JPH1045705A - 光学活性なアシルスルホンアミド類の製造法 - Google Patents

光学活性なアシルスルホンアミド類の製造法

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JPH1045705A
JPH1045705A JP8208346A JP20834696A JPH1045705A JP H1045705 A JPH1045705 A JP H1045705A JP 8208346 A JP8208346 A JP 8208346A JP 20834696 A JP20834696 A JP 20834696A JP H1045705 A JPH1045705 A JP H1045705A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 カルボニル基のα位にオキシ基置換された不
斉炭素を有するアシルスルホンアミド誘導体の製造法。 【解決手段】 α位オキシ基置換不斉炭素を有する、一
般式(III): 【化1】 で表わされる光学活性なカルボン酸に、塩素化剤1〜2
当量を不活性溶媒中、−30℃〜室温で反応させ、一般
式(II): 【化2】 で表わされる酸塩化物とした後、さらに一般式(I
V): 【化3】 で表わされる化合物1〜2当量を−30℃〜室温で、不
活性溶媒中2〜8当量の無機塩基の存在下に反応させる
か、または一般式(IV)で表される化合物の金属塩1
〜2当量を不活性溶媒中塩基不存在下に反応させること
を特徴とする、一般式(I): 【化4】 で表わされる、95%以上の光学純度を持つアシルスル
ホンアミド類の製造法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、α位オキシ基置換
不斉炭素を有する光学活性なアシルスルホンアミド類の
製造法に関する。
【0002】アシルスルホンアミド基は、対応するカル
ボン酸とほぼ等しい弱酸性官能基であるが、分子サイズ
や分配率などの諸物性が対応するカルボン酸と比較する
と大きく異なることから、カルボン酸の生化学的等価体
として特に医薬品の有効側鎖として有用である(Sch
aaf,J.Med.Chem.,1979,22,1
340)。
【0003】
【従来の技術】医薬品など生・薬理学的に有意な活性を
発現する化合物においては、分子中に不斉炭素原子を有
する化合物が多く存在し、不斉中心の配置と薬理作用に
は密接な関係があることが知られている。例えば、立体
異性体同士が互いに鏡像体の関係にあるとき、両者は薬
効や毒性において顕著な差異を示す場合がある。それゆ
え、厚生省の医薬品製造指針(1985年度版)におい
ても「該当薬物がラセミ体である場合にはそれぞれの異
性体について吸収、分布、代謝、排泄動態を検討してお
くことが望ましい。」と記されており、必要としない一
方の鏡像異性体を極力排除した高純度な光学活性体の製
造法は医薬品の製造にとって必要不可欠である。
【0004】このような特定の光学活性体の製造法の例
としては、出発原料もしくは製造工程における適当な中
間体の段階で光学活性体とし、不斉を保持したまま最終
生成物に誘導する方法、または最終生成物の段階で光学
分割する方法が挙げられる。最終生成物の光学純度が十
分高いものであれば、再結晶法等の適当な精製手段を用
いることによりさらに光学純度を上げ、最終的には光学
的に純粋な医薬品を得ることも可能である。
【0005】カルボニル基のα位に不斉中心を有する化
合物の場合、酸、塩基または熱等によって、不斉中心が
非常に容易にエピマー化され立体異性体の混合物を与え
ることがある。アシルスルホンアミド類の製造において
も、同様のエピマー化を伴う可能性があることから、光
学活性体を出発原料として製造する場合は、製造工程に
おけるα位のエピマー化を極力おさえなければならな
い。
【0006】一般に、アシルスルホンアミド類はカルボ
ン酸もしくはその誘導体とスルホンアミドとを縮合させ
るホッヘンロッヘ−オーリンゲン(Hohenlooh
e−Oehringen)らによる方法を基本として製
造される。カルボン酸は、アミン類と同様にラセミ体を
光学分割して光学活性源とするために最も容易かつ多用
される官能基の一つであるのに対し、アシルスルホンア
ミド類はカルボン酸と同程度の酸性度であるにもかかわ
らず、光学分割の対象とされた例はほとんど無い。以上
の点から、ラセミ体のカルボン酸を光学分割し、しかる
後にエピマー化を最小限におさえてアシルスルホンアミ
ド類に変換することができれば、最小限の工程で光学活
性なアシルスルホンアミド類に誘導することができ、一
般的製造法として極めて有用である。以下にホッヘンロ
ッヘ−オーリンゲン(Hohenloohe−Oehr
ingen)らの方法を3群に分類する。
【0007】1)カルボン酸を高温下、スルホニルイソ
シアナート類と縮合させる方法(K.Hohenloo
he−Oehringen,Monatsh,Che
m,1972,103,1534−1541)。 2)カルボン酸を縮合剤と塩基の存在下、スルホンアミ
ド類と縮合させる方法。この場合一般的に、縮合剤とし
てはカルボジイミド類が、また塩基としてスルホンアミ
ド類自体の金属塩もしくはジメチルアミノピリジンなど
の有機塩基が用いられる(K.Hohenloohe−
Oehringen,Monatsh,Chem,19
68,99,1289−1300)。 3)カルボン酸をまず活性エステル、酸塩化物、酸無水
物などに変換して活性化させた後、塩基の存在下スルホ
ンアミド類を求核剤として縮合させる方法(K.Hoh
enloohe−Oehringen,Monats
h,Chem,1972,103,1534−154
1;K.Hohenloohe−Oehringen,
Monatsh,Chem,1968,99,1301
−1312;K.Hohenloohe−Oehrin
gen,Monatsh,Chem,1968,99,
1313−1319)。
【0008】これらの方法はラセミ体のアシルスルホン
アミド類の一般的製造法である。しかし、出発原料がα
位に不斉炭素を有する光学活性なカルボン酸である場合
は、高温条件での反応や強塩基を用いた反応条件である
ことから、一般的に出発原料の立体を維持することは困
難である。
【0009】ホッヘンロッヘ−オーリンゲン(Hohe
nloohe−Oehringen)法の改良法とし
て、上記分類の1)、2)、3)にそれぞれ対応した
1′)、2′)、3′)を以下に示す。 1′)より温和な条件下での反応にするために、カルボ
ン酸を塩基触媒の存在下室温で、スルホニルイソシアナ
ート類と縮合させる方法(G.Graf,Angew.
Chem.Int.Ed.,1968,7,172−1
82,M.W.Winkley,US−443803
1)。 2′)難溶性の副生成物の生成を防ぎ精製を容易にする
ために、水溶性カルボジイミドを縮合剤として用い、塩
基の存在下、カルボン酸とスルホンアミド類とを縮合さ
せる方法(F.Thomas,WO9526360;
R.T.Jacobs,J.Med.Chem,199
4,37,1282−1297)。 3′)活性化剤として向山の4級ピリジン塩試薬を用い
る方法(D.P.Astles,EP411706)、
ならびに水素化カリウムや1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)などの強塩
基を加えて反応を促進させる方法(J.L.Belle
tier,Tetrahedron Lett.,19
86,27,131−134,J.T.Drummon
d,Tetrahedron Lett.,1988,
29,1653−1656)。
【0010】これらの改良法は、ホッヘンロッヘ−オー
リンゲン(Hohenloohe−Oehringe
n)法と比較すれば、反応条件はより温和で精製も容易
となるが、高価な縮合剤等を必要とし、製造コストが高
騰するのみならず、無水条件を必要とするなど製造工程
が複雑になる。また、出発原料がα位に不斉炭素を有す
る光学活性なカルボン酸である場合は、前記と同様の理
由で出発原料の立体を維持することは困難となり、これ
らの改良法もアシルスルホンアミド類の効率的かつ一般
的合成法とはなり得ない。
【0011】上記製造方法で明らかにラセミ化が生じて
いる具体例として、例えば2′)で示したWO95/2
6360記載の実施例を挙げることができる。ここで
は、カルボン酸からアシルスルホンアミド類へと導く際
に、出発原料では(L)-tryptophanと記されているが、生
成物では(D,L)-tryptophanと記されていることから、明
らかにラセミ化が生じたことが推測される。また、
1′)で示したUS−4438031記載の実施例に
も、単一の立体配置を持つ出発原料から2種類の立体異
性体の生成が記載されており、縮合過程での不斉中心の
反転が示唆されている。この他にも従来法による製造例
では、光学活性体であることの証左となる旋光度の記載
例が無い例、明示されていないまでも明らかにラセミ化
が起きていることを示唆する例が多数存在する。
【0012】他方、上記とは異なる方法として、ケトン
やアルデヒド誘導体を原料としてウィティッヒ(Wit
tig)反応を用いる方法(H.J.Bestman,
Chem.Ber,1980,113,912−91
8)や、二重結合を持つ化合物を出発原料として、スル
ホニルイソシアナート類との親電子付加反応を用いる方
法(J.K.Rasmussen,Chem.Re
v.,1976,76,389−408;D.Most
wicz,Carbohydra.res.,199
1,212,283−288)等も用いられることがあ
る。しかし、これらの方法は出発原料がしばしば限定さ
れ、一般的なアシルスルホンアミド類の製造法とはいえ
ない。
【0013】また、酸アミド類とスルホン酸塩化物との
反応による、アシルスルホンアミド類の合成も原理的に
は可能である。しかしこの方法でも、多くの場合O−ス
ルホニル化が優先して進行することから、一般法として
用いるには適当ではない(C.R.Stephens,
J.Amer.Chem.Soc.,1955,77,
1701−1702)。
【0014】上記のように、従来の技術ではα位に不斉
を有する光学活性なアシルスルホンアミド類を得ること
は困難であり、簡便かつ効率的に、しかも一般に応用し
うる該アシルスルホンアミド類製造法の開発が望まれて
いた。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】上記に鑑み、本発明者
らは、α位に不斉を有する光学活性アシルスルホンアミ
ド類の一般的製造法を確立すべく研究を行ってきた。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、安価な試薬のみを用い、かつ単純な製造工程で、
α位オキシ基置換不斉炭素を有する光学活性カルボン酸
を対応する酸塩化物を中間体として、立体を保持したま
ま光学活性なアシルスルホンアミド類に変換することの
できる製造法を見出した。以下本発明について詳細に説
明する。
【0017】即ち本発明は、α位オキシ基置換不斉炭素
を有する、一般式(III):
【化5】 (式中、*は不斉炭素原子の存在位置を示し、R1は置
換基を有していてもよいフェニルを示し、R2は置換さ
れていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいア
リールまたは置換されていてもよいヘテロアリールを示
す)で表わされる光学活性なカルボン酸に、塩素化剤1
〜2当量を不活性溶媒中、塩基の不存在下−30℃〜室
温で反応させ、一般式(II):
【化6】 (式中、R1とR2は前記と同意義である)で表わされる
酸塩化物とした後、さらに一般式(IV):
【化7】 (式中、R3は置換されていてもよいアリールを示し、
4は水素原子または低級アルキルを示す)で表わされ
る化合物1〜2当量を−30℃〜室温で、不活性溶媒中
2〜8当量の無機塩基の存在下に反応させるか、または
一般式(IV)で表される化合物の金属塩1〜2当量を
不活性溶媒中塩基不存在下に反応させることを特徴とす
る、一般式(I):
【化8】 (式中、*、R1、R2、R3およびR4は前記と同意義で
ある)で表わされる、95%以上の光学純度を持つアシ
ルスルホンアミド類の製造法に関する。
【0018】本明細書中、「低級アルキル」とは、直鎖状
または分枝状のC1〜C6アルキル、例えば、メチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソ
ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルを意
味する。本明細書中、「低級アルケニル」とは、C2
6直鎖状または分枝状のアルケニル、例えば、ビニ
ル、アリル、プロペニル、およびブテニルを意味する。
本明細書中、「アリール」とは、単環状または縮合環状
芳香族炭化水素、例えば、フェニル、ナフチル、および
インデニルを意味する。本明細書中、「ヘテロアリー
ル」とは、5〜7員環でN、OまたはS原子を環内に1
個以上含み、炭素環もしくは他の複素環と縮合していて
もよいヘテロ芳香族、例えば、ピリジル、キノリル、チ
エニル、フリル、インドリル、もしくはベンゾフリルを
意味する。本明細書中、「アルキルオキシ」とは、アル
キル部分が低級アルキルであるアルキルオキシ、例え
ば、メチルオキシ、エチルオキシ、n−プロピルオキ
シ、イソプロピルオキシ、n−ブチルオキシ、イソブチ
ルオキシ、sec−ブチルオキシ、およびtert−ブ
チルオキシを意味する。本明細書中、「アルキルオキシ
カルボニル」とは、アルキル部分が低級アルキルである
アルキルオキシカルボニル、例えば、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、およ
びブトキシカルボニルを意味する。本明細書中、「アラ
ルキル」とは、低級アルキルにアリールが置換したもの
で、例えば、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピ
ル、およびナフチルメチルを意味する。
【0019】本明細書中、「置換基を有していてもよい
フェニル」とは、低級アルキル基、低級アルケニル基、
アルキルオキシ基、ニトロ基、水酸基、アルキルオキシ
カルボニル基、アラルキル基、カルボキシル基、アミド
基またはハロゲンで1ケ所以上置換されていてもよいフ
ェニルを意味する。例えば、1,3−ジベンゾオキソリ
ル、メトキシフェニル、フルオロフェニル、およびカル
ボキシフェニルが挙げられる。
【0020】本明細書中、「置換されていてもよい低級
アルキル」における置換基としては、アルキルオキシ
基、アリール部分がニトロ基もしくはハロゲンで置換さ
れていてもよいアリールオキシ基、アラルキル基、ニト
ロ基およびハロゲンが挙げられる。
【0021】本明細書中、「置換されていてもよいアリ
ール」とは、低級アルキル基、低級アルケニル基、アル
キルオキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基、アラルキル基、アルキル部分が低級アルキル基もし
くは低級アルケニル基であるアシルオキシ基、ニトロ基
またはハロゲンにより1ケ所以上置換されていてもよい
アリールを意味する。例えば、トリル、クメニル、メシ
チル、イソプロピルフェニル、tert-ブチルフェニル、
ビフェニル、ダンシル、シクロヘキシルフェニル、カル
ボキシフェニル、インダニル、およびテトラヒドロナフ
チルが挙げられる。
【0022】本明細書中、「置換されていてもよいヘテ
ロアリール」とは、低級アルキル基、低級アルケニル
基、アルキルオキシ基、カルボキシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アラルキル基、ニトロ基またはハロゲンに
より1ケ所以上置換されていてもよいヘテロアリールを
意味する。例えば、2−メチル−4−プロピル−3―ピ
リジル、および4−プロピル−3―ピリジルが挙げられ
る。
【0023】
【発明の実施の形態】本発明は、二工程からなる。第一
工程では、本発明法の出発原料である光学活性カルボン
酸(III)1当量を、塩化メチレン、1,2−ジクロ
ロエタン、クロロホルム、アセトニトリル、テトラヒド
ロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン、ベ
ンゼン、またはトルエンなどの溶媒、好ましくは塩化メ
チレンまたはアセトニトリルに溶解し、1〜2当量、好
ましくは1.05〜1.20当量の塩素化剤、好ましく
は塩化オキザリルまたは塩化チオニルを、−30℃〜室
温条件下、好ましくは氷冷下で滴下し、5分〜5時間、好
ましくは15分間攪拌した後、揮発物をすべて減圧下留
去し目的とする酸塩化物とする。触媒として少量のジメ
チルホルムアミドを適宜加えてもよい。
【0024】第二工程は、上記酸塩化物とスルホンアミ
ドを無機塩基存在下縮合する工程であり、以下に示す試
薬を加える順序が異なる2種類の方法およびスルホンア
ミドの金属塩を使用する方法が挙げられるが、いずれの
方法を用いても結果に相違はない。
【0025】第一の方法では、スルホンアミド(IV)
1〜2当量、好ましくは1.05当量と、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、リン酸三ナトリウム、もしくは
リン酸三カリウムなどの無機塩基を粉末状、または40
〜50%水溶液として2〜8当量、好ましくは2.2〜
3.3当量を塩化メチレン、アセトニトリル、テトラヒ
ドロフラン、1,4−ジオキサンなどの溶媒中に、好ま
しくは塩化メチレンまたはテトラヒドロフラン中に加え
ておき、−30℃〜室温条件下、好ましくは氷冷下〜室
温下にて、上記有機溶媒に溶解した該塩化物1当量を含
む溶液を滴下し、引き続き同温で15分〜5時間、好ま
しくは1時間攪拌する。その後水、1規定塩酸を順次加
え、有機溶媒で抽出後、有機層を無水硫酸マグネシウム
などの乾燥剤で乾燥する。溶媒を減圧留去することによ
り光学活性なアシルスルホンアミドを得ることができ
る。
【0026】第二の方法では、該塩化物1当量を塩化メ
チレン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、または
1,4−ジオキサンなどの溶媒、好ましくは塩化メチレ
ンまたはテトラヒドロフランに溶解し、これに−30℃
〜室温条件下、好ましくは氷冷下〜室温下にて水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、リン酸三ナトリウム、もし
くはリン酸三カリウムなどの無機塩基を粉末状、または
40〜50%水溶液として2〜8当量、好ましくは2.
2〜3.3当量加え、さらに上記の溶媒に溶解したスル
ホンアミド1〜2当量、好ましくは1.05当量をゆっ
くり滴下し、15分〜5時間、好ましくは1時間攪拌す
る。その後、水、1規定塩酸を順次加え、有機溶媒で抽
出後、有機層を無水硫酸マグネシウムなどの乾燥剤で乾
燥する。溶媒を減圧留去することにより光学活性なアシ
ルスルホンアミドを得ることができる。
【0027】第三の方法では、スルホンアミド(IV)
1〜2当量、好ましくは1.10当量と、2〜5当量、
好ましくは2〜3.5当量の水素化ナトリウムをテトラ
ヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどの溶媒、好まし
くはテトラヒドロフランに懸濁し、−30℃〜室温条件
下、好ましくは氷冷下にて、上記有機溶媒に溶解した酸
塩化物1当量を含む溶液を滴下し、引き続き同温で15
分〜5時間、好ましくは1時間攪拌する。その後水、1
規定塩酸を順次加え攪拌後、有機溶媒で抽出する。有機
層を無水硫酸マグネシウムなどの乾燥剤で乾燥し、溶媒
を減圧留去することにより光学活性なアシルスルホンア
ミドを得る。ただし、反応に支障をきたす置換基が存在
する場合は、適当な保護基によりその置換基を保護し、
適当な段階にて脱保護を行う。上記のようにして得られ
た光学活性な粗製アシルスルホンアミド類は、直接再結
晶することにより、または適当な塩を形成したのち再結
晶精製することにより、光学純度をさらに上げることが
できる。
【0028】反応がラセミ化せずに進行したかどうか、
あるいは反応の過程でどの程度ラセミ化したのかを正確
に定量する方法として、出発原料と反応生成物のそれぞ
れの鏡像異性体比を別個に定量し、比較する方法があ
る。本明細書では、その鏡像異性体比を光学純度として
表しているが、光学純度は両鏡像体の存在比から以下の
式に従って決定することができる。
【式1】 光学純度(%)=100X(A−B)/(A+B) (1) (式中、AおよびBはそれぞれの鏡像異性体の存在比を
示す) 両鏡像異性体の存在比は、光学活性な物質を担体とする
カラムを用いた高速液体クロマトグラフィー(HPL
C)法で決定することができる。HPLC法で光学純度
を決定するためには、両鏡像異性体の保持時間を正確に
決定することができ、かつピークがベースライン上で分
離していなくてはならない。そこで、まず出発原料に該
化合物のラセミ体を用いて同様の反応を行い、反応生成
物をラセミ体として得た後に、化合物個々の至適分析条
件を決定しなければならない。本分析法で得られる保持
時間は、分析時における環境変化によって変動する可能
性がある。そこで、検体を分析する直前に該ラセミ検体
をあらかじめ分析し、保持時間の較正を行うのが望まし
い。以下の実施例にあげる保持時間は、あくまでも平均
的な保持時間であり、恒常的に保持時間が正確に再現さ
れるとは限らない。また、実施例に示した3種の分析条
件は、すべての化合物に汎用的に適用されるものではな
い。
【0029】
【実施例】以下に本発明の実施例を示して本発明を更に
詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。まず、本実施例にあげた各化合物の光学純度を
決定するための、HPLCの分析条件3種類を以下に示
す。 A)カラム:住友化学製SumichiralOA4900(4.6x250m
m);移動層:20mM酢酸アンモニウム含有メタノール;
流速:1.0ml/分;検出:UV(240nm) B)カラム:住友化学製SumichiralOA4900(4.6x250m
m);移動層:20mM酢酸アンモニウム含有メタノール;
流速:1.0ml/分;検出:UV(286nm) C)カラム:ダイセル化学製CHIRALPAC OD(4.6x250m
m);移動層:ヘキサン:エタノール:トリフルオロ酢酸
(850:150:1);流速:0.5ml/分;検
出:UV(286nm) 以上の分析条件での測定結果について、両鏡像異性体に
由来するピークの面積比より存在比を求め、光学純度を
式(1)により決定した。
【0030】参考例1 (−)−α−メトキシフェニル酢酸の調製 市販の(ラセミ)−α−メトキシフェニル酢酸をJ.C
hem.Soc.,1962,1519記載の方法によ
り、エフェドリンで光学分割して合成した。 融点:187−189℃ [α]D=−74.6°(c=1.16,メタノール,
23℃) 光学純度:100%(A法による)(ただしラセミ体の
保持時間は16.8分および18.0分)
【0031】参考例2 (+)−α−(4−メチルフェノキシ)フェニル酢酸の
調製 60%水素化ナトリウム1.17g(29.3mmol)の
ジメチルホルムアミド懸濁液(10ml)中に、室温下
p−クレゾール1.51g(13.95mmol)のジメチ
ルホルムアミド溶液(20ml)を加えた。30分間攪
拌した後、同温度でα−ブロモフェニル酢酸3.0g
(13.95mmol)のジメチルホルムアミド溶液(30
ml)を滴下した。1時間後、p−クレゾール0.15
g(1.40mmol)、60%水素化ナトリウム0.12
g(2.93mmol)を加えさらに室温で16時間攪拌し
た。氷水を反応液に加え、1規定塩酸水溶液でpH3に
した後エーテルで3回抽出した。エーテル層を水、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減
圧下溶媒を留去し、得られる固形残渣を酢酸エチル−n
-ヘキサンで再結晶して無色結晶のラセミ酸1.99g
(59%)を得た。 融点:111−112℃ 上記で得られた(±)−α−(4−メチルフェノキシ)
フェニル酢酸1.50g(6.19mmol)、(1S,2
S)−(+)−2−アミノ−1−フェニル−1,3−プ
ロパンジオール1.04g(6.19mmol)を95%エ
タノール9mlに溶かし、室温で3時間放置した後、析
出する結晶を濾取した。この操作を2回繰り返し、白色
結晶717mgを得た。得られた結晶のうち547mg
(1.34mmol)に水を加え、1規定塩酸水溶液でpH
3にして酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水、飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧下留去し、残渣を酢酸エチル−n-ヘキサン
で再結晶して無色結晶の(+)−体296mgを得た。 融点:109.5−110.5℃ [α]D=+126.2°(c=1.00,メタノー
ル,25℃) NMR(CDCl3):2.27(3H,s),5.6
0(1H,s),6.84(2H,d),7.06(2
H,d,J=8.6),7.36−7.44(3H,
m),7.54−7.59(2H,m) 元素分析:C15H14O3 計算値:C;74.36, H;5.82 実測値:C;74.52, H;5.84 光学純度:100%(A法による)(ただしラセミ体の
保持時間は17.7分および19.3分)
【0032】参考例3 (−)−α−(6−メチル−2−プロピル−3−ピリジ
ルオキシ)−1,3−ベンゾジオキソール−5−酢酸の
調製 特願平7−262337記載の方法で製造した(±)−
α−(6−メチル−2−プロピル−3−ピリジルオキ
シ)−1,3−ベンゾジオキソール−5−酢酸1000
g、(1S,2R)−(+)−ノルエフェドリン459
gを、アセトニトリル(10L)−イソプロパノール
(1L)に溶解した。室温で放置後、析出した結晶を濾
取し、アセトニトリル2.5Lで洗浄し粗結晶1036
g(71.0%)を得た。この粗結晶をアセトニトリ
ル:イソプロパノール=1:1の混液に溶解した後、ア
セトニトリル8Lを加えて再結晶し、濾過後、アセトニ
トリル2Lで2回洗浄し、乾燥して有機塩923g(6
3.3%)を得た。 融点:180−182℃ [α]D=−50.2°(c=1.00,メタノール,
25℃) 得られた有機塩922gを水3.7Lに懸濁し、2規定
塩酸水溶液959mlを加えた後、氷冷し、生じた結晶
を濾取し、冷水2Lで洗浄した。さらにこの結晶をメタ
ノール2.46Lに溶解し、酢酸エチル2.46Lを加
え減圧濃縮して(−)−酸572g(90.6%)を得
た。 融点:156−158℃ [α]D=−112.0°(c=1.00,メタノー
ル,23℃) 光学純度:100%(C法による)(ただしラセミ体の
保持時間は24.8分および28.4分) 元素分析:C18H19NO5 計算値:C;65.64, H;5.82, N;4.
25 実測値:C;65.55, H;5.82, N;4.
46
【0033】参考例4 (+)−α−(6−メチル−2−プロピル−3−ピリジ
ルオキシ)−1,3−ベンゾジオキソール−5−酢酸の
調製 参考例3で得た再結晶母液を濃縮し、氷冷下1規定塩酸
水溶液でpH4とし、クロロホルム:メタノール=9:
1で抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留
去し、残渣を95%エタノールで再結晶して、無色結晶
の(+)−酸を得た。 融点:155−157℃ [α]D=+111.2°(c=1.00,メタノー
ル,23℃) 光学純度:100%(C法による)(ただしラセミ体の
保持時間は24.8分および28.4分)
【0034】参考例5 (−)−α−(2−プロピル−3−ピリジルオキシ)−
1,3−ベンゾジオキソール−5−酢酸の調製 特願平7−262337記載の方法で製造した(±)−
α−(2−プロピル−3−ピリジルオキシ)−1,3−
ベンゾジオキソール−5−酢酸を、参考例3と同様の方
法で光学分割した。 融点:107−110℃ [α]D=−109.0°(c=1.00,メタノー
ル,23℃) 光学純度:100%(C法による)(ただしラセミ体の
保持時間は20.4分および22.7分) 元素分析:C17H17NO5 計算値:C;64.75, H;5.43, N;4.
44 実測値:C;64.70, H;5.44, N;4.
72
【0035】実施例1 (−)−N−(4−イソプロピルベンゼンスルホニル)
−α−メトキシフェニルアセトアミドの調製 参考例1で得た(−)−α−メトキシフェニル酢酸50
mg(0.331mmol)を塩化メチレン2mlにとか
し、ジメチルホルムアミドを一滴加えた後0℃に冷却し
た。塩化オキザリル0.028ml(0.316mmol)
を滴下し、同温度で1時間攪拌後、減圧下溶媒を留去
し、無色油状の酸塩化物を得た。この化合物はこれ以上
の精製を行わずに次の反応に用いた。4−イソプロピル
ベンゼンスルホンアミド66mg(0.301mmol)、
粉末状の水酸化カリウム44mg(85%、0.662
mmol)を塩化メチレン中(1ml)室温で1時間攪拌し
た。この反応溶液に、上記の方法で得た酸塩化物の塩化
メチレン溶液(1ml)を滴下し、室温で1時間攪拌し
た。氷水、1規定塩酸水溶液0.18mlを加え、酢酸
エチルで3回抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩
水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下、
溶媒を留去し残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ク
ロロホルム:メタノール=9:1)で精製した。 光学純度:100%(A法による)(ただしラセミ体の
保持時間は28.9分および31.9分) 分析用サンプルを得るために、アセトン−イソプロピル
エーテルで1回再結晶し、無色結晶59mg(56%)
を得た。 融点:89−91℃ [α]D=−16.4°(c=1.00,メタノール,
25℃) NMR(CDCl3):1.25(6H,m),2.9
6(1H,m),3.33(3H,s),4.59(1
H,s),7.22−7.35(7H,m),7.94
(2H,d,J=7.8),9.12(1H,br) 元素分析:C1821NSO4.0.1H2O 計算値:C;61.91,H;6.12,N;4.0
1,S;9.18 実測値:C;61.92,H;6.08,N;4.2
6,S;8.94
【0036】実施例2 (+)−N−(4−イソプロピルベンゼンスルホニル)
−α−(4−メチルフェノキシ)フェニルアセトアミド
の調製 参考例2で得た(+)−α−(4−メチルフェノキシ)
フェニル酢酸100mg(0.413mmol)を塩化メチ
レン2mlにとかし、ジメチルホルムアミドを1滴加え
氷冷した。塩化オキザリル0.038ml(0.433
mmol)を滴下し、同温でさらに1時間攪拌した。揮発物
を減圧留去し無色油状の酸塩化物をえた。このものはこ
れ以上の精製を行うことなく以下の反応に用いた。4−
イソプロピルベンゼンスルホンアミド91mg(0.4
54mmol)、粉末状の水酸化カリウム60mg(85
%、0.909mmol)を塩化メチレン中(2ml)室温
で1時間攪拌した。この反応溶液に、上記の方法で得た
酸塩化物の塩化メチレン溶液(2ml)を滴下し、室温
で1時間攪拌した。氷水、1規定塩酸水溶液0.5ml
を加え、酢酸エチルで3回抽出した。合わせた有機層を
水、飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧下、溶媒を留去し残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィー(クロロホルム:メタノール=9:1)で精製
した。 光学純度:100%(A法による)(ただしラセミ体の
保持時間は36.1分および40.0分) 分析用サンプルを得るために、酢酸エチル−n-ヘキサ
ンで1回再結晶し、無色結晶105mg(60%)を得
た。 融点:137−138.5℃ [α]D=+14.5°(c=1.00,メタノール,
25℃) NMR(CDCl3):1.25−1.28(6H,
m),2.26(3H,s),2.97(1H,m),
5.42(1H,s),6.73(2H,d,J=8.
6)、7.01(2H,d,J=8.6),7.30−
7.36(7H,m),7.88(2H,d,J=8.
6) 元素分析:C24H25NO4S 計算値:C;68.06,H;5.95,N;3.3
1,S;7.57 実測値:C;67.92,H;5.94,N;3.3
1,S;7.50
【0037】実施例3 (−)−N−(4−イソプロピルフェニルスルホニル)
−α−(6−メチル−2−プロピル−3−ピリジルオキ
シ)−1,3−ベンゾジオキソール−5−アセトアミド
の調製 参考例3で得た(−)−α−(6−メチル−2−プロピ
ル−3−ピリジルオキシ)−1,3−ベンゾジオキソー
ル−5−酢酸(519mg,1.58mmol)を1,2−
ジクロロエタン(8ml)に懸濁し、室温で攪拌しなが
ら塩化オキザリル(0.14ml、1.58mmol)をゆ
っくり滴下した。15分攪拌後揮発物をすべて減圧留去
し、酸塩化物を得た。このものはこれ以上の精製は行わ
ず以下の反応に用いた。1,2−ジクロロエタン(5m
l)にイソプロピルベンゼンスルホンアミド(325m
g,1.56mmol)と粉末状の水酸化カリウム(純度8
6%、325mg、1.63mmol)を懸濁し、氷冷下約
1時間攪拌した。ここに酸塩化物を1,2−ジクロロエ
タン(8ml)にとかして約15分で滴下した。その後
さらに1時間攪拌を続けた後、水、1規定塩酸水を順次
加えしばらく攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで抽出
した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減
圧留去し、無色油状の粗製物(840mg)を得た。 光学純度:98%(B法による)(ただしラセミ体の保
持時間は18.9分および21.9分) さらに、この粗製物を95%エタノールに溶解し、過剰
の4規定塩酸酢酸エチル溶液を加え塩酸塩とした。 融点:185℃(分解) [α]D=−77.6°(c=1.01,メタノール,
22.5℃) 元素分析:C27H31N2O6SCl 計算値:C;59.28,H;5.71,N;5.1
2,S;5.86,Cl;6.48 実測値:C;59.58,H;5.77,N;5.2
0,S;5.92,Cl;6.44 光学純度:>99%(B法による)(ただしラセミ体の
保持時間は18.9分および21.9分)
【0038】実施例4 (−)−α−N−(4−イソプロピルフェニルスルホニ
ル)−α−(2−プロピル−3−ピリジルオキシ)−
1,3−ベンゾジオキソール−5−アセトアミドの調製 参考例5で得た(−)−α−(2−プロピル−3−ピリ
ジルオキシ)−1,3−ベンゾジオキソール−5−酢酸
(6.60g,0.0209mol)を実施例3と全く
同様に対応する酸塩化物とした。引き続き実施例3と同
様の方法により粗製の(−)−α−N−(4−イソプロ
ピルフェニルスルホニル)−α−(2−プロピル−3−
ピリジルオキシ)−1,3−ベンゾジオキソール−5−
アセトアミド(9.0g,86%)を得た。 光学純度:96%(B法による)(ただしラセミ体の保
持時間は18.0分および20.8分) 分析用サンプルは、エタノールから再結晶した。 融点:170−172℃ 元素分析:C26H28N2O6S 計算値:C;62.89,H;5.68,N;5.6
4,S;6.46 実測値:C;62.94,H;5.70,N;5.7
3,S;6.46 [α]D=−79.3°(c=1.006,メタノー
ル,22℃) 上記で得た化合物(5.3g)をさらに95%エタノー
ル中、過剰の4規定塩酸酢酸エチル溶液を加えて、塩酸
塩(4.7g,71%)とした。 融点:185℃(分解) 元素分析:C26H29N2O6SCl 計算値:C;58.59,H;5.48,N;5.2
6,S;6.02,Cl;6.65 実測値:C;58.43,H;5.49,N;5.3
4,S;6.10,Cl;6.58 [α]D=−81.9°(c=1.002,メタノー
ル,22.5℃) 光学純度:>99%(B法による)(ただしラセミ体の
保持時間は18.0分および20.8分)
【0039】実施例5 (+)−α−N−(4−イソプロピルフェニルスルホニ
ル)−α−(6−メチル−2−プロピル−3−ピリジル
オキシ)−1,3−ベンゾジオキソール−5−アセトア
ミドの調製 参考例4で得た(+)−α−(6−メチル−2−プロピ
ル−3−ピリジルオキシ)−1,3−ベンゾジオキソー
ル−5−酢酸(6.58g,0.0209mol)を実
施例3と同様の方法で塩化メチレン中、酸塩化物(8.
56g)とした。引き続き実施例3と同様の方法により
イソプロピルベンゼンスルホニルアミド(4.38g,
0.022mmol)、粉末水酸化ナトリウム(3.37
g,60mmol)とともに塩化メチレン中反応させ、粗製
の(+)−α−N−(4−イソプロピルフェニルスルホ
ニル)−α−(6−メチル−2−プロピル−3−ピリジ
ルオキシ)−1,3−ベンゾジオキソール−5−アセト
アミド(9.23g,90%)を得た。 光学純度:98%(B法による)(ただしラセミ体の保
持時間は18.9分および21.9分) 粗生物を95%エタノール中、過剰の4規定塩酸酢酸エ
チル溶液を加えて、塩酸塩として精製した。 融点:185−192℃(分解) 元素分析:C27H31N2O6SCl 計算値:C;59.28,H;5.71,N;5.1
2,S;5.86,Cl;6.48 実測値:C;59.23,H;5.96,N;4.9
1,S;5.67,Cl;6.21 [α]D=+75.6°(c=1.007,メタノー
ル,23℃) 光学純度:>99%(B法による)(ただしラセミ体の
保持時間は18.9分および21.9分)
【0040】実施例6 (−)−α− N−(4−イソプロピルフェニルスルホ
ニル)−α−(6−メチル−2−プロピル−3−ピリジ
ルオキシ)−1,3−ベンゾジオキソール−5−アセト
アミドの調製 実施例3と同様の方法で合成した酸塩化物をイソプロピ
ルベンゼンスルホンアミド(133mg,0.668mm
ol)、リン酸三カリウム・x水和物(568mg)をジ
メトキシエタン(2ml)中室温で攪拌しながら、酸塩
化物のジメトキシエタン溶液(3ml)を滴下した。4
5分後水を加え、攪拌しながら1規定塩酸でpH4とし
酢酸エチルで抽出した。有機層は無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、溶媒を留去し、目的化合物(298mg)を得
た。 光学純度:;95%(B法による)(ただしラセミ体の
保持時間は18.9分および21.9分)
【0041】実施例7 (−)−α−N−(4−イソプロピルフェニルスルホニ
ル)−α−(6−メチル−2−プロピル−3−ピリジル
オキシ)−1,3−ベンゾジオキソール−5−アセトア
ミドの調製 4−イソプロピルベンゼンスルホンアミド(133m
g,0.668mmol)と水素化ナトリウム(80m
g,2.00mmol)をテトラヒドロフラン中室温で
1時間攪拌した。実施例3と同様の方法で、カルボン酸
(200mg,0.607mmol)から酸塩化物を合
成し、テトラヒドロフラン(2ml)に溶解して上記懸
濁液中に滴下し2時間攪拌した。その後、氷水と1規定
塩酸(0.79ml)を順次加え酢酸エチルで抽出し
た。有機層は水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒
を減圧留去し、無色油状物(324mg)を得た。 光学純度:95%(B法による)(ただしラセミ体の保
持時間は18.9分および21.9分)
【0042】以下に従来法におけるアシルスルホンアミ
ド化法による比較例を示す。比較例1(Tetrahedron Lett.,19
88、29、1653−1656記載の方法) N−(4−イソプロピルフェニルスルホニル)−α−
(6−メチル−2−プロピル−3−ピリジルオキシ)−
1,3−ベンゾジオキソール−5−アセトアミドの調製 カルボン酸(50mg,0.152mmol)およびカルボ
ニルジイミダゾール(25mg,0.152mmol)を無
水テトラヒドロフラン(1ml)中、窒素気流下室温で
30分攪拌し、引き続き30分環流した。放冷後、イソ
プロピルベンゼンスルホニルアミド(30mg,0.1
52mmol)と1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−
7−ウンデセン(23mg,0.152mmol)を加え1
時間攪拌した。その後氷水を加えておき、クロロホルム
抽出した。有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し溶媒を減圧留去し無色油状物質80mgを得た。光
学純度:2%(B法による)(ただしラセミ体の保持時
間は18.9分および21.9分)
【0043】比較例2(向山試薬を用いた方法) N−(4−イソプロピルフェニルスルホニル)−α−
(6−メチル−2−プロピル−3−ピリジルオキシ)−
1,3−ベンゾジオキソール−5−アセトアミドの調製 窒素気流下2−クロルピリジン・よう化メチル塩(47
mg,0.182mmol)とカルボン酸(50mg,0.
152mmol)を塩化メチレン(2ml)に懸濁し攪拌し
た。そこにイソプロピルベンゼンスルホニルアミド(3
0mg,0.152mmol)とトリエチルアミン(37m
g,0.365mmol)の塩化メチレン(1ml)溶液
を滴下した。固形物は徐々に溶解し1時間で均一溶液に
かわった。反応混合物に氷水を加え、クロロホルムで抽
出した。有機層は水で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を減圧留去し、無色油状物12mgを得
た。 光学純度:4%(B法による)(ただしラセミ体の保持
時間は18.9分および21.9分)
【0044】
【発明の効果】本発明を用いれば、α位オキシ基置換さ
れた不斉炭素を有する光学活性カルボン酸を出発原料と
し、不斉を保持したまま、医薬品として繁用されるアシ
ルスルホンアミド類へと変換することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07M 7:00

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 α位オキシ基置換不斉炭素を有する、一
    般式(III): 【化1】 (式中、*は不斉炭素原子の存在位置を示し、R1は置
    換基を有していてもよいフェニルを示し、R2は置換さ
    れていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいア
    リールまたは置換されていてもよいヘテロアリールを示
    す)で表わされる光学活性なカルボン酸に、塩素化剤1
    〜2当量を不活性溶媒中、−30℃〜室温で反応させ、
    一般式(II): 【化2】 (式中、R1とR2は前記と同意義である)で表わされる
    酸塩化物とした後、さらに一般式(IV): 【化3】 (式中、R3は置換されていてもよいアリールを示し、
    4は水素原子または低級アルキルを示す)で表わされ
    る化合物1〜2当量を−30℃〜室温で、不活性溶媒中
    2〜8当量の無機塩基の存在下に反応させるか、または
    一般式(IV)で表される化合物の金属塩1〜2当量を
    不活性溶媒中塩基不存在下に反応させることを特徴とす
    る、一般式(I): 【化4】 (式中、*、R1、R2、R3およびR4は前記と同意義で
    ある)で表わされる、95%以上の光学純度を持つアシ
    ルスルホンアミド類の製造法。
  2. 【請求項2】 一般式(I)において、R2が置換され
    ていてもよいピリジルである請求項1記載の製造法。
  3. 【請求項3】 一般式(I)において、R2が置換され
    ていてもよいフェニルである請求項1記載の製造法。
  4. 【請求項4】 一般式(IV)において、R4が水素原
    子である、請求項1〜3記載の製造法。
  5. 【請求項5】 塩素化剤が塩化オキザリルまたは塩化チ
    オニルである、請求項1〜4のいずれかに記載の製造
    法。
  6. 【請求項6】無機塩基がリン酸三ナトリウム、リン酸三
    カリウム、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムであ
    る、請求項1〜5のいずれかに記載の製造法。
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