JPH10311451A - プロセスガス供給ユニット - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 パージ弁と逆止弁とが直列に連通されたもの
をプロセスガスフローに接続する小型化・集積化したプ
ロセスガス供給ユニットを提供すること。 【解決手段】 供給弁１３の入力ポート２８とプロセス
ガス外部入口１８とを連通するプロセスガス入力流路２
０と、供給弁１３の出力ポート２７とプロセスガス外部
出口１９とを連通するプロセスガス出力流路２１と、パ
ージ弁１２の出力ポート２９とプロセスガス出力流路２
１とを連通させるパージ出力流路２２と、パージ弁１２
の入力ポート３０と逆止弁１４の出口ポート３１とを連
通させる逆止弁出力流路２３と、逆止弁１４の入力ポー
ト３２とパージガス外部入口２６とを連通する斜め流路
２４・交差流路２５とが形成されたマニホールド１６・
下側流路ブロック３３を有している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工程で
使用されるプロセスガス供給ユニットに関し、さらに詳
細には、プロセスガス供給弁、パージ弁、逆止弁等を取
り付けるためプロセスガス供給ユニットに関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体製造工程において、エッチ
ングガス等のプロセスガスを供給するためのプロセスガ
ス供給ユニットが開発されている。例えば、特開平５−
１７２２６５号公報には、２つの開閉弁１，２が取り付
けられたブロックマニホールドに、開閉弁の入力ポート
と外部入口６とを連通する入力流路４と、開閉弁１の出
力ポートと外部出口７とを連通する出力流路５と、開閉
弁２の出力ポートと出力流路５とを連通させる連通路８
とを形成することが示されている。

【０００３】しかし、例えば、図７に示すプロセスガス
供給フローでは、マスフローコントローラ１１の入口
に、供給弁１３の出力ポート及びパージ弁１２の出力ポ
ートが連通している。また、供給弁１３の入力ポートは
プロセスガス源に接続している。また、パージ弁１２の
入力ポートは逆止弁１４を介してパージガスである不活
性ガス源に接続している。このようなガス供給ライン
は、プロセスガスラインに対して、パージ弁１２と逆止
弁１４とを直列に連通させたものを接続させなければな
らないため、特開平５−１７２２６５号公報に開示され
ている技術では、１つのブロックマニホールドに流路を
形成することができなかった。

【０００４】そのため、図１１に示すように、マスフロ
ーコントローラ１１、供給弁１３、パージ弁１２、及び
逆止弁１４の両側に継手を設け、各継手間の配管を突き
合わせ溶接Ａすることにより、ガス供給ラインを構成し
ていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
プロセスガス供給ラインには、次のような問題があっ
た。 （１）図１１に示すガス供給ラインでは、大きなスペー
スを取るため、半導体製造装置に要求されている小型化
・集積化に反していた。また、溶接部が多くなることに
より、耐食性が低下すると共に、パーティクルが発生す
る恐れがあった。また、供給弁１３、パージ弁１２、逆
止弁１４をメインテナンスする場合、交換する場合に、
継手を外して交換等しなければならいため、メインテナ
ンスの適性が悪かった。

【０００６】（２）一方、特開平５−１７２２６５号公
報に開示されている技術では、プロセスガスの流れを形
成するフローならば、複数個の機器をブロックマニホー
ルドに取り付けて、ブロックマニホールドの内部に連通
する流路を形成することが可能であったが、パージ弁１
２と逆止弁１４とを直列的に連通したものをプロセスガ
スフローに接続することは、困難であった。すなわち、
ブロックマニホールドの内部に、２重の流路を形成する
場合、必ず、余分な開口が発生し、その余分な開口を塞
ぐための止め栓が必要となる。この止め栓が、新たなパ
ーティクルの発生源となる問題があった。また、プロセ
スガスをパージガスで置換する場合に、止め栓の近傍ガ
スの停留する箇所が発生し、プロセスガスが残留して、
半導体の歩留まりを低下させる問題があった。

【０００７】本発明は上記問題点を解決し、パージ弁と
逆止弁とが直列に連通されたものをプロセスガスフロー
に接続する小型化・集積化したプロセスガス供給ユニッ
トを提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のプロセスガス供給ユニットは、次のような構
成を有している。 （１）半導体製造装置に対してプロセスガスを供給する
ための供給弁と、不活性ガスを供給するためのパージ弁
と、不活性ガス源と該パージ源との流路に設けられた逆
止弁とを有するプロセスガス供給ユニットにおいて、供
給弁と、パージ弁と、逆止弁とが取り付けられるブロッ
クであって、供給弁の入力ポートとプロセスガス外部入
口とを連通するプロセスガス入力流路と、供給弁の出力
ポートとプロセスガス外部出口とを連通するプロセスガ
ス出力流路と、パージ弁の出力ポートとプロセスガス出
力流路とを連通させるパージ出力流路と、パージ弁の入
力ポートと逆止弁の出力ポートとを連通させる逆止弁出
力流路と、逆止弁の入力ポートとパージガス外部入口と
を連通するパージガス入力流路とが形成されたマニホー
ルドを有する。

【０００９】（２）（１）に記載するプロセスガス供給
ユニットにおいて、真空ポンプと接続し、前記マニホー
ルドに取り付けられる真空弁を有し、前記マニホールド
に、前記真空弁の出力ポートと前記プロセスガス出力流
路とを連通させる真空出力流路と、前記真空弁の入力ポ
ートと真空外部入口とを連通する真空入力流路とが形成
されていることを特徴とする。 （３）（１）または（２）に記載するプロセスガス供給
ユニットにおいて、前記逆止弁出力流路が、略Ｖ字形で
あることを特徴とする。

【００１０】次に、上記構成を有する本発明のプロセス
ガス供給ユニットの作用を説明する。請求項１に記載す
るプロセスガス供給ユニットにおいては、供給弁、パー
ジ弁、逆止弁が全て、ブロックマニホールドに対して上
側から、各々４本のボルトで取り付けられているので、
個別に取り外し取り付けが可能である。また、パージ弁
の出力ポートがプロセスガスの出力流路と連通している
ので、供給弁の出力ポート及びマスフローコントローラ
をパージガスで置換することができる。このとき、逆止
弁がブロックマニホールドにおいて、すぐ隣りに配設さ
れており、逆止弁のパージガス入力流路がプロセスガス
の出力流路を斜めに迂回し、さらに下側流路ブロックに
より、プロセスガス出力流路とねじれ関係で交差して、
上向きにポートが形成されているので、逆止弁を上側か
ら取り付け取り外すことが可能である。また、パージガ
ス外部入口を上向きし、継手を介してパージガス供給チ
ューブ等を上側から取り付け取り外すことが可能であ
る。

【００１１】また、請求項３に記載するプロセスガス供
給ユニットにおいては、パージ弁の入力ポートと逆止弁
の出力ポートとを連通する逆止弁出力流路が、略Ｖ字形
に形成されているので、短かい距離で両ポートを接続で
きる。また、曲がり箇所を一箇所のみとすることができ
るため、プロセスガスが逆流して逆止弁で止められた場
合でも、逆止弁出力流路にプロセスガスが滞留する可能
性が低い。また、Ｖ字形は、ドリル等で方向が逆である
斜め孔を２箇所開ければ形成できるので、加工及び加工
後の洗浄が容易であるため、加工で発生する微小切削
粉、油分等を十分除去することができる。

【００１２】さらに、請求項２に記載するプロセスガス
供給ユニットにおいては、ブロックマニホールドで逆止
弁のすぐ隣りに真空弁を配設しており、真空弁は、４本
のボルトにより上側から取り外し取り付けが可能であ
る。また、真空弁の真空入力流路がプロセスガスの出力
流路を斜めに迂回し、さらに下側第２流路ブロックによ
り、プロセスガス出力流路とねじれ関係で交差して、上
向きにポートが形成されているので、真空弁を上側から
取り付け取り外すことが可能である。また、真空外部入
口を上向きし、継手を介して真空供給パイプ等を上側か
ら取り付け取り外すことが可能である。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る開閉弁の取付
構造及びその取付用部材を具体化した実施の形態を図面
を参照して詳細に説明する。本発明の第１の実施の形態
のプロセスガス供給ユニットを図１に断面図で示し、図
２に平面図で示し、図３に図２のＡＡ断面図で示す。図
１及び図２に示すように、ブロックであるマニホールド
１６にプロセスガス供給のための供給弁１３、パージガ
ス供給のためのパージ弁１２、パージガスの逆流を防止
するための逆止弁１４が上側から、各々４本のボルトに
より取り付けられている。

【００１４】始めに、供給弁１３、パージ弁１２、及び
逆止弁１４の構造を図９により簡単に説明する。ここ
で、供給弁１３とパージ弁１２とは、同じ開閉弁を使用
しているので、供給弁１３の構造のみ説明する。同じ開
閉弁を用いることにより、同じ取り付け寸法となり、数
が多いときに設計上便利であり、また、交換用の予備部
品も少なくて済む利点がある。また、逆止弁１４の取り
付けボルト位置も供給弁１３、パージ弁１２と全く同じ
位置である。これにより、全ての部品の寸法が統一さ
れ、設計上便利である。

【００１５】図９に示すように、供給弁１３の出力ポー
ト２７は、プロセスガス出力流路２１の垂直流路部２１
ａの上端に位置する。垂直流路部２１ａのマニホールド
１６表面には、座ぐり孔が形成され、中空状のシール部
材６１が装着されている。垂直流路部２１ａの左側に、
プロセスガス入力流路２０の垂直流路部２０ａが形成さ
れている。供給弁１３の入力ポート２８は、垂直流路部
２０ａの上端に位置する。垂直流路部２０ａの外側のマ
ニホールド１６表面には、座ぐり孔が形成され中空状の
シール部材６２が装着されている。シール部材６１及び
シール部材６２の上には、上面に弁座５９を備える弁座
部材６３が装着されている。

【００１６】弁座５９の上面には、弁体５８が当接また
は離間可能に保持されている。すなわち、弁座部材６３
の上面の孔内部に形成された雌ねじに対して、ねじ込ま
れる中間部材５７に押圧されるダイヤフラム固定ブラケ
ット５６と、弁座部材６３とでダイヤフラム５４の外周
が固定されている。弁体５８と弁座５９の間にダイヤフ
ラム５４を用いているのは、プロセスガスの漏れを防止
するためである。弁座部材６３の中心孔には、ピストン
ロッド５３が摺動可能に保持されている。ピストンロッ
ド５３の中央付近には、ピストン５２がかしめ加工によ
り固定されている。中間部材５７の上には、パイロット
弁シリンダ５１が固設されている。パイロット弁シリン
ダ５１の内側には、ピストン５２及びピストンロッド５
３を下向きに付勢するための復帰バネ５５が取り付けら
れている。また、ピストンロッド５３の中心には、ピス
トン５２の下側に駆動空気用ポート６０が形成されてい
る。

【００１７】次に、上記構成を有する開閉弁の作用を簡
単に説明する。駆動空気用ポート６０に圧縮空気が送ら
れていない状態で、ピストン５２、ピストンロッド５３
は復帰バネ５５により下向きに付勢されており、ピスト
ンロッド５３が弁体５８を、ダイヤフラム５４を介して
弁座５９に当接させている。ここで、弁座５９を介して
弁体５８にプロセスガスやパージガスのガス圧がかかっ
ているが、復帰バネ５５が強いため、弁体５８は弁座５
９に当接され、出力ポート２７と入力ポート２８とは遮
断されている。次に、駆動空気用ポート６０に圧縮空気
が送られると、ピストン５２、ピストンロッド５３が上
向きに移動する。そして、弁体５８、ダイヤフラム５４
が、プロセスガスやパージガスの圧力により上向きに移
動され、入力ポート２８と出力ポート２７とが連通す
る。

【００１８】次に、逆止弁１４の入力ポート３２は、斜
め流路２４の上端に位置する。その上端表面には、座ぐ
り孔が形成された中空状の弁座部材７４が固着されてい
る。シリンダ部材７５内面には、弁体部材７２が摺動可
能に保持されている。一端がブラケット７３に接する復
帰バネ７６が、弁体部材７２を弁座部材７４に当接する
方向に付勢している。弁体部材７２には、外側と内側を
連通する連通孔７２ａが形成されている。また、ブラケ
ット７３には、シリンダ部材７５の外側と内側を連通す
る連通孔７３ａが形成されている。

【００１９】次に、逆止弁１４の作用を簡単に説明す
る。入力ポート３２側は常時パージ圧力であり、その力
により弁体部材７２は上向きの力を受けている。従っ
て、パージ弁１２が開いている場合、逆止弁出力流路２
３の圧が低下し、弁体部材７２内側の圧が低下するた
め、弁体部材７２は上方向に移動し、パージガスが入力
ポート３２から出口ポート３１へと流れる。一方、パー
ジ弁１２が閉じられている場合、逆止弁出力流路２３の
圧が上昇し、弁体部材７２内側の圧も上昇するため、弁
体部材７２は下方向に移動し、弁体部材７２が弁座部材
７４に当接する。これにより、パージガスが出口ポート
３１側から入力ポート３２側へ逆流することがない。

【００２０】次に、マニホールド１６の内部構造を説明
する。マニホールド１６の左端には、プロセスガス外部
入口１８が形成されている。プロセスガス外部入口１８
と、供給弁１３の入力ポート２８とは、プロセスガス入
力流路２０により連通されている。プロセスガス入力流
路２０は、プロセスガス外部入口１８から水平に延び、
垂直流路部２０ａによりマニホールド１６の上面方向に
曲げられている。マニホールド１６の右端には、プロセ
スガス外部出口１９が形成されている。プロセスガス外
部出口１９と、供給弁１３の出力ポート２７とは、プロ
セスガス出力流路２１により連通されている。プロセス
ガス出力流路２１は、プロセスガス外部出口１９から水
平に延び、垂直流路部２１ａによりマニホールド１６の
上面方向に曲げられている。

【００２１】また、パージ弁１２の出力ポート２９は、
パージ出力流路２２によりプロセスガス出力流路２１と
連通されている。また、パージ弁１２の入力ポート３０
は、図１に示すように略Ｖ字形の逆止弁出力流路２３に
より、逆止弁１４の出力ポート３１に連通している。ま
た、マニホールド１６の下面には、下側流路ブロック３
３及び下側流路第２ブロック３４が固設されている。そ
して、図３に示すように、逆止弁１４の入力ポート３２
は、斜めに形成された斜め流路２４、垂直部２５ａと垂
直部２５ｂとを有する交差流路２５、によりパージガス
外部入口２６に連通されている。斜め流路２４と交差流
路２５とによりパージガス入力流路が構成されている。

【００２２】ここで、各流路の加工方法を簡単に説明す
る。逆止弁出力流路２３は、入力ポート３０から４５度
の角度で斜めにドリルで切削加工し、出口ポート３１か
ら線対称に４５度の角度で斜めにドリルで切削加工す
る。そして、両孔を先端部で連通させる。その後、切粉
を洗浄剤で洗浄し、パーティクルを除去する。斜め流路
２４は、下側孔から４５度の角度で斜めにドリルで途中
まで切削加工し、後は、上面から垂直にドリルで切削加
工して連通させる。交差流路２５は、直交する孔を連通
させることにより、形成される。下側流路ブロック３３
と下側流路第２ブロック３４とは、漏れ防止ガスケット
７７を介して連結される。

【００２３】次に、上記構成を有する本発明のプロセス
ガス供給ユニットの作用を説明する。プロセスガス外部
出口１９を図示しないマスフローコントローラを介し
て、半導体製造工程の真空チャンバに接続する。また、
プロセスガス外部入口１８をプロセスガスの供給源に接
続する。パージ弁１２を閉じた状態で、供給弁１３を開
くことにより、プロセスガスは、プロセスガス入力流路
２０、入力ポート２８、出力ポート２７、プロセスガス
出力流路２１を通ってプロセスガス外部出口１９からマ
スフローコントローラへと流れる。

【００２４】マスフローコントローラで所定量のプロセ
スガスを流したことを検出すると、供給弁１３を閉じて
プロセスガスの供給を停止する。そして、マスフローコ
ントローラの出口側を真空チャンバから排気手段へ切り
換える。その後、パージ弁１２を開いて、パージガスと
して、不活性ガス、例えば窒素ガスを、パージガス外部
入口２６、交差流路２５、斜め流路２４、入力ポート３
２、出口ポート３１、逆止弁出力流路２３、入力ポート
３０、出力ポート２９、パージ出力流路２２を通して、
プロセスガス出力流路２１へ流す。これにより、プロセ
スガス出力流路２１及びマスフローコントローラ内に残
留しているプロセスガスを排除することができる。プロ
セスガス出力流路２１やマスフローコントローラにプロ
セスガスが残留していると、流路壁等が腐食する問題等
があるからである。

【００２５】パージが終了した時点で、パージ弁１２を
閉じる。逆止弁出力流路２３内に残っているパージガス
は、逆止弁１４により斜め流路２４へ逆流することがな
い。供給弁１３、パージ弁１２、逆止弁１４が全て、マ
ニホールド１６に対して上側から、各々４本のボルトで
取り付けられているので、個別に取り外し取り付けが可
能である。逆止弁１４がマニホールド１６の上面におい
て、すぐ隣りに配設されており、逆止弁１４の斜め流路
２４がプロセスガス出力流路２１を斜めに迂回し、さら
に下側流路ブロック３３に形成された交差流路２５よ
り、プロセスガス出力流路２１とねじれ関係で交差し
て、上向きに入力ポート３２が形成されているので、逆
止弁１４を上側から取り付け取り外すことが可能であ
る。また、パージガス外部入口２６を上向きし、継手を
介してパージガス供給チューブ等を上側から取り付け取
り外すことが可能である。

【００２６】また、パージ弁１２の入力ポート３０と逆
止弁１４の出口ポート３１とを連通する逆止弁出力流路
２３が、略Ｖ字形に形成されているので、短かい距離で
両ポートを接続できる。また、曲がり箇所を一箇所のみ
とすることができるため、プロセスガスが逆流して逆止
弁で止められた場合でも、逆止弁出力流路にプロセスガ
スが滞留する可能性が低い。また、Ｖ字形は、ドリル等
で方向が逆である斜め孔を２箇所開ければ形成できるの
で、加工及び加工後の洗浄が容易であるため、加工で発
生する微小切削粉、油分等を十分除去することができ
る。

【００２７】以上詳細に説明したように、第１の実施の
形態のプロセスガス供給ユニットによれば、供給弁１３
の入力ポート２８とプロセスガス外部入口１８とを連通
するプロセスガス入力流路２０と、供給弁１３の出力ポ
ート２７とプロセスガス外部出口１９とを連通するプロ
セスガス出力流路２１と、パージ弁１２の出力ポート２
９とプロセスガス出力流路２１とを連通させるパージ出
力流路２２と、パージ弁１２の入力ポート３０と逆止弁
１４の出口ポート３１とを連通させる逆止弁出力流路２
３と、逆止弁１４の入力ポート３２とパージガス外部入
口２６とを連通する斜め流路２４・交差流路２５とが形
成されたマニホールド１６・下側流路ブロック３３を有
しているので、供給弁１３、パージ弁１２、逆止弁１４
が全て、マニホールド１６に対して上側から、各々４本
のボルトで取り付けられているので、個別に取り外し取
り付けが可能である。また、逆止弁出力流路２３にＶ字
形流路を採用しているので、余分な止め栓を必要とせ
ず、パーティクルの発生の可能性を低減させることがで
きる。

【００２８】また、逆止弁１４がマニホールド１６にお
いて、すぐ隣りに配設されており、逆止弁１４の斜め流
路２４がプロセスガス出力流路２１を斜めに迂回し、さ
らに下側流路ブロック３３により、プロセスガス出力流
路２１とねじれ関係で交差して、上向きにパージガス外
部入口２６が形成されているので、逆止弁１４を上側か
ら取り付け取り外すことが可能である。また、パージガ
ス外部入口２６を上向きし、継手を介してパージガス供
給チューブ等を上側から取り付け取り外すことが可能で
ある。

【００２９】次に、本発明の第２の実施の形態について
説明する。第２の実施の形態は、図８に示すように、第
１の実施の形態に真空弁１５を追加したものであり、そ
れ以外は第１の実施の形態を利用したものであるので、
同じ構成要素は、同じ番号を付して説明を省略する。真
空弁１５を設置する目的は、パージガスを注入するだけ
では、壁面付近に貼り付いているプロセスガスを除去す
るのが困難か、若しくは時間がかかるため、真空弁１５
による吸引と、パージ弁１２によるパージとを繰り返す
ことにより、効率良くプロセスガスの排除を行うことで
ある。

【００３０】本発明の第２の実施の形態のプロセスガス
供給ユニットを図４に断面図で示し、図５に平面図で示
し、図６に図４のＢＢ断面図で示す。また、図４のＡＡ
断面図は、図３と同じである。図４及び図５に示すよう
に、ブロックであるマニホールド１６にプロセスガス供
給のための供給弁１３、パージガス供給のためのパージ
弁１２、パージガスの逆流を防止するための逆止弁１
４、プロセスガスを吸引するための真空弁１５が上側か
ら、各々４本のボルトにより取り付けられている。

【００３１】真空弁１５の構造は、供給弁１３及びパー
ジ弁１２と同じなので説明を省略する。次に、マニホー
ルド１６の内部構造を説明する。供給弁１３、パージ弁
１２、及び逆止弁１４に関する取付構造や流路形成は、
第１実施の形態と同じなので、説明を省略し真空弁１５
に関する点を説明する。マニホールド１６の下面には、
下側流路ブロック３３及び下側流路第２ブロック３４と
並んで、下側流路ブロック４３及び下側流路第２ブロッ
ク４２が固設されている。そして、図６に示すように、
真空弁１５の入力ポート４４は、斜めに形成された斜め
流路４６、垂直部４７ａと垂直部４７ｂとを有する交差
流路４７、により真空外部入口４８に連通されている。
斜め流路４６と交差流路４７とにより真空入力流路が構
成されている。一方、真空弁１５の出力ポート４１は、
真空出力流路４５によりプロセスガス出力流路２１と連
通されている。

【００３２】次に、上記構成を有する第２実施の形態の
プロセスガス供給ユニットの作用を第１実施の形態と異
なる点について簡単に説明する。プロセスガスの供給が
終了して、プロセスガス出力流路２１等内に残留してい
るプロセスガスをパージガスと置換するときに、供給弁
１３を閉じた後始めに、真空弁１５を開いて、残留する
プロセスガスを斜め流路４６、交差流路４７を介して真
空外部入口４８から所定時間、例えば１分間吸引する。
その後、パージ弁１２を開いてパージガスによりパージ
を行う。この吸引とパージとを数回繰り返すことによ
り、短時間で置換を完了することができる。

【００３３】以上説明したように、第２の実施の形態の
プロセスガス供給ユニットによれば、供給弁１３の入力
ポート２８とプロセスガス外部入口１８とを連通するプ
ロセスガス入力流路２０と、供給弁１３の出力ポート２
７とプロセスガス外部出口１９とを連通するプロセスガ
ス出力流路２１と、パージ弁１２の出力ポート２９とプ
ロセスガス出力流路２１とを連通させるパージ出力流路
２２と、パージ弁１２の入力ポート３０と逆止弁１４の
出口ポート３１とを連通させる逆止弁出力流路２３と、
逆止弁１４の入力ポート３２とパージガス外部入口２６
とを連通する斜め流路２４・交差流路２５と、真空弁１
５の出力ポート４１とプロセスガス出力流路２１とを連
通する真空出力流路４５と、真空弁１５の入力ポート４
４と真空外部入口４８とを連通する斜め流路４６・交差
流路４７とが形成されたマニホールド１６・下側流路ブ
ロック３３・下側流路ブロック４３を有しているので、
供給弁１３、パージ弁１２、逆止弁１４、真空弁１５が
全て、マニホールド１６に対して上側から、各々４本の
ボルトで取り付けられているので、個別に取り外し取り
付けが可能である。また、逆止弁出力流路２３にＶ字形
流路を採用しているので、余分な止め栓を必要とせず、
パーティクルの発生の可能性を低減させることができ
る。

【００３４】なお、この発明は前記実施の形態に限定さ
れるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲におい
て以下のように実施することもできる。例えば、本実施
の形態では、開閉弁として、シリンダタイプのパイロッ
ト弁を使用しているが、電磁弁タイプのパイロット弁を
使用しても同様である。また、プロセスガス外部入口１
８、プロセスガス外部出口１９に各々専用ブロックを付
けて、チューブを上から取り付け取り外し可能とすれ
ば、さらに良い。

【００３５】

【発明の効果】本発明のプロセスガス供給ユニットによ
れば、供給弁の入力ポートとプロセスガス外部入口とを
連通するプロセスガス入力流路と、供給弁の出力ポート
とプロセスガス外部出口とを連通するプロセスガス出力
流路と、パージ弁の出力ポートとプロセスガス出力流路
とを連通させるパージ出力流路と、パージ弁の入力ポー
トと逆止弁の出口ポートとを連通させる逆止弁出力流路
と、逆止弁の入力ポートとパージガス外部入口とを連通
するパージガス入力流路とが形成されたブロック状のマ
ニホールドを有しているので、供給弁、パージ弁、逆止
弁が全て、マニホールドに対して上側から、各々４本の
ボルトで取り付けられているので、個別に取り外し取り
付けが可能である。また、逆止弁出力流路にＶ字形流路
を採用しているので、余分な止め栓を必要とせず、外部
への漏れの発生の可能性を低減させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施の形態のプロセスガス供給ユニット
の断面図である。

【図２】第１の実施の形態のプロセスガス供給ユニット
の平面図である。

【図３】図２のＡＡ断面図である。

【図４】第２の実施の形態のプロセスガス供給ユニット
の断面図である。

【図５】第２の実施の形態のプロセスガス供給ユニット
の平面図である。

【図６】図５のＢＢ断面図である。

【図７】第１の実施の形態のプロセスガス供給回路図で
ある。

【図８】第２の実施の形態のプロセスガス供給回路図で
ある。

【図９】本発明のプロセスガス供給ユニットで使用する
開閉弁の断面図である。

【図１０】第１従来例のプロセスガス供給ユニットを示
す断面図である。

【図１１】第２従来例のプロセスガス供給ユニットを示
す側面図である。

【符号の説明】

１２ パージ弁 １３ 供給弁 １４ 逆止弁 １５ 真空弁 １６ マニホールド ２１ プロセスガス出力流路 ２２ パージ出力流路 ２３ 逆止弁出力流路 ２４ 斜め流路 ２５ 交差流路

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 半導体製造装置に対してプロセスガスを
   供給するための供給弁と、不活性ガスを供給するための
   パージ弁と、不活性ガス源と該パージ源との流路に設け
   られた逆止弁とを有するプロセスガス供給ユニットにお
   いて、 前記供給弁と、前記パージ弁と、前記逆止弁とが取り付
   けられるブロックであって、 前記供給弁の入力ポートとプロセスガス外部入口とを連
   通するプロセスガス入力流路と、 前記供給弁の出力ポートとプロセスガス外部出口とを連
   通するプロセスガス出力流路と、 前記パージ弁の出力ポートと前記プロセスガス出力流路
   とを連通させるパージ出力流路と、 前記パージ弁の入力ポートと前記逆止弁の出力ポートと
   を連通させる逆止弁出力流路と、 前記逆止弁の入力ポートとパージガス外部入口とを連通
   するパージガス入力流路とが形成されたマニホールドを
   有することを特徴とするプロセスガス供給ユニット。
2. 【請求項２】 請求項１に記載するプロセスガス供給ユ
   ニットにおいて、 真空ポンプと接続し、前記マニホールドに取り付けられ
   る真空弁を有し、 前記マニホールドに、前記真空弁の出力ポートと前記プ
   ロセスガス出力流路とを連通させる真空出力流路と、前
   記真空弁の入力ポートと真空外部入口とを連通する真空
   入力流路とが形成されていることを特徴とするプロセス
   ガス供給ユニット。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載するプロ
   セスガス供給ユニットにおいて、 前記逆止弁出力流路が、略Ｖ字形であることを特徴とす
   るプロセスガス供給ユニット。