JP2000146537A5 - - Google Patents

Description

【発明の名称】パターン欠陥検出装置およびそれを用いたパターン欠陥修正装置

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、パターン欠陥検出装置および修正装置に関し、特にＬＣＤ（液晶ディスプレイ）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）などのフラットパネルディスプレイの基板に形成された透明電極の欠陥を検出するようなパターン欠陥検出装置およびそれを用いたパターン欠陥修正装置に関する。

【０００４】
図７は従来の反射型明視野型光学系を示す図である。図７において、照明光源１からの光はダイクロックミラー２で反射され、対物レンズ３で集光されて対象物４に照射される。対象物４からの反射像は対物レンズ３，ダイクロックミラー２を介してＣＣＤ素子５によって撮像され、対象物４の色や濃度が観察される。図７は反射型の明視野型光学系を示したが、照明光源１を対象物４の下側に配置し、対象物４の透過像をＣＣＤ素子５で撮像する透過型のものもある。

【０００５】
図８は比較検査法を説明するための図である。比較検査法は、対象物４の反射光の輝度レベルと、これに隣接する対象物４の輝度パターンとを比較し、不一致部分を欠陥とする方法である。たとえばピッチｐのパターンに対して、図８（ａ）に示すような輝度信号が得られたとき、画素ｎを検査画素とすると、画素ｎの輝度値Ｃ（ｎ）と画素（ｎ＋ｐ）の輝度値Ｃ（ｎ＋ｐ）との差分値が図８（ｂ）に示すようなあるしきい値以上のとき不一致であると判別する。

【００１３】
それゆえに、この発明の主たる目的は、光学的には検出が困難であった透明な対象物の欠陥を検出することが可能なパターン欠陥検出装置およびそれを用いたパターン欠陥修正装置を提供することである。

【００１４】
【課題を解決するための手段】
この発明に係るパターン欠陥検出装置は、基板上に形成された透明パターンの欠陥を検出する欠陥検出装置であって、対象物の微分干渉像を抽出するための微分干渉型光学系を備えたものである。
好ましくは、さらに、微分干渉型光学系より得られる対象物の微分干渉像を撮像して画像信号を出力する撮像手段が設けられる。

【００１５】
また好ましくは、微分干渉型光学系は、撮像手段の光軸に設けられる対物レンズと、ウォラストンプリズムと、照明用光源と、照明用光源からの光を直線偏光にして光軸に導くためのポラライザと、対象物からの反射光を入射光と干渉させて撮像手段に導くアナライザとを含む。

【００１６】
また好ましくは、さらに、撮像手段によって撮像された画像信号を処理して欠陥部位を検出する画像処理手段が設けられる。

【００１７】
また好ましくは、画像処理手段は、対象物の検査すべき領域を予め登録しておき、撮像された画像データのうち予め登録されている領域の画像データと隣接する画像データとを比較して欠陥を検査する。
また好ましくは、さらに、対物レンズと照明用光源とからなる明視野型光学系と、微分干渉型光学系と明視野型光学系とを切換えるための切換手段とが設けられる。

【００１８】
また、この発明に係るパターン欠陥修正装置は、上記パターン欠陥検出装置と、そのパターン欠陥検出装置によって検出された欠陥部位を修正する修正手段とを備えたものである。
好ましくは、修正手段は、パターン欠陥修正装置によって検出された欠陥部位にレーザ光を照射して修正するレーザ光源を含む。

【００１９】
また好ましくは、レーザ光源で修正される修正幅を検査エリア毎に予め登録しておき、その幅以上の大きさで修正されるのを防止する。

Claims (9)

1. 基板上に形成されたパターンの欠陥を検出するパターン欠陥検出装置であって、
   対象物の微分干渉像を抽出するための微分干渉型光学系を備えた、パターン欠陥検出装置。
2. さらに、前記微分干渉型光学系より得られる前記対象物の微分干渉像を撮像して画像信号を出力する撮像手段を備えた、請求項１に記載のパターン欠陥検出装置。
3. 前記微分干渉型光学系は、前記撮像手段の光軸に設けられる対物レンズと、ウォラストンプリズムと、照明用光源と、照明用光源からの光を直線偏光にして前記光軸に導くためのポラライザと、前記対象物からの反射光を干渉させて前記撮像手段に導くアナライザとを含むことを特徴とする、請求項２に記載のパターン欠陥検出装置。
4. さらに、前記撮像手段によって撮像された画像信号を処理して欠陥部位を検出する画像処理手段を備えた、請求項２または請求項３に記載のパターン欠陥検出装置。
5. 前記画像処理手段は、前記対象物の検査すべき領域を予め登録しておき、前記撮像手段によって撮像された画像データのうち、前記予め登録されている領域の画像データと隣接する画像データとを比較して欠陥を検出することを特徴とする、請求項４に記載のパターン欠陥検出装置。
6. さらに、対物レンズと照明用光源とからなる明視野型光学系と、
   前記微分干渉型光学系と前記明視野型光学系とを切換えるための切換手段とを備えた、請求項１から請求項５までのいずれかに記載のパターン欠陥検出装置。
7. 請求項１から請求項６までのいずれかに記載のパターン欠陥検出装置と、該パターン欠陥検出装置によって検出された欠陥部位を修正する修正手段とを備えた、パターン欠陥修正装置。
8. 前記修正手段は、前記パターン欠陥修正装置によって検出された欠陥部位にレーザ光を照射して修正するレーザ光源を含む、請求項７に記載のパターン欠陥修正装置。
9. 前記レーザ光源による修正幅を検査エリア毎に予め登録しておき、その幅以上の大きさで修正されるのを防止することを特徴とする、請求項８に記載のパターン欠陥修正装置。