KR101176475B1 - 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계 - Google Patents

유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계 Download PDF

Info

Publication number
KR101176475B1
KR101176475B1 KR1020110061024A KR20110061024A KR101176475B1 KR 101176475 B1 KR101176475 B1 KR 101176475B1 KR 1020110061024 A KR1020110061024 A KR 1020110061024A KR 20110061024 A KR20110061024 A KR 20110061024A KR 101176475 B1 KR101176475 B1 KR 101176475B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light emitting
organic light
optical system
unit
laser
Prior art date
Application number
KR1020110061024A
Other languages
English (en)
Inventor
이준정
원재웅
김선주
이천재
이용우
이효성
박원서
Original Assignee
주식회사 코윈디에스티
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 코윈디에스티 filed Critical 주식회사 코윈디에스티
Priority to KR1020110061024A priority Critical patent/KR101176475B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101176475B1 publication Critical patent/KR101176475B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/03—Observing, e.g. monitoring, the workpiece
    • B23K26/032—Observing, e.g. monitoring, the workpiece using optical means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/073—Shaping the laser spot
    • B23K26/0738—Shaping the laser spot into a linear shape
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/861—Repairing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

본 발명은 유기전계발광소자의 다층박막의 불량지점을 검출하고 리페어하는 장비의 광학계에 관한 것으로, 특히 본 발명에 따른 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계는 레이저 빔을 발진하는 레이저 발진부와 상기 레이저 발진부로부터 조사된 레이저 빔의 방향을 전환하여 유기발광소자의 다층박막에 전달하는 빔전달부, 그리고 상기 레이저 빔의 사이즈를 변환시켜주는 빔크기 조절부 및 상기 유기발광층 이미지를 실시간으로 촬영하는 영상부를 포함하며, 상기 레이저 빔의 광경로상에 배치되는 미분간섭광학계를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 3차원 영상을 구현하는 미분간섭광학계를 구비하여 유기전계발광소자의 생산과정에서 발생하는 다층 박막상의 불량위치를 3차원영상을 통해 정확하게 파악하여 리페어 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계{DIC OPTICS FOR AMOLED REPAIR}
본 발명은 유기전계발광소자의 다층박막의 불량지점을 검출하고 리페어하는 장비의 광학계에 관한 것이다.
OLED는 형광 또는 인광 유기물 박막에 전류를 흘리면 전자와 정공이 유기물층에서 결합하면서 빛이 발생하는 원리를 이용한 자체 발광형 디스플레이를 말한다. 이때 발광층을 구성하는 유기물질에 따라 빛의 색깔이 달라진다. OLED는 다시 수동형인 PM(Passive Matrix) OLED와 능동형인 AM OLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diodes)로 나뉜다. PM OLED는 하나의 라인 전체가 한꺼번에 발광하여 구동하는 라인 구동방식인 데 비하여, AM OLED는 발광소자가 각각 구동하는 개별 구동방식이다.
이러한 OLED의 발광원리를 도 1에 도시한 도면을 참조하여 설명하면, 애노드 전극(4)과 캐소드 전극(2) 사이에 전압이 인가되면, 캐소드전극(2)으로부터 발생한 전자는 전자 주입층(1a) 및 전자 수송층(1b)을 통해 발광층(1c) 쪽으로 이동된다. 또한, 애노드 전극(4)으로부터 발생된 정공은 정공 주입층(1e) 및 정공 수송층(1d)을 통해 발광층(1c) 쪽으로 이동한다. 이에 따라, 발광층(1c)에서는 전자수송층(1b)과 정공수송층(1b)으로부터 공급되어진 전자와 전공의 재결합으로 엑시톤(EXITON)이 형성되고, 이러한 엑시톤은 다시 기저상태로 여기되면서 일정한 에너지의 빛을 애노드 전극(4)을 통하여 외부로 방출됨으로써 화상이 표시되게 된다.
그러나, 이러한 OLED의 발광층에 전도성 이물(Conductive particle)이 존재하게 되면, 이러한 전도성 이물은 특정 노드(NODE)로 작용하여 상술한 발광을 위해 전자와 전공의 이동이 영향을 받아 발광층에 불량을 가져 오게 된다. 이러한 발광층이나 다층 박막 내부에 불량이 발생하는 경우, 현재까지는 정확한 불량 지점을 2차원적인 평면구조에서 파악하게 되는바, 그 정확도에 한계가 있어왔다.
본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 3차원 영상을 구현하는 미분간섭광학계를 구비하여 유기전계발광소자의 생산과정에서 발생하는 다층 박막상의 불량위치를 3차원영상을 통해 정확하게 파악하여 리페어 효율을 향상시킬 수 있는 3차원 광학계를 제공하는데 있다.
상술한 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 본 발명은 레이저 빔을 발진하는 레이저 발진부; 상기 레이저 발진부로부터 조사된 레이저 빔의 방향을 전환하여 유기발광소자의 다층박막에 전달하는 빔전달부; 상기 레이저 빔의 사이즈를 변환시켜주는 빔크기 조절부; 및 상기 유기발광층 이미지를 실시간으로 촬영하는 영상부;를 포함하며, 상기 레이저 빔의 광경로상에 배치되는 미분간섭광학계를 더 포함하는 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계를 제공할 수 있도록 한다.
또한, 상기 미분간섭광학계는, 상기 영상부의 전방에 배치되는 편광발생모듈 및 편광보상모듈과, 상기 대물렌즈의 전방에 배치되는 위상차발생모듈을 포함하여 구성될 수 있다.
이 경우 상기 편광발생모듈은 상기 영상부의 낙사 조명의 전방에 배치되며, 상기 편광보상모듈은 상기 영상부의 메인카메라 전방에 배치될 수 있다.
또한, 상기 편광발생모듈 및 편광보상모듈, 위상차발생모듈은 3차원 측정이 필요한 경우에만 삽입될 수 있도록 분리형으로 구성될 수 있다.
아울러, 본 발명에 따른 상기 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계는, 상기 편광발생모듈 및 편광보상모듈의 편광정도에 따라 3차원 영상의 정도를 조절하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 상기 빔크기 조절부는, 모터로 구동되는 슬릿; 슬릿의 크기 및 위치를 확인할 수 있는 슬릿조명광원; 및 상기 슬릿조명광원으로부터 입사되는 빛의 진로를 변경시키기 위한 슬릿조명용 미러;를 포함하여 구성될 수 있으며, 이 경우 상기 슬릿조명용 미러는, 하프미러 또는 인아웃(In Out) 구동이 가능한 전반사 미러로 구성될 수 있다.
또한, 상기 빔 전달부는, 상기 슬릿에 의해 변형된 레이저 빔의 형상을 만들어주는 레이저용 결상렌즈; 및 레이저 빔을 대물렌즈로 입사시켜주는 레이저용 하프미러를 포함하여 구성될 수 있다.
아울러, 상기 영상부는, 가공시료를 비추기 위한 조명장치 및 이미지용 결상렌즈를 더 포함하여 구성될 수 있다.
또한, 상기 이미지용 결상렌즈는, 레이저용 결상렌즈와 배율과 코팅이 다른 결상렌즈로 구성될 수 있다.
또한, 상기 조명장치는, 낙사조명장치 또는 투과조명장치일 수 있으며, 상기 낙사조명장치는, 낙사조명용 하프미러를 포함하여 구성되며, 상기 낙사조명용 하프미러는, 큐브타입 하프미러로 구성될 수 있다.
아울러, 상기 오토포커스부는, 초점을 확인하기 위한 오토포커스용 카메라;
초점 이미지를 상기 오토포커스용 카메라로 입사시키기 위한 오토포커스 하프미러; 및 상기 대물렌즈를 Z축상에서 구동시키기 위한 Z축 모션을 더 포함하여 구성될 수 있다.
본 발명에 따르면, 차원 영상을 구현하는 미분간섭광학계를 구비하여 유기전계발광소자의 생산과정에서 발생하는 다층 박막상의 불량위치를 3차원영상을 통해 정확하게 파악하여 리페어 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 일반적인 OLED의 구조를 도식화한 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 광학계의 구성블럭도, 도 3은 본 발명에 따른 광학계의 구현 실시예를 도시한 것이다.
도 4는 본 발명에 따른 광학계의 검출결과를 도시한 것이다.
도 5는 본 발명에 따른 다른 광학계의 구성을 도시한 것이다.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 구성 및 작용을 구체적으로 설명한다. 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성요소는 동일한 참조부여를 부여하고, 이에 대한 중복설명은 생략하기로 한다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
본 발명은 다층 박막의 적층구조를 가지는 유기전계발광소자의 불량지점을 3차원 영상으로 파악할 수 있는 광학계에 관한 것이다. 본 발명에서의 유기전계발광소자라 함은, 수동형인 PM(Passive Matrix) OLED와 능동형인 AM OLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diodes) 모두를 포함한다.
도 2 및 도 3은 본 발명에 따른 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계(이하, '본 광학계'라 한다.)의 구성을 도시한 구성블럭도 및 광학계의 구성도이다.
도시된 도면을 참조하면, 본 발명에 따른 본 광학계는 레이저 빔을 발진하는 레이저 발진부(L), 상기 레이저 발진부로부터 조사된 레이저 빔의 방향을 전환하여 유기발광소자의 다층박막에 전달하는 빔전달부(110), 상기 레이저 빔의 사이즈를 변환시켜주는 빔크기 조절부(120) 및 상기 유기발광층 이미지를 실시간으로 촬영하는 영상부(130)를 포함하며, 특히, 상기 레이저 빔의 광경로상에 배치되는 미분간섭광학계(A,B,C)를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. 또한, 물론, 여기에 유기발광층의 상부의 대물렌즈 초점을 조정하기 위한 오토포커스부(140) 및 대물렌즈(150)를 더 포함하여 구성될 수 있다.
특히, 본 발명에 따른 미분간섭광학계는 상기 영상부(130)의 전방에 배치되는 편광발생모듈(B) 및 편광보상모듈(A)과, 상기 대물렌즈(150)의 전방에 배치되는 위상차발생모듈(C)을 포함하여 구성될 수 있다. 더욱 구체적으로는, 도 3에 도시된 광학계의 구조에서 상기 편광발생모듈(B)은 상기 영상부의 낙사 조명(133)의 전방에 배치되며, 상기 편광보상모듈(A)은 상기 영상부의 메인카메라(131) 전방에 배치될 수 있다. 아울러, 상기 위상차발생모듈(C)은 대물렌즈(150)의 상부에 배치될 수 있다.
이상의 미분간섭광학계의 구성은, AMOLED 등의 유기전계발광소자의 생산과정에서 발생하는 불량을 수리하는데 있어서, 다층박막상의 정확한 불량위치를 파악하기 위하여 3차원영상을 구현할 수 있도록 하며, 특히 본 광학계상에 배치되는 편광발생모듈과 편광보상모듈의 편광정도에 따라서 구현되는 3차원 영상의 정도를 조절할 수 있도록 한다. 물론, 이 경우 상기 편광발생모듈과 편광보상모듈, 위상차발생모듈은 3차원 측정이 필요한 경우에만 삽입할 수 있는 분리형 구조로 구현할 수 있도록 함이 더욱 바람직하다.
상기 편광발생모듈(B) 및 편광보상모듈(A)은 각각 편광자를 포함하여 구성되며, 상기 대물렌즈(150)의 전방에 배치되는 위상차발생모듈(C)은 DIC(Differential Interference Contrast) 프리즘를 포함하여 구성될 수 있다.
이상의 미분간섭광학계를 포함하는 본 광학계의 구성을 도 3을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 3에 도시된 본 발명에 따른 광학계의 상기 레이저 발진부(L)는 상부 광학계인 빔출력(세기) 조정수단, 빔프로파일을 변환하는 빔 형성제어수단을 더 포함할 수 있으며, 상기 빔 전달부(110)는 레이저 빔의 방향을 전환시키는 제1 방향전환미러(111)와 제2 방향전환미러(112), 레이저 빔의 형상을 만들어 주는 레이저용 결상렌즈(113) 및 레이저 빔을 대물렌즈(150)에 입사시켜 주는 레이저용 하프미러(114)로 구성될 수 있다.
상기의 레이저 발진기(L)로부터 출사된 레이저 빔은 빔의 경로를 조절하는 제1 방향전환미러(111)에 의해 하부 쪽으로 전환되어 후술되는 빔크기 조절부(120)의 슬릿(123)에 의해 가공에 적합한 크기로 변경된다. 슬릿(123)을 통과한 레이저 빔은 하부의 제2 방향전환미러(112)에 의해 반사되어 레이저용 결상렌즈(113)를 지나 레이저용 하프미러(114)에 반사되어 대물렌즈(150)에 입사하게 되며 상술한 유기전계발광소자의 발광층이나 다른 박막층에 조사되며 불량영역에 대한 레이저 가공이 진행될 수 있도록 한다.
상기의 레이저용 하프미러(114)는 레이저 축과 이미지 축을 결합(combine)시키는 광학계로 가공에 사용되는 레이저 파장의 빔은 반사시키고 시료의 이미지는 투과시켜 메인 카메라(131)로 보내주는 역할을 한다. 가시광영역 파장의 레이저를 사용할 경우 이미지 축의 가시광 영역과 겹치게 되므로 가시광 영역에서 50:50의 투과 반사 코팅을 해주어야 한다. 상기와 같은 빔 전달부(110)의 구성에 의해 유도되는 레이저 빔의 경로는 레이저용 하프미러(114)에서 이미지 축과 만나기까지는 이미지 축의 광경로와 서로 다른 경로를 가지게 된다.
상기 빔크기 조절부(120)는 모터로 구동되는 슬릿(123)과 슬릿의 크기 및 위치를 확인할 수 있는 슬릿조명광원(121) 및 슬릿조명용 하프미러(122)로 구성되어 있다. 슬릿조명광원(121)에 의해 나온 가시광의 조명은 슬릿조명용 하프미러(122)에 반사되어 레이저 빔의 경로와 동일하게 슬릿(123)을 통과한 뒤 제2 방향전환미러(112)에서 반사되어 레이저용 결상렌즈(113)를 통과하고 레이저용 하프미러(114) 의해 대물렌즈(150)에 입사하게 되며, 슬릿(123)의 영상이 유기발광소자의 발광층(S)에 맺히게 된다. 유기발광소자의 발광층(S)에 맺혀진 슬릿(123)의 이미지를 토대로 슬릿(123)의 크기 및 가공 위치를 확인하고 가공이 진행이 된다. 이때 슬릿조명용 하프미러(122)는 레이저의 출력 손실을 줄이기 위하여 레이저 조사시에는 실린더 구동에 의해 광경로에서 이탈되게 된다. 즉 가공영역 및 가공크기를 슬릿조명에 의해 확인한 뒤 레이저 발진시에는 경로에서 벗어나 슬릿조명용 하프미러(122)에 의한 레이저의 손실을 최소화한다.
위와 같이 인아웃(In Out) 구성 시는 하프미러 대신에 일반 반사미러를 사용하여도 된다. 인아웃(In Out) 기능을 사용하지 않고 가시광 영역의 레이저를 사용할 시에는 조명과 레이저의 파장이 동일 가시광이므로 가시광 영역에서 50:50의 투과 반사 코팅을 해주어야 한다. 따라서, 레이저와 슬릿조명 각각 50%의 손실을 가져온다. 영상부(130)는 메인 카메라(131)와 이미지용 결상렌즈(132), 낙사조명광원(133), 낙사조명용 하프미러(134) 및 투과조명광원(135)로 구성된다. 메인 카메라는 CCD(CMOS) 카메라가 사용된다. 낙사조명광원(133) 또는 투과조명광원(135)에 의해 유기발광소자의 다층박막(S)에 빛이 조영되고 다층박막의 이미지는 이미지용 결상렌즈(132)를 지나 메인 카메라(131)에 영상이 맺히게 된다.
상기 이미지용 결상렌즈(132)는 관찰영역(FOV: field of view)을 더 넓게 확인하기 위하여 0.5배의 배율로도 변경이 가능하다. 이때의 낙사조명용 하프미러(134)는 낙사조명광원(133)을 반사시키고 대물렌즈(150)에 의한 가공시료(S)의 영상이 메인 카메라(131)로 전달되게 하기 위해 가시광영역에서의 반사 및 투과율이 50:50이 되도록 설계된다. 만약 낙사조명광원(133)이 광량이 충분하고 투과조명광원(135)의 광량이 부족할 경우 낙사조명용 하프미러(134)의 반사 및 투과율은 30:70등의 비율로 설계될 수도 있다. 특히 상기 메인 카메라(131)의 전방에는 편광보상모듈(A)을 더 구비함이 더욱 바람직하며, 상기 편광보상모듈은 3차원 영상을 구현하는 경우에만 삽입될 수 있는 구조로 형성됨이 더욱 바람직하다.
또한, 본 발명에 따른 본 광하계는 상기 유기발광소자의 다층박막(S)에 대물렌즈의 정확한 초점을 맞추기 위하여 상기 메인 카메라(131)와 대물렌즈(150) 사이에 위치하는 오토포커스부(140)가 구비된다. 오토포커스부(140)는 대물렌즈(150)의 초점을 확인하기 위한 오토포커스용 카메라(141), 초점 이미지를 상기 오토포커스용 카메라(141)로 입사시키기 위한 오토포커스용 큐브타입 하프미러(142) 및 대물렌즈(150)를 Z축 방향(기판 방향 또는 기판 반대방향)으로 상하조정이 가능하도록 구동시키는 Z축 구동부(143)으로 구성된다. 아울러, 상기 오토포커스용 카메라(141)의 전방에는 편광발생모듈(B)이 더 구비됨이 더욱 바람직하며, 상기 편광발생모듈(B)은 3차원 영상을 구현하는 경우에만 삽입될 수 있는 구조로 형성됨이 더욱 바람직하다.
상기 유기발광소자의 다층박막(S)의 불량영역이 존재하는 부위 영상이 오토퍼커스부(241)에 의해 초점이 맞춰져서 카메라(242)에 의해 출력되고, 제어부(미도시)가 상기 취득영상을 기초로 초점 조절신호를 상기 Z축 구동부(143)로 전달하여 대물렌즈(150)의 초점이 조정된다. 상기의 대물렌즈(150)는 배율이 다른 대물렌즈를 장착해 가공 및 확인을 할 수 있도록 대물렌즈의 변경이 가능한 리볼버(미도시)에 장착이 되어 있으며 리볼버는 직선운동의 리니어(Linear) 타입 또는 회전 운동의 로타리(Rotary) 타입으로 구성할 수 있다. 아울러, 상기 대물렌즈(150)의 상부에는 위상차발생모듈(C)을 더 구비하여 상기 편광발생모듈(B)과 편광보상모듈(A)을 통해 3차원 이미지로 상기 다층박막의 불량 영역을 구현할 수 있도록 한다.
본 발명은 상술한 바와 같이 이미지 축과 레이저 축의 분리로 하프미러의 통과 횟수를 줄임으로써 기존 동축 구조에서 발생되었던 레이저의 출력손실을 줄이는 한편, 레이저용 하프미러(114)를 제외하곤 일반적인 큐브타입의 하프미러의 사용이 용이하여 더블이미지(Ghost Image)가 발생하지 않는다. 또한, 이미지 처리방식의 오토포커스용 큐브타입 하프미러(142)와 오토포커스용 카메라(141)를 추가로 장착이 용이할 뿐만 아니라 이로 인해 저하되는 광량 또한 큐브타입 하프미러(142)의 투과 반사율의 조정으로 극복이 가능하다.
도 4는 본 광학계를 이용하여 다층박막의 영상을 실제로 인식한 결과를 도시한 것으로, (a)에 도시된 것은 기존의 일반 평면 영상으로 측정되는 유기전계발광소자의 이미지이며, (b)은 본 발명에 따른 미분간섭광학계를 포함하는 본 광학계를 이용하여 측정한 결과이미지이다. 비교된 이미지와 같이, 본 광학계를 이용하여 도출되는 3차원 영상을 통해 다층박막의 불량영역을 효율적으로 도출할 수 있게 된다.
도 5는 본 발명에 따른 다른 실시예로서의 광학계를 구현한 것이다.
도시된 구성요소는 레이저발진부(L)와 방향전환미러(111)을 구비하는 구조이며, 빔크기 조절부에 해당하는 구성으로 조명광원(221)과 하프미러(222), 그리고 슬릿(223) 및 상기 슬릿 하부의 하프미러(237)가 배치되며, 이후 튜브렌즈(232) 및 튜브렌즈(232) 하부의 하프미러가 배치되는 광학계가 구비되며, 그 하부에 대물렌드(250)이 배치되며, 다층박막(S) 및 투과조명광원(235)가 배치되는 구성을 구비할 수 있다.
이러한 광학계의 구성에서도 카메라(231)의 전방에 편광보상모듈(A)가 배치되며, 낙사조명광원(233)의 전방에 편광발생모듈(B), 그리고 대물렌즈의 전방에 위상차발생모듈(C)이 배치되어 3차원 영상으로 다층박막의 구조를 도출할 수 있도록 구현될 수 있다.
전술한 바와 같은 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였다. 그러나 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 변형이 가능하다. 본 발명의 기술적 사상은 본 발명의 전술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
L: 레이저발진부
110: 빔전달부
120: 빔크기조절부
130: 영상부
140: 오토포커스부
150: 대물렌즈
A: 편광보상모듈
B: 편광발생모듈
C: 위상차발생모듈

Claims (14)

  1. 레이저 빔을 발진하는 레이저 발진부;
    상기 레이저 발진부로부터 조사된 레이저 빔의 방향을 전환하여 유기발광소자의 다층박막에 전달하는 빔전달부;
    상기 레이저 빔의 사이즈를 변환시켜주는 빔크기 조절부;
    상기 다층박막 이미지를 실시간으로 촬영하는 영상부;
    상기 다층박막 상부에 배치된 대물렌즈의 초점을 조정하기 위한 오토포커스부;
    상기 레이저 빔의 광경로상에 배치되는 미분간섭광학계;를 포함하며,
    상기 미분간섭광학계는,
    상기 영상부의 전방에 배치되는 편광발생모듈 및 편광보상모듈과,
    상기 대물렌즈의 전방에 배치되는 위상차발생모듈을 포함하여 구성되고,
    상기 빔크기 조절부는,
    모터로 구동되는 슬릿;
    슬릿의 크기 및 위치를 확인할 수 있는 슬릿조명광원; 및
    상기 슬릿조명광원으로부터 입사되는 빛의 진로를 변경시키기 위한 슬릿조명용 미러;를 포함하여 구성되는 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 편광발생모듈은 상기 영상부의 낙사 조명의 전방에 배치되며,
    상기 편광보상모듈은 상기 영상부의 메인카메라 전방에 배치되는 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 편광발생모듈, 편광보상모듈 및 위상차발생모듈은 3차원 측정이 필요한 경우에만 삽입될 수 있도록 분리형으로 구성되는 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계는,
    상기 편광발생모듈 및 편광보상모듈의 편광정도에 따라 3차원 영상의 정도를 조절하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계.
  6. 삭제
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 슬릿조명용 미러는,
    하프미러 또는 인아웃(In Out) 구동이 가능한 전반사 미러인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 빔 전달부는,
    상기 슬릿에 의해 변형된 레이저 빔의 형상을 만들어주는 레이저용 결상렌즈; 및
    레이저 빔을 대물렌즈로 입사시켜주는 레이저용 하프미러를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 영상부는,
    가공시료를 비추기 위한 조명장치 및 이미지용 결상렌즈를 더 포함하는 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 이미지용 결상렌즈는,
    레이저용 결상렌즈와 배율과 코팅이 다른 결상렌즈인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계.
  11. 청구항 9에 있어서,
    상기 조명장치는,
    낙사조명장치 또는 투과조명장치인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 낙사조명장치는,
    낙사조명용 하프미러를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 낙사조명용 하프미러는,
    큐브타입 하프미러인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계.
  14. 청구항 1에 있어서,
    상기 오토포커스부는,
    초점을 확인하기 위한 오토포커스용 카메라;
    초점 이미지를 상기 오토포커스용 카메라로 입사시키기 위한 오토포커스 하프미러; 및
    상기 대물렌즈를 Z축상에서 구동시키기 위한 Z축 모션;을 더 포함하는 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계.
KR1020110061024A 2011-06-23 2011-06-23 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계 KR101176475B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110061024A KR101176475B1 (ko) 2011-06-23 2011-06-23 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110061024A KR101176475B1 (ko) 2011-06-23 2011-06-23 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101176475B1 true KR101176475B1 (ko) 2012-08-28

Family

ID=46887707

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110061024A KR101176475B1 (ko) 2011-06-23 2011-06-23 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101176475B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020040339A1 (ko) * 2018-08-22 2020-02-27 주식회사 코윈디에스티 금속 마스크 생산 장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000146537A (ja) 1998-08-31 2000-05-26 Ntn Corp パタ―ン欠陥検出装置および修正装置
JP2008235177A (ja) 2007-03-23 2008-10-02 Sharp Corp 有機ｅｌディスプレイの製造方法及び有機ｅｌディスプレイ

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000146537A (ja) 1998-08-31 2000-05-26 Ntn Corp パタ―ン欠陥検出装置および修正装置
JP2008235177A (ja) 2007-03-23 2008-10-02 Sharp Corp 有機ｅｌディスプレイの製造方法及び有機ｅｌディスプレイ

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020040339A1 (ko) * 2018-08-22 2020-02-27 주식회사 코윈디에스티 금속 마스크 생산 장치
KR20200022189A (ko) * 2018-08-22 2020-03-03 주식회사 코윈디에스티 금속 마스크 생산 장치
KR102100361B1 (ko) * 2018-08-22 2020-04-13 주식회사 코윈디에스티 금속 마스크 생산 장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100793182B1 (ko) 라인센서 카메라를 이용한 반도체 기판의 결함검출장치 및방법
CN100582717C (zh) 高效照明表面检测系统
US9810896B2 (en) Microscope device and microscope system
US8785810B2 (en) Laser optical system, repair apparatus and method using the same
US9829441B2 (en) Wafer image inspection apparatus
TWI574000B (zh) 使用偏振光的檢查設備
KR102373287B1 (ko) 이음새없이 형성된 텔레센트릭 명시야 및 환형 암시야 조명
CN106461927A (zh) 用于显微镜的成像设备
CN103917861A (zh) 确定层厚度和/或确定带的污染程度的设备
JP6895768B2 (ja) 欠陥検査装置、および欠陥検査方法
US8604403B2 (en) Auto-focusing apparatus and auto-focusing method using the same
KR20090082195A (ko) 화상 측정기
US10985044B2 (en) Machine vision system for substrate alignment and alignment device
WO2016157291A1 (ja) 測定ヘッド及びそれを備えた偏心測定装置
KR101176475B1 (ko) 유기전계발광소자용 리페어장치의 광학계
US7315358B2 (en) Evaluation apparatus and method of optical parts
CN105842847A (zh) 一种利用微透镜阵列进行扫描的激光成像光学系统
CZ20012830A3 (cs) Optický měřič vzdálenosti s paralelním zpracováním
CN1518085B (zh) 用于快速在线电光检测晶片缺陷的方法和系统
JP2018136200A (ja) 欠陥検査装置
US20050206883A1 (en) Single source, single camera inspection system
KR101893820B1 (ko) 유기 발광 다이오드 패널의 화소 검사 장치
JP2008249454A (ja) 照明光学装置および試料検査装置
KR20210050565A (ko) 광학 검사 시스템들에 대한 멀티모달리티 멀티플렉싱 조명
JP4647090B2 (ja) 透明積層体の検査装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150817

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160808

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170816

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180917

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190819

Year of fee payment: 8