JPH10316243A - 基板搬送装置及び基板搬送方法 - Google Patents

基板搬送装置及び基板搬送方法

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JPH10316243A
JPH10316243A JP9139142A JP13914297A JPH10316243A JP H10316243 A JPH10316243 A JP H10316243A JP 9139142 A JP9139142 A JP 9139142A JP 13914297 A JP13914297 A JP 13914297A JP H10316243 A JPH10316243 A JP H10316243A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な構造でありながら基板への汚染物質の
再付着を確実に防ぐことができる基板搬送装置と方法を
提供する。 【解決手段】 アーム２１を移動させ，アーム２１上に
載せた状態で処理部４に対して基板Ｗを搬入出させる基
板搬送装置２において，アーム２１の上面に吸引孔２９
を配置すると共に，吸引孔２９の上方を覆うためのカバ
ー体３０を設け，かつ，カバー体３０には第一の吸着部
３１と第二の吸着部３２を形成したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，例えば半導体ウェハや
ＬＣＤガラス基板などといった基板を処理部に対して搬
入出させる基板搬送装置と方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に，半導体デバイスの製造工程にお
いては，半導体ウェハの如き基板上に回路や電極パター
ン等を形成するために，フォトリソグラフィが利用され
ている。このフォトリソグラフィでは，基板の洗浄，乾
燥，基板上へのレジスト膜の形成，レジスト膜の露光，
現像などといった一連の処理が行われる。そして，これ
ら各処理を行う処理装置においては，カセットステーシ
ョンに載置されたカセット内から取り出した基板をアー
ムに載せた状態で処理部に一枚ずつ搬送し，各基板に対
して洗浄等の処理を順次行う。また，各処理部における
処理を終了した基板を，再びアームに載せた状態で搬送
し，カセット内に戻している。
【０００３】ところで，アーム上面において，例えば洗
浄前に基板を支持する部分と洗浄後に基板を支持する部
分が同じであると，洗浄前の基板を載せた際に基板裏面
に付いていた汚染物質がアーム上面を介して支持部に付
着し，洗浄後の基板をアーム上に載せて搬送する際に洗
浄済みの基板の裏面に汚染物質を再付着させてしまうと
いう問題がある。そこで，この問題を解決する手段とし
て，例えば，特開平５−１５２２６６号の基板搬送装置
が開示されている。即ち，この特開平５−１５２２６６
号の基板搬送装置では，カセット内から洗浄前の基板を
取り出して洗浄部まで搬送する基板取出アームと，洗浄
部において洗浄済みの基板をカセット内に戻す処理済み
基板収納アームを別々の機構に構成し，汚染物質の再付
着を防いでいる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら，この基
板搬送装置のように基板取出アームと処理済み基板収納
アームを別々の機構に構成したものは，結局は取出用と
収納用のアームが別々に必要であり，また，取出用と収
納用のアームを切り替える駆動機構も比較的大型であっ
て，構造が複雑になるといった欠点がある。また，アー
ム全体が切り替え動作に伴って旋回等するため，アーム
を動かすための相当に広いスペースが必要であり，装置
スペースの有効利用が図れないという問題がある。
【０００５】従って，本発明の目的は，簡単な構造であ
りながら基板への汚染物質の再付着等を確実に防ぐこと
ができる基板搬送装置と方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に，請求項１の発明は，アームを移動させ，該アーム上
に載せた状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板
搬送装置において，アームの上面に吸引孔を配置すると
共に，吸引孔の上方を覆うためのカバー体を設け，か
つ，該カバー体には第一の吸着部と第二の吸着部を形成
したことを特徴とする。
【０００７】この請求項１の基板搬送装置にあっては，
処理部まで搬送する際には，例えば第一の吸着部を吸引
孔の上方に移動させて基板の裏面を吸着する。また，処
理部において処理済みの基板を搬送する際には，例えば
第二の吸着部を吸引孔の上方に移動させて基板の裏面を
吸着にする。このように処理前の基板と処理後の基板を
同じアームの上面に吸着する際に第一の吸着部と第二の
吸着部を吸引孔の上方に交互に移動させることによっ
て，簡単に汚染物質の再付着を防ぐことができるように
なる。
【０００８】この請求項１の基板搬送装置において，請
求項２に記載したように，前記吸引孔を円筒形状の吸引
管の上面に形成すると共に，該吸引孔を含む吸引管全体
を周面に第一の吸着部と第二の吸着部が形成された回動
自在な円筒形状のカバー体で覆った構成とすることがで
きる。その場合，請求項３に記載したように，前記カバ
ー体を回動させる回動機構を設けると良い。
【０００９】また，請求項４に記載したように，アーム
の上面に吸着パッドを配置すると共に，該吸着パッドの
上面に配置された吸引孔の上方を，第一の吸着部と第二
の吸着部が形成された周動自在なカバー体で覆った構成
とすることもできる。この場合，請求項５に記載したよ
うに，前記カバー体を周動させる周動機構を設けると良
い。また，請求項６に記載したように，第一の吸着部と
第二の吸着部の一方に吸着パッドの上面を露出させるの
に十分な大きさの開口を形成し，他方に吸着パッド上面
の吸引孔と略同じ大きさの開口を形成した構成とするこ
とができる。そうすれば，処理前の基板と処理後の基板
を同じアームの上面において，吸着パッドによって直接
吸着する状態とカバー体を介して吸着する状態に切り替
えることによって，簡単に汚染物質の再付着を防ぐこと
ができるようになる。
【００１０】また，請求項７の基板搬送方法は，アーム
を移動させ，該アーム上に載せた状態で処理部に対して
基板を搬入出させる基板搬送方法において，処理部に対
して基板を搬入させる場合は，アームの上面に配置され
た吸引孔の上方に第一の吸着部と第二の吸着部の一方を
移動させ，処理部から基板を搬出する際には，アームの
上面に配置された吸引孔の上方に第一の吸着部と第二の
吸着部の他方を移動させることを特徴とする
【００１１】
【発明の実施の形態】以下，本発明の好ましい実施の形
態を被処理体としての基板Ｗを洗浄する洗浄装置１に基
いて説明する。図１は，半導体ウェハやＬＣＤガラス基
板などといった基板Ｗを洗浄するための洗浄装置１の平
面図である。この洗浄装置１は，本発明の実施の形態に
かかる基板搬送装置２を備えており，基板搬送装置２の
両側には，カセットステーション３と洗浄部４が対向し
て配置されている。
【００１２】カセットステーション３には，図示しない
搬送ロボットなどによって搬入されたカセットＣが載置
されている。このカセットＣの内部には，複数枚の基板
Ｗが，水平になった姿勢で所定の間隔を空けて並列に整
列された状態で収納されている。基板Ｗは，例えば円板
形状からなる半導体ウェハや矩形状をなすＬＣＤガラス
基板などである。
【００１３】洗浄部４の中央には，搬送路１０が形成さ
れており，この搬送路１０に沿って主搬送アーム１１が
移動する構成になっている。図示の例では，搬送路１０
の一方側に純水やアンモニア水溶液，過酸化水素水溶
液，フッ化水素水溶液などの各種薬液を用いて基板Ｗを
スクラバ洗浄するためのスクラバユニット１５，１６が
配置されている。また，搬送路１０の他方側には，基板
Ｗを乾燥処理するための乾燥ユニット１２，１３，１４
が配置されている。そして，主搬送アーム１１が搬送路
１０に沿って移動しながら基板Ｗを各ユニット１２〜１
６に所定の順序で搬送することにより基板Ｗに対する各
洗浄処理が行われるようになっている。
【００１４】基板搬送装置２は，ベース２０の前面に取
り付けられたアーム２１を備えている。次に述べるよう
に，基板搬送装置２において，ベース２０は図１に示す
ＸＹ方向に移動し，かつ，鉛直方向に昇降すると共に，
鉛直軸を中心に回転するように構成されている。そし
て，このベース２０の移動に従って，カセットステーシ
ョン３に載置されたカセットＣ内から洗浄前の基板Ｗを
取り出し，その基板Ｗをアーム２１上に載せながら搬送
して，洗浄部４の主搬送アーム１１に受け渡すと共に，
洗浄部４において既に洗浄された基板Ｗを主搬送アーム
１１から受け取ってアーム２１上に載せながら搬送し，
カセットステーション３のカセットＣ内に戻す構成にな
っている。
【００１５】ベース２０は，図２に示す姿勢においてベ
ース２０をＸ軸方向に水平移動させてアーム２１をカセ
ットＣに対して前進および後退させる進退機構２２と，
この進退機構２２の下面を回転自在かつ昇降自在に支持
することによってアーム２１を回転および昇降させる回
転昇降機構２３と，この回転昇降機構２３の下方を支持
してＹ軸方向に設けられたレール２４に沿って走行する
ことによってアーム２１を横方向に移動させる横移動機
構２５とによって支持されている。そして，これら進退
機構２２，回転昇降機構２３および横移動機構２５の協
働によって，カセットステーション３に載置されたカセ
ットＣ内にアーム２１を嵌入させた状態でアーム２１を
上昇させることにより，カセットＣ内から洗浄前の基板
Ｗを取り出すことができるようになっている。そして，
こうして取り出した基板Ｗをアーム２１上に載せながら
搬送し，基板搬送装置２の後方において待機している洗
浄部４の主搬送アーム１１に受け渡すようになってい
る。また，洗浄部４において既に洗浄された基板Ｗをカ
セットＣ内に戻す場合には，主搬送アーム１１がアーム
２１上に基板Ｗを載せた後，基板Ｗをアーム２１上に載
せながら搬送し，カセットステーション３のカセットＣ
内に戻すようになっている。
【００１６】アーム２１の上面には，少なくとも三箇所
以上に吸引孔２９が配置されている。また，これら各吸
引孔２９の上方を覆うようにしてカバー体３０がそれぞ
れ設けられており，更に，カバー体３０には，第一の吸
着部３１と第二の吸着部３２がそれぞれ形成されてい
る。具体的な構成は後述するが，このカバー体３０を移
動させて，これら第一の吸着部３１と第二の吸着部３２
を吸引孔２９の上方に選択的に位置させることによっ
て，アーム２１の上面において，基板Ｗの裏面を第一の
吸着部３１を介して吸引孔２９で吸着した状態と，基板
Ｗの裏面を第二の吸着部３２を介して吸引孔２９で吸着
した状態とに切り替えられる構成になっている。
【００１７】ここで図３は，特に円板形状をなす半導体
ウェハの如き基板Ｗの搬送に適したアーム２１の斜視図
である。図示のように，このアーム２１は，ベース２０
の前面に取り付けられた一枚の板部材３５によって構成
され，その上面には，三箇所に吸引孔２９が配置されて
おり，第一の吸着部３１と第二の吸着部３２を備えるカ
バー体３０が各吸引孔２９の上方を覆うようにしてそれ
ぞれ設けられている。また，図示の形態では，板部材３
５の先端部と基端部には半導体ウェハの如き基板Ｗの周
縁を位置決めするためのガイド３６，３７が設けられて
いる。そして，カバー体３０を適宜移動させることによ
り，ガイド３６，３７の間で位置決めした基板Ｗの裏面
を，板部材３５の上面において第一の吸着部３１を介し
て吸引孔２９で吸着した状態と，第二の吸着部３２を介
して吸引孔２９で吸着した状態とに切り替えられる構成
になっている。なお，ガイド３６，３７は無くても良
い。
【００１８】また，図４は，特に矩形状をなすＬＣＤガ
ラス基板の如き基板Ｗの搬送に適したアーム２１の斜視
図である。図示のように，このアーム２１は，ベース２
０の前面に取り付けられた二本のアーム部材３８によっ
て構成されており，その上面には，それぞれ三箇所ずつ
に配置された吸引孔２９が，合計で六箇所ずつに設けら
れており，第一の吸着部３１と第二の吸着部３２を備え
るカバー体３０が各吸引孔２９の上方を覆うようにして
それぞれ設けられている。そして，カバー体３０を適宜
移動させることにより，これら二本のアーム部材３８の
上面に載置させた基板Ｗの裏面を，第一の吸着部３１を
介して吸引孔２９で吸着した状態と，第二の吸着部３２
を介して吸引孔２９で吸着した状態とに切り替えられる
構成になっている。
【００１９】このように，アーム２１の形状は，例えば
一枚の板部材３５や二本のアーム部材３８などといった
ように，自由に構成することが可能である。また，吸引
孔２９は，基板Ｗの裏面をしっかりと吸着保持できるよ
うに，何れもアーム２１上面の少なくとも三箇所以上に
配置されていれば良い。
【００２０】さて，図１に示した洗浄装置１において
は，先ず，搬送ロボットなどによって搬入されたカセッ
トＣがカセットステーション３に載置される。このカセ
ットＣの内部には，まだ洗浄されていない基板Ｗが，複
数段に並列に整列された姿勢で収納されている。
【００２１】次に，基板搬送装置２のアーム２１によっ
て，このカセットＣの内部から基板Ｗを取り出す作業が
開始する。先ず，図２で説明した進退機構２２，回転昇
降機構２３および横移動機構２５の協働によってアーム
２１を移動させ，カセットステーション３に載置された
カセットＣ内にアーム２１を嵌入させた後，アーム２１
を上昇させる。なお，このようにカセットＣ内から基板
Ｗを取り出す際には，予めカバー体３０を移動させるこ
とにより第一の吸着部３１を吸引孔２９の上方に位置さ
せた状態としておく。こうして基板Ｗを下からすくい上
げるようにしてアーム２１上に受け取り，カセットＣ内
に収納されていた基板Ｗの裏面を第一の吸着部３１を介
して吸引孔２９で吸着する。そして，こうしてアーム２
１上に受け取った基板ＷをカセットＣ内から取り出す。
【００２２】次に，こうして取り出した基板Ｗの裏面を
アーム２１上において第一の吸着部３１を介して吸引孔
２９で吸着保持した状態を維持しながら，進退機構２
２，回転昇降機構２３および横移動機構２５の協働によ
って搬送し，基板Ｗを基板搬送装置２の後方において待
機している洗浄部４の主搬送アーム１１に受け渡す。こ
うして受け渡された基板Ｗは，主搬送アーム１１の移動
によって洗浄部４の各ユニット１２〜１６に所定の順序
で搬送され，基板Ｗに対する各洗浄処理が行われる。そ
して，洗浄部４における洗浄処理の終了した基板Ｗは，
洗浄部４の主搬送アーム１１に載せられた姿勢で，基板
搬送装置２の後方において待機した状態となる。
【００２３】次に，こうして洗浄部４における洗浄処理
を終了した基板ＷをカセットＣ内に戻す際には，先ず，
図２で説明した進退機構２２，回転昇降機構２３および
横移動機構２５の協働によってアーム２１を移動させ，
基板搬送装置２の後方において主搬送アーム１１に載せ
られた姿勢で待機している基板Ｗの下方にアーム２１を
位置させた後，アーム２１を上昇させる。なお，このよ
うにカセットＣ内に基板Ｗを戻す際には，予めカバー体
３０を移動させることにより第二の吸着部３２を吸引孔
２９の上方に位置させた状態としておく。こうして，主
搬送アーム１１上に載せられていた基板Ｗを下からすく
い上げるようにしてアーム２１上に受け取り，基板Ｗの
裏面を第二の吸着部３２を介して吸引孔２９で吸着す
る。そして，進退機構２２，回転昇降機構２３および横
移動機構２５の協働によってアーム２１を移動させて，
アーム２１上に受け取った基板Ｗを搬送し，カセットス
テーション３に載置されているカセットＣ内に基板Ｗを
戻す。そして，以上の工程を繰り返すことによって，カ
セットＣ内に収納された基板Ｗに対する洗浄処理をすべ
て終了すると，搬送ロボットなどによってカセットＣは
カセットステーション３から搬出される。
【００２４】かくして，この実施の形態の基板搬送装置
２によれば，カセットステーション３に載置されたカセ
ットＣと洗浄部４の主搬送アーム１１との間で基板Ｗを
搬送するに際し，洗浄前の基板Ｗは第一の吸着部３１を
介して吸引孔２９で吸着し，洗浄後の基板Ｗは第二の吸
着部３２を介して吸引孔２９で吸着しているので，例え
洗浄前の基板Ｗ下面から汚染物質が第一の吸着部３１に
付着したとしても，それが洗浄後の基板Ｗに再付着する
心配がない。なお，この実施の形態の基板搬送装置２に
おいて，洗浄前の基板Ｗを第二の吸着部３２を介して吸
引孔２９で吸着してカセットＣから主搬送アーム１１に
搬送し，洗浄後の基板Ｗを第一の吸着部３１を介して吸
引孔２９で吸着して主搬送アーム１１からカセットＣに
搬送するように構成しても，同様に汚染物質の再付着を
防止できるようになる。
【００２５】以下に，本発明の基板搬送装置２において
好適に採用されるカバー体３０の具体的な構成について
説明する。
【００２６】図５は，平板形状をなすアーム２１の表面
に露出するように埋設された円筒形状の吸引管５０の上
面に吸引孔２９を形成すると共に，この吸引孔２９を含
む吸引管５０全体を回動自在な円筒形状のカバー体３０
で覆うように構成した実施の形態を示している。なお，
図示はしないが，このカバー体３０を回動させる回動機
構を備えている。また，説明のため一つの吸引孔２９だ
けを示したが，アーム２１の上面には吸引孔２９が少な
くとも三つ以上配置されており，かつそれら各吸引孔２
９に対応するカバー体３０をそれぞれ備えている。この
実施の形態では，カバー体３０の周面に第一の吸着部３
１と第二の吸着部３２が形成されており，カバー体３０
を吸引管５０の周囲に装着した状態で回動機構に稼働に
よってカバー体３０を適宜回動させることにより，第一
の吸着部３１が吸引孔２９の上方に移動した状態と，第
二の吸着部３２が吸引孔２９の上方に移動した状態とに
切り替わるようになっている。
【００２７】そして，この実施の形態にあっては，洗浄
前の基板Ｗをアーム２１上に載せて搬送する際には，カ
バー体３０を時計回転方向に回動させることによって，
図６に示すように，第一の吸着部３１を吸引孔２９の上
方に移動させ，基板Ｗの裏面を第一の吸着部３１を介し
て吸引孔２９で吸着するようになっている。また，洗浄
後の基板Ｗを搬送する際には，カバー体５２を反時計回
転方向に回動させることによって，図７に示すように，
第二の吸着部３２を吸引孔２９の上方に移動させ，基板
Ｗの裏面を第二の吸着部３２を介して吸引孔２９で吸着
するようになっている。従って，この実施の形態によっ
ても同様に，洗浄の前後において基板Ｗの下面を第一の
吸着部３１を介して吸着する状態と第二の吸着部３２を
介して吸着する状態とに切り替えることにより，洗浄前
の基板Ｗから第一の吸着部３１に付着した汚染物質を洗
浄後の基板Ｗに再付着させることを防止できるようにな
る。なお，洗浄前の基板Ｗを第二の吸着部３２で吸着
し，洗浄後の基板Ｗは第一の吸着部３１で吸着するよう
に構成しても良い。
【００２８】次に図８は，アーム２１の上面に吸着パッ
ド６０を配置すると共に，この吸着パッド６０の上面５
９の中央に配置された吸引孔２９の上方を，駆動ローラ
６１と従動ローラ６２に巻回された周動自在な無端ベル
ト形状のカバー体３０で覆った構成の実施の形態を示し
ている。なお，図示はしないが，駆動ローラ６１を回転
させてカバー体３０を周動させる周動機構を備えてい
る。また，説明のため一つの吸着パッド６０だけを示し
たが，先に図５で説明した場合と同様に，アーム２１の
上面には何れも同様の構成のこれら吸着パッド６０が少
なくとも三つ以上配置されており，かつそれら各吸着パ
ッド６０に対応するカバー体３０をそれぞれ備えてい
る。
【００２９】図９に示すように，吸着パッド６０の吸引
孔２９には回路６６が接続されており，この回路６６を
介して吸引することによって，アーム２１の上面におい
て基板Ｗの裏面を吸着できるようになっている。また，
カバー体３０には，吸着パッド６０の上面５９を露出さ
せるのに十分な大きさの開口６７を有する第一の吸着部
３１と，吸着パッド６０の上面５９中央に配置された吸
引孔２９と同じくらいの大きさの開口６８を有する第二
の吸着部３２が形成されている。そして，前述の周動機
構の稼働によって駆動ローラ６１の回転駆動させてカバ
ー体３０を周動させることにより，これら第一の吸着部
３１と第二の吸着部３２とを吸引孔２９の上方に交互に
移動させることができる構成になっている。
【００３０】そして，この実施の形態にあっては，洗浄
前の基板Ｗをアーム２１上に載せて搬送する際には，図
１０に示すように，第一の吸着部３１を吸着パッド６０
の上方に移動させて開口５７から吸着パッド６０の上面
５９を露出させ，基板Ｗの裏面を吸着パッド６０の上面
５９に直接接触させて吸着するようになっている。ま
た，洗浄後の基板Ｗを搬送する際には，図１１に示すよ
うに第二の吸着部３２を吸着パッド６０の上方に移動さ
せて吸着パッド６０の上面５９中央の吸引孔２９のみを
開口５８から露出させ，基板Ｗの裏面をカバー体３０を
介して間接的に吸着するようになっている。従って，こ
の実施の形態によっても同様に，洗浄の前後において基
板Ｗの裏面を吸着パッド６０の上面５９に直接吸着する
状態とカバー体３０を介して間接的に吸着する状態とに
切り替えて支持することにより，洗浄前の基板Ｗから吸
着パッド６０の上面５９に付着した汚染物質を洗浄後の
基板Ｗに再付着させることを防止できるようになる。な
お，洗浄前の基板Ｗをカバー体３０を介して吸着し，洗
浄後の基板Ｗは吸着パッド６０の上面５９で直接吸着す
るように構成しても良い。
【００３１】以上，本発明の実施の形態を基板Ｗを洗浄
する洗浄装置１に基づいて説明したが，本発明は，洗浄
以外の例えば基板の乾燥やレジスト膜の塗布などといっ
た他の処理を行う各種の処理装置に適用することも可能
である。
【００３２】
【発明の効果】本発明によれば，アーム自体を動かすこ
となくカバー体を移動させて吸引孔の上方に第一の吸着
部と第二の吸着部を切り替えて移動させることにより，
処理後の基板に対する汚染物質の再付着などといった問
題を確実に解決できるといった特徴がある。また，基板
搬送装置を小型に構成できるので，スペースの有効利用
を図ることができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】洗浄装置の平面図である。
【図２】本発明の実施の形態にかかる基板搬送装置の斜
視図である。
【図３】半導体ウェハの如き基板の搬送に適したアーム
の斜視図である。
【図４】ＬＣＤガラス基板の如き基板の搬送に適したア
ームの斜視図である。
【図５】アーム上面に埋設した円筒形状の吸引管全体を
円筒形状のカバー体で覆うように構成した実施の形態を
示す斜視図であり，吸引管からカバー体を外した分解状
態を示している。
【図６】図５の実施の形態における洗浄前の基板を搬送
する状態の説明図である。
【図７】図５の実施の形態における洗浄後の基板を搬送
する状態の説明図である。
【図８】吸着パッドの上面をカバー体で覆うように構成
した実施の形態を示す斜視図である。
【図９】図８の実施の形態にかかるアームの断面図であ
る。
【図１０】図８の実施の形態における洗浄前の基板を搬
送する状態の説明図である。
【図１１】図８の実施の形態における洗浄後の基板を搬
送する状態の説明図である。
【符号の説明】
Ｗ 基板 Ｃ カセット ２ 基板搬送装置 ３ カセットステーション ４ 洗浄部 ２１ アーム ２９ 吸引孔 ３０ カバー体 ３１ 第一の吸着部 ３２ 第二の吸着部 ５０ 吸引管 ６０ 吸着パッド ６７，６８ 開口

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 アームを移動させ，該アーム上に載せた
    状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板搬送装置
    において，アームの上面に吸引孔を配置すると共に，吸
    引孔の上方を覆うためのカバー体を設け，かつ，該カバ
    ー体には第一の吸着部と第二の吸着部を形成したことを
    特徴とする基板搬送装置。
  2. 【請求項２】 前記吸引孔を円筒形状の吸引管の上面に
    形成すると共に，該吸引孔を含む吸引管全体を周面に第
    一の吸着部と第二の吸着部が形成された回動自在な円筒
    形状のカバー体で覆った構成としたことを特徴とする請
    求項１に記載の基板搬送装置。
  3. 【請求項３】 前記カバー体を回動させる回動機構を設
    けたことを特徴とする請求項２に記載の基板搬送装置。
  4. 【請求項４】 アームの上面に吸着パッドを配置すると
    共に，該吸着パッドの上面に配置された吸引孔の上方
    を，第一の吸着部と第二の吸着部が形成された周動自在
    なカバー体で覆った構成としたことを特徴とする請求項
    １に記載の基板搬送装置。
  5. 【請求項５】 前記カバー体を周動させる周動機構を設
    けたことを特徴とする請求項４に記載の基板搬送装置。
  6. 【請求項６】 第一の吸着部と第二の吸着部の一方に吸
    着パッドの上面を露出させるのに十分な大きさの開口が
    形成され，他方に吸着パッド上面の吸引孔と略同じ大き
    さの開口が形成されていることを特徴とする請求項４又
    は５に記載の基板搬送装置。
  7. 【請求項７】 アームを移動させ，該アーム上に載せた
    状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板搬送方法
    において，処理部に対して基板を搬入させる場合は，ア
    ームの上面に配置された吸引孔の上方に第一の吸着部と
    第二の吸着部の一方を移動させ，処理部から基板を搬出
    する際には，アームの上面に配置された吸引孔の上方に
    第一の吸着部と第二の吸着部の他方を移動させることを
    特徴とする基板搬送方法。
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