さらに、この半導体試料観察装置は、試料ステージ
３を矢印ａ、ｂに示すように、上下左右および前後に移
動させる試料ステージ移動装置４と、半導体試料１を収
納するカセット５と、カセット５を載せて移動するカセ
ット台６と、カセット台６を矢印Ｃの方向に移動させる
カセット台移動装置７と、半導体試料ｌを下方から保持
し試料ステージ３へ搬送する試料搬送袋ｒ！１８と、試
料搬送装置８を上下に移動する試料搬送駆動装置９と、
エアーフィルタ１１と、多数の排気孔１４を設けた台１
３とを備えている。
そして、半導体試料ｌの表面を観察する場合に、観察者
は、試料搬送駆動装置９により試料搬送装置８を上方向
に移動させる。試料搬送袋２Ｂは、カセット５に収納さ
れた観察する半導体試料１の下方を保持し、試料ステー
ジ３まで搬送する。試料ステージ３まで搬送された半導
体試料ｌは、試料ステージ３に備えられた真空チャック
（図示せず）等により試料ステージ３に吸着され、半導
体試料１の表面が垂直に保持される。そして、矢印ｌＯ
の方向から試料観察用顕微鏡２を介し半導体試料１の表
面の観察を行う、このとき、試料搬送装置８は不要とな
るため、試料搬送駆動装置９により下方向に移動され元
の位置に戻されている。
は、試料搬送駆動装置９により試料搬送装置８を上方向
に移動させる。試料搬送袋２Ｂは、カセット５に収納さ
れた観察する半導体試料１の下方を保持し、試料ステー
ジ３まで搬送する。試料ステージ３まで搬送された半導
体試料ｌは、試料ステージ３に備えられた真空チャック
（図示せず）等により試料ステージ３に吸着され、半導
体試料１の表面が垂直に保持される。そして、矢印ｌＯ
の方向から試料観察用顕微鏡２を介し半導体試料１の表
面の観察を行う、このとき、試料搬送装置８は不要とな
るため、試料搬送駆動装置９により下方向に移動され元
の位置に戻されている。
半導体試料１の表面の観察が終了すると、再度、試料搬
送駆動装置９により試料搬送装置８を試料ステージ３の
位置まで移動させ、半導体試料１を下方から保持する。
送駆動装置９により試料搬送装置８を試料ステージ３の
位置まで移動させ、半導体試料１を下方から保持する。
そして、試料ステージ３の真空チャックの真空を切るこ
とにより、半導体試料１を試料ステージ３から取り外し
、試料搬送装置８を下方に移動させ、観察した半導体試
料１をカセット５に収納する。さらに、次の半導体試料
１を観察する場合には、カセット台移動装置７によりカ
セット台６を移動させて、目的の半導体試料１を試料搬
送装置８上に配置する。以下、上記と同様に動作を行い
半導体試料ｌの表面の観察を行う。
とにより、半導体試料１を試料ステージ３から取り外し
、試料搬送装置８を下方に移動させ、観察した半導体試
料１をカセット５に収納する。さらに、次の半導体試料
１を観察する場合には、カセット台移動装置７によりカ
セット台６を移動させて、目的の半導体試料１を試料搬
送装置８上に配置する。以下、上記と同様に動作を行い
半導体試料ｌの表面の観察を行う。
このように、この半導体試料観察装置は、試料ステージ
３により半導体試料１を垂直姿勢に保持し、試料観察用
顕微鏡２により半導体試料ｌの表面を観察するようにし
たので、半導体試料ｌの観察時に、空気中からの埃や観
察者の動作により発生ずる異物の半導体試料１の表面へ
の落下がなく、清浄な半導体試料１の観察を行うことが
でき、半導体試料１の表面への埃や異物の付着を大幅に
減少させることができ、歩留の向上を図ることができる
。
３により半導体試料１を垂直姿勢に保持し、試料観察用
顕微鏡２により半導体試料ｌの表面を観察するようにし
たので、半導体試料ｌの観察時に、空気中からの埃や観
察者の動作により発生ずる異物の半導体試料１の表面へ
の落下がなく、清浄な半導体試料１の観察を行うことが
でき、半導体試料１の表面への埃や異物の付着を大幅に
減少させることができ、歩留の向上を図ることができる
。
また、この実施例の半導体試料観察装置においては、試
料観察用顕微鏡２および試料ステージ３の上方にエアー
クリーナ１１を設け、装置下部の台１３に排気孔１４を
設けて、エアークリーナ１１から清浄な空気を下方向に
吹き出し、排気孔１４からエアークリーナ１１から吹き
出した空気をそのまま逃すようにしたので、装置内の空
気を清浄に保つことができ、より清浄な半導体試料ｌの
観察を行うことができ、より一層の歩留の向上を図るこ
とができる。
料観察用顕微鏡２および試料ステージ３の上方にエアー
クリーナ１１を設け、装置下部の台１３に排気孔１４を
設けて、エアークリーナ１１から清浄な空気を下方向に
吹き出し、排気孔１４からエアークリーナ１１から吹き
出した空気をそのまま逃すようにしたので、装置内の空
気を清浄に保つことができ、より清浄な半導体試料ｌの
観察を行うことができ、より一層の歩留の向上を図るこ
とができる。
この発明の半導体試料観察装置は、試料ステージにより
半導体試料の表面を垂直に保持し、試料観察用顕微鏡に
より半導体試料の表面を観察する構成としたので、半導
体試料の表面の観測時に、半導体試料の表面への埃や異
物の落下がなくなり、半導体試料表面への埃や異物の付
着を大幅に減少させることかでき、歩留の向上を図るこ
とができる。
半導体試料の表面を垂直に保持し、試料観察用顕微鏡に
より半導体試料の表面を観察する構成としたので、半導
体試料の表面の観測時に、半導体試料の表面への埃や異
物の落下がなくなり、半導体試料表面への埃や異物の付
着を大幅に減少させることかでき、歩留の向上を図るこ
とができる。
第１図はこの発明の構成を示す概略図、第２図は従来の
半導体試料観察装置の概略図である。 １・・・半導体試料、２・・・試料観察用顕微鏡、３・
・・試料ステージ
半導体試料観察装置の概略図である。 １・・・半導体試料、２・・・試料観察用顕微鏡、３・
・・試料ステージ
Claims (1)
- 半導体試料の表面を観察するための試料観察用顕微鏡と
、前記表面が垂直になるように前記半導体試料を保持す
る試料ステージとを備えた半導体試料観察装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31976488A JPH02164048A (ja) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | 半導体試料観察装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31976488A JPH02164048A (ja) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | 半導体試料観察装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02164048A true JPH02164048A (ja) | 1990-06-25 |
Family
ID=18113919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31976488A Pending JPH02164048A (ja) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | 半導体試料観察装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02164048A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001237306A (ja) * | 2000-02-25 | 2001-08-31 | Nikon Corp | 基板ハンド、搬送装置、検査装置および平面基板収納装置 |
-
1988
- 1988-12-19 JP JP31976488A patent/JPH02164048A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001237306A (ja) * | 2000-02-25 | 2001-08-31 | Nikon Corp | 基板ハンド、搬送装置、検査装置および平面基板収納装置 |
| JP4538883B2 (ja) * | 2000-02-25 | 2010-09-08 | 株式会社ニコン | 平面基板観察装置 |
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