JPH1038753A - 透明膜の検査方法 - Google Patents
透明膜の検査方法Info
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- JPH1038753A JPH1038753A JP8215325A JP21532596A JPH1038753A JP H1038753 A JPH1038753 A JP H1038753A JP 8215325 A JP8215325 A JP 8215325A JP 21532596 A JP21532596 A JP 21532596A JP H1038753 A JPH1038753 A JP H1038753A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 透明膜の厚みムラ検査を高い信頼性で行うこ
とができる検査方法を提供する。 【解決手段】 単色光光源から透明膜に所定の入射角度
で検査光を照射し、透明膜表面において反射された反射
光Ｒ1 と、透明膜を透過した後に透明膜の裏面側界面
（透明膜と接触している支持体面）で反射された反射光
Ｒ2 と、の光路差による位相のズレから生じる干渉光
を、光検出器で受光し、その信号を画像信号として処理
し、その強度分布から所定量以上の光強度変化が生じて
いる透明膜の領域を検出することによって厚みムラのあ
る箇所を検出する。
とができる検査方法を提供する。 【解決手段】 単色光光源から透明膜に所定の入射角度
で検査光を照射し、透明膜表面において反射された反射
光Ｒ1 と、透明膜を透過した後に透明膜の裏面側界面
（透明膜と接触している支持体面）で反射された反射光
Ｒ2 と、の光路差による位相のズレから生じる干渉光
を、光検出器で受光し、その信号を画像信号として処理
し、その強度分布から所定量以上の光強度変化が生じて
いる透明膜の領域を検出することによって厚みムラのあ
る箇所を検出する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は透明膜の検査方法に
係り、特に基板上形成された透明膜を有するカラーフィ
ルタ等において透明膜の厚みムラを高い精度で簡便に検
出することが可能な透明膜の検査方法に関する。
係り、特に基板上形成された透明膜を有するカラーフィ
ルタ等において透明膜の厚みムラを高い精度で簡便に検
出することが可能な透明膜の検査方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、フラットディスプレイとして、モ
ノクロあるいはカラーの液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）が
使用されている。カラーの液晶ディスプレイには、３原
色の制御を行うためにアクティブマトリックス方式およ
び単純マトリックス方式とがあり、いずれの方式におい
てもカラーフィルタが用いられている。そして、液晶デ
ィスプレイは、構成画素部を３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）と
し、液晶の電気的スイッチングにより３原色の各光の透
過を制御してカラー表示が行われる。
ノクロあるいはカラーの液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）が
使用されている。カラーの液晶ディスプレイには、３原
色の制御を行うためにアクティブマトリックス方式およ
び単純マトリックス方式とがあり、いずれの方式におい
てもカラーフィルタが用いられている。そして、液晶デ
ィスプレイは、構成画素部を３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）と
し、液晶の電気的スイッチングにより３原色の各光の透
過を制御してカラー表示が行われる。
【０００３】このカラーフィルタは、例えば、透明基板
上にＲ，Ｇ，Ｂの各着色パターンからなる着色層、各画
素の境界部分に位置するブラックマトリックス、保護層
および透明電極層からなるカラーフィルタ層を備えてい
る。このようなカラーフィルタは、欠陥が存在する不良
品を出荷しないようにするため、全数検査することが要
求されている。
上にＲ，Ｇ，Ｂの各着色パターンからなる着色層、各画
素の境界部分に位置するブラックマトリックス、保護層
および透明電極層からなるカラーフィルタ層を備えてい
る。このようなカラーフィルタは、欠陥が存在する不良
品を出荷しないようにするため、全数検査することが要
求されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のようなカラーフ
ィルタの欠陥の有無の検査は、従来、目視で行われてい
たが、最近では自動検査装置が種々開発されている。こ
のような自動検査装置としては、例えば、カラーフィル
タの上面から光を照射し、その反射光を光検出器にて受
光して欠陥を検出するもの、カラーフィルタの下面から
光を照射し、その透過光を光検出器にて受光して欠陥を
検出するもの等がある。
ィルタの欠陥の有無の検査は、従来、目視で行われてい
たが、最近では自動検査装置が種々開発されている。こ
のような自動検査装置としては、例えば、カラーフィル
タの上面から光を照射し、その反射光を光検出器にて受
光して欠陥を検出するもの、カラーフィルタの下面から
光を照射し、その透過光を光検出器にて受光して欠陥を
検出するもの等がある。
【０００５】しかしながら、従来の自動検査装置が用い
る検査方法では、保護膜やレジスト膜といった透明膜の
厚みムラの検出は、光学的特性から困難であった。すな
わち、カラーフィルタの製造工程において微小な異物が
付着した場合、この異物上に形成された透明膜は突起形
状を示し、このような突起形状の欠陥は上記の検査方法
により検出可能であるが、透明膜のうねりのような微妙
な厚みムラの検出は不可能であった。
る検査方法では、保護膜やレジスト膜といった透明膜の
厚みムラの検出は、光学的特性から困難であった。すな
わち、カラーフィルタの製造工程において微小な異物が
付着した場合、この異物上に形成された透明膜は突起形
状を示し、このような突起形状の欠陥は上記の検査方法
により検出可能であるが、透明膜のうねりのような微妙
な厚みムラの検出は不可能であった。
【０００６】本発明は、上述のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、透明膜の厚みムラ検査を高い信頼性で
行うことができる検査方法を提供することを目的とす
る。
れたものであり、透明膜の厚みムラ検査を高い信頼性で
行うことができる検査方法を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は透明膜に単色光光源から所定の入射
角度で検査光としての単色光を照射し、透明膜表面にお
いて反射された反射光Ｒ1 および透明膜の裏面側界面で
反射された反射光Ｒ2 の干渉光を光検出器で検出し、所
定量以上の光強度変化を生じさせた透明膜の領域を検出
するような構成とした。
るために、本発明は透明膜に単色光光源から所定の入射
角度で検査光としての単色光を照射し、透明膜表面にお
いて反射された反射光Ｒ1 および透明膜の裏面側界面で
反射された反射光Ｒ2 の干渉光を光検出器で検出し、所
定量以上の光強度変化を生じさせた透明膜の領域を検出
するような構成とした。
【０００８】また、本発明の透明膜の検査方法は、前記
単色光光源をナトリウムランプとする構成とした。
単色光光源をナトリウムランプとする構成とした。
【０００９】さらに、本発明の透明膜の検査方法は、前
記単色光光源から透明膜に照射する単色光の入射角度θ
1 を３０〜７０°の範囲とし、反射角度θ2 が２０〜６
０°の範囲である反射光Ｒ1 と反射光Ｒ2 を前記光検出
器が検出するような構成とした。
記単色光光源から透明膜に照射する単色光の入射角度θ
1 を３０〜７０°の範囲とし、反射角度θ2 が２０〜６
０°の範囲である反射光Ｒ1 と反射光Ｒ2 を前記光検出
器が検出するような構成とした。
【００１０】上記のような本発明では、透明膜に所定の
入射角度で照射された検査光が、透明膜表面において反
射された反射光Ｒ1 および透明膜の裏面が接触している
界面で反射された反射光Ｒ2 の両者として反射され、検
査光が単色光であることより、この反射光Ｒ1 と反射光
Ｒ2 には、その光路差による位相のズレから干渉が発生
し、透明膜の厚みに応じて上記干渉の程度が変化するの
で、反射光の強度分布を求めることによって、透明膜の
厚みムラのある箇所を、所定量以上の光強度変化を生じ
ている透明膜の領域として検出することができる。
入射角度で照射された検査光が、透明膜表面において反
射された反射光Ｒ1 および透明膜の裏面が接触している
界面で反射された反射光Ｒ2 の両者として反射され、検
査光が単色光であることより、この反射光Ｒ1 と反射光
Ｒ2 には、その光路差による位相のズレから干渉が発生
し、透明膜の厚みに応じて上記干渉の程度が変化するの
で、反射光の強度分布を求めることによって、透明膜の
厚みムラのある箇所を、所定量以上の光強度変化を生じ
ている透明膜の領域として検出することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の最良の実施形態に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００１２】本発明の透明膜の検査方法は、単色光を検
査光として使用し、基板上に形成された透明膜の表面で
反射された反射光と透明膜の裏面側界面（透明膜と接触
している支持物体面）上で反射された反射光との間に生
じる干渉を利用して、透明膜のうねりのような厚みムラ
の検出を可能とするものである。
査光として使用し、基板上に形成された透明膜の表面で
反射された反射光と透明膜の裏面側界面（透明膜と接触
している支持物体面）上で反射された反射光との間に生
じる干渉を利用して、透明膜のうねりのような厚みムラ
の検出を可能とするものである。
【００１３】図１は本発明の透明膜の検査方法を使用す
るカラーフィルタの検査装置の一例を説明するための概
略構成図である。図１に示される検査装置１は、透明膜
が形成された被検査体１０を搬送するための搬送部２、
この搬送部２上を搬送される被検査体１０に検査光であ
る単色光を所定の入射角度θ1 で照射するための単色光
光源３、被検査体１０で反射された反射光のうち反射角
度θ2 で反射された光を検出するための光検出器４、こ
の光検出器４からの画像信号を電気的に処理して透明膜
のムラを検出する検査処理部５、および、検査処理部５
で処理された画像を表示するための画像表示部６とを備
えている。
るカラーフィルタの検査装置の一例を説明するための概
略構成図である。図１に示される検査装置１は、透明膜
が形成された被検査体１０を搬送するための搬送部２、
この搬送部２上を搬送される被検査体１０に検査光であ
る単色光を所定の入射角度θ1 で照射するための単色光
光源３、被検査体１０で反射された反射光のうち反射角
度θ2 で反射された光を検出するための光検出器４、こ
の光検出器４からの画像信号を電気的に処理して透明膜
のムラを検出する検査処理部５、および、検査処理部５
で処理された画像を表示するための画像表示部６とを備
えている。
【００１４】搬送部２は被検査体１０を一定の速度で搬
送するためのものであり、図示例のようなコロ搬送装置
の他にステージ搬送装置等とすることができ、被検査体
１０の製造ラインおよび検査ライン等を考慮して適宜選
択することができる。また、被検査体１０に搬送ムラの
影響が及ぶことを防止するために、搬送部２にエンコー
ダを取り付け、光検出器４の入力と同期をとるようにし
てもよい。このような搬送部２による被検査体１０の搬
送速度は、例えば、１．０〜６．０ｍ／分程度の範囲で
設定することができる。
送するためのものであり、図示例のようなコロ搬送装置
の他にステージ搬送装置等とすることができ、被検査体
１０の製造ラインおよび検査ライン等を考慮して適宜選
択することができる。また、被検査体１０に搬送ムラの
影響が及ぶことを防止するために、搬送部２にエンコー
ダを取り付け、光検出器４の入力と同期をとるようにし
てもよい。このような搬送部２による被検査体１０の搬
送速度は、例えば、１．０〜６．０ｍ／分程度の範囲で
設定することができる。
【００１５】単色光光源３は、所定の入射角度θ1 で被
検査体１０に検査光である単色光を照射するためのもの
であり、例えば、ナトリウムランプ（５８９ｎｍ）、レ
ーザー光透過型高圧水銀ランプ、気体放電光を光学フィ
ルターで単波長化したもの等を使用することができる。
また、光検査器４は、被検査体１０で反射された反射光
を検出するためのものであり、例えば、ＣＣＤラインセ
ンサ、ＣＣＤエリアセンサ等を使用することができる。
検査体１０に検査光である単色光を照射するためのもの
であり、例えば、ナトリウムランプ（５８９ｎｍ）、レ
ーザー光透過型高圧水銀ランプ、気体放電光を光学フィ
ルターで単波長化したもの等を使用することができる。
また、光検査器４は、被検査体１０で反射された反射光
を検出するためのものであり、例えば、ＣＣＤラインセ
ンサ、ＣＣＤエリアセンサ等を使用することができる。
【００１６】本発明の透明膜の検査方法では、単色光光
源３から被検査体１０の透明膜Ｆに照射する単色光の入
射角度θ1 を３０〜７０°の範囲とし、反射角度θ2 ２
０〜６０°の範囲で反射する反射光Ｒ1 と反射光Ｒ2 を
検出する位置に光検出器４を設定することが好ましい。
入射角度θ1 および反射角度θ2 が上記の範囲からはず
れると、欠陥の検出に必要とされる光干渉による光強度
の変化が得られないため好ましくない。特に、透明膜の
平均膜厚が１．０μｍ未満の場合、入射角度θ1 を６０
°、反射角度θ2 を４５°とすることが好ましい。ま
た、透明膜の平均膜厚が１．０μｍ以上の場合、入射角
度θ1 を４５°、反射角度θ2 を４５°とすることが好
ましい。
源３から被検査体１０の透明膜Ｆに照射する単色光の入
射角度θ1 を３０〜７０°の範囲とし、反射角度θ2 ２
０〜６０°の範囲で反射する反射光Ｒ1 と反射光Ｒ2 を
検出する位置に光検出器４を設定することが好ましい。
入射角度θ1 および反射角度θ2 が上記の範囲からはず
れると、欠陥の検出に必要とされる光干渉による光強度
の変化が得られないため好ましくない。特に、透明膜の
平均膜厚が１．０μｍ未満の場合、入射角度θ1 を６０
°、反射角度θ2 を４５°とすることが好ましい。ま
た、透明膜の平均膜厚が１．０μｍ以上の場合、入射角
度θ1 を４５°、反射角度θ2 を４５°とすることが好
ましい。
【００１７】本発明の透明膜の検査方法は、上述のよう
に、被検査体で反射された反射光の干渉を利用するもの
であり、図２はこれを説明するための図である。いま、
被検査体１０である基板Ｓ上に形成された透明膜Ｆの厚
みがｔである場合（図２（Ａ））、被検査体１０に照射
された検査光は、透明膜Ｆの表面で反射された反射光Ｒ
1 と、透明膜の裏面側界面で反射された反射光Ｒ2 （す
なわち、支持体である透明膜Ｆを透過して基板Ｓの表面
で反射され再度透明膜Ｆを透過した反射光Ｒ2）とにな
る。このため、反射光Ｒ1 と反射光Ｒ2 には光路差ｄが
生じ、検査光が単色光であることから、反射光Ｒ1 と反
射光Ｒ2 には位相のズレから干渉が発生する。一方、被
検査体１０である基板Ｓ上に形成された透明膜Ｆの厚み
がＴ（Ｔ＞ｔ）である場合（図２（Ｂ））、上記と同様
に反射光Ｒ1 と反射光Ｒ2 には光路差Ｄが生じ、位相の
ズレから反射光Ｒ1 と反射光Ｒ2 との間に干渉が発生す
る。そして、ある反射角度θ2 で反射された反射光Ｒ1
と反射光Ｒ2 との間に生じる干渉は、光路差による位相
のズレの程度、したがって、透明膜Ｆの厚みに応じて変
化し、干渉の変化は光検査器４が受光する反射光の強度
の変化として検出することができる。
に、被検査体で反射された反射光の干渉を利用するもの
であり、図２はこれを説明するための図である。いま、
被検査体１０である基板Ｓ上に形成された透明膜Ｆの厚
みがｔである場合（図２（Ａ））、被検査体１０に照射
された検査光は、透明膜Ｆの表面で反射された反射光Ｒ
1 と、透明膜の裏面側界面で反射された反射光Ｒ2 （す
なわち、支持体である透明膜Ｆを透過して基板Ｓの表面
で反射され再度透明膜Ｆを透過した反射光Ｒ2）とにな
る。このため、反射光Ｒ1 と反射光Ｒ2 には光路差ｄが
生じ、検査光が単色光であることから、反射光Ｒ1 と反
射光Ｒ2 には位相のズレから干渉が発生する。一方、被
検査体１０である基板Ｓ上に形成された透明膜Ｆの厚み
がＴ（Ｔ＞ｔ）である場合（図２（Ｂ））、上記と同様
に反射光Ｒ1 と反射光Ｒ2 には光路差Ｄが生じ、位相の
ズレから反射光Ｒ1 と反射光Ｒ2 との間に干渉が発生す
る。そして、ある反射角度θ2 で反射された反射光Ｒ1
と反射光Ｒ2 との間に生じる干渉は、光路差による位相
のズレの程度、したがって、透明膜Ｆの厚みに応じて変
化し、干渉の変化は光検査器４が受光する反射光の強度
の変化として検出することができる。
【００１８】そこで、本発明は、光検出器４からの画像
信号を検査処理部５で電気的に処理して反射光の強度分
布を求め、透明膜Ｆの厚みムラのある箇所を、所定量以
上の光強度変化を生じている透明膜の領域として検出す
るものである。図３および図４は、検査処理部５におい
て行われる光検出器４からの画像信号の処理方法を説明
する図である。図３および図４において、まず、光検査
器４は反射光Ｒ1 と反射光Ｒ2 の干渉光に基づいた原画
像の画像信号を取り込み（図３（Ｓ1 ））、次いで、検
査処理部５において原画像の画像信号を演算処理するこ
とにより処理画像を作成する（図３（Ｓ2 ）および図４
（Ａ））。図４（Ａ）に示される処理画像では、斜め方
向（図の左上から右下への斜め方向）に反射された反射
光のうち強度の高い領域が認められる。検査処理部５と
しては、微分処理、コンボリージョン、統計処理等のモ
ジュールを備えた公知の演算処理装置を使用することが
できる。
信号を検査処理部５で電気的に処理して反射光の強度分
布を求め、透明膜Ｆの厚みムラのある箇所を、所定量以
上の光強度変化を生じている透明膜の領域として検出す
るものである。図３および図４は、検査処理部５におい
て行われる光検出器４からの画像信号の処理方法を説明
する図である。図３および図４において、まず、光検査
器４は反射光Ｒ1 と反射光Ｒ2 の干渉光に基づいた原画
像の画像信号を取り込み（図３（Ｓ1 ））、次いで、検
査処理部５において原画像の画像信号を演算処理するこ
とにより処理画像を作成する（図３（Ｓ2 ）および図４
（Ａ））。図４（Ａ）に示される処理画像では、斜め方
向（図の左上から右下への斜め方向）に反射された反射
光のうち強度の高い領域が認められる。検査処理部５と
しては、微分処理、コンボリージョン、統計処理等のモ
ジュールを備えた公知の演算処理装置を使用することが
できる。
【００１９】次に、検査処理部５では、処理画像のＸ軸
方向の光強度の水平分布を処理画像濃度断面図として算
出し、この操作を処理画像のＹ軸方向に亘って行うこと
によって、処理画像の全域における光強度分布データを
得る（図３（Ｓ3 ）および図４（Ｂ））。図４（Ｂ）に
は、図４（Ａ）のａ−ａ線でのＸ軸方向の光強度の水平
分布が示されている。次いで、この光強度分布データか
ら、所定の閾値よりも高い光強度を示す透明膜Ｆの領域
を２値化画像として算出し（図３（Ｓ4 ））、同時に、
検査処理部５で処理された２値化画像を画像表示部６に
表示する（図４（Ｃ））。このように、所定の閾値より
も高い光強度を示す領域は、反射光Ｒ1と反射光Ｒ2 と
の間に位相のズレにより干渉縞が生じ、光強度変化が著
しい領域であり、したがって、他の領域よりも透明膜Ｆ
の厚みが変化している領域として検出される。
方向の光強度の水平分布を処理画像濃度断面図として算
出し、この操作を処理画像のＹ軸方向に亘って行うこと
によって、処理画像の全域における光強度分布データを
得る（図３（Ｓ3 ）および図４（Ｂ））。図４（Ｂ）に
は、図４（Ａ）のａ−ａ線でのＸ軸方向の光強度の水平
分布が示されている。次いで、この光強度分布データか
ら、所定の閾値よりも高い光強度を示す透明膜Ｆの領域
を２値化画像として算出し（図３（Ｓ4 ））、同時に、
検査処理部５で処理された２値化画像を画像表示部６に
表示する（図４（Ｃ））。このように、所定の閾値より
も高い光強度を示す領域は、反射光Ｒ1と反射光Ｒ2 と
の間に位相のズレにより干渉縞が生じ、光強度変化が著
しい領域であり、したがって、他の領域よりも透明膜Ｆ
の厚みが変化している領域として検出される。
【００２０】上述のように、本発明の透明膜の検査方法
は、検査光として単色光を使用すること、透明膜の表面
で反射された反射光と基板上で反射された反射光との間
に生じる干渉を利用すること、によって透明膜のうねり
のような厚みムラの検出が可能である。
は、検査光として単色光を使用すること、透明膜の表面
で反射された反射光と基板上で反射された反射光との間
に生じる干渉を利用すること、によって透明膜のうねり
のような厚みムラの検出が可能である。
【００２１】
【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。 （実施例１）コーニング（株）製７０５９ガラス（３６
０ｍｍ×４６５ｍｍ、厚み０，７ｍｍ）にブラックマト
リックス用の感光性レジスト（東京応化工業（株）製Ｏ
ＦＰＲ）をスピンコート法により塗布し、その後、９０
℃で２分間乾燥させて膜厚約０．９μｍの感光性レジス
ト膜を形成した。この感光性レジスト膜には、塗布直前
に感光性レジストを滴下することによりスジムラを形成
し、また、塗布直後に感光性レジストを滴下することに
よりシミを形成した。
明する。 （実施例１）コーニング（株）製７０５９ガラス（３６
０ｍｍ×４６５ｍｍ、厚み０，７ｍｍ）にブラックマト
リックス用の感光性レジスト（東京応化工業（株）製Ｏ
ＦＰＲ）をスピンコート法により塗布し、その後、９０
℃で２分間乾燥させて膜厚約０．９μｍの感光性レジス
ト膜を形成した。この感光性レジスト膜には、塗布直前
に感光性レジストを滴下することによりスジムラを形成
し、また、塗布直後に感光性レジストを滴下することに
よりシミを形成した。
【００２２】次に、このガラス基板を図１に示されるよ
うな検査装置の搬送部によって感光性レジスト膜を上に
した状態で搬送し、下記の条件で感光性レジスト膜の厚
みムラの検査を行い、その結果を下記の表１に示した。
うな検査装置の搬送部によって感光性レジスト膜を上に
した状態で搬送し、下記の条件で感光性レジスト膜の厚
みムラの検査を行い、その結果を下記の表１に示した。
【００２３】検査条件 ・単色光光源：ナトリウムランプ（放射の９８％が５８
９ｎｍ） （ＰＨＩＬＩＰＳ（株）製ＳＯＸ） ・光検出器：ＣＣＤラインセンサ（ＮＥＤ（株）製ＦＨ
１０２４Ｂ） ・ガラス基板搬送速度：２．４ｍ／分 ・検査光入射角度θ1 ：６０° ・検査光反射角度θ2 ：４５°（光検出器設置角度） 一方、比較検査方法１として、単色光光源のナトリウム
ランプから単色光を基板の裏面に垂直（検査光入射角度
θ1 ＝０°）に照射し、感光性レジスト膜側に垂直（出
射角度θ2 ＝０°）に反射した反射光を光検出器として
のＣＣＤラインセンサにより受光するようにした他は、
上記と同様の条件で感光性レジスト膜の厚みムラの検査
を行い、その結果を下記の表１に示した。
９ｎｍ） （ＰＨＩＬＩＰＳ（株）製ＳＯＸ） ・光検出器：ＣＣＤラインセンサ（ＮＥＤ（株）製ＦＨ
１０２４Ｂ） ・ガラス基板搬送速度：２．４ｍ／分 ・検査光入射角度θ1 ：６０° ・検査光反射角度θ2 ：４５°（光検出器設置角度） 一方、比較検査方法１として、単色光光源のナトリウム
ランプから単色光を基板の裏面に垂直（検査光入射角度
θ1 ＝０°）に照射し、感光性レジスト膜側に垂直（出
射角度θ2 ＝０°）に反射した反射光を光検出器として
のＣＣＤラインセンサにより受光するようにした他は、
上記と同様の条件で感光性レジスト膜の厚みムラの検査
を行い、その結果を下記の表１に示した。
【００２４】さらに、比較検査方法２として、単色光光
源のナトリウムランプの代わりに、光源として高周波蛍
光灯を使用して白色光を照射した他は、上記と同様の条
件で感光性レジスト膜の厚みムラの検査を行い、その結
果を下記の表１に示した。
源のナトリウムランプの代わりに、光源として高周波蛍
光灯を使用して白色光を照射した他は、上記と同様の条
件で感光性レジスト膜の厚みムラの検査を行い、その結
果を下記の表１に示した。
【００２５】
【表１】 表１に示されるように、本発明の検査方法では、２値化
画像においてノイズレベル７００に対して膜厚にムラの
生じている箇所（スジムラ箇所、シミ箇所）の信号レベ
ルは２８００〜３０００であり、Ｓ／Ｎ比は４．０〜
４．３と十分に高く、例えば、１４００レベルに閾値を
設定することにより感光性レジスト膜の厚みムラ（欠陥
個所）を高い精度で簡便に検出できることが確認され
た。尚、本発明の検査方法では、検査光入射角度θ1 お
よび検査光反射角度θ2 を上記の設定角度から±１０°
の範囲で変更しても、感光性レジスト膜の厚みムラを高
い精度で検出できた。
画像においてノイズレベル７００に対して膜厚にムラの
生じている箇所（スジムラ箇所、シミ箇所）の信号レベ
ルは２８００〜３０００であり、Ｓ／Ｎ比は４．０〜
４．３と十分に高く、例えば、１４００レベルに閾値を
設定することにより感光性レジスト膜の厚みムラ（欠陥
個所）を高い精度で簡便に検出できることが確認され
た。尚、本発明の検査方法では、検査光入射角度θ1 お
よび検査光反射角度θ2 を上記の設定角度から±１０°
の範囲で変更しても、感光性レジスト膜の厚みムラを高
い精度で検出できた。
【００２６】これに対して、比較の検査方法では、上記
の膜厚にムラの生じている箇所（スジムラ箇所、シミ箇
所）の検出は不可能であった。 （実施例２）まず、コーニング（株）製７０５９ガラス
（３６０ｍｍ×４６５ｍｍ、厚み０．７ｍｍ）にスピン
コート法によりカラーフィルタ層を形成し、その後、こ
のカラーフィルタ層上に保護膜塗布液（日本合成ゴム
（株）製ＪＳＳシリーズ）をスピンコート法により塗布
し、次いで、９０℃で２分間乾燥させて膜厚約１．５μ
ｍの保護膜を形成した。この保護膜には、塗布直前に微
小異物を付着させることにより輝点ムラを形成し、ま
た、塗布直前に保護膜塗布液を滴下することによりスジ
ムラを形成し、さらに、フォトマスクに欠陥個所を作る
ことによりピンホールを形成した。
の膜厚にムラの生じている箇所（スジムラ箇所、シミ箇
所）の検出は不可能であった。 （実施例２）まず、コーニング（株）製７０５９ガラス
（３６０ｍｍ×４６５ｍｍ、厚み０．７ｍｍ）にスピン
コート法によりカラーフィルタ層を形成し、その後、こ
のカラーフィルタ層上に保護膜塗布液（日本合成ゴム
（株）製ＪＳＳシリーズ）をスピンコート法により塗布
し、次いで、９０℃で２分間乾燥させて膜厚約１．５μ
ｍの保護膜を形成した。この保護膜には、塗布直前に微
小異物を付着させることにより輝点ムラを形成し、ま
た、塗布直前に保護膜塗布液を滴下することによりスジ
ムラを形成し、さらに、フォトマスクに欠陥個所を作る
ことによりピンホールを形成した。
【００２７】次に、このガラス基板を図１に示されるよ
うな検査装置の搬送部によって保護膜を上にした状態で
搬送し、下記の条件で保護膜の厚みムラの検査を行い、
その結果を下記の表２に示した。
うな検査装置の搬送部によって保護膜を上にした状態で
搬送し、下記の条件で保護膜の厚みムラの検査を行い、
その結果を下記の表２に示した。
【００２８】検査条件 ・単色光光源：ナトリウムランプ（放射の９８％が５８
９ｎｍ） （ＰＨＩＬＩＰＳ（株）製ＳＯＸ） ・光検出器：ＣＣＤラインセンサ（ＮＥＤ（株）製ＦＨ
１０２４Ｂ） ・ガラス基板搬送速度：２．４ｍ／分 ・検査光入射角度θ1 ：４５° ・検査光反射角度θ2 ：４５°（光検出器設置角度） 一方、比較として、実施例１と同様の比較検査方法１お
よび比較検査方法２により検査を行い、その結果を下記
の表２に示した。
９ｎｍ） （ＰＨＩＬＩＰＳ（株）製ＳＯＸ） ・光検出器：ＣＣＤラインセンサ（ＮＥＤ（株）製ＦＨ
１０２４Ｂ） ・ガラス基板搬送速度：２．４ｍ／分 ・検査光入射角度θ1 ：４５° ・検査光反射角度θ2 ：４５°（光検出器設置角度） 一方、比較として、実施例１と同様の比較検査方法１お
よび比較検査方法２により検査を行い、その結果を下記
の表２に示した。
【００２９】
【表２】 表２に示されるように、本発明の検査方法では、２値化
画像において膜厚にムラの生じている箇所（輝点ムラ箇
所、スジムラ箇所、ピンホール箇所）に応じたノイズレ
ベルが現れたが、各欠陥箇所は高いＳ／Ｎ比（２．５〜
４．３）で検出できることが確認された。尚、本発明の
検査方法では、検査光入射角度θ1 および検査光反射角
度θ2 を上記の設定角度から±１０°の範囲で変更して
も、感光性レジスト膜の厚みムラを高い精度で検出でき
た。
画像において膜厚にムラの生じている箇所（輝点ムラ箇
所、スジムラ箇所、ピンホール箇所）に応じたノイズレ
ベルが現れたが、各欠陥箇所は高いＳ／Ｎ比（２．５〜
４．３）で検出できることが確認された。尚、本発明の
検査方法では、検査光入射角度θ1 および検査光反射角
度θ2 を上記の設定角度から±１０°の範囲で変更して
も、感光性レジスト膜の厚みムラを高い精度で検出でき
た。
【００３０】これに対して、比較の検査方法１は、十分
な光干渉縞が得られないため、十分に欠陥を検出するこ
とはできなかった。また、比較の検査方法２は、光干渉
縞がまったくみとめられず、欠陥の検出は不可能であっ
た。
な光干渉縞が得られないため、十分に欠陥を検出するこ
とはできなかった。また、比較の検査方法２は、光干渉
縞がまったくみとめられず、欠陥の検出は不可能であっ
た。
【００３１】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば単
色光光源から透明膜に所定の入射角度で単色光である検
査光を照射し、透明膜表面において反射された反射光Ｒ
1 および透明膜の裏面側界面（透明膜と接触している支
持体面）で反射された反射光Ｒ2 を生じさせ、検査光が
単色光であることにより、この反射光Ｒ1 と反射光Ｒ2
には光路差による位相のズレから干渉が発生しており、
干渉は透明膜の厚みに応じて変化することを利用して、
光検出器からの画像信号を処理して求めた反射光の強度
分布から所定量以上の光強度変化を生じている透明膜の
領域を検出し、この領域を厚みムラのある箇所とするこ
とができ、これにより、従来は不可能であった透明膜の
うねりのような微妙な厚みムラを高い精度で簡便に検出
することが可能となる。
色光光源から透明膜に所定の入射角度で単色光である検
査光を照射し、透明膜表面において反射された反射光Ｒ
1 および透明膜の裏面側界面（透明膜と接触している支
持体面）で反射された反射光Ｒ2 を生じさせ、検査光が
単色光であることにより、この反射光Ｒ1 と反射光Ｒ2
には光路差による位相のズレから干渉が発生しており、
干渉は透明膜の厚みに応じて変化することを利用して、
光検出器からの画像信号を処理して求めた反射光の強度
分布から所定量以上の光強度変化を生じている透明膜の
領域を検出し、この領域を厚みムラのある箇所とするこ
とができ、これにより、従来は不可能であった透明膜の
うねりのような微妙な厚みムラを高い精度で簡便に検出
することが可能となる。
【図１】本発明の透明膜の検査方法を使用するカラーフ
ィルタの検査装置の一例を説明するための概略構成図で
ある。
ィルタの検査装置の一例を説明するための概略構成図で
ある。
【図２】被検査体で反射された単色光（反射光）の干渉
を説明するための図である。
を説明するための図である。
【図３】検査処理部における画像処理方法を説明する図
である。
である。
【図４】検査処理部における画像処理方法を説明する図
である。
である。
１…検査装置 ２…搬送部 ３…単色光光源 ４…光検出器 ５…検査処理部 ６…画像表示部 １０…被検査体 Ｆ…透明膜 Ｒ1 ，Ｒ2 …反射光 Ｓ…基板
Claims (3)
- 【請求項１】 透明膜に単色光光源から所定の入射角度
で検査光としての単色光を照射し、透明膜表面において
反射された反射光Ｒ1 および透明膜の裏面側界面で反射
された反射光Ｒ2 の干渉光を光検出器で検出し、所定量
以上の光強度変化を生じさせた透明膜の領域を検出する
ことを特徴とする透明膜の検査方法。 - 【請求項２】 前記単色光光源はナトリウムランプであ
ることを特徴とする請求項１に記載の透明膜の検査方
法。 - 【請求項３】 前記単色光光源から透明膜に照射する単
色光の入射角度θ1は３０〜７０°の範囲であり、反射
角度θ2 が２０〜６０°の範囲である反射光Ｒ1 と検査
光Ｒ2 を前記光検出器が検出することを特徴とする請求
項１または請求項２に記載の透明膜の検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21532596A JP3631856B2 (ja) | 1996-07-26 | 1996-07-26 | 透明膜の検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21532596A JP3631856B2 (ja) | 1996-07-26 | 1996-07-26 | 透明膜の検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1038753A true JPH1038753A (ja) | 1998-02-13 |
| JP3631856B2 JP3631856B2 (ja) | 2005-03-23 |
Family
ID=16670438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21532596A Expired - Fee Related JP3631856B2 (ja) | 1996-07-26 | 1996-07-26 | 透明膜の検査方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3631856B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007520077A (ja) * | 2004-01-30 | 2007-07-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 部品の消耗を監視するための方法とシステム |
| JP2007286000A (ja) * | 2006-04-20 | 2007-11-01 | Dainippon Printing Co Ltd | 検査装置、検査方法、及び検査処理プログラム |
| CN100427877C (zh) * | 2005-03-31 | 2008-10-22 | 大日本网目版制造株式会社 | 不匀检查装置以及不匀检查方法 |
| JP2012159399A (ja) * | 2011-02-01 | 2012-08-23 | Toray Ind Inc | 多面取り基板の欠陥検査方法 |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS533363A (en) * | 1976-06-30 | 1978-01-13 | Canon Inc | Measurement method and measurement device |
| JPS53125865A (en) * | 1977-04-11 | 1978-11-02 | Fujitsu Ltd | Inspection of alumite substrate |
| JPS57117251A (en) * | 1980-12-31 | 1982-07-21 | Ibm | Device for monitoring thickness change |
| JPS6412208A (en) * | 1987-07-04 | 1989-01-17 | Toyo Boseki | Measurement of film thickness and/or refractive index |
| JPH0494533A (ja) * | 1990-08-10 | 1992-03-26 | Fujitsu Ltd | 被エッチング膜の膜厚検出方法、膜厚検出装置及びエッチング装置 |
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| JPH09133517A (ja) * | 1995-09-06 | 1997-05-20 | Seiko Epson Corp | 分布測定装置 |
-
1996
- 1996-07-26 JP JP21532596A patent/JP3631856B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
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|---|---|
| JP3631856B2 (ja) | 2005-03-23 |
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