JPH1036145A - 部材接合法及びこの方法により製造した光学測定装置 - Google Patents
部材接合法及びこの方法により製造した光学測定装置Info
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- JPH1036145A JPH1036145A JP9063160A JP6316097A JPH1036145A JP H1036145 A JPH1036145 A JP H1036145A JP 9063160 A JP9063160 A JP 9063160A JP 6316097 A JP6316097 A JP 6316097A JP H1036145 A JPH1036145 A JP H1036145A
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- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/03—Cuvette constructions
- G01N21/05—Flow-through cuvettes
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
- C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
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- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/03—Cuvette constructions
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- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/03—Cuvette constructions
- G01N2021/0346—Capillary cells; Microcells
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラス、石英等の材料を含め、少なくとも接
合面の主成分がＳi Ｏ2（二酸化シリコン）である部材
同士の接合が室温でかつ簡単な工程でなし得る部材接合
法及びこの部材接合法を用いることで正確な分析をなし
うる光学測定装置を提供する。 【解決手段】 洗浄がなされたガラス基板１ａ，１ｂを
室温において適宜位置合わせを行って重ね合わせる。そ
して、両基板１ａ，１ｂ接合界面にフッ化水素酸を含む
溶液またはアルカリ溶液１０を滴下することで、滴下し
たフッ化水素酸を含む溶液またはアルカリ溶液を界面に
沿って拡散させた後、室温にて上部ガラス基板１ａに荷
重を加え、適当な時間放置することで、両基板が接合さ
れる。
合面の主成分がＳi Ｏ2（二酸化シリコン）である部材
同士の接合が室温でかつ簡単な工程でなし得る部材接合
法及びこの部材接合法を用いることで正確な分析をなし
うる光学測定装置を提供する。 【解決手段】 洗浄がなされたガラス基板１ａ，１ｂを
室温において適宜位置合わせを行って重ね合わせる。そ
して、両基板１ａ，１ｂ接合界面にフッ化水素酸を含む
溶液またはアルカリ溶液１０を滴下することで、滴下し
たフッ化水素酸を含む溶液またはアルカリ溶液を界面に
沿って拡散させた後、室温にて上部ガラス基板１ａに荷
重を加え、適当な時間放置することで、両基板が接合さ
れる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、接合面の主成分が
Ｓi Ｏ2 （二酸化シリコン）である部材同士を接合する
方法、及び、これらの部材を接合することで形成したキ
ャピラリ電気泳動装置等の光学測定装置に関する。
Ｓi Ｏ2 （二酸化シリコン）である部材同士を接合する
方法、及び、これらの部材を接合することで形成したキ
ャピラリ電気泳動装置等の光学測定装置に関する。
【０００２】
【従来技術】従来より、ガラス基板同士を接合するの
に、ガラス徐冷点以上までガラス基板を昇温し、両者を
融着して接合する融着法が広く用いられている。例え
ば、ホウケイ酸ガラス（ｐｙｒｅｘ７７４０等）の場合
は約５６０゜Ｃ、石英の場合は約１２００゜Ｃ以上に昇
温することで、それぞれの融着がなされている。
に、ガラス徐冷点以上までガラス基板を昇温し、両者を
融着して接合する融着法が広く用いられている。例え
ば、ホウケイ酸ガラス（ｐｙｒｅｘ７７４０等）の場合
は約５６０゜Ｃ、石英の場合は約１２００゜Ｃ以上に昇
温することで、それぞれの融着がなされている。
【０００３】また、キャピラリ電気泳動装置等、流路を
流れる試料に紫外線等の光を照射し、その吸収もしくは
蛍光を計測することで試料の成分分析等を行う光学測定
装置（D.Harrison et al. Analytica Chimica Acta,283
(1993)361-366 など）では、従来より一対のガラス基板
上に溝を形成し、両者を上記融着法によって接合するこ
とで試料を流すための流路を形成する試みがなされてい
る。
流れる試料に紫外線等の光を照射し、その吸収もしくは
蛍光を計測することで試料の成分分析等を行う光学測定
装置（D.Harrison et al. Analytica Chimica Acta,283
(1993)361-366 など）では、従来より一対のガラス基板
上に溝を形成し、両者を上記融着法によって接合するこ
とで試料を流すための流路を形成する試みがなされてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、石英な
どを融着する場合には、上述したように１２００゜Ｃ以
上という極めて高い温度に昇温する必要があるため、そ
の接合に際して特別な昇温装置が必要となり、また昇温
された状態での石英の保持も困難となる。
どを融着する場合には、上述したように１２００゜Ｃ以
上という極めて高い温度に昇温する必要があるため、そ
の接合に際して特別な昇温装置が必要となり、また昇温
された状態での石英の保持も困難となる。
【０００５】また、ガラス基板上に形成された溝を流路
とする光学測定装置では、光を多重反射させ光路長を稼
ぐために試料流路を構成するガラス基板上の溝に金属膜
が形成される場合があるが、かかる場合、ガラス基板同
士を接合する際に超高温のため金属膜が変質し、十分な
反射効率が得られなかった。
とする光学測定装置では、光を多重反射させ光路長を稼
ぐために試料流路を構成するガラス基板上の溝に金属膜
が形成される場合があるが、かかる場合、ガラス基板同
士を接合する際に超高温のため金属膜が変質し、十分な
反射効率が得られなかった。
【０００６】特に、紫外線領域の光を用いる場合、用い
るガラス基板はその透過率の特性から石英に限定され、
また、紫外線の反射セルを一体形成する場合金属膜にＡ
ｌ（アルミニウム）を用いることが反射効率の点から望
ましいが、石英の融点が高くＡｌが非常に熱に弱いこと
から、融着による場合は、Ａｌが変質し、実質的に金属
膜にＡｌを用いることが困難となる。
るガラス基板はその透過率の特性から石英に限定され、
また、紫外線の反射セルを一体形成する場合金属膜にＡ
ｌ（アルミニウム）を用いることが反射効率の点から望
ましいが、石英の融点が高くＡｌが非常に熱に弱いこと
から、融着による場合は、Ａｌが変質し、実質的に金属
膜にＡｌを用いることが困難となる。
【０００７】さらに、融着による場合、基板同士の接合
に分布ができる点接触となり、荷重のかかりかたのバラ
ツキなどにより、基板全域を均質に接合することが困難
となる。また、融着は熱処理用炉中への搬送を伴うた
め、基板同士を正確に位置合わせた状態で、貼り合わせ
ることが困難となる。
に分布ができる点接触となり、荷重のかかりかたのバラ
ツキなどにより、基板全域を均質に接合することが困難
となる。また、融着は熱処理用炉中への搬送を伴うた
め、基板同士を正確に位置合わせた状態で、貼り合わせ
ることが困難となる。
【０００８】このため、従来の光学測定装置では、試料
を均一に泳動させることや、高い反射率での光の多重反
射を行うことができず、十分な検出精度が得られなかっ
た。そこで、本発明はかかる問題点を解消するため、ガ
ラス、石英等の材料を含め、少なくとも接合面の主成分
がＳi Ｏ2 （二酸化シリコン）である部材同士の接合が
室温でかつ簡単な工程でなし得る部材接合法及びこの部
材接合法を用いることで正確な分析をなしうる光学測定
装置の提供を目的とする。
を均一に泳動させることや、高い反射率での光の多重反
射を行うことができず、十分な検出精度が得られなかっ
た。そこで、本発明はかかる問題点を解消するため、ガ
ラス、石英等の材料を含め、少なくとも接合面の主成分
がＳi Ｏ2 （二酸化シリコン）である部材同士の接合が
室温でかつ簡単な工程でなし得る部材接合法及びこの部
材接合法を用いることで正確な分析をなしうる光学測定
装置の提供を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明にかかる部材接合法は、少なくとも接合面の
主成分がＳi Ｏ2 （二酸化シリコン）である部材同士を
接合する場合において、前記部材を溶解させるための溶
液、例えばフッ化水素酸を含む溶液またはアルカリ溶液
を接合面に介在させることを特徴とし、例えば、洗浄が
なされた一対のガラス基板同士を室温において適宜位置
合わせを行って重ね合わせ、両基板の接合界面にフッ化
水素酸を含む溶液を滴下し、滴下した溶液を界面に沿っ
て拡散させた後、室温にて上部ガラス基板に荷重を加
え、適当な時間放置することで、両基板が接合される。
に、本発明にかかる部材接合法は、少なくとも接合面の
主成分がＳi Ｏ2 （二酸化シリコン）である部材同士を
接合する場合において、前記部材を溶解させるための溶
液、例えばフッ化水素酸を含む溶液またはアルカリ溶液
を接合面に介在させることを特徴とし、例えば、洗浄が
なされた一対のガラス基板同士を室温において適宜位置
合わせを行って重ね合わせ、両基板の接合界面にフッ化
水素酸を含む溶液を滴下し、滴下した溶液を界面に沿っ
て拡散させた後、室温にて上部ガラス基板に荷重を加
え、適当な時間放置することで、両基板が接合される。
【００１０】また、洗浄がなされた下部ガラス基板上に
フッ化水素酸を含む溶液を滴下させた後、上部ガラス基
板を重ねて適宜位置合わせを行い、室温にて上部ガラス
基板に荷重を加え、適当な時間放置することでも両基板
の接合をなしうる。
フッ化水素酸を含む溶液を滴下させた後、上部ガラス基
板を重ねて適宜位置合わせを行い、室温にて上部ガラス
基板に荷重を加え、適当な時間放置することでも両基板
の接合をなしうる。
【００１１】前記洗浄は、アセトン、メタノールによる
洗浄、Ｈ2 ＳＯ4 とＨ2 Ｏ2 の混合液を用いた洗浄、Ｎ
Ｈ3 とＨ2 Ｏ2 と水の混合液を用いた洗浄、純水を用い
た洗浄等が好ましく、特にこれの洗浄を適宜組み合わせ
ればより洗浄効果が高まる。前記フッ化水素酸を含む溶
液は、フッ化水素酸と水との混合液、例えば１％の混合
比のものや、バッファードフッ化水素酸（フッ化アンモ
ニウムとフッ化水素酸の混合液）、あるいは市販されて
いるフッ化水素酸原液（４６％）等であればよい。
洗浄、Ｈ2 ＳＯ4 とＨ2 Ｏ2 の混合液を用いた洗浄、Ｎ
Ｈ3 とＨ2 Ｏ2 と水の混合液を用いた洗浄、純水を用い
た洗浄等が好ましく、特にこれの洗浄を適宜組み合わせ
ればより洗浄効果が高まる。前記フッ化水素酸を含む溶
液は、フッ化水素酸と水との混合液、例えば１％の混合
比のものや、バッファードフッ化水素酸（フッ化アンモ
ニウムとフッ化水素酸の混合液）、あるいは市販されて
いるフッ化水素酸原液（４６％）等であればよい。
【００１２】前記アルカリ溶液は、ＫＯＨ、ＮａＯＨ、
ＮＨ4 ＯＨなどの無機アルカリ溶液、ＴＭＡＨ（水酸化
テトラメチルアンモニウム）などの有機アルカリ溶液等
であればよい。
ＮＨ4 ＯＨなどの無機アルカリ溶液、ＴＭＡＨ（水酸化
テトラメチルアンモニウム）などの有機アルカリ溶液等
であればよい。
【００１３】接合される一方の部材と他方の部材は、石
英と石英、石英とホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス
同士、石英とシリコン酸化膜付部材、シリコン酸化膜付
部材同士、ホウケイ酸ガラスとシリコン酸化膜付部材、
のいずれかであれることが望ましい。
英と石英、石英とホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス
同士、石英とシリコン酸化膜付部材、シリコン酸化膜付
部材同士、ホウケイ酸ガラスとシリコン酸化膜付部材、
のいずれかであれることが望ましい。
【００１４】また、本発明は、流路形成法であって、一
対のガラス基板を用い、少なくとも一方の前記ガラス基
板表面に溝を形成し、前記両ガラス基板を前記部材接合
法により接合することで、流路を形成することを特徴と
する。
対のガラス基板を用い、少なくとも一方の前記ガラス基
板表面に溝を形成し、前記両ガラス基板を前記部材接合
法により接合することで、流路を形成することを特徴と
する。
【００１５】また、本発明は、試料の導入口、導入され
た試料の流路、および試料の排出口を有し、前記流路の
少なくとも一部の領域を測定室として用いる検出計セル
であって、それぞれ一対のガラス基板を有し、少なくと
も一方の前記ガラス基板表面に溝を形成し、両ガラス基
板をフッ化水素酸を含む溶液またはアルカリ溶液などを
その接合面に介在させ接合することで前記流路を形成し
たことを特徴とする。前記検出計セルは、液体試料を導
入するための試料導入口、導入された液体試料の流路、
および液体試料を排出する試料排出口を有し、前記流路
のうちの少なくとも一部の領域を測定室とし、前記ガラ
ス接合法により接合された２枚のガラス基板と、少なく
とも一方のガラス基板の接合面に前記流路となる溝部が
形成されるとともに、前記測定室となる溝部の内面もし
くは溝部の裏側ガラス面に第１の光学的反射膜が形成さ
れ、他方のガラス基板の接合面には、前記溝部の前記第
１の光学反射膜に対向する位置に第２の光学的反射膜が
形成され、かつ、前記測定室となる溝部の一部に入射窓
および出射窓が設けられ、入射窓から入射した光が第
１、第２光学反射膜を介して流路内を多重反射し、出射
窓から出射するようにしたことを特徴とする。
た試料の流路、および試料の排出口を有し、前記流路の
少なくとも一部の領域を測定室として用いる検出計セル
であって、それぞれ一対のガラス基板を有し、少なくと
も一方の前記ガラス基板表面に溝を形成し、両ガラス基
板をフッ化水素酸を含む溶液またはアルカリ溶液などを
その接合面に介在させ接合することで前記流路を形成し
たことを特徴とする。前記検出計セルは、液体試料を導
入するための試料導入口、導入された液体試料の流路、
および液体試料を排出する試料排出口を有し、前記流路
のうちの少なくとも一部の領域を測定室とし、前記ガラ
ス接合法により接合された２枚のガラス基板と、少なく
とも一方のガラス基板の接合面に前記流路となる溝部が
形成されるとともに、前記測定室となる溝部の内面もし
くは溝部の裏側ガラス面に第１の光学的反射膜が形成さ
れ、他方のガラス基板の接合面には、前記溝部の前記第
１の光学反射膜に対向する位置に第２の光学的反射膜が
形成され、かつ、前記測定室となる溝部の一部に入射窓
および出射窓が設けられ、入射窓から入射した光が第
１、第２光学反射膜を介して流路内を多重反射し、出射
窓から出射するようにしたことを特徴とする。
【００１６】また、本発明は、流路を流れる試料を透過
した光を計測することで試料成分の分析を行う光学測定
装置であって、一対のガラス基板を有し、少なくとも一
方の前記ガラス基板表面に溝を形成し、両ガラス基板を
フッ化水素酸を含む溶液またはアルカリ溶液などをその
接合面に介在させ接合することで前記流路を形成したこ
とを特徴とする。
した光を計測することで試料成分の分析を行う光学測定
装置であって、一対のガラス基板を有し、少なくとも一
方の前記ガラス基板表面に溝を形成し、両ガラス基板を
フッ化水素酸を含む溶液またはアルカリ溶液などをその
接合面に介在させ接合することで前記流路を形成したこ
とを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図１〜
図５に基づいて説明する。
図５に基づいて説明する。
【００１８】図１ａ〜ｄは、本発明にかかる部材接合法
の一例として、一対のガラス基板を貼り合わせる工程の
概略図を示している。
の一例として、一対のガラス基板を貼り合わせる工程の
概略図を示している。
【００１９】まず、図１ａ，ｂに示されるように、洗浄
がなされたガラス基板１ａ，１ｂを室温において適宜位
置合わせを行って重ね合わせる。なお、ここでの洗浄
は、アセトン、メタノールによる有機洗浄、Ｈ2 ＳＯ4
とＨ2 Ｏ2 の混合液を用いた洗浄、ＮＨ3 とＨ2 Ｏ2 と
水の混合液を用いた洗浄、純水を用いた洗浄を組み合わ
せることにより行われる。
がなされたガラス基板１ａ，１ｂを室温において適宜位
置合わせを行って重ね合わせる。なお、ここでの洗浄
は、アセトン、メタノールによる有機洗浄、Ｈ2 ＳＯ4
とＨ2 Ｏ2 の混合液を用いた洗浄、ＮＨ3 とＨ2 Ｏ2 と
水の混合液を用いた洗浄、純水を用いた洗浄を組み合わ
せることにより行われる。
【００２０】また、試料を流す流路を構成するための溝
がガラス基板に形成され、さらにＡｌ等の光を反射させ
るための金属膜がこの溝に形成されている場合には、そ
の金属膜が次工程で滴下されるフッ化水素酸を含む溶液
によりダメージを受けないように、金属膜上部にフォト
レジスト膜等の保護膜を形成すればよい。
がガラス基板に形成され、さらにＡｌ等の光を反射させ
るための金属膜がこの溝に形成されている場合には、そ
の金属膜が次工程で滴下されるフッ化水素酸を含む溶液
によりダメージを受けないように、金属膜上部にフォト
レジスト膜等の保護膜を形成すればよい。
【００２１】次に、図１ｃに示されるように、両基板１
ａ，１ｂ接合界面にフッ化水素酸を含む溶液またはアル
カリ溶液１０を滴下すると、滴下されたフッ化水素酸を
含む溶液またはアルカリ溶液１０は両基板１ａ，１ｂ接
合界面に沿って拡散する。
ａ，１ｂ接合界面にフッ化水素酸を含む溶液またはアル
カリ溶液１０を滴下すると、滴下されたフッ化水素酸を
含む溶液またはアルカリ溶液１０は両基板１ａ，１ｂ接
合界面に沿って拡散する。
【００２２】なお、ここで用いるフッ化水素酸を含む溶
液は、フッ化水素酸と水との混合液、例えば１％の混合
比のものや、バッファードフッ化水素酸（フッ化アンモ
ニウムとフッ化水素酸の混合液）、あるいは市販されて
いるフッ化水素酸原液（４６％）を用いることができ、
また、アルカリ溶液は、ＫＯＨ、ＮａＯＨ、ＮＨ4 ＯＨ
などの無機アルカリ溶液、ＴＭＡＨ（水酸化テトラメチ
ルアンモニウム）などの有機アルカリ溶液等を用いるこ
とができる。
液は、フッ化水素酸と水との混合液、例えば１％の混合
比のものや、バッファードフッ化水素酸（フッ化アンモ
ニウムとフッ化水素酸の混合液）、あるいは市販されて
いるフッ化水素酸原液（４６％）を用いることができ、
また、アルカリ溶液は、ＫＯＨ、ＮａＯＨ、ＮＨ4 ＯＨ
などの無機アルカリ溶液、ＴＭＡＨ（水酸化テトラメチ
ルアンモニウム）などの有機アルカリ溶液等を用いるこ
とができる。
【００２３】そして、図１ｄに示されるように、室温に
て上部ガラス基板１ａに荷重、例えば３１ｇｆ／ｃｍ2
を加え、適当な時間、例えば２４時間放置する。なお、
上述したように、ガラス基板に溝及びＡｌ等の光反射用
金属膜が形成されている場合には、接合後純水でリンス
し、表面の余分のフッ化水素酸を含む溶液またはアルカ
リ溶液を除去した後、アセトンなどでこの金属膜上に形
成した保護用のレジスト膜を除去すればよい。
て上部ガラス基板１ａに荷重、例えば３１ｇｆ／ｃｍ2
を加え、適当な時間、例えば２４時間放置する。なお、
上述したように、ガラス基板に溝及びＡｌ等の光反射用
金属膜が形成されている場合には、接合後純水でリンス
し、表面の余分のフッ化水素酸を含む溶液またはアルカ
リ溶液を除去した後、アセトンなどでこの金属膜上に形
成した保護用のレジスト膜を除去すればよい。
【００２４】図２ａ〜ｄは、本発明にかかるガラス接合
法により一対のガラス基板を貼り合わせる他の工程の実
施例を示している。
法により一対のガラス基板を貼り合わせる他の工程の実
施例を示している。
【００２５】すなわち、図２ａ，ｂに示されるように、
洗浄がなされたガラス基板１ｂ上にフッ化水素酸を含む
溶液またはアルカリ溶液１０を滴下させた後、図２ｃに
示されるように、ガラス基板１ａを重ねて適宜位置合わ
せを行い、図２ｄに示されるように、室温にて上部ガラ
ス基板１ａに荷重を加え、適当な時間放置する。
洗浄がなされたガラス基板１ｂ上にフッ化水素酸を含む
溶液またはアルカリ溶液１０を滴下させた後、図２ｃに
示されるように、ガラス基板１ａを重ねて適宜位置合わ
せを行い、図２ｄに示されるように、室温にて上部ガラ
ス基板１ａに荷重を加え、適当な時間放置する。
【００２６】なお、ガラス基板に溝及びＡｌ等の光反射
用金属膜が形成されている場合には、上述したように、
金属膜上に保護用のレジスト膜を形成した後、フッ化水
素酸を含む溶液またはアルカリ溶液を滴下し、両基板を
接合し、純水でリンスして表面の余分なフッ化水素酸を
含む溶液またはアルカリ溶液を除去した後、アセトンな
どで保護用のレジスト膜を除去すればよい。
用金属膜が形成されている場合には、上述したように、
金属膜上に保護用のレジスト膜を形成した後、フッ化水
素酸を含む溶液またはアルカリ溶液を滴下し、両基板を
接合し、純水でリンスして表面の余分なフッ化水素酸を
含む溶液またはアルカリ溶液を除去した後、アセトンな
どで保護用のレジスト膜を除去すればよい。
【００２７】以上の通り、本発明にかかるガラス接合法
によれば、ガラス同士を常温で接合でき、しかも融着す
る場合のように特殊な加熱装置や保持具などを使用する
ことなく、より簡単な手順でガラス接合をなしうる。
によれば、ガラス同士を常温で接合でき、しかも融着す
る場合のように特殊な加熱装置や保持具などを使用する
ことなく、より簡単な手順でガラス接合をなしうる。
【００２８】特に、ガラス基板に溝及びＡｌ等の光反射
用金属膜を形成した場合であっても、溝及び金属膜に何
等の損傷を与えることなくガラス基板の接合が可能とな
る。
用金属膜を形成した場合であっても、溝及び金属膜に何
等の損傷を与えることなくガラス基板の接合が可能とな
る。
【００２９】また、本発明では、ガラス同士が接合界面
における毛管現象により接合されるため、基板全面にわ
たり均一な接合が可能となる。
における毛管現象により接合されるため、基板全面にわ
たり均一な接合が可能となる。
【００３０】なお、以上ガラス基板同士を接合する場合
を例に説明したが、本発明はこれに限らず、少なくとも
接合面の主成分がＳi Ｏ2 （二酸化シリコン）である部
材同士、例えば、石英と石英、石英とホウケイ酸ガラ
ス、ホウケイ酸ガラス同士、石英とシリコン酸化膜付部
材、シリコン酸化膜付部材同士、ホウケイ酸ガラスとシ
リコン酸化膜付部材等の接合に広く適用される。
を例に説明したが、本発明はこれに限らず、少なくとも
接合面の主成分がＳi Ｏ2 （二酸化シリコン）である部
材同士、例えば、石英と石英、石英とホウケイ酸ガラ
ス、ホウケイ酸ガラス同士、石英とシリコン酸化膜付部
材、シリコン酸化膜付部材同士、ホウケイ酸ガラスとシ
リコン酸化膜付部材等の接合に広く適用される。
【００３１】図３は、上述したガラス接合法により、光
学測定装置の一つであるキャピラリ電気泳動装置に用い
るサンプル注入および分析用の溝と検出セルを形成した
場合の一実施例を示しており、図３ａは、ガラス基板１
ｂ’の平面図、図３ｂは、ガラス基板１ａ’，１ｂ’を
重ねた状態におけるＢ−Ｂ断面、及び図３ｃは、図３ｂ
におけるＡ−Ａ断面をそれぞれ示している。
学測定装置の一つであるキャピラリ電気泳動装置に用い
るサンプル注入および分析用の溝と検出セルを形成した
場合の一実施例を示しており、図３ａは、ガラス基板１
ｂ’の平面図、図３ｂは、ガラス基板１ａ’，１ｂ’を
重ねた状態におけるＢ−Ｂ断面、及び図３ｃは、図３ｂ
におけるＡ−Ａ断面をそれぞれ示している。
【００３２】図３において、ガラス基板１ａ’，１ｂ’
は、例えば縦１０ｍｍ、横２０ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの
ものを用いることができる。ガラス基板１ｂ’には、フ
ォトファブリケーション技術により泳動溝２，３が形成
されており、泳動溝２，３は、例えば幅７０μｍ、深さ
１０μｍに形成され、また、泳動溝２，３の端部には、
例えば直径１ｍｍ、深さ１０μｍの液溜５，５’，６、
６’が形成されている。ガラス基板１ａ’の液溜５，
５’，６、６’に対応する位置には、例えば、超音波加
工によりそれぞれ貫通孔５ａ，５ａ’，６ａ，６ａ’が
形成されている。
は、例えば縦１０ｍｍ、横２０ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの
ものを用いることができる。ガラス基板１ｂ’には、フ
ォトファブリケーション技術により泳動溝２，３が形成
されており、泳動溝２，３は、例えば幅７０μｍ、深さ
１０μｍに形成され、また、泳動溝２，３の端部には、
例えば直径１ｍｍ、深さ１０μｍの液溜５，５’，６、
６’が形成されている。ガラス基板１ａ’の液溜５，
５’，６、６’に対応する位置には、例えば、超音波加
工によりそれぞれ貫通孔５ａ，５ａ’，６ａ，６ａ’が
形成されている。
【００３３】また、泳動溝２には、例えば、Ａｌで形成
された金属反射膜３ａと石英薄膜で形成された保護膜３
ｂが形成されており、また、泳動溝２の金属反射膜３ａ
及び保護膜３ｂが形成されたガラス基板１ｂ’の対向部
には、例えば、Ａｌで形成された金属反射膜３ａ’、及
び石英薄膜で形成された保護膜３ｂ’が形成されてい
る。これにより、ガラス基板１ａ’を透過して入射した
紫外線はガラス基板１ａ’，１ｂ’に形成された金属反
射膜３ａ，３ａ’で反射を繰り返し、再びガラス基板１
ａ’から出射することとなる。
された金属反射膜３ａと石英薄膜で形成された保護膜３
ｂが形成されており、また、泳動溝２の金属反射膜３ａ
及び保護膜３ｂが形成されたガラス基板１ｂ’の対向部
には、例えば、Ａｌで形成された金属反射膜３ａ’、及
び石英薄膜で形成された保護膜３ｂ’が形成されてい
る。これにより、ガラス基板１ａ’を透過して入射した
紫外線はガラス基板１ａ’，１ｂ’に形成された金属反
射膜３ａ，３ａ’で反射を繰り返し、再びガラス基板１
ａ’から出射することとなる。
【００３４】以上の構成において、電気泳動測定は以下
のようになされる。
のようになされる。
【００３５】まず、操作者は分析のため被分析物質であ
る試料と光を吸収しない緩衝液で、液溜５，５’，６，
６’及び泳動溝２，３を満たし、ガラス基板１ａ’の貫
通孔５ａ，５ａ’，６ａ，６ａ’に針状電極を挿入す
る。
る試料と光を吸収しない緩衝液で、液溜５，５’，６，
６’及び泳動溝２，３を満たし、ガラス基板１ａ’の貫
通孔５ａ，５ａ’，６ａ，６ａ’に針状電極を挿入す
る。
【００３６】次に、液溜５，５’に電界（約１００Ｖ／
ｃｍ）を与えて泳動溝３に試料を流し、泳動溝２への注
入を行う。そして、貫通孔６ａ，６ａ’に電界（約２５
０Ｖ／ｃｍ）を与え、液溜６から液溜６’に向かって泳
動溝２内を泳動させる。泳動過程中、金属反射膜３ａに
は外部から紫外光が照射され、照射された紫外光は、金
属反射膜３ａ、３ａ’で多重反射を行い、再び外部へ出
射され検出されるが、電気泳動により分離された試料は
泳動溝２の金属反射膜３ａ、３ａ’が形成された領域で
紫外光を吸収するため、緩衝液だけの場合に比べて検出
光の強度変化が生じ、分離が確認される。
ｃｍ）を与えて泳動溝３に試料を流し、泳動溝２への注
入を行う。そして、貫通孔６ａ，６ａ’に電界（約２５
０Ｖ／ｃｍ）を与え、液溜６から液溜６’に向かって泳
動溝２内を泳動させる。泳動過程中、金属反射膜３ａに
は外部から紫外光が照射され、照射された紫外光は、金
属反射膜３ａ、３ａ’で多重反射を行い、再び外部へ出
射され検出されるが、電気泳動により分離された試料は
泳動溝２の金属反射膜３ａ、３ａ’が形成された領域で
紫外光を吸収するため、緩衝液だけの場合に比べて検出
光の強度変化が生じ、分離が確認される。
【００３７】かかる場合、本発明によれば、ガラス基板
１ａ’，１ｂ’の接続が室温でなされているため、接合
過程で金属反射膜３ａ，３ａ’に何等損傷が生じておら
ず、ガラス基板１ａ’，１ｂ’接合後も金属反射膜３
ａ，３ａ’は接合前の状態がそのまま保持される。この
ため、金属反射膜３ａ，３ａ’で紫外光がほとんど吸収
されないため、極めて精度の高い試料分析を行うことが
可能となる。
１ａ’，１ｂ’の接続が室温でなされているため、接合
過程で金属反射膜３ａ，３ａ’に何等損傷が生じておら
ず、ガラス基板１ａ’，１ｂ’接合後も金属反射膜３
ａ，３ａ’は接合前の状態がそのまま保持される。この
ため、金属反射膜３ａ，３ａ’で紫外光がほとんど吸収
されないため、極めて精度の高い試料分析を行うことが
可能となる。
【００３８】次に、上述した検出計セルを作製するプロ
セスについて図４により説明する。まず、図４(1) に示
されるように、加工歪みを除去するためのアニール処理
を例えば１０００゜Ｃ、１５分〜４時間の条件で施した
石英製のガラス基板１ｂ’を洗浄した後、例えば、真空
蒸着装置にてエッチング保護膜８ａ、例えばＡｕ（2000
オンク゛ストローム ）／Ｃｒ（200 オンク゛ストローム ）を連続成膜し、
さらにエッチング保膜８ａをパターニングするためのフ
ォトレジスト８ｂ（図４(2) ）、例えばAZ4620を3000rp
m 、40秒間の条件にてスピンコートする。このとき、レ
ジストの厚みは約７μm となる。使用するフォトレジス
トの材質および厚みは、特に限定されるものではなく、
後のエッチング工程における溶液に耐える材質および厚
みであれば何でも良い。
セスについて図４により説明する。まず、図４(1) に示
されるように、加工歪みを除去するためのアニール処理
を例えば１０００゜Ｃ、１５分〜４時間の条件で施した
石英製のガラス基板１ｂ’を洗浄した後、例えば、真空
蒸着装置にてエッチング保護膜８ａ、例えばＡｕ（2000
オンク゛ストローム ）／Ｃｒ（200 オンク゛ストローム ）を連続成膜し、
さらにエッチング保膜８ａをパターニングするためのフ
ォトレジスト８ｂ（図４(2) ）、例えばAZ4620を3000rp
m 、40秒間の条件にてスピンコートする。このとき、レ
ジストの厚みは約７μm となる。使用するフォトレジス
トの材質および厚みは、特に限定されるものではなく、
後のエッチング工程における溶液に耐える材質および厚
みであれば何でも良い。
【００３９】また、エッチング保護膜の材料および厚み
も特に限定されるものではなく、後の石英基板エッチン
グ工程における溶液に耐える材質および厚みであれば何
でも良い。さらに、エッチング保護膜を成膜するための
手段も、後のエッチング工程に耐えうるものであれば何
でも良い。
も特に限定されるものではなく、後の石英基板エッチン
グ工程における溶液に耐える材質および厚みであれば何
でも良い。さらに、エッチング保護膜を成膜するための
手段も、後のエッチング工程に耐えうるものであれば何
でも良い。
【００４０】次に、図４(2) に示されるように、フォト
マスク７を用いてフォトレジスト８ｂを露光・現像す
る。ここで、フォトレジストの露光は、一般に半導体製
造に用いられるアライナもしくはステッパなどで行うこ
とができる。さらに、フォトレジストを現像する現像液
は、用いるフォトレジストを現像するために使用されて
いるものであれば、特に限定されるものではない。
マスク７を用いてフォトレジスト８ｂを露光・現像す
る。ここで、フォトレジストの露光は、一般に半導体製
造に用いられるアライナもしくはステッパなどで行うこ
とができる。さらに、フォトレジストを現像する現像液
は、用いるフォトレジストを現像するために使用されて
いるものであれば、特に限定されるものではない。
【００４１】続いて、図４(3) に示されるように、Ａｕ
に対しては、例えば、ヨード、ヨー化アンモン、水、ア
ルコールの混合液で、Ｃｒに対しては、例えば赤血塩、
水酸化ナトリウム、水の混合液でエッチング保護膜８ａ
をパターニングする。ここで、各々のエッチング液は特
に限定されるものでなく、ＡｕおよびＣｒが問題なくエ
ッチングされる溶液であれば何でも良い。
に対しては、例えば、ヨード、ヨー化アンモン、水、ア
ルコールの混合液で、Ｃｒに対しては、例えば赤血塩、
水酸化ナトリウム、水の混合液でエッチング保護膜８ａ
をパターニングする。ここで、各々のエッチング液は特
に限定されるものでなく、ＡｕおよびＣｒが問題なくエ
ッチングされる溶液であれば何でも良い。
【００４２】さらに、図４(4) に示されるように、パタ
ーニングされたエッチング保護膜８ａおよびフォトレジ
スト８ｂをマスクとして、石英基板１ｂ’を例えば市販
されているフッ化水素酸原液（４６％）にてエッチング
して泳動溝２を形成する。ここで、石英のエッチング液
は特に限定されるものでなく、ガラスが問題なくエッチ
ングされる溶液であれば何でも良い。
ーニングされたエッチング保護膜８ａおよびフォトレジ
スト８ｂをマスクとして、石英基板１ｂ’を例えば市販
されているフッ化水素酸原液（４６％）にてエッチング
して泳動溝２を形成する。ここで、石英のエッチング液
は特に限定されるものでなく、ガラスが問題なくエッチ
ングされる溶液であれば何でも良い。
【００４３】続いて、図４(5)(6)に示されるように、エ
ッチング保護膜８ａおよびフォトレジスト８ｂを完全に
除去した後、新たにフォトレジスト９を塗布し、反射膜
を形成する部分のみに工程(2) と同様に露光・現像して
開口部を開ける。その後、金属反射膜３ａとして紫外あ
るいは可視領域の検出光をよく反射する材料、例えばAl
薄膜（厚み数1000オンク゛ストローム 以下）を成膜し、さらに保
護膜３ｂとして、例えばスパッタ成膜により石英薄膜
（厚み数100 オンク゛ストローム 〜数1000オンク゛ストローム ）を成す
る。
ッチング保護膜８ａおよびフォトレジスト８ｂを完全に
除去した後、新たにフォトレジスト９を塗布し、反射膜
を形成する部分のみに工程(2) と同様に露光・現像して
開口部を開ける。その後、金属反射膜３ａとして紫外あ
るいは可視領域の検出光をよく反射する材料、例えばAl
薄膜（厚み数1000オンク゛ストローム 以下）を成膜し、さらに保
護膜３ｂとして、例えばスパッタ成膜により石英薄膜
（厚み数100 オンク゛ストローム 〜数1000オンク゛ストローム ）を成す
る。
【００４４】次に、図４(7) に示されるように、リフト
オフにより金属反射膜３ａ及び保護膜３ｂをパターニン
グする。
オフにより金属反射膜３ａ及び保護膜３ｂをパターニン
グする。
【００４５】なお、上述した例では、図３における泳動
溝２を形成する例を示したが、同図の泳動溝３も同様に
形成することができ、又、反射膜３ａ’と保護膜３ｂ’
は、図３に示されるように、泳動溝２の一部分にのみ形
成される。
溝２を形成する例を示したが、同図の泳動溝３も同様に
形成することができ、又、反射膜３ａ’と保護膜３ｂ’
は、図３に示されるように、泳動溝２の一部分にのみ形
成される。
【００４６】一方、図４(8) に示されるように、上記ガ
ラス基板１ａ’に接合すべき他方のガラス基板１ｂ’の
加工工程について説明すると、まず、例えば、超音波加
工装置を用いて所定の位置に図３に示した貫通孔６ａ、
６ａ’及び５ａ、５ａ’に相当する貫通孔を形成した
後、洗浄を行う。
ラス基板１ａ’に接合すべき他方のガラス基板１ｂ’の
加工工程について説明すると、まず、例えば、超音波加
工装置を用いて所定の位置に図３に示した貫通孔６ａ、
６ａ’及び５ａ、５ａ’に相当する貫通孔を形成した
後、洗浄を行う。
【００４７】続いて、図４(9) に示されるように、前述
した図４(5)(6)の工程と同様、金属反射膜３ａ’と保護
膜３ｂ’を成膜した後、図４(10)に示すように、図４
(7) の工程と同様、それらをリフトオフによりパターニ
ングを行う。
した図４(5)(6)の工程と同様、金属反射膜３ａ’と保護
膜３ｂ’を成膜した後、図４(10)に示すように、図４
(7) の工程と同様、それらをリフトオフによりパターニ
ングを行う。
【００４８】なお、図４(9),(10)は、いずれも泳動溝２
に沿って切断した断面図を示しており、図４(10)の反射
膜３ａ’と保護膜３ｂ’の泳動溝２と垂直方向の幅は、
図４(7) に示される泳動溝２の幅と略同一である。
に沿って切断した断面図を示しており、図４(10)の反射
膜３ａ’と保護膜３ｂ’の泳動溝２と垂直方向の幅は、
図４(7) に示される泳動溝２の幅と略同一である。
【００４９】そして、最後に、図４(11)に示されるよう
に図１及び図２で説明した接合法を用いて両ガラス基板
の接合を行い、流路及び反射部を形成する。
に図１及び図２で説明した接合法を用いて両ガラス基板
の接合を行い、流路及び反射部を形成する。
【００５０】図５は、図３に示した検出計セルを用いた
光学測定装置を示しており、同図において、紫外可視光
源２１は、重水素ランプ、タングステンランプ等からな
り、分光器が内蔵され所定の波長の光を送り出すもの
で、光検出器２２は、フォトダイオードアレイ検出器を
使用した測光光学系を有し、いずれも紫外可視測定に一
般的に用いられている。
光学測定装置を示しており、同図において、紫外可視光
源２１は、重水素ランプ、タングステンランプ等からな
り、分光器が内蔵され所定の波長の光を送り出すもの
で、光検出器２２は、フォトダイオードアレイ検出器を
使用した測光光学系を有し、いずれも紫外可視測定に一
般的に用いられている。
【００５１】ステージ２３には、検出計セル２０を位置
決めできる凹部２４が設けられている。すなわち、検出
計セル２０をこの凹部２４に挿入することにより、光源
２１からの紫外光が検出計セルの入射窓１３から入射で
き、出射窓１４からの光が光検出器２２に受光できるよ
うにしてある。これにより、ステージ２３の凹部２４に
検出計セル２０をセットするだけで、光学測定が可能に
なる。
決めできる凹部２４が設けられている。すなわち、検出
計セル２０をこの凹部２４に挿入することにより、光源
２１からの紫外光が検出計セルの入射窓１３から入射で
き、出射窓１４からの光が光検出器２２に受光できるよ
うにしてある。これにより、ステージ２３の凹部２４に
検出計セル２０をセットするだけで、光学測定が可能に
なる。
【００５２】
【発明の効果】本発明にかかるガラス接合法によれば、
各種ガラスや酸化膜付きＳｉ基板を常温で接合でき、し
かも融着する場合のように特殊な加熱装置や保持具など
を使用することなく、より簡単な手順でガラス接合をな
しうる。特に、ガラス基板に溝及びＡｌ等の光反射用金
属膜を形成した場合であっても、金属膜に何等の損傷を
与えることなくガラス同士の接合が可能となる。
各種ガラスや酸化膜付きＳｉ基板を常温で接合でき、し
かも融着する場合のように特殊な加熱装置や保持具など
を使用することなく、より簡単な手順でガラス接合をな
しうる。特に、ガラス基板に溝及びＡｌ等の光反射用金
属膜を形成した場合であっても、金属膜に何等の損傷を
与えることなくガラス同士の接合が可能となる。
【００５３】また、本発明では、ガラス同士がその接合
界面における毛管現象により拡散したフッ化水素酸を含
む溶液またはアルカリ溶液によって接合されるため、基
板全面にわたり均一な接合が可能となる。
界面における毛管現象により拡散したフッ化水素酸を含
む溶液またはアルカリ溶液によって接合されるため、基
板全面にわたり均一な接合が可能となる。
【００５４】さらに、本発明のガラス接合法を用いて光
学測定装置を形成した場合、光反射部がガラス基板の接
合時何等損傷を受けないため、極めて精度の高い分析を
行うことが可能となる。
学測定装置を形成した場合、光反射部がガラス基板の接
合時何等損傷を受けないため、極めて精度の高い分析を
行うことが可能となる。
【図１】本発明にかかるガラス接合法によりガラス基板
を接合する工程の一実施例である。
を接合する工程の一実施例である。
【図２】本発明にかかるガラス接合法によりガラス基板
を接合する工程の他の実施例である。
を接合する工程の他の実施例である。
【図３】本発明のガラス接合法を用いて製造した検出計
セルを示す図である。
セルを示す図である。
【図４】本発明のガラス接合法を用いて検出計セルを製
造する工程を示す図である。
造する工程を示す図である。
【図５】本発明の光学測定装置の一実施例を示す図であ
る。
る。
１ａ，１ｂ・・・・ガラス基板 ２，３・・・・・・泳動溝 ３ａ，３ａ’・・・金属反射膜 １０・・・・・・・フッ化水素酸を含む溶液またはアル
カリ溶液
カリ溶液
Claims (9)
- 【請求項１】 少なくとも接合面の主成分がＳi Ｏ2
（二酸化シリコン）である部材同士を接合する場合にお
いて、前記部材を溶解させるための溶液を接合面に介在
させることを特徴とする部材接合法。 - 【請求項２】 前記部材を溶解させるための溶液が、フ
ッ化水素酸を含む溶液であることを特徴とする請求項１
記載の部材接合法。 - 【請求項３】 前記部材を溶解させるための溶液が、ア
ルカリ溶液であることを特徴とする請求項１記載の部材
接合法。 - 【請求項４】 前記フッ化水素酸を含む溶液によって接
合される前記一方の部材と他方の部材は、石英と石英、
石英とホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス同士、石英
とシリコン酸化膜付部材、シリコン酸化膜付部材同士、
ホウケイ酸ガラスとシリコン酸化膜付部材、のいずれか
であることを特徴とする請求項１〜請求項３記載の部材
接合法。 - 【請求項５】 一対のガラス基板を用い、少なくとも一
方の前記ガラス基板表面に溝を形成し、前記両ガラス基
板を請求項１〜請求項３記載の部材接合法により接合す
ることで、流路を形成することを特徴とする流路形成
法。 - 【請求項６】 試料の導入口、導入された試料の流路、
および試料の排出口を有し、前記流路の少なくとも一部
の領域を測定室として用いる検出計セルであって、一対
のガラス基板を有し、少なくとも一方の前記ガラス基板
表面に溝を形成し、両ガラス基板を請求項１〜請求項３
記載のガラス接合法により接合することで前記流路を形
成したことを特徴とする検出計セル。 - 【請求項７】 流路を流れる試料を透過した光を計測す
ることで試料成分の分析を行う光学測定装置であって、
一対のガラス基板を有し、少なくとも一方の前記ガラス
基板表面に溝を形成し、両ガラス基板を請求項１〜請求
項３記載のガラス接合法により接合することで前記流路
を形成したことを特徴とする光学測定装置。 - 【請求項８】 液体試料を導入するための試料導入口、
導入された液体試料の流路、および液体試料を排出する
試料排出口が設けられ、前記流路のうちの少なくとも一
部の領域を測定室として用いる検出計セルであって、 前記検出計セルは、請求項１〜請求項３記載のガラス接
合法により接合された２枚のガラス基板と、 少なくとも一方のガラス基板の接合面に前記流路となる
溝部が形成されるとともに、前記測定室となる溝部の内
面もしくは溝部の裏側ガラス面に第１の光学的反射膜が
形成され、 他方のガラス基板の接合面には、前記溝部の前記第１の
光学反射膜に対向する位置に第２の光学的反射膜が形成
され、かつ、前記測定室となる溝部の一部に入射窓およ
び出射窓が設けられ、 入射窓から入射した光が第１、第２光学反射膜を介して
流路内を多重反射し、出射窓から出射するようにしたこ
とを特徴とする検出計セル。 - 【請求項９】 請求項８に記載される検出計セルの入射
窓に検出光を照射する光源、前記検出計セルの出射窓か
らの検出光を測定する光検出器、前記検出計セルを位置
決めする手段とを備え、前記検出計セルによる光学測定
をするための光学測定装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06316097A JP3266041B2 (ja) | 1996-05-22 | 1997-03-17 | 部材接合法及びこの方法により製造した光学測定装置 |
| US08/859,037 US6030883A (en) | 1996-05-22 | 1997-05-20 | Method of bonding substrates, detector cell produced according to this method and optical measuring apparatus having this detector cell |
| DE69720851T DE69720851T2 (de) | 1996-05-22 | 1997-05-21 | Verfahren zur Verbindung von Substraten, nach diesem Verfahren hergestellte Detektorzelle und optisches Messgerät mit dieser Detektorzelle |
| EP97108233A EP0808808B1 (en) | 1996-05-22 | 1997-05-21 | Method of bonding substrates, detector cell produced according to this method and optical measuring apparatus having this detector cell |
| US09/044,164 US5959728A (en) | 1996-05-22 | 1998-03-19 | Method of bonding substrates, detector cell produced according to this method and optical measuring apparatus having this detector cell |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-126991 | 1996-05-22 | ||
| JP12699196 | 1996-05-22 | ||
| JP06316097A JP3266041B2 (ja) | 1996-05-22 | 1997-03-17 | 部材接合法及びこの方法により製造した光学測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1036145A true JPH1036145A (ja) | 1998-02-10 |
| JP3266041B2 JP3266041B2 (ja) | 2002-03-18 |
Family
ID=26404247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06316097A Expired - Fee Related JP3266041B2 (ja) | 1996-05-22 | 1997-03-17 | 部材接合法及びこの方法により製造した光学測定装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6030883A (ja) |
| EP (1) | EP0808808B1 (ja) |
| JP (1) | JP3266041B2 (ja) |
| DE (1) | DE69720851T2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6221197B1 (en) | 1997-12-15 | 2001-04-24 | Seiko Epson Corporation | Method and apparatus for solid bonding, a conductor bonding method, a packaging method, and a bonding agent and a method for manufacturing a bonding agent |
| WO2011118692A1 (ja) * | 2010-03-24 | 2011-09-29 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス板積層体の製造方法、及びガラス板の接合方法、並びに前記製造方法によって製造されたガラス板積層体 |
| JP2015010933A (ja) * | 2013-06-28 | 2015-01-19 | 京セラクリスタルデバイス株式会社 | 液体用セルの製造方法 |
| KR20200019144A (ko) * | 2017-12-22 | 2020-02-21 | 일루미나, 인코포레이티드 | 보호 라이너를 가지는 광 검출 디바이스 및 그 제조방법 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US5979549A (en) * | 1997-10-29 | 1999-11-09 | Meeks; Thomas | Method and apparatus for viscosity reduction of clogging hydrocarbons in oil well |
| US6211032B1 (en) * | 1998-11-06 | 2001-04-03 | National Semiconductor Corporation | Method for forming silicon carbide chrome thin-film resistor |
| JP3528732B2 (ja) | 2000-01-11 | 2004-05-24 | 株式会社島津製作所 | 測定用セル |
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| US6814833B2 (en) * | 2001-10-26 | 2004-11-09 | Corning Incorporated | Direct bonding of articles containing silicon |
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| US20030081906A1 (en) * | 2001-10-26 | 2003-05-01 | Filhaber John F. | Direct bonding of optical components |
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