JPH10340451A

JPH10340451A - 磁気ディスクの作製方法及びそれを用いた磁気記録装置

Info

Publication number: JPH10340451A
Application number: JP14893197A
Authority: JP
Inventors: Fumiyoshi Kirino; 文良桐野; Nobuyuki Inaba; 信幸稲葉; Kyo Akagi; 協赤城; Yoshitsugu Koiso; 良嗣小礒; Masaaki Futamoto; 正昭二本
Original assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Maxell Holdings Ltd
Priority date: 1997-06-06
Filing date: 1997-06-06
Publication date: 1998-12-22

Abstract

(57)【要約】【課題】樹脂を基板に用いた磁気ディスクのヘッドクラ
ッシュやサーマルアスペリティの発生を抑制する。【解決手段】ディスク基板表面に記録膜形成に先立って
樹脂薄膜を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は高性能でかつ高信頼
性を有する磁気ディスクおよびそれを安価に製造する方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年の高度情報化社会の進展にはめざま
しいものがあり、各種形態の情報を統合したマルチメデ
ィアが急速に普及してきている。これを支える情報記録
装置の１つに磁気ディスク装置がある。磁気ディスク装
置は、記録密度を向上させつつ小型化が図られている。
それと並行して、ディスク装置の低価格化が急速に進め
られている。現在の磁気ディスク用の基板には、表面に
ＮｉＰを形成したＡｌ円板やガラス円板が用いられてい
る。

【０００３】しかし、将来の低価格の磁気ディスク用の
基板材として樹脂が有望である。樹脂基板は成型性に優
れ、あらかじめ、ピットなどを形成しておき、そのうえ
に媒体を形成すると、基板の凹凸付近に磁場の不均一な
部分が生じる。この基板上の凹凸をあらかじめ一定のパ
ターンで形成しておき、これを検出することにより、位
置決め信号に代表される各種の信号を得ることができ
る。従来は、完成した磁気ディスクに、一枚一枚サーボ
トラックライターを用いて位置決め信号を記録してお
り、ディスク装置の量産の障害となる場合があった。

【０００４】しかし、凹凸をあらかじめ基板に形成して
おくことにより、この課題が解決できることを見出し
た。ここで、磁気ディスクの高密度化を達成するために
は、１）ディスクと磁気ヘッドとの距離をつめること、２）媒体の保磁力を増大させること、３）信号処理方法を工夫すること、などが必須の技術である。

【０００５】先の凹凸を有する基板を用いる場合、上記
１）の項目に対しては不利であった。これは、このよう
な基板上に媒体を形成すると、基板上の凹凸を反映し
て、媒体表面に凹凸を生じるために、ヘッド−媒体間の
距離を一定間隔以下にするには限界があった。これに加
えて、ガラス基板やＡｌ基板と樹脂基板とでは、基板の
有する表面エネルギーが異なる。その結果、形成される
磁性膜が、エピタキシャル成長しないで、異常成長する
結果、表面の凹凸を助長する場合があった。このような
成長がディスクの所々で生じると、ヘッドクラッシュを
防止する上でヘッドと磁気記録膜の間の所要距離はます
ます長くなり、そのために、高密度で、記録再生を行う
ことができない。磁気記録膜の結晶性を制御して形成す
る方法として、特開昭63−187414号をその例として挙げ
ることができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】樹脂を基板に用いた磁
気ディスクを作製する場合、基板上に形成する磁気記録
媒体の有する内部応力により基板表面にしわがより、基
板から磁気記録媒体が剥離したり、磁気録媒体の表面に
凹凸が生じて磁気ヘッドが安定に浮上できないばかり
か、ヘッドクラッシュを生じるために、安定に記録再生
ができない場合があり、信頼性の低下をきたすために、
実用化の障害になっていた。

【０００７】さらに、樹脂基板は帯電しやすいので、基
板に帯電した静電気により成膜装置内に存在するスパッ
タのフレイク等を吸着するために、作製したディスク表
面に凹凸を形成するので、ヘッドクラッシュを生じる場
合があり、安定した記録や再生ができない場合があっ
た。このようなフレイクの存在により、結晶成長する際
に、形成する膜が異常成長を起こすために、媒体表面の
凹凸がさらに助長される。これに加えて、基板表面を鏡
面仕上げすることが困難で、凹凸が形成されているの
で、異常成長を助長することが考えられる。その結果と
して、この磁気記録媒体を用いて、記録再生を行うと、
サーマルアスペリティやヘッドクラッシュを生じるため
に、安定した記録再生を行うことができなかった。

【０００８】これを回避するために、磁気ヘッドと磁気
記録媒体との距離を離すと、記録密度の低下をきたし
た。このように、樹脂基板上に磁気記録媒体を形成する
と、薄膜が異常成長をするので、性能の劣化や信頼性の
低下をきたしていた。上記の公知例では、樹脂基板に固
有な課題については、開示されていなかった。

【０００９】そこで、本発明の第１の目的は、磁気記録
媒体が有する内部応力を吸収するために樹脂層を設ける
ことにより、安定した記録再生が行える高信頼性を有す
る磁気ディスクを提供することにある。

【００１０】さらに、本発明の第２の目的は、樹脂基板
表面に磁気記録媒体を形成する場合に、装置内のスパッ
タのフレイク等の異物が基板表面に付着するために生じ
るヘッドクラッシュを抑制し、安定した記録再生を行え
る高信頼性の磁気ディスクを提供することにある。

【００１１】さらに本発明の第３の目的は、媒体表面
（磁気ヘッドの接触面）の平坦性に優れた磁気ディスク
基板を提供することにより、媒体とヘッド間の距離（ヘ
ッド浮上量）を小さくできるので、高密度記録が可能に
なる。その結果、高性能な磁気記録装置を提供すること
が可能になる。

【００１２】そして、本発明の第４の目的は、媒体表面
を平坦化することにより、ヘッドクラッシュやサーマル
アスペリティを抑制できるので、高信頼性を有する磁気
ディスク装置を提供することにある。

【００１３】さらに、本発明の第５の目的は、樹脂基板
上に樹脂を設けることにより、樹脂基板を介して浸入し
てくる水などの腐食成分が磁気記録媒体を腐食するのを
防止し、磁気ディスクの情報保存寿命を伸ばす一方、エ
ラーの発生を抑制して高信頼性の磁気ディスクを提供す
ることにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記の目的を実現するた
めに、本発明においては少なくとも樹脂基板と情報を記
録する金属の磁気記録膜とからなる磁気ディスクの作製
において、樹脂基板上に樹脂の薄膜を形成した後に、磁
気記録媒体を作製する。樹脂の薄膜を形成することによ
り、基板上に形成した磁気記録媒体の有する内部応力を
この樹脂層が吸収することができるので、基板表面が媒
体の応力により凹凸を生じることがないので、安定した
記録再生ができる。

【００１５】この樹脂の薄膜に導電性を有する材料を用
いると、表面の帯電を抑制でき、静電気によるごみなど
の異物の付着を防止できる。

【００１６】また、樹脂基板上に異物が付着していて
も、樹脂層中に取り込まれるので、成膜時の障害にはな
らない。樹脂膜の形成を樹脂基板の表面に直接行い、基
板表面の凹凸を反映させる必要がある。磁気ディスク表
面の凹凸を反映していないと、ディスク上のヘッドの位
置決めのための信号を検出することができなくなるから
である。

【００１７】ところで、この導電膜を形成した後に、該
樹脂基板表面に設けた磁気記録媒体層の表面の凹凸は、
膜面に垂直方向に５nm p-p以下、凹凸の周期が１μｍ以
上に抑制することが好ましい。そして、この樹脂膜上に
形成する磁気記録媒体の構造は、配向性制御層，磁性
膜，保護膜の３つの部分をこの順序に樹脂層上に順次形
成したものである。

【００１８】このように形成した磁気記録媒体におい
て、樹脂層に樹脂基板からの腐食成分が磁気記録媒体中
に拡散するのを防ぐ役割も持たせることができる。例え
ば基板上に形成した樹脂層において、基板側あるいはそ
の反対側に樹脂を構成する化学構造の中で親油基を配向
させることによりこれを実現できる。この樹脂層に用い
る材料として、エポキシ系樹脂，熱硬化性樹脂，紫外線
硬化型樹脂の内より選ばれる少なくとも１種類の材料を
用いる。

【００１９】この層を樹脂基板と磁気記録媒体との間に
設けることにより、基板と磁気記録媒体との接着強度を
高めることができる。

【００２０】この樹脂層を凹凸を有する樹脂基板上に形
成するのに、樹脂の粘度を制御することにより、該樹脂
表面が樹脂基板の凹凸を反映した表面とすることが必要
である。

【００２１】この樹脂層の上に形成する記録媒体とし
て、最も好ましいのは、配向性制御膜，磁気記録膜，保
護膜の３つの層からなるものである。前記の配向性制御
層として、Ｃｒを主体とする合金を用い、Ｃｒに固溶
し、かつ、Ｃｒとイオン半径の異なる金属元素を添加
し、さらに優位には、その添加する元素がＴｉ，Ｔａ，
Ｍｏ，Ｗ，Ａｌ，Ｖ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｎｉ，Ｍｎの内より
選ばれる少なくとも１種類の元素であることが好まし
い。これらの元素を添加するのは、格子面間隔を磁性膜
のＣｏに近い値にすることにより、磁性層の配向性を制
御し、良好な磁気特性を得るためである。

【００２２】さらに、この配向性制御層として、１層も
しくは２層から構成され、段階的に格子面間隔を変化さ
せ、最も記録膜に近い層の格子面間隔が磁性膜の格子面
間隔に最も近い値となるように合金組成を制御し、さら
に優位には、格子面間隔の変化が、１０％以内であるよ
うに変化させたことが最も好ましい。

【００２３】磁気記録用の磁性膜として、Ｃｏを主体と
し、これに、Ｔａ，Ｐｔ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｎｉ，Ｎｂの内
より選ばれる少なくとも２種類あるいは３種類の元素を
含み、さらに優位には、該磁性膜がＸ線的に結晶質であ
ることが好ましい。そして、結晶粒子は、Ｃｏを主体と
する粒子からなる。この他に、磁気記録用の磁性膜とし
て、Ｃｏを主体とし、これに、窒化シリコン，窒化アル
ミニウム，酸化シリコン，酸化アルミニウム，窒化チタ
ンの内より選ばれる少なくとも１種類の化合物を分散さ
せた材料を用いても良い。この粒子分散型の材料にＴ
ａ，Ｐｔ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｎｉ，Ｎｂの内より選ばれる少
なくとも２種類あるいは３種類の元素を含ませても良
い。

【００２４】最後に、保護膜として、Ｃ，ＷＣ，Ｔｉ
Ｃ，ＴａＣ，ＮｂＣの内より選ばれる少なくとも１種類
の化合物を用いることが好ましい。この上に、潤滑剤な
どの材料を塗布しても良い。これら導電性膜及び磁気記
録媒体の作製は、樹脂基板の軟化温度以下で行う必要が
ある。

【００２５】磁気記録膜の作製において、成膜時に、磁
気ディスク基板に対して、バイアス電圧を印加して作製
しても良い。樹脂基板上に磁気記録媒体の作製を行うス
パッタリング法として、マイクロ波，高周波、あるい
は、直流の内より選ばれる少なくとも１種類のエネルギ
ーにより、放電ガスを加速し、さらに優位には該放電ガ
スがＡｒ，Ｈｅ，Ｋｒ，Ｘｅ，Ｎｅの内より選ばれる少
なくとも１種類の元素を用いてスパッタして作製しても
良い。これは、基板加熱以外の方法でプラズマ粒子のエ
ネルギーを制御することにより、ディスク基板上に磁性
膜をエピタキシャル成長させることができ、樹脂基板に
とって有効な成膜方法である。

【００２６】そして、このようにして作製した磁気ディ
スク円板を用いて、少なくとも磁気ディスク円板，磁気
ヘッド、あるいは電気回路からなる磁気ディスク装置を
構成しても良い。

【００２７】

【発明の実施の形態】

（実施例１）作製した磁気ディスクの断面構造を示す模
式図を図１に示す。まず、磁気ディスク用の樹脂基板と
して、アモルファスポリオレフィン（ＡＰＯ）基板を用
いた場合である。ディスクのサイズは、直径３.５″ 、
基板表面には凹凸のピットが形成されている。このピッ
トの存在の有無は本発明により得られる効果には変化を
生じない。成膜に先立って、基板を７０℃で３時間、真
空中でベーキングした。これは、樹脂中に含まれる水分
や空気を除去することにより、基板上に形成される膜の
諸特性が安定に得られるようになる。ベーキングしたＡ
ＰＯ基板１上に、樹脂薄膜層２として、アクリル系の紫
外線硬化型樹脂を用いた。

【００２８】樹脂層の作製にはスピン塗布法を用いた。
また、樹脂の粘度は、小さければ小さいほど好適であ
り、スピンナーの回転数，塗布時の温度との組み合わせ
により膜厚を最適化できる。樹脂層の膜厚は、形成する
樹脂基板の表面の凹凸が反映されていれば良いが、１０
０ｎｍ以下が好ましい。また、樹脂に導電性を付与する
ために、有機電解質物質を添加した。無機の電解質を添
加しなかったのは、これらの物質は磁気記録膜を腐食す
る可能性があるからである。

【００２９】また、樹脂のモノマーの末端基（重合に寄
与しない部分）もしくは側鎖に親油基を設けた。塗布し
た後に、水銀ランプを用いて樹脂を硬化させた。その場
合、塗布した基板ごと真空槽に入れて真空排気した後に
行った。このようにすると、樹脂中に存在する空気成分
が除去できる。

【００３０】次に、磁気記録媒体の作製方法について説
明する。樹脂膜２上に、下地膜３として、Ｃｒ膜を３０
ｎｍの膜厚に形成した。ターゲットにＣｒを、放電ガス
に純Ａｒガスを使用した。また、スパッタの条件は、投
入ＲＦ電力密度が１０００Ｗ／１５０mmφ，放電ガス圧
力が３０ｍTorrである。次に、磁性膜の配向性制御膜４
として、Ｃｒ₈₀Ｔｉ₂₀合金膜を２５ｎｍの膜厚に形成し
た。ターゲットにＣｒ₈₀Ｔｉ₂₀合金を、放電ガスに純Ａ
ｒガスを使用した。スパッタの条件は、投入ＲＦ電力密
度が１０００Ｗ／１５０mmφ，放電ガス圧力が３０ｍTo
rrであり、下地膜３から磁性膜５まで同一条件で作製し
た。その上に、磁性膜５としてＣｏ₆₉Ｃｒ₁₉Ｐｔ₁₂合金
膜を２０ｎｍの膜厚に形成した。ここで、スパッタ中は
基板を８０℃に加熱した。この温度は、基板の軟化温度
により決定されるものであり、基板の材質が変われば変
化するので絶対的な値ではない。ターゲットにＣｏ₆₉Ｃ
ｒ₁₉Ｐｔ₁₂合金を、放電ガスに純Ａｒガスを使用した。
最後に、保護膜６として、Ｃ膜を１０ｎｍの膜厚に形成
した。スパッタの条件は、投入ＲＦ電力密度が１０００
Ｗ／１５０mmφ，放電ガス圧力が３０ｍTorrである。

【００３１】このようにして作製した磁気ディスク上に
潤滑剤（図示せず）を塗布した後に、磁性膜の磁気的な
特性及びディスクの特性を評価した。

【００３２】まず、作製した磁性膜の磁気特性は、保磁
力が２.５ｋＯｅ，Ｉｓｖが２.５×１０^-16ｅｍｕ，Ｍ
−Ｈヒステリシスにおけるヒステリシスの角型性の指標
のＳが０.８，Ｓ†が０.９であり、良好な磁気特性を有
していた。また、Ｘ線回折によると、Ｃｏの（２１０）
面が強く配向していることがわかる。また、下地膜３及
び配向性制御膜４のない磁気記録媒体では、保磁力が
１.５ｋＯｅと著しく小さく、配向性もＣｏの（２１
０）面の優先配向性が下地膜を有するディスクより低下
していた。このディスクのＳ／Ｎを評価したところ、３
８ｄＢであった。このＳ／Ｎは、記録面密度：３ＧＢ／
inch² に相当する信号を記録した場合である。

【００３３】このディスクの欠陥レートを測定したとこ
ろ、信号処理を行わない場合の値で、２×１０^-7以下で
あった。これに対して、本発明の樹脂膜を用いないで作
製したディスクの欠陥レートは６×１０^-6と１桁以上大
きかった。このように、記録できない部分は、微小な異
物が付着していることがＳＥＭ観察より明らかになっ
た。また、この効果は、樹脂基板の他にガラスのような
導電性を有していない基板に対して有効であり、特に帯
電しやすい樹脂基板に対して最も効果が大きい。

【００３４】上記樹脂層を設けないで作製したディスク
と設けたディスクとの間には、記録，再生特性の違いは
見られなかった。しかし、磁気ヘッドの浮上量を３０ｎ
ｍにしてディスクを回転させたところ、本発明のディス
クは３６００rpm で１０００時間以上回転させてもヘッ
ドクラッシュを生じることなく、安定に記録再生を行う
ことができたが、本発明を用いないで作製したディスク
では、５〜２０時間でヘッドクラッシュが発生した。

【００３５】この原因をＳＥＭ観察により調べたとこ
ろ、樹脂層２が磁気記録媒体の有する内部応力を吸収し
たため、基板表面は平坦であった。これに対して、樹脂
基板上に直接磁気記録媒体を形成した場合は、基板表面
に凹凸や静電気により付着した異物によりクラッシュが
生じたと考えられる。特に、５０ｎｍ以下の微少な異物
は帯電しており、それが、樹脂基板表面に発生した静電
気により吸着したと考えられる。これに対して本実施例
のように導電性の樹脂層を設けることにより、常に大地
と同じ電位になっているために、基板が帯電されるのを
抑制できるので、静電気による異物の基板への吸着を抑
制できる。

【００３６】この吸着抑制作用以外に、この層には、構
造中に親油基を有しており、樹脂基板表面に塗布する
と、この親油基が基板と化学吸着するので基板側に親油
基が配向させることができる。その結果、基板を介して
浸入してくる水や、その水がキャリアとなって運んでく
る樹脂基板中に残留している重合開始剤等の腐食成分を
遮断する効果が得られる。

【００３７】（実施例２）作製した磁気ディスクの断面
構造は、実施例１と同様であり、その模式図を図１に示
す。まず、磁気ディスク用の樹脂基板として、アモルフ
ァスポリオレフィン(ＡＰＯ）基板を用いた。サイズ
は、直径３.５″、基板表面には凹凸部が存在してい
る。成膜に先立って、基板を７０℃で３時間、真空中で
ベーキングした。これは、樹脂中に含まれる水分を除去
することにより、基板上に形成される膜の諸特性を安定
化させることができる。

【００３８】本実施例では、媒体の形成にマイクロ波を
用いたＥＣＲスパッタ法を用いた。これは、基板上に形
成する第１層目をＥＣＲスパッタ法を用いると、基板の
表面の凹凸状態によらずに、平坦な膜が得られるからで
ある。

【００３９】まず、成形したＡＰＯ基板１上に、樹脂膜
層２として、エポキシ樹脂を溶剤中に溶かしたものを用
いた。

【００４０】有機電解質成分の添加及び構造中に親油基
を形成した点は、実施例１と同様である。塗布した後
に、基板全体を真空中で６０℃でベーキングして樹脂を
硬化させた。これに引き続き、下地膜３として、Ｃｒ膜
を３０ｎｍの膜厚に形成した。ターゲットにＣｒを、放
電ガスに純Ａｒガスを使用した。また、スパッタの条件
は、投入マイクロ波の電力密度が１０００Ｗ／１５０mm
φ，放電ガス圧力が３０ｍTorrである。次に、磁性膜の
配向性制御膜４として、Ｃｒ₈₀Ｔｉ₂₀合金膜を２５ｎｍ
の膜厚に形成した。ターゲットにＣｒ₈₀Ｔｉ₂₀合金を、
放電ガスに純Ａｒガスを使用した。投入マイクロ波電力
密度(周波数：２.４５ＧＨｚ）は1000Ｗ／１５０mmφ、
放電ガス圧力は３０ｍTorrであり、下地膜３から磁性膜
５までを同一条件で作製した。

【００４１】その上に、磁性膜５としてＣｏ₆₉Ｃｒ₁₉Ｐ
ｔ₁₂合金膜を２０ｎｍの膜厚に形成した。ここで、スパ
ッタ中は基板を８０℃に加熱した。この温度は、基板の
軟化温度により決定されるものであり、基板の材質や成
型方法が異なれば変化するものであり、絶対的なもので
はない。ターゲットにＣｏ₆₉Ｃｒ₁₉Ｐｔ₁₂合金を、放電
ガスに純Ａｒガスを使用した。

【００４２】最後に、保護膜６として、Ｃ膜を１０ｎｍ
の膜厚に形成した。スパッタの条件は、投入マイクロ波
電力密度(周波数：２.４５ＧＨｚ）は１０００Ｗ／１５
０mmφ、放電ガス圧力は３０ｍTorrである。このように
して作製した磁気ディスク基板上に潤滑剤を塗布した。

【００４３】このディスクの断面をＳＥＭにより観察し
たところ、基板表面の凹凸には関係なく磁性層を形成し
た後の膜の表面がほぼ平坦になっていた。

【００４４】本実施例では、磁性層及び保護層をＥＣＲ
スパッタ法により作製したが、磁性層を形成した時点で
十分な平坦性が確保できたので、保護層はＲＦスパッタ
法により作製しても良い。

【００４５】まず、作製した磁性膜の磁気特性は、保磁
力が２.５ｋＯｅ，熱安定性を表す指標であるＩｓｖが
２.５×１０^-16ｅｍｕ，角形比の指標であるＳが０.８
，Ｓ†が０.９であり、良好である。Ｘ線回折による
と、Ｃｏの（２１０）面が強く配向している。また、下
地膜３及び配向性制御膜４のない磁気記録媒体では、保
磁力が１.５ｋＯｅと著しく小さかった。このディスク
のＳ／Ｎを評価したところ、３８ｄＢであった。

【００４６】上記の磁気ディスクを実施例１と同様のデ
ィスクドライブにセットして、評価したところ、実施例
１の場合とほぼ同様で、３５ｎｍまで磁気ヘッドを下げ
ても、ヘッドクラッシュを生じることなく、１０００時
間以上安定に記録再生できた。この例は、導電性薄膜の
膜厚が３０ｎｍの場合であるが、この膜厚を３ｎｍ，５
ｎｍ，５０ｎｍ，５５ｎｍと変化させてディスクを作製
した。その結果、３ｎｍの膜厚の場合は、樹脂基板と大
きな違いは見られなかった。そして、ディスクの記録再
生特性を評価したところ、１０時間程度でヘッドクラッ
シュし、記録再生できなくなった。これらのディスクを
評価したところ、上記膜厚を５ｎｍとしたものはヘッド
クラッシュまでの時間に改善効果が見られた。

【００４７】このようにして作製した磁気ディスクの断
面をＳＥＭにより観察したところ、導電膜層を有してい
ない磁気ディスク基板の表面にはスパッタのフレーク等
の異物が付着していることを見出した。これに対して、
本発明を用いて作製した磁気ディスクではこのような異
物はほとんど観察されなかった。このように、本発明に
は樹脂基板表面に異物が付着するのを抑制する効果があ
ることがわかる。さらに、この効果に加えて、マイクロ
波を用いたスパッタ法を用いて成膜することにより、基
板の表面形態を反映することなく形成される膜が平坦化
されるので、磁気ヘッドが安定して飛行できるので、高
信頼性の記録再生を行うことができる。

【００４８】

【発明の効果】本発明を用いると、基板にかかる磁気記
録媒体の内部応力を吸収できるので、媒体表面の凹凸を
確保できるので、ヘッドクラッシュやサーマルアスペリ
ティを抑制できるので高信頼性を確保できる。また、樹
脂などの非導電性基板が帯電するのを防止できるので、
静電気による異物の付着が抑制できる。その結果、ディ
スクに記録できない欠陥領域の低減やヘッドクラッシュ
の発生を抑制できる。さらに、これら異物を核とした磁
性膜の異常成長や基板の表面形状を反映した凹凸が形成
されるのを抑制できる。

【００４９】また、磁気ヘッドと磁気記録媒体間の距離
をガラスやＡｌの基板等と同様の４０ｎｍ以下の浮上量
が得られるので、高密度磁気記録が可能な記録媒体を安
価に供給できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の磁気ディスクの構造を示す
断面図。

【符号の説明】

１…樹脂基板、２…樹脂薄膜層、３…下地膜、４…配向
性制御膜、５…磁性膜、６…保護膜。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者赤城協東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者小礒良嗣東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者二本正昭東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも樹脂基板と情報を記録する金属
の磁気記録膜とからなる磁気ディスクの作製において、
樹脂基板上に樹脂の薄膜を形成した後に、磁気記録媒体
を作製したことを特徴とする磁気ディスクの作製方法。
【請求項２】請求項１記載の樹脂の薄膜を形成すること
により、基板上に形成した磁気記録媒体の有する内部応
力を吸収したことを特徴とする磁気ディスクの作製方
法。
【請求項３】請求項１または請求項２記載の樹脂の薄膜
が導電性であることを特徴とする磁気ディスクの作製方
法。
【請求項４】請求項１から請求項３のいずれか記載の樹
脂膜の形成を樹脂基板の表面に直接行い、基板表面の凹
凸を反映させたことを特徴とする磁気ディスクの作製方
法。
【請求項５】請求項１から請求項４のいずれか記載の樹
脂膜を形成した後に、該樹脂基板表面に設けた磁気記録
媒体層の表面の凹凸を膜面に垂直方向に５nm p-p以下で
あり、凹凸の周期が１μｍ以上に抑制したことを特徴と
する磁気ディスクの作製方法。
【請求項６】請求項１から請求項４のいずれか記載の樹
脂層を表面に形成した樹脂基板上に、磁気記録媒体の構
造が配向性制御層，磁性膜，保護膜の３つの部分からな
り、この順序に該樹脂基板上に樹脂層を介して順次形成
したことを特徴とする磁気ディスクの作製方法。
【請求項７】請求項１から請求項６のいずれか記載の樹
脂層に樹脂基板からの腐食成分の磁気記録媒体中への拡
散を防止する役割を持たせたことを特徴とする磁気ディ
スクの作製方法。
【請求項８】請求項７記載の基板上に形成した樹脂層に
おいて、基板側あるいはその反対側に樹脂を構成する化
学構造の中で親油基を配向させたことを特徴とする磁気
ディスクの作製方法。
【請求項９】請求項１から８のいずれか記載の樹脂層に
用いる材料として、エポキシ系樹脂，熱硬化性樹脂，紫
外線硬化型樹脂の内より選ばれる少なくとも１種類の材
料を用いたことを特徴とする磁気ディスクの作製方法。
【請求項１０】請求項１から請求項９のいずれか記載の
樹脂層を凹凸を有する樹脂基板上に形成するのに、樹脂
層の粘度を制御することにより、該樹脂表面が樹脂基板
の凹凸を反映した表面としたことを特徴とする磁気ディ
スクの作製方法。
【請求項１１】請求項１から請求項１０のいずれか記載
の樹脂層を樹脂基板と磁気記録媒体との間に形成するこ
とにより、基板と磁気記録媒体との接着強度を樹脂基板
に直接樹脂層を形成した場合より高めたことを特徴とす
る磁気ディスクの作製方法。
【請求項１２】請求項１から請求項１１のいずれか記載
の樹脂層を形成するのに、樹脂の粘度を制御したことを
特徴とする磁気ディスクの作製方法。
【請求項１３】請求項６記載の配向性制御層として、Ｃ
ｒを主体とする合金を用い、Ｃｒに固溶し、かつ、Ｃｒ
とイオン半径の異なる金属元素を添加し、さらに優位に
は、その添加する元素がＴｉ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ，Ａｌ，
Ｖ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｎｉ，Ｍｎの内より選ばれる少なくと
も１種類の元素であることを特徴とする磁気ディスクの
作製方法。
【請求項１４】請求項６記載の配向性制御層として、１
層もしくは２層から構成され、段階的に格子面間隔を変
化させ、最も記録膜に近い層の格子面間隔が磁性膜の格
子面間隔に最も近い値となるように合金組成を制御し、
さらに優位には、格子面間隔の変化が、１０％以内であ
るように変化させたことを特徴とする磁気ディスクの作
製方法。
【請求項１５】請求項６に記載の磁気記録用の磁性膜と
して、Ｃｏを主体とし、これに、Ｔａ，Ｐｔ，Ｃｒ，Ｔ
ｉ，Ｎｉ，Ｎｂの内より選ばれる少なくとも２種類ある
いは３種類の元素を含み、さらに優位には、該磁性膜が
Ｘ線的に結晶質であることを特徴とする磁気ディスクの
作製方法。
【請求項１６】請求項６に記載の磁気記録用の磁性膜と
して、Ｃｏを主体とし、これに、窒化シリコン，窒化ア
ルミニウム，酸化シリコン，酸化アルミニウム，窒化チ
タンの内より選ばれる少なくとも１種類の化合物を分散
させたことを特徴とする磁気ディスクの作製方法。
【請求項１７】請求項６に記載の保護膜として、Ｃ，Ｗ
Ｃ，ＴｉＣ，ＴａＣ，ＮｂＣの内より選ばれる少なくと
も１種類の化合物を用いたことを特徴とする磁気ディス
クの製造方法。
【請求項１８】請求項１から請求項１７のいずれか記載
の磁気ディスクの作製を樹脂基板の軟化温度以下で行っ
たことを特徴とする磁気ディスクの作製方法。
【請求項１９】請求項１５または請求項１６に記載の磁
気記録用の磁性膜を作製するのに、成膜時に、磁気ディ
スク基板に対して、バイアス電圧を印加して作製したこ
とを特徴とする磁気ディスクの作製方法。
【請求項２０】樹脂基板上に磁気記録媒体の作製を行う
スパッタリング法として、マイクロ波，高周波、あるい
は、直流の内より選ばれる少なくとも１種類のエネルギ
ーにより、放電ガスを加速し、さらに優位には該放電ガ
スがＡｒ，Ｈｅ，Ｋｒ，Ｘｅ，Ｎｅの内より選ばれる少
なくとも１種類の元素を用いてスパッタして作製したこ
とを特徴とする磁気ディスク。
【請求項２１】少なくとも磁気ディスク円板，磁気ヘッ
ド、あるいは電気回路からなる磁気ディスク装置におい
て、該磁気ディスク円板として請求項１から請求項２０
のいずれか記載の磁気ディスクを用いて構成したことを
特徴とする磁気ディスク装置。