JPH04154145A - 半導体ウェハ処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

この発明は、搬送装置によって処理済の半導体ウェハ（
以下、ウェハという）を処理室からカセットに搬送、収
納するとともに、カセットの処理前ウェハを処理室に搬
入、セントして処理をおこなう装置であって、とくに搬
送時間の短縮ないし搬送効率の向上が図れ、搬送装置、
カセット間のウェハ受渡しの自動化が容易になる半導体
ウェハ処理装置に関する。

【従来の技術】

従来例について以下に図面を参照しながら説明する。最
初に装置全体について、次に主要部分である出入装置に
ついてそれぞれ説明する。 第５図は従来例の平面図、第６図は同しくその側面図で
ある。これらの図面において、３１はウェハに対する処
理室で、真空状態にされ、その内部に、ウェハが取付治
具２１によって円周上に配置して取り付けられ、ゆるや
かに回転できる円板状処理盤７が設置される。なお、斜
線の隈取り部分け処理設備を表す。 ３２は搬送・カセット室で、真空状態にされ、その内部
に、ウェハ２０を収納する２個の汎用カセット４０と、
この各カセット４０の交換用で、交換盤３７で代表され
る交換装置と、この交換盤３７に対応して設けられ、各
カセット４０からウェハを、保持枠４２によって１個ず
つ選択的に出し入れする出入装置４９（第６図参照）と
、各カセット４０と処理室３１との間のウェハ搬送をお
こなう搬送装置８とが設置される。この搬送装置８には
、ウェハ用の把持装置２２が取り付けられる。なお、出
入装置４９については、詳しく後述する。 ３３は予備室で、置台３８と移送装置３９とが設置され
、カセット４０を外部から搬入したり、外部に搬出した
りするときの仮置き用に使用され、真空状態と大気状態
とに切り替えられる。 扉３４が、処理室３１と搬送・カセット室３２との間に
、扉３５が、搬送・カセット室３２と予備室３３との間
にそれぞれ設けられ、また扉３６が、予備室３３の外壁
に設けられる。 出入装置４９について、以下の図面を参照しながら説明
する。第７図はその要部の正面図、第８図は同じくその
側面図である。出入装置４９は、カセット４０に収納さ
れたウェハ２ｏを選択的に１個ずつ、受渡し箇所まで押
し上げ、取り出して搬送装置８へ渡し、または搬送装置
８から受渡し箇所で受は取った後、カセット４００所定
収納空間に収納する。 第７図、第８図において、カセット４０は、基枠１８の
上段の棚部に設置される。ウェハ２０のカセット４０か
らの出し入れは、帯状保持板４１と、Ｕ字状保持枠４２
との連動的な昇降動作によってこなわれる。すなわち、
保持板４１は、Ｕ字状移動枠１４の底辺部の中央で、ま
た保持枠４２は、移動枠１４の両側の各脚部の上端部内
側で、それぞれ符号を付けてないローラによって昇降可
能に案内される。 初期に保持枠４２は、第７図の一点鎖線の位置にあり、
まず保持板４１が、その上昇によって、その先端部に形
成されたＶ溝でウェハ２０を受けながら押し上げ、この
ウェハ２０は第７図の破線表示位置からカセット４０の
上端外方に出て、保持枠４２の各脚部の端部に形成され
た■溝で受けられる。この段階で、ウェハ２０は、その
中心部左右近傍と下部との３箇所で保持され、この状態
を維持しつつ、保持板４１と保持枠４２との当接に基づ
く一体的な上昇動作によって、さらに押し上げられて実
線表示位置の受渡し箇所に達する。 搬送装置側にウェハ２０を渡した（搬送装置側が把持し
た）後に、保持板４１．保持枠４２は前記と逆な順序で
下降、復帰する。なお当然ながら、搬送装置側の把持箇
所は、保持板４１．保持枠４２の各■溝の箇所を避けて
あり、保持板４１゜保持枠４２が下降して、その各■溝
がウェハ２０から外れてからでないと、搬送装置側は、
搬送動作を開始することができない。 搬送装置側からウェハ２０を受は取り、カセット４０に
収納するときには、まず保持板４１．保持枠４２が、第
７図の実線表示位置まで上昇してウェハ２０を前記の■
溝で保持した後、下降、復帰してウェハ２０をカセット
４０に収納する。ここで、搬送装置側は、保持板４１．
保持枠４２の各■溝がウェハ２０から外れてからでない
と戻り動作を開始できない。 ウェハ２０の選択は、２個の案内軸１５で直進可能に案
内される移動枠１４が、送りネジ１６によって横方向、
つまりウェハ２０の収納配列の方向に移動し、位置決め
されることによる。なお、送りネジ１６の回転は、基枠
１８の右側板（第８図参照）に取り付けられるモータ４
４による。移動枠１４の昇降動作は、それが横方向のど
の位置にあっても、アクチュエータ４５によって上下駆
動され、共通な水平面をもつ昇降台１７（第８図参照）
との当接による。 この従来例の動作は次のとおりである。第５図。 第６図において、 （１）最初に、処理前ウエノ＼２０の規定数を収納した
２個の汎用カセット４０が、交換盤３７に設置される。 すなわち、扉３５を密閉した状態で、扉３６を開いてま
ず１番目のカセットを、移送装置３９によって外部から
置台３８に移送、載置する。 扉３６を密閉した後、予備室３３を真空状態にしてから
、扉３５を開いて１番目のカセ・ントを交換盤３７に設
置する。交換盤３７を半回転した後、２番目のカセット
についても同様の工程をとる。 （２）１番目のカセットに収納された規定数の処理前ウ
ェハを、処理室３１に搬入しセ・ン卜する。すなわち、
扉３５を密閉し、搬送装置８の把持装置２２によってウ
ェハを１個ずつ把持し、扉３４を通って処理室３１に搬
入し、処理盤７の取付治具２１に取り付ける。 （３）取付けが終了したら、扉３４を密閉し、処理をお
こなう。 （４）処理済ウェハを１番目のカセットに戻し、２番目
のカセットの処理前ウェハを処理室に搬入。 セントする。すなわち、処理が終了したら、処理済ウェ
ハを１個ずつ搬送装置８によって１番目のカセットの元
の収納空間に戻し、交換盤３７を半回転して後、２番目
のカセットの処理前ウェハを把持して処理室に搬入、セ
ットする。これを全てのウェハについて繰り返す。この
方式では、搬送袋Ｗ８は往路、復路の各行程でウェハを
積載している。ここで、搬送装置側と出入装置側とのウ
ェハの受渡しについては、既に出入装置のところで説明
しであるとおりである。 なお、この工程として、別の方式をとることができる。 すなわち、処理済ウェハを順次すべて１番目のカセット
に戻し、交換盤３７を半回転して後、２番目のカセット
の処理前ウェハを順次すべて処理室に搬入、セットする
。この方式では、搬送装置８は往路、復路の各行程のい
ずれか一方でだけウェハを積載し、他方では空搬送にな
る。 実際には、前者の方式が用いられる。それは、搬送装置
に、往路、復路の各行程でウェハを積載させるようにし
た方が、１個のウェハの戻しの度に交換盤を半回転させ
ても時間的に有利になるからである。 （５）扉３４を密閉して処理を開始する。同時に、これ
と並行して処理済ウェハのカセット１個を外部に搬出し
、その後に新たな処理前ウェハを収納したカセット１個
を搬入する。以降、各工程（４）。 （５）を繰り返し、最後の処理済ウェハのカセット１個
を外部に搬出して終了になる。

【発明が解決しようとする課題】

以上説明したような従来の技術では、次のような問題点
がある。 その第１は、各箇所で待ち時間が発生し、全体的に搬送
時間が多くなることである。すなわち、工程（４）にお
いて、処理済ウェハ１個をカセットに戻し、処理前ウェ
ハ１個を把持するまでの間に、交換盤を半回転させるに
要する時間に対応して待ち時間が発生する。この待ち時
間に、ウェハの規定数を乗じた時間が全体の待ち時間と
なる。別の方式のときには、既に述べたように、交換盤
を半回転させるに要する時間は、１回だけですむが、搬
送装置が、往路、復路の各行程のいずれか一方でだけウ
ェハを積載し、他方では空搬送になって搬送効率が低下
する。言いかえれば、往復回数が２倍になって、最初の
方式より結果的に搬送時間が多くなって不利である。 また別の待ち時間が、既に述べたように、搬送装置側と
出入装置側とのウェハの受渡しのときに発生する。まず
、ウェハを出入装置側から搬送装置側に渡すとき、搬送
装置は、ウェハを受は取った後、出入装置側の保持板、
保持枠が下降し退避するまでは戻り動作を開始できない
、つまり待ち時間が発生する。また、ウェハを搬送装置
側から出入装置側に渡すとき、搬送装置が受渡し箇所に
到達して後に、出入装置側の保持板、保持枠が退避位置
から上昇してくるため、この上昇時間だけの待ち時間が
発生する。 問題点の第２は、搬送装置、カセット間のウェハ受渡し
の自動化が比較的やり難いことである。 これは、カセットが汎用形であるため、必ずしも自動化
に必要な、または好都合な形状や、寸法精度でないこと
による。 問題点の第３は、２個の汎用カセットが搬入されるので
、搬送・カセット室が広くなり、装置の大形化につなが
ることである。 問題点の第４は、受渡しのとき、ウェハと出入装置側の
保持板、保持枠の保持部との擦れが避けられず、ウェハ
が損傷を受け、品質低下のおそれがあることである。 この発明の課題は、従来の技術がもつ以上の問題点を解
消し、主として搬送時間の短縮ないし搬送効率の向上が
図れ、搬送装置、カセット間のウェハ受渡しの自動化が
容易になる半導体ウェハ処理装置を提供することにある
。

【課題を解決するための手段】

この課題を解決するために、請求項１に係る半導体ウェ
ハ処理装置は、 真空状態の処理室に第１の扉を介して接続され、ウェハ
用搬送装置が設置される真空状態の搬送室と； この搬送室に第２の扉を介して接続され、規定数を趙え
る個数のウェハ用収納空間を保有する専用カセットと、
前記各収納空間に対して１個ずつのウェハを選択的に出
し入れする出入装置とが設置され、前記専用カセットの
搬入、搬出がおこなわれる第３の扉が外壁に設けられる
真空可能なカセット室と；を備え、 前記第２扉の密閉状態で、前記規定数の処理前ウェハが
収納された前記専用カセットが、外部から前記カセット
室に前記第３扉を通り搬入されて前記出入装置に対して
セットされ、 次に、前記第３扉が密閉され、前記カセット室が真空状
態にされた後、前記処理室の処理済ウェハの取り外され
た１個が、前記搬送装置によって前記第１扉を通り搬出
されて前記第２扉を通り前記専用カセットの空の収納空
間に収納され、次に、前記出入装置によって前記専用カ
セットから１個だけ取り出された処理前ウェハが、前記
搬送装置によって前記処理室に前記第１．第２の各界を
通り搬入されてセットされ、 前記処理済ウェハの専用カセットヘの収納と、前記処理
前ウェハの処理室へのセットとの各工程が繰り返されて
前記処理室に前記規定数の処理前ウェハがセットされ、
また前記専用カセットに前記規定数の処理済ウェハが収
納された後、前記第１゜第２の各界が密閉されてから、
前記処理室での処理が開始されるとともに前記第３１ｉ
が開かれ、これを通り前記処理済ウェハを収納した専用
カセットが搬出される。 請求項２に係る半導体ウェハ処理装置は、請求項１に記
載の装置において、出入装置では、弾性をもつ直線状毛
体の束からなるウェハ用保持部の複数個、たとえば請求
項３のように３個が、ウェハ外周に対応する閉ループ上
の各所定位置、たとえばほぼ中心部の左右および下の３
箇所において、前記各毛体の方向をウェハ面と平行にし
て配置され、保持されるべきウェハが、その面と直角ま
たは平行に前記保持部に対し相対的に接近移動し、この
保持部にその各毛体を弾性変形させながら分け入る形で
挿入されると、そのウェハは、前記保持部の各毛体の弾
性力によって保持される。

【作用】

請求項１に係る半導体ウェハ処理装置では、第２扉の密
閉状態で、規定数の処理前ウェハが収納された専用カセ
ットが、外部からカセット室に第３扉を通り搬入されて
出入装置に対してセットされ、 次に、第３扉が密閉され、カセット室が真空状態にされ
た後、処理室の処理済ウェハの取り外された１個が、搬
送装置によって第１扉を通り搬出されて第２扉を通り専
用カセットの空の収納空間に収納され、 次に、出入装置によって専用カセットから１個だけ取り
出された処理前ウェハが、搬送装置によって処理室に第
１．第２の各界を通り搬入されてセットされ、 処理済ウェハの専用カセットヘの収納と、処理前ウェハ
の処理室へのセットとの各工程が繰り返されて処理室に
規定数の処理前ウェハがセットされ、また専用カセット
に規定数の処理済ウェハが収納された後、第１．第２の
各界が密閉されてから、処理室での処理が開始されると
ともに第３扉が開かれ、これを通り処理済ウェハを収納
した専用カセットが搬出される。 請求項２に係る半導体ウェハ処理装置では、ウェハが、
その面と直角または平行に保持部に対し相対的に接近移
動し、保持部にその各毛体を弾性変形させながら分け入
る形で挿入されると、ウェハは、その外周部で保持部の
各毛体の弾性力によって保持される。

【実施例】

実施例について以下に図面を参照しながら説明する。最
初に装置全体について、次に主要部分である出入装置に
ついてそれぞれ説明する。 第１図は実施例の平面図、第２図は同じくその側面図で
ある。これらの図面において、■はウェハに対する処理
室で、真空状態にされ、その内部に設置される処理盤７
．取付治具２１は従来例におけるのと同じである。 ２は搬送室で、真空状態にされ、その内部に、ウェハ搬
送をおこなう搬送装置８が設置され、これには、把持装
置２２が取り付けられる。 ３はカセット室で、内部にウェハ用の専用カセット１０
の１個と、これに対応して設けられ、専用カセット１０
からウェハ２０を、保持部１３によって１個ずつ選択的
に出し入れする出入装置９とが設置され、内部は真空状
態と大気状態とに切り替えられる。専用カセット１０は
、基本的には汎用カセットと同様な形状、構造であるが
、ウェハ収納空間の個数が規定数より１個だけ多（しで
ある。一般には、ウェハ収納空間の個数が、規定数を超
えていればよい。また、専用カセット１０は、出入装置
９との関連で自動化を容易にするため、各部の寸法精度
を上げたり、または部分的に形状や構造を変更し、必要
に応じて各種センサ、たとえばウェハの収納、取出し検
知や、出入装置側の動作に係る検知のためのセンサを設
けることがある。なお、出入装置９については、詳しく
後述する。 扉４が、処理室１と搬送室２との間に、扉５が、搬送室
２とカセット室３との間にそれぞれ密閉可能に設けられ
、また扉６が、カセット室３の外壁に設けられる。 出入装置９について、以下の図面を参照しながら説明す
る。第３図はその要部の正面図、第４図は同じくその側
面図である。この出入装置９が従来例における出入装置
４９と異なる点は、ウェハ２０を保持する部分の構造に
ある。したがって、従来例と共通な部分については同じ
符号を付け、説明を省略する。 第３図において、帯状の保持板１１の上端部と、Ｕ字状
の保持枠１２の各脚部の先端部との合計３箇所に、保持
部１３が取り付けられる。この保持部１３は、弾性をも
つ直線状毛体の束からなる、いわばブラシ状の部材であ
る。各保持部１３は、ウェハ２０が保持板１１と保持枠
１２とによって保持されたとき、ウェハ２０の中心部の
左右両側より若干上の箇所と、下端部の箇所とを保持す
るように位置決めされる。しかも、保持部１３は、保持
板１１では毛体の方向が垂直に配列され、保持板１２で
は毛体の方向が水平に配列されている。 この保持部１３の働きは、次のとおりである。 ウェハ２０が、その面と直角または平行に保持部１３に
対し相対的に接近移動すると、この保持部１３にその各
毛体を弾性変形させながら分け入るように挿入されるだ
けで、ウェハ２０は、保持部１３の各毛体の弾性力によ
って保持される。また、解放させるときは、ウェハ２０
を、その面と直角または平行に保持部１３から隔離させ
るだけでよい。 要するに、ウェハを保持、解放するための動作が極めて
簡単であり、これに関連して、ウェハを受渡しする相手
側つまり搬送装置側に対し、たとえば待たせる等の動作
の制約をすることがない。 しかも保持部１３が、弾性をもつ毛体の東で構成される
から、この各毛体との擦れによって、ウェハが損傷を受
けるおそれがない。なお、搬送装置側と、出入装置側と
のウェハ受渡しの動作については、次に詳しく説明する
。 まず、出入装置側から搬送装置側ヘウエハが渡されると
きについて述べる。第３図において、初期に保持枠１２
は、−点Ｍ線表示の位置にある。 まず保持板１１は、その上昇によって、その先端の保持
部１３でウェハ２０を保持しながら押し上げ、このウェ
ハ２０は破線表示位置からカセット１０の上端外方に出
て、保持枠１２の各脚部の端部にある保持部１３で受け
られ保持される。この段階で、ウェハ２０は、その中央
部左右近傍と下部との３箇所で保持され、この状態を維
持しつつ、保持板１１と保持枠１２との当接に基づく一
体的な上昇動作によって、さらに押し上げられて実線表
示位置の受渡し箇所に達する。 ここで重要なことは、搬送装置側がウェハ２０を把持し
たら、直ぐ搬送動作を開始できることである。つまり、
搬送装置側は、従来例におけるように、出入装置側の保
持板１１．保持枠１２が下降し退避するまで待つ必要が
ない。このような待ちをしなくて済むのは、毛体の束か
らなる保持部１３の働きである。 逆に、搬送装置側から出入装置側ヘウエハ２゜を受は取
り、専用カセット１ｏに収納するときには、まず保持板
１１．保持枠１２が、第３図の実線表示位置まで上昇し
、受渡し箇所に位置する搬送装置側のウェハ２０を保持
部１３で保持したら直ぐ、搬送装置側が戻り動作を開始
することができる。つまり、搬送装置側は、従来例にお
けるように、出入装置側の保持板１１．保持枠１２が下
降し退避するまで待つ必要がない。 この実施例の動作は次のとおりである。第１図。 第２図において、 （１）最初に、処理前ウェハ２０の規定数を収納し、１
個分の収納空間を余分にもつ１個の専用カセット１０を
、カセット室３に搬入、設置する。すなわち、扉５を密
閉した状態で、扉６を開いて外部から専用力セラ）１０
を搬入し、出入装置９に対応した位置に設置した後、扉
６を閉じる。 （２）専用カセット１０に収納された規定数の処理前ウ
ェハを、処理室１に搬入しセットする。すなわち、扉４
を密閉し、扉５を開いた後、搬送装置８の把持装置２２
によってウェハを１個把持して搬送し、扉５を密閉して
から、扉４を通って処理室ｌに搬入し、処理盤７の取付
治具２Ｉに取り付ける。以上の工程を規定数のウェハに
対して繰り返す。 （３）取付けが終了したら、扉４を密閉し、処理をおこ
なう。 （４）処理済ウェハを専用カセット１０に戻すとともに
、専用カセット１０の処理前ウェハを処理室に搬入、セ
ットする。すなわち、処理が終了したら、処理済ウェハ
を１個ずつ搬送装置８によって専用カセット１０の１個
の余分の収納空間に戻すとともに、処理前ウェハの１個
を把持して処理室に搬入、セットする。これを規定敷金
てのウェハについて繰り返す。つまり、搬送装置８は往
路。 復路の各行程でウェハを積載している。ここで、搬送装
置側と出入装置側とのウェハの受渡しについては、既に
第３図、第４図で説明しであるとおりであるから、ここ
での説明は省略する。 （５）扉４を密閉して処理を開始する。同時に、これと
並行し、扉５が密閉された状態で、カセット室３を大気
状態にした後に扉６を開き、処理済ウェハの専用力セン
ト１０を外部に搬出し、代わりに新たな処理前ウェハを
収納した別の専用カセット１０を外部から搬入し、出入
装置９に対応して設置する。以降、各工程（４）、　（
５）を繰り返し、最後の処理済ウェハの専用カセット１
０を外部に搬出して終了になる。

【発明の効果】

請求項１または２に係る半導体ウェハ処理装置では共通
的に、第２扉の密閉状態で、規定数の処理前ウェハが収
納された専用カセットが、外部からカセット室に第３扉
を通り搬入されて出入装置に対してセットされ；次に、
第３扉が密閉され、カセット室が真空状態にされた後、
処理室の処理済ウェハの取り外された１個が、搬送装置
によって第１扉を通り搬出されて第２扉を通り専用カセ
ットの空の収納空間に収納され；次に、出入装置によっ
て専用力セントから１個だけ取り出された処理前ウェハ
が、搬送装置によって処理室に第１゜第２の各界を通り
搬入されてセントされ；処理済ウェハの専用カセットヘ
の収納と、処理前ウェハの処理室へのセットとの各工程
が繰り返されて処理室に規定数の処理前ウェハがセント
され、また専用カセットに規定数の処理済ウェハが収納
された後、第１．第２の各界が密閉されてから、処理室
での処理が開始されるとともに第３扉が開かれ、これを
通り処理済ウェハを収納した専用カセットが搬出される
。その結果、 （１）　　Ｉｌｌｌｌ開時間縮、または搬送効率の向上
が図れる。その理由は、■処理済ウェハを専用カセット
の空の収納空間に収納することと、同じ専用カセットか
ら処理前ウェハを取り出すこととの間に待ち時間がない
、■処理室と専用カセットとの間の搬送装置の往路、復
路の各行程ともウェハが積載されており、空搬送がない
□からである。 （２）従来の汎用カセットの代わりに、専用カセットを
用いることによって、自動化が容易になる。 その理由は、■カセット自体と周辺部との加工精度を高
めることができる、■同じくその形状３寸法が自由に変
更できる、■必要に応じ、ウェハや出入装置の位置、接
触に係る各種センサを組み込むことができる　　からで
ある。 （３）その他の効果として、■従来例における予備室が
不要になり、関連してカセット移送装置も不要になる、
■装置内に搬入されるのが専用カセット１個だけでよい
から、搬送室とカセット室との合計スペースを小さくで
きる、■前項に関連し、処理前ウェハ用、処理済ウェハ
用の各カセットに係る交換装置が不要になる、■全体的
に構造の簡単化に基づき、コストの低減と、動作の信転
性向上とが図れる。 請求項２に係る半導体ウェハ処理装置ではとくに、ウェ
ハが、面と直角または平行に保持部に対し相対的に接近
移動し、保持部にその各毛体を弾性変形させながら分け
入る形で挿入されると、ウェハは、その外周部で保持部
の各毛体の弾性力によって保持される。その結果、 （１）搬送時間が短縮できる。その理由は、■専用カセ
ットからウェハを搬送装置側に渡すときには、搬送装置
は、保持部に挿入、保持され受渡し箇所に待機中のウェ
ハを把持後すぐ、つまり従来例におけるように保持部の
退避移動終了まで待つことなく、後続の搬送動作を開始
できる、■搬送装置側からウェハを専用カセットに収納
するときには、受渡し箇所に搬送装置が到達した後すぐ
、その箇所に待機中の保持部にウェハを渡すことができ
る（従来例では、保持部は、搬送装置の到達時には退避
している必要があるから、搬送装置は、その受渡し箇所
に到達後、保持部にウェハを渡すまで、保持部が受渡し
箇所に移動する時間だけ待たなければならない）　　か
らである。 （２）搬送装置と保持部との間でのウェハ受渡し動作に
、ウェハと保持部との擦れか弱いから、ウェハが損傷を
受けるおそれがなく、ウェハの品質維持が図れる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る実施例の平面図、第２図は同じく
その側面図、 第３図は実施例における出入装置の要部の正面図、第４
図は同じくその側面図、 第５図は従来例の平面図、 第６図は従来例の側面図、 第７図は従来例における出入装置の要部の正面図、第８
図は同じくその側面図である。 符号説明 １：処理室、１ｍ送室、３：カセット室、４．５，６：
扉、７：処理盤、８：搬送装置、９：出入装置、１０：
専用カセット、 １１：保持板、１２：保持枠、１３：保持部、１４：移
動枠、１５：案内軸、１６：送りネジ、１７：上昇台、
１８：基枠、２０：ウェハ、２１：取付治具、２２：把
持装置。 拓コ 図 拓２図 拓３閃 第４図 拓５図 拓６図 第７図 拓８０

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）真空状態の処理室に第１の扉を介して接続され、半
   導体ウェハ（以下、ウェハという）用搬送装置が設置さ
   れる真空状態の搬送室と； この搬送室に第２の扉を介して接続され、規定数を超え
   る個数のウェハ用収納空間を保有する専用カセットと、
   前記各収納空間に対して１個ずつのウェハを選択的に出
   し入れする出入装置とが設置され、前記専用カセットの
   搬入、搬出がおこなわれる第３の扉が外壁に設けられる
   真空可能なカセット室と；を備え、 前記第２扉の密閉状態で、前記規定数の処理前ウェハが
   収納された前記専用カセットが、外部から前記カセット
   室に前記第３扉を通り搬入されて前記出入装置に対して
   セットされ、 次に、前記第３扉が密閉され、前記カセット室が真空状
   態にされた後、前記処理室の処理済ウェハの取り外され
   た１個が、前記搬送装置によって前記第１扉を通り搬出
   されて前記第２扉を通り前記専用カセットの空の収納空
   間に収納され、 次に、前記出入装置によって前記専用カセットから１個
   だけ取り出された処理前ウェハが、前記搬送装置によっ
   て前記処理室に前記第１、第２の各扉を通り搬入されて
   セットされ、 前記処理済ウェハの専用カセットヘの収納と、前記処理
   前ウェハの処理室へのセットとの各工程が繰り返されて
   前記処理室に前記規定数の処理前ウェハがセットされ、
   また前記専用カセットに前記規定数の処理済ウェハが収
   納された後、前記第１、第２の各扉が密閉されてから、
   前記処理室での処理が開始されるとともに前記第３扉が
   開かれ、これを通り前記処理済ウェハを収納した専用カ
   セットが搬出される構成にしたことを特徴とする半導体
   ウェハ処理装置。 ２）請求項１に記載の装置において、出入装置では、弾
   性をもつ直線状毛体の束からなるウェハ用保持部の複数
   個が、ウェハ外周に対応する閉ループ上の各所定位置に
   おいて、前記各毛体の方向をウェハ面と平行にして配置
   され、保持されるべきウェハが、その面と直角または平
   行に前記保持部に対し相対的に接近移動し、この保持部
   にその各毛体を弾性変形させながら分け入る形で挿入さ
   れると、そのウェハは、前記保持部の各毛体の弾性力に
   よって保持される構成にしたことを特徴とする半導体ウ
   ェハ処理装置。 ３）請求項２に記載の装置において、保持部は、ウェア
   外周に対応する閉ループ上の、ほぼ中心部の左右および
   下の３箇所に配置されてなることを特徴とする半導体ウ
   ェハ処理装置。