JPH10335411A - カセット取出し装置及びカセット取出し方法並びに基板処理装置 - Google Patents

カセット取出し装置及びカセット取出し方法並びに基板処理装置

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JPH10335411A
JPH10335411A JP13962297A JP13962297A JPH10335411A JP H10335411 A JPH10335411 A JP H10335411A JP 13962297 A JP13962297 A JP 13962297A JP 13962297 A JP13962297 A JP 13962297A JP H10335411 A JPH10335411 A JP H10335411A
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JP
Japan
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cassette
container
vacuum
opening
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Application number
JP13962297A
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English (en)
Inventor
Kazuto Ikeda
和人 池田
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Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置のランニングコストの上昇等を招くこと
なく、基板表面への自然酸化膜の形成を防止することが
できるようにする。 【解決手段】 カセット取出し装置は、カセット62を
出し入れするための開口部351を有しこの開口部35
1の外側の側面が真空パックカバー52によって封止さ
れるカセット棚35と、このカセット棚35の開口部3
51内側の側面を封止するカセットエレベータ36の載
置台361と、カセット棚35と載置台361と真空パ
ックカバー52と真空パックベース51との間にできる
空隙に含まれる雰囲気を排出する配管38,39及び開
閉バルブ41並びに真空ポンプ43と、この排気処理が
終了した後真空パックカバー52に収容されているカセ
ット62をカセット棚35の内部に搬入するカセットエ
レベータ36とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板を処理するた
めの処理容器を有する基板処理装置に関する。また、本
発明は、例えば、基板処理装置において、カセット収容
容器からカセットを取り出すためのカセット取出し装置
とカセット取出し方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体装置のウェーハや液晶表
示装置のガラス基板等の基板に成膜処理等の処理を施す
場合は、基板をカセットに収容して搬送するようになっ
ている。これは、基板処理工程への基板の投入と基板処
理工程からの基板の排出を容易に行うためである。
【0003】図11は、カセットに収容された状態で投
入された基板をカセットから取り出した後、この基板に
成膜処理等の処理を施す従来の基板処理装置10の構成
を示す側面図である。
【0004】図示の基板処理装置10は、処理容器11
と、基板処理ボート12と、ボートエレベータ13と、
カセットステージ14と、カセット棚15と、カセット
ローダ16と、基板移載機17とを有する。これらは、
筐体18に収容されている。
【0005】上記構成において、基板処理動作を説明す
る。この基板処理動作おいては、まず、複数の基板21
が収容されたカセット22が装置の外部に設けられた図
示しない搬送装置によってカセットステージ14に載置
される。カセットステージ14に載置されたカセット2
2は、カセットローダ16によりカセット棚15に搬送
される。
【0006】この搬送処理が終了すると、カセット棚1
5に搬送されたカセット22に収容されている基板21
が基板移載機17により基板処理ボート12に移載され
る。この移載処理が終了すると、基板処理ボート12が
ボートエレベータ13により処理容器11の内部に搬送
される。この搬送処理が終了すると、基板処理ボート1
2に収容された基板21に対して所定の処理が施され
る。この処理が終了すると、基板21は、上述した搬入
手順とは逆の手順で、基板処理装置10から搬出され
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
は、基板処理装置10に基板21を搬送する処理と、基
板処理装置10内で基板21を保管する処理とを大気中
で行うようになっていた。
【0008】しかしながら、このような構成では、基板
21の表面に自然酸化膜が形成され、基板21の処理の
内容によっては、無視することができない場合があると
いう問題があった。
【0009】この問題を解決するために、従来、カセッ
トを基板処理装置に搬送する場合、N2 パージパック化
して搬送し、基板処理装置内で保管する場合、N2 パー
ジパック化されたカセットをN2 パージ容器内で保管す
る方法を採用することがあった。
【0010】しかしながら、このような構成では、N2
パージパック化されたカセットをN2 パージ容器に搬入
した後、N2 パージ容器内の大気をN2 ガスに置換しな
ければならないため、装置のランニングコストが高くな
る等の問題があった。
【0011】そこで、本発明は、装置のランニングコス
トの上昇等を招くことなく、基板表面への自然酸化膜の
形成を防止することができるカセット取出し装置及びカ
セット取出し方法並びに基板処理装置を提供することを
目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、カセット収容
容器によるカセットの収容形態として真空パック化形態
を採用することにより、真空容器本体にカセットを取り
入れる場合、真空容器本体の内部を大気に触れさせるこ
となく取り入れることができるようにしたものである。
【0013】すなわち、基板に自然酸化膜が形成される
のを防止するためには、カセットを真空パック化するこ
とが考えられる。しかし、この場合、どのようにして真
空容器本体の内部を大気に触れさせることなく、この内
部にカセットを取り入れるかが問題になる。
【0014】この方法として、カセットをカセット収容
容器に収容した状態で真空容器本体内に取り入れ、この
真空容器本体内でカセット収容容器から取り出すことが
考えられる。しかし、この方法では、真空容器本体内に
カセット収容容器を取り入れた後、真空容器を真空引き
する必要がある。これにより、この方法では、従来の方
法と同様に、装置のランニングコストが上昇する等の問
題が生じる。
【0015】そこで、本発明は、真空パック用のカセッ
ト収容容器の蓋がその本体にこのカセット収容容器本体
の内外の圧力の差を利用して固定可能なことに着目し、
真空容器本体のカセット出し入れ用開口部にカセット収
容容器本体や真空容器用蓋等により空隙を作り、この空
隙を真空引きすることにより、カセット収容容器本体か
らカセット収容容器用蓋を外し、カセット収容容器本体
に収容されているカセットを真空容器本体内に取り入れ
るようにしたものである。
【0016】このような構成によれば、カセット収容容
器に収容されているカセットを、真空容器本体内を大気
に開放することなく、真空容器本体内に取り入れること
ができる。これにより、ランニングコストの上昇等を招
くことなく、基板表面への自然酸化膜の形成を防止する
ことができる。
【0017】具体的には、請求項1記載の基板処理装置
は、カセット出し入れ用開口部を介して基板収容用カセ
ットが出し入れされるカセット収容容器本体と、カセッ
ト出し入れ用開口部を封止するものであってカセット収
容容器本体の内部と外部との圧力の差を利用してカセッ
ト出し入れ用開口部に固定されるカセット収容容器用蓋
とを有するカセット収容容器からカセットを取り出すも
のであって、真空容器本体と、真空容器用蓋と、排気手
段と、カセット搬入手段とを備えたものである。
【0018】ここで、真空容器本体は、外側の側面がカ
セット収容容器本体によって封止されるカセット出し入
れ用開口部を有する。また、真空容器蓋は、真空容器用
本体のカセット出し入れ用開口部の内側の側面を封止す
る機能を有する。
【0019】また、排気手段は、真空容器本体と、真空
容器用蓋と、カセット収容容器本体と、カセット収容容
器用蓋とによって形成される空隙に含まれる雰囲気を排
出する機能を有する。また、カセット搬入手段は、排気
手段による排気処理が終了した後、真空容器用蓋を開い
てカセット収容容器本体に収容されているカセットを真
空容器本体に搬入する機能を有する。
【0020】この請求項1記載のカセット取出し装置で
は、まず、真空容器本体のカセット出し入れ用開口部の
内側の側面が真空容器用蓋によって封止された状態で、
このカセット出し入れ用開口部の外側の側面がカセット
収容容器本体によって封止される。これにより、真空容
器本体と真空容器用蓋とカセット収容容器本体とカセッ
ト収容容器用蓋との間に空隙が形成される。
【0021】この後、排気手段によりこの空隙に含まれ
る雰囲気が排出される。これにより、カセット収容容器
本体に対するカセット収容容器用蓋の固定状態が解除さ
れる。この排出処理が終了すると、カセット搬入手段に
より真空容器用蓋が開かれるとともに、カセット収容容
器本体に収容されているカセットが真空容器本体内に搬
入される。これにより、真空容器本体の内部を大気に触
れさせることなく、カセットを真空容器本体内に取り入
れることができる。その結果、真空容器本体内にカセッ
トを取り入れた後、この真空容器本体を真空引きする必
要がないので、装置のランニングコストの上昇等を招く
ことなく、基板表面への自然酸化膜の形成を防止するこ
とができる。
【0022】請求項2記載のカセット取出し装置は、請
求項1記載の装置において、さらに、カセット搬出手段
と、給気手段とを備えたものである。
【0023】ここで、カセット搬出手段は、真空容器本
体内に収容されているカセットをカセット収容容器本体
に搬出して真空容器用蓋を閉じる機能を有する。また、
給気手段は、カセット搬出手段によるカセット搬出処理
が終了した後、上記空隙に雰囲気を供給する機能を有す
る。
【0024】この請求項2記載のカセット取出し装置で
は、カセット搬出手段により真空容器本体に収容されて
いるカセットがカセット収容容器本体に搬出されるとと
もに、真空容器用蓋が閉じられる。このあと、給気手段
により上記空隙に雰囲気が供給される。これにより、カ
セット収容容器用蓋がカセット収容容器本体に固定され
る。その結果、真空容器本体の内部を大気に触れさせる
ことなく、カセットをカセット収容容器に収めることが
できる。
【0025】請求項3記載のカセット取出し方法は、カ
セット出し入れ用開口部を介して基板収容用カセットが
出し入れされるカセット収容容器本体及びカセット出し
入れ用開口部を封止するものであってカセット収容容器
本体の内部と外部との圧力の差を利用してこのカセット
収容容器本体に固定されるカセット収容容器用蓋を有す
るカセット収容容器からカセットを取り出す方法であっ
て、第1の工程と、第2の工程と、第3の工程とによっ
てカセットを取り出すものである。
【0026】ここで、第1の工程は、真空容器本体のカ
セット出し入れ用開口部の内側の側面を真空容器用蓋に
よって封止した状態でこのカセット出し入れ用開口部の
外側の側面をカセット収容容器本体によって封止する工
程である。
【0027】また、第2の工程は、第1の工程が終了し
た後、真空容器本体と真空容器用蓋と収容容器本体と収
容容器用蓋との間にできる空隙に含まれる雰囲気を排出
する工程である。
【0028】また、第3の工程は、第2の工程が終了し
た後、真空容器用蓋を開いてカセット収容容器本体に収
容されているカセットを真空容器本体内に搬入する工程
である。
【0029】この請求項3記載のカセット取出し方法で
は、請求項1記載のカセット取出し装置と同様に、ま
ず、真空容器本体のカセット出し入れ用開口部の内側の
側面が真空容器用蓋によって封止された状態で、外側の
側面がカセット収容容器本体によって封止される。次
に、この封止によって形成される空隙に含まれる雰囲気
が排出される。次に、真空容器用蓋が開かれるととも
に、カセット収容容器本体に収容されているカセットが
真空容器本体に搬入される。これにより、真空容器本体
の内部を大気に触れさせることなく、カセットを真空容
器本体内に取り入れることができる。
【0030】請求項4記載のカセット取出し方法は、請
求項3記載の方法において、さらに、第4の工程と、第
5の工程とを備えたものである。
【0031】ここで、第4の工程は、真空容器本体に収
容されているカセットをカセット収容容器本体に搬出し
て真空容器用蓋を閉じる工程である。また、第5の工程
は、第4の工程が終了した後、空隙に雰囲気を供給する
工程である。
【0032】この請求項4記載のカセット取出し方法で
は、請求項2記載のカセット取出し装置と同様に、ま
ず、真空容器本体に収容されているカセットがカセット
収容容器本体に搬出されるとともに、真空容器用蓋が閉
じられる。このあと、上記空隙に雰囲気が供給される。
これにより、真空容器本体の内部を大気に触れさせるこ
となく、カセットをカセット収容容器に取り出すことが
できる。
【0033】請求項5記載の基板処理装置は、基板を処
理するための処理容器を有する装置において、請求項1
記載のカセット取出し装置と同じ構成及び機能を有し、
その構成要件の1つである真空容器本体が処理容器と連
通するようなカセット取出し手段を設けるようにしたも
のである。
【0034】この請求項5記載の基板処理装置では、請
求項1記載のカセット取出し装置と同じようにして、カ
セット収容容器に収容されているカセットがこのカセッ
ト収容容器から取り出され、真空容器本体に収容され
る。そして、この真空容器本体に収容されたカセットに
収容されている基板が処理容器で所定の処理を施され
る。
【0035】
【実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
【0036】[第1の実施の形態] (第1の実施の形態の構成)図1は、本発明の第1の実
施の形態に係る基板処理装置30の構成を示す側面図で
ある。
【0037】ここで、この図1に示す基板処理装置30
の構成を説明する前に、この装置30の構成を分かり易
くするために、この装置30で使用される真空パック用
のカセット収容容器50の構成を説明する。
【0038】図2は、このカセット収容容器50の構成
を示す側面図である。図示のカセット収容容器50は、
基板61を収容したカセット62が載置される真空パッ
クベース51と、この真空パックベース51に載置され
たカセット62を被うための真空パックカバー52とを
有する。
【0039】真空パックカバー52は、真空パックベー
ス51に載置されたカセット62を被うためのカバー本
体521を有する。このカバー本体521は、例えば、
円筒状に形成されている。このカバー本体521の上端
部は閉塞され、下端部には、カセット62を出し入れす
るための開口部522が形成されている。
【0040】また、カバー本体521の下端部には、フ
ランジ523が設けられている。このフランジ523
は、カバー本体521の中心軸にほぼ垂直に形成されて
いる。また、このフランジ523の内径(開口部522
の径)R2は、真空パックベース51の径R1より小さ
くなるように設定され、外径R3は、真空パックベース
51の径R1より大きくなるように設定されている。
【0041】以上が、本実施の形態で使用されるカセッ
ト収容容器50の構成である。なお、このカセット収容
容器50においては、真空パックカバー52が本発明の
カセット収容容器本体に相当し、真空パックベース51
が本発明のカセット収容容器用蓋に相当する。
【0042】図3は、このカセット収容容器50を使っ
てカセット62を真空パック化する方法を示す図であ
る。この場合、まず、図3(a)に示すように、真空パ
ックベース51に載置されたカセット62に真空パック
カバー52が被せられる。次に、図3(b)に示すよう
に、真空パックベース51に形成された真空排気ポート
53を介してカセット収容容器50が真空引きされる。
これにより、図3(c)に示すように、カセット収容容
器50の内部の圧力(真空圧力)と外部の圧力(大気
圧)との差により、真空パックベース51が真空パック
カバー52に固定される。
【0043】以上がカセット62を真空パック化する方
法である。なお、真空排気ポート53には、例えば、チ
ェック弁が埋め込まれ、真空引き後のリークを防止する
ようになっている。同様に、真空パックベース51と真
空パックカバー52との接合部には、Oリング等のシー
ル部材が介在され、前記接合部のリークを防止するよう
になっている。
【0044】次に、図1に示す基板処理装置30の構成
を説明する。図には、縦型の基板処理装置30を示す。
【0045】図示の基板処理装置30は、処理容器31
と、基板処理ボート32と、ボートエレベータ33と、
ロードロック容器34と、カセット棚35と、カセット
エレベータ36と、弾性部材37と、配管38,39,
40と、開閉バルブ41,42と、真空ポンプ43と、
大気タンク44と、基板移載機45と、基板移載容器4
6と、カセットステージ47と、バッファカセット棚4
8と、カセットローダ49とを有する。
【0046】ここで、処理容器31は、基板61に所定
の処理を施すための真空容器である。基板処理ボート3
2は、基板61に所定の処理を施す場合に、この基板6
1を保持するためのボートである。ボートエレベータ3
3は、基板処理ボート32を処理容器31の内部に搬入
したり、この処理容器31の内部から搬出する機能を有
する。ロードロック容器34は、処理容器31の内部が
大気に触れるのを防止するための容器である。
【0047】カセット棚35は、カセット収容容器50
を一時的に保管するための棚である。このカセット棚3
5は、上面をカセット載置面とする真空容器によって構
成されている。カセットエレベータ36は、カセット6
2をカセット棚35の内部に搬入したり、この内部から
搬出するための機能を有する。弾性部材37は、真空パ
ックベース51の厚みのばらつきを吸収する機能を有す
る。配管38,39,40と、開閉バルブ41,42
と、真空ポンプ43と、大気タンク44とは、カセット
収容容器50の真空パックベース(蓋)51を開閉する
機能を有する。
【0048】基板移載機45は、カセット棚35に収容
されたカセット62と基板処理ボート32との間で基板
61を移載する機能を有する。基板移載容器46は、こ
の基板移載機45を収容する機能を有するとともに、カ
セット棚35とロードロック容器34とを連通する機能
を有する。言い換えれば、カセット棚35と処理容器3
1とを連通する機能を有する。
【0049】カセットステージ47は、カセット収容容
器50を載置するためのステージである。バッファカセ
ット棚48は、カセット収容容器50を一時的に保管す
るための棚である。カセットローダ49は、カセット収
容容器50をカセットステージ47とカセット棚35と
の間、及びバッファカセット棚48とカセット棚35と
の間、並びにカセットステージ47とバッファカセット
棚48との間で搬送する機能を有する。
【0050】上記処理容器31の下面には、基板処理ボ
ート32を出し入れするための開口部311が設けられ
ている。この処理容器31の下方には、ロードロック容
器34が設けられている。このロードロック容器34の
上面には、基板処理ボート32を出し入れするための開
口部341が設けられている。また、このロードロック
容器34の側面には、基板61を出し入れするための開
口部342が設けられている。上記ボートエレベータ3
3は、ロードロック容器34の内部に配置されている。
上記基板処理ボート32は、ボートエレベータ33に載
置されている。
【0051】上記カセット棚35は、ロードロック容器
34の横に所定間隔離して設けられている。このカセッ
ト棚35の上面には、カセット32を出し入れするため
の開口部351が設けられている。この開口部351
は、例えば、円形に形成されている。この開口部351
の径R4は、真空パックベース51の径R1より大き
く、フランジ523の外径R3より小さくなるように設
定されている。カセット棚35の側面には、基板61を
出し入れするための開口部352が設けられている。
【0052】上記カセットエレベータ36は、カセット
棚35の内部に配置されている。このカセットエレベー
タ36は、カセットが載置される載置台361を有す
る。この載置台361は、カセット62を支持する機能
のほかに、開口部351の内側の側面を封止する機能を
有する。この載置台361の上面には、上述した板状の
弾性部材37が取り付けられている。開口部351の外
側の側面は、詳細は後述するが、カセット収容容器50
の真空パックカバー52により封止される。この場合、
カセット棚35の上面と真空パックカバー52との接合
部には、Oリング等のシール部材が介在されている。
【0053】上記配管38の一端は、開口部351の縁
に位置決めされている。この配管38の他端は配管3
9,40の一端に接続されている。配管39の他端は真
空ポンプ43に接続され、配管40の他端は大気タンク
44に接続されている。開閉バルブ41は配管39に挿
入され、開閉バルブ42は配管40に挿入されている。
【0054】上記基板移載機45は、基板移載容器46
に収容されている。この基板移載容器46は、ロードロ
ック容器34とカセット棚35との間に配設されてい
る。この基板移載容器46の側面には、基板61を出し
入れするための開口部461,462が設けられてい
る。
【0055】上記カセットステージ47は、上記カセッ
ト棚35の横に所定間隔離して配設されている。上記バ
ッファカセット棚48は、カセット棚35の上方に設け
られている。このバッファカセット棚48は、例えば、
2つの棚部481,482を有する。上記カセットロー
ダ49は、カセットステージ47とカセット棚35との
間に設けられている。
【0056】以上が本実施の形態の基板処理装置30の
構成である。なお、以上の構成において、カセット棚3
5は、本発明の真空容器本体に相当し、載置台361
は、真空容器用蓋に相当する。また、配管38,39
と、開閉バルブ41と、真空ポンプ43とは、本発明の
排気手段を構成し、カセットエレベータ36は、本発明
のカセット搬入手段とカセット搬出手段とを構成する。
また、配管38,40と、開閉バルブ42と、大気タン
ク44とは、本発明の給気手段を構成する。
【0057】(第1の実施の形態の動作)上記構成にお
いて、図4、図5、図6を参照しながら、基板処理動作
を説明する。ここで、図4、図5、図6は、この基板処
理動作を示すシーケンス図である。
【0058】この処理の開始時は、図4に示すように、
ボートエレベータ33が下降状態にある。これにより、
基板処理ボート32はロードロック容器34内に収容さ
れている。また、カセットエレベータ36が上昇状態に
ある。これにより、カセット棚35の開口部351の内
側の側面がカセットエレベータ36の載置台361によ
り封止されている。
【0059】この状態で、まず、図4に示すように、基
板処理装置30の外部に設けられた図示しない搬送装置
によりカセットステージ47にカセット収容容器50が
載置される。このカセット収容容器50は、図4に示す
ように、カセットローダ49によりカセット棚35まで
搬送される。カセット棚35まで搬送されたカセット収
容容器50は、図5に示すように、カセット棚35の上
面に載置される。
【0060】この場合、カセット収容容器50は、真空
パックカバー52の開口部522の中心軸がカセット棚
35の開口部351の中心軸とほぼ一致するように載置
される。これにより、カセット収容容器50の真空パッ
クベース51は、カセット棚35の開口部351に位置
決めされ、真空パックカバー52のフランジ523がこ
の開口部351の周縁部に位置決めされる。その結果、
開口部351の外部の側面が真空パックカバー52によ
り封止される。これにより、開口部351には、カセッ
ト棚35と、載置台361と、真空パックベース51
と、真空パックカバー52とにより空隙が形成されてい
る。
【0061】この場合、真空パックベース51は、弾性
部材37の上に載置される。これにより、真空パックベ
ース51の厚みを載置台361の上面と開口部351の
外側の側面との間の間隔より少し小さめに設定しておけ
ば、この厚みが本来の値より少し大きくなっても、真空
パックカバー52がカセット棚35の上面から浮いてし
まうことを防止することができる。その結果、真空パッ
クベース51の厚みが本来の値より少し大きくなって
も、開口部351の外側の側面を確実に封止することが
できる。
【0062】なお、カセットローダ49がカセット収容
容器50をカセット棚35に搬送している間、カセット
ステージ47には、図4に示すように、次のカセット収
容容器50が載置される場合がある。この場合、カセッ
トローダ49は、カセット収容容器50をカセット棚3
5の上面に載置すると、カセットステージ47に載置さ
れている次のカセット62を、図6に示すように、カセ
ット棚48の一方の棚部481に搬送する。
【0063】カセット収容容器50がカセット棚35の
上面に載置されると、開閉バルブ41が開かれるととも
に、真空ポンプ43がオン状態に設定される。これによ
り、上記空隙に存在する大気が配管38,39を介して
排出される。この排気処理は、空隙の圧力がカセット収
容容器50の内部の圧力とほぼ同じになるか、または、
これより小さくなるまで続けられる。
【0064】空隙の圧力がカセット収容容器50の内部
の圧力とほぼ同じになるか、または、これより小さくな
ると、真空パックカバー52に対する真空パックベース
51の固定状態が解除される。この状態になると、真空
ポンプ43がオフ状態に設定されるとともに、開閉バル
ブ41が閉じられる。このあと、カセットエレベータ3
6が図6に示すように下降する。これにより、カセット
62が真空パックベース51を介して載置台361に載
置された状態で、カセット棚35の内部に搬入される。
【0065】この搬入処理が終了すると、カセット62
に収容されている基板61が基板移載機45により基板
処理ボート32に移載される。この移載処理が終了する
と、基板処理ボート32がボートエレベータ33により
処理容器31の内部に搬入される。この搬入処理が終了
すると、基板処理ボート32に収容された基板61に対
して所定の処理が施される。
【0066】この処理が終了すると、基板処理ボート3
2がボートエレベータ33によりロードロック容器34
に搬出される。この搬出処理が終了すると、基板処理ボ
ート31に収容されている基板61が基板移載機45に
よりカセット棚35に収容されているカセット62に移
載される。
【0067】この移載処理が終了すると、カセットエレ
ベータ36が上昇する。これにより、カセット62が真
空パックカバー52に収容されるとともに、この真空パ
ックカバー52の開口部522が真空パックベース51
により封止される。また、カセット棚35の開口部35
1の内側の側面がカセットエレベータ36の載置台36
1により封止される。
【0068】この搬出処理が終了すると、開閉バルブ4
2が開かれる。これにより、カセット棚35と、載置台
361と、真空パックベース51と、真空パックカバー
52とにより形成される空隙に大気が供給される。その
結果、この空隙の圧力が大気圧に設定される。これによ
り、この空隙の圧力がカセット収容容器50内の圧力よ
り大きくなり、真空パックベース51が真空パックカバ
ー52に固定される。
【0069】この処理が終了すると、カセット棚35の
上面に載置されたカセット収容容器50がカセットロー
ダ49によりバッファカセット棚48の他方の棚部48
2に搬送される。この搬送処理が終了すると、バッファ
カセット棚48の一方の棚部481に保管されているカ
セット収容容器50がカセットローダ49によりカセッ
ト棚35の上面に載置される。これにより、このカセッ
ト収容容器50に対して、再び上述したような処理が施
される。
【0070】このあと、バッファカセット棚48の他方
の棚部482に載置されたカセット収容容器50がカセ
ットローダ49によりカセットステージ47に搬送され
る。このカセット収容容器50は図示しない搬送装置に
よりカセットステージ47から搬出される。
【0071】このあと、このカセットステージ47に次
のカセット収容容器50が載置される。このカセット収
容容器50は、カセットローダ49によりバッファカセ
ット棚48の一方の棚部481に搬送される。以下、同
様に、上述した動作が繰り返される。
【0072】(第1の実施の形態の効果)以上詳述した
本実施の形態によれば、次のような効果が得られる。
【0073】(1)まず、本実施の形態によれば、カセ
ット収容容器50の真空パックベース51が真空パック
カバー52にこのカバー52の内外の圧力差を利用して
固定可能なことに着目し、カセット棚35のカセット出
し入れ用の開口部351に真空パックカバー52や載置
台361等により空隙を作り、この空隙を真空引きする
ことにより、真空パックカバー52から真空パックベー
ス51を外して、真空パックカバー52に収容されてい
るカセット62をカセット棚35内に取り入れるように
したので、真空パックカバー52に収容されているカセ
ット62を、カセット棚35の内部を大気に触れさせる
ことなく、カセット棚35内に取り入れることができ
る。これにより、装置のランニングコストの上昇等を招
くことなく、基板表面への自然酸化膜の形成を防止する
ことができる。
【0074】(2)また、本実施の形態によれば、カセ
ット棚35の内部からカセット62を取り出す場合、真
空パックカバー52にカセット62を収容した後、上記
空隙に大気を供給することにより、真空パックベース5
1を真空パックカバー52に固定するようにしたので、
カセット棚35を大気に触れさせることなく、カセット
62をカセット棚35から取り出すことができる。これ
により、カセット62の取出しによる装置のランニング
コストの上昇等を防止することができる。
【0075】(3)また、本実施の形態によれば、カセ
ット出し入れ用の開口部351をカセット棚35の上面
に形成するようにしたので、上記空隙を真空引きした
後、1つの動作でカセット62をカセット棚35内に取
り入れることができる。
【0076】すなわち、このような構成によれば、カセ
ット搬入手段として、カセットエレベータ36のような
昇降式のカセット搬入手段を用いることにより、空隙の
真空引きによって真空パックベース51を開くと同時
に、カセット62を支持することができる。これによ
り、真空引き処理が終了した後、カセットエレベータ3
6を下降させるだけの1つの動作で、カセット62をカ
セット棚35内に取り入れることができる。
【0077】(4)また、本実施の形態によれば、カセ
ットエレベータ36の載置台361の上面に弾性部材3
7を配置するようにしたので、真空パックベース51の
厚みのばらつきを吸収することができる。これにより、
カセット収容容器50やカセット棚35等の製造精度を
緩和することができる。
【0078】[第2の実施の形態] (第2の実施の形態の構成)先の実施の形態では、本発
明を、バッファカセット棚48を有する基板処理装置3
0に適用する場合を説明した。これに対し、本実施の形
態は、バッファカセット棚48を有しない基板処理装置
30に適用するようにしたものである。
【0079】図7は、本実施の形態に係る基板処理装置
30の構成の示す側面図である。なお、図7において、
先の図1とほぼ同じ機能を果たす部分には、同一符号を
付して詳細な説明を省略する。
【0080】図7において、図1と異なる点は、カセッ
トステージ47と、バッファカセット棚48と、カセッ
トローダ49が省略されている点である。
【0081】(第2の実施の形態の動作)上記構成にお
いて、図8、図9、図10を参照しながら、基板処理動
作を説明する。ここで、図8、図9、図10は、この基
板処理動作を示すシーケンス図である。
【0082】本実施の形態においては、カセット収容容
器50は、図8に示すように、例えば、図示しない搬送
装置により、直接カセット棚35の上面に載置される。
次に、図9に示すように、カセット棚35の開口部35
1に形成された空隙が真空引きされる。次に、カセット
62が、図10に示すように、カセット棚35の内部に
搬入される。
【0083】次に、基板61が基板処理ボート32に移
載される。次に、基板処理ローダ32が処理容器31の
内部に搬入され、基板61に所定の処理が施される。こ
の処理が終了すると、基板処理ボート32がロードロッ
ク容器34に搬出される。次に、基板61がカセット6
2に移載される。次に、カセット62が真空容器カバー
52に収容され、空隙に大気が供給される。次に、カセ
ット収容容器50が図示しない搬送装置によりカセット
棚35から搬送される。
【0084】(第2の実施の形態の効果)以上詳述した
本実施の形態においても、先の実施の形態と同様の効果
を得ることができる。
【0085】[そのほかの実施の形態]以上、本発明の
2つの実施の形態を詳細に説明したが、本発明は、上述
したような実施の形態に限定されるものではない。
【0086】例えば、先の実施の形態では、カセット出
し入れ用の開口部351をカセット棚35の上面に設け
る場合を説明した。しかしながら、本発明では、これを
側面に設けるようにしてもよい。このような構成におい
ても、カセット搬入手段として、例えば、図1に示す基
板移載機45のようなアーム式のカセット搬入手段を用
いることにより、カセット収容容器50からカセット6
2を取り出すことができる。
【0087】このほかにも、本発明は、その要旨を逸脱
しない範囲で種々様々変形実施可能なことは勿論であ
る。
【0088】
【発明の効果】以上詳述した請求項1記載のカセット取
出し装置及び請求項3記載のカセット取出し方法並びに
請求項5記載の基板処理装置によれば、真空パック用の
カセット収容容器用蓋がカセット収容容器本体にこの本
体の内外の圧力差を利用して固定可能なことを着目し、
真空容器本体のカセット出し入れ用開口部にカセット収
容容器用蓋や真空容器用蓋等により空隙を作り、この空
隙を真空引きすることにより、カセット収容容器本体か
らカセット収容容器用蓋を外して、カセット収容容器本
体に収容されているカセットを真空容器本体内に取り入
れるようにしたので、カセット収容容器本体に収容され
ているカセットを、真空容器本体の内部を大気に触れさ
せることなく、真空容器本体内に取り入れることができ
る。これにより、カセットの取り入れによる装置のラン
ニングコストの上昇等を招くことなく、基板表面への自
然酸化膜の形成を防止することができる。
【0089】また、請求項2記載のカセット取出し装置
及び請求項4記載のカセット取出し方法によれば、真空
容器本体の内部からカセットを取り出す場合、カセット
収容容器本体にカセットを収容した後、上記空隙に大気
を供給することにより、カセット収容容器用蓋をカセッ
ト収容容器本体に固定するようにしたので、真空容器本
体内を大気に触れさせることなく、カセットを真空容器
本体から取り出すことができる。これにより、カセット
の取出しによる装置のランニングコストの上昇等を防止
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る基板処理装置
の構成を示す側面図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態で使用されるカセッ
ト収容容器の構成を示す側面図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態における基板の真空
パック化を説明するためのシーケンス図である。
【図4】本発明の第1の実施の形態の動作を説明するた
めのシーケンス図である。
【図5】本発明の第1の実施の形態の動作を説明するた
めのシーケンス図である。
【図6】本発明の第1の実施の形態の動作を説明するた
めのシーケンス図である。
【図7】本発明の第2の実施の形態に係るカセット取出
し装置の構成を示す側面図である。
【図8】本発明の第2の実施の形態の動作を説明するた
めのシーケンス図である。
【図9】本発明の第2の実施の形態の動作を説明するた
めのシーケンス図である。
【図10】本発明の第2の実施の形態の動作を説明する
ためのシーケンス図である。
【図11】従来の基板処理装置の構成を示す側面図であ
る。
【符号の説明】
30…基板処理装置、31…処理容器、32…基板処理
ボート、33…ボートエレベータ、34…ロードロック
容器、35…カセット棚、36…カセットエレベータ、
37…弾性部材、38,39,40…配管、41,42
…開閉バルブ、43…真空ポンプ、44…大気タンク、
45…基板移載機、46…基板移載容器、47…カセッ
トステージ、48…バッファカセット棚、49…カセッ
トローダ、311,341,342,351,352,
461,462…開口部、481,482…棚部。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 カセット出し入れ用開口部を介して基板
    収容用カセットが出し入れされるカセット収容容器本体
    と、前記カセット出し入れ用開口部を封止するものであ
    って前記カセット収容容器本体の内部と外部との圧力の
    差を利用してこのカセット収容容器本体に固定されるカ
    セット収容容器用蓋とを有するカセット収容容器から前
    記カセットを取り出すものであって、 カセット出し入れ用開口部を有し、このカセット出し入
    れ用開口部の外側の側面が前記カセット収容容器本体に
    よって封止される真空容器本体と、 この真空容器本体の前記カセット出し入れ用開口部の内
    側の側面を封止する真空容器用蓋と、 前記真空容器本体と前記真空容器用蓋と前記カセット収
    容容器本体と前記カセット収容容器用蓋との間にできる
    空隙に含まれる雰囲気を排出する排気手段と、 この排気手段による排気処理が終了した後、前記真空容
    器用蓋を開いて前記カセット収容容器本体に収容されて
    いる前記カセットを前記真空容器本体に搬入するカセッ
    ト搬入手段とを備えたことを特徴とするカセット取出し
    装置。
  2. 【請求項2】 前記真空容器本体に収容されている前記
    カセットを前記収容容器本体に搬出して前記真空容器用
    蓋を閉じるカセット搬出手段と、 このカセット搬出手段によるカセット搬出処理が終了し
    た後、前記空隙に雰囲気を供給する給気手段とをさらに
    備えたことを特徴とする請求項1記載のカセット取出し
    装置。
  3. 【請求項3】 カセット出し入れ用開口部を介して基板
    収容用カセットが出し入れされるカセット収容容器本体
    及び前記カセット出し入れ用開口部を封止するものであ
    って前記カセット収容容器本体の内部と外部との圧力の
    差を利用してこのカセット収容容器本体に固定されるカ
    セット収容容器用蓋を有するカセット収容容器から前記
    カセットを取り出す方法であって、 真空容器本体のカセット出し入れ用開口部の内側の側面
    を真空容器用蓋によって封止した状態でこのカセット出
    し入れ用開口部の外側の側面を前記カセット収容容器本
    体によって封止する第1の工程と、 この第1の工程が終了した後、前記真空容器本体と前記
    真空容器用蓋と前記カセット収容容器本体と前記カセッ
    ト収容容器用蓋との間にできる空隙に含まれる雰囲気を
    排出する第2の工程と、 この第2の工程が終了した後、前記真空容器用蓋を開い
    て前記カセット収容容器本体に収容されている前記カセ
    ットを前記真空容器本体に搬入する第3の工程とを備え
    たことを特徴とするカセット取出し方法。
  4. 【請求項4】 前記真空容器本体に収容されている前記
    カセットを前記収容容器本体に搬出して前記真空容器用
    蓋を閉じる第4の工程と、 この第4の工程が終了した後、前記空隙に雰囲気を供給
    する第5の工程とをさらに備えたことを特徴とする請求
    項3記載のカセット取出し方法。
  5. 【請求項5】 基板を処理するための処理容器を有する
    基板処理装置において、 カセット出し入れ用開口部を介して基板収容用カセット
    が出し入れされるカセット収容容器本体と前記カセット
    出し入れ用開口部を封止するものであって前記カセット
    収容容器本体の内部と外部との圧力の差を利用してこの
    カセット収容容器本体に固定されるカセット収容容器用
    蓋とを有するカセット収容容器から前記カセットを取り
    出すものであって、 前記基板処理容器と連通するとともに、カセット出し入
    れ用開口部を有し、このカセット出し入れ用開口部の外
    側の側面が前記カセット収容容器本体によって封止され
    る真空容器本体と、 この真空容器本体の前記カセット出し入れ用開口部の内
    側の側面を封止する真空容器用蓋と、 前記真空容器本体と前記真空容器用蓋と前記カセット収
    容容器本体と前記カセット収容容器用蓋との間にできる
    空隙に含まれる雰囲気を排出する排気手段と、 この排気手段による排気処理が終了した後、前記真空容
    器用蓋を開いて前記カセット収容容器本体に収容されて
    いる前記カセットを前記真空容器本体に搬入するカセッ
    ト搬入手段とを備えたカセット取出し手段を有すること
    を特徴とする基板処理装置。
JP13962297A 1997-05-29 1997-05-29 カセット取出し装置及びカセット取出し方法並びに基板処理装置 Pending JPH10335411A (ja)

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JP13962297A JPH10335411A (ja) 1997-05-29 1997-05-29 カセット取出し装置及びカセット取出し方法並びに基板処理装置

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JP (1) JPH10335411A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7525650B2 (en) 2003-09-19 2009-04-28 Dainippon Screen Mfg., Co., Ltd. Substrate processing apparatus for performing photolithography

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7525650B2 (en) 2003-09-19 2009-04-28 Dainippon Screen Mfg., Co., Ltd. Substrate processing apparatus for performing photolithography

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